JPS6258667A - リ−ドキヤリアフイルム - Google Patents
リ−ドキヤリアフイルムInfo
- Publication number
- JPS6258667A JPS6258667A JP19773785A JP19773785A JPS6258667A JP S6258667 A JPS6258667 A JP S6258667A JP 19773785 A JP19773785 A JP 19773785A JP 19773785 A JP19773785 A JP 19773785A JP S6258667 A JPS6258667 A JP S6258667A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier film
- metal layer
- lead
- film
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、IC,LSIなどの半導体チップと接続する
リードを多数個フィルム上に担持、配列したリードキャ
リアフィルムに関するものである。
リードを多数個フィルム上に担持、配列したリードキャ
リアフィルムに関するものである。
従来より半導体チップを樹脂モールドで一体化して多数
のビンを突設した半導体装置の組立には、金属製のリー
ドフレームが用いられている。そして従来のリードフレ
ームは、薄い金属板をプレスで打ち抜いたり、エツチン
グなどで形成していた。
のビンを突設した半導体装置の組立には、金属製のリー
ドフレームが用いられている。そして従来のリードフレ
ームは、薄い金属板をプレスで打ち抜いたり、エツチン
グなどで形成していた。
ところで、リードフレームには極めて細いタブリードや
フィンガが形成されているが、最近では多数ピンの半導
体装置が要求されることにより、タブリードやフィンガ
などの幅はますます細いものとならざるを得ない。その
ため、単なる薄板の打抜きプレス加工では限度があり、
精度の高いリードフレームを得ることは難しい。
フィンガが形成されているが、最近では多数ピンの半導
体装置が要求されることにより、タブリードやフィンガ
などの幅はますます細いものとならざるを得ない。その
ため、単なる薄板の打抜きプレス加工では限度があり、
精度の高いリードフレームを得ることは難しい。
そこで、エツチング加工を用いて微細なフィンガなどを
有するリードフレームを製造することが行なわれている
が、この方法は製造工程が複雑でコスト高となる欠点を
有している。
有するリードフレームを製造することが行なわれている
が、この方法は製造工程が複雑でコスト高となる欠点を
有している。
これらの欠点を解消し、製造が容易で、微細な部分が成
形できる方法として、最近、電鋳技術を用いたリードフ
レームの開発がなされている。そして生産性の向上を図
るため、リードを多数個フィルム上に担持、配列したリ
ードキャリアフィルムが各種検討されている。
形できる方法として、最近、電鋳技術を用いたリードフ
レームの開発がなされている。そして生産性の向上を図
るため、リードを多数個フィルム上に担持、配列したリ
ードキャリアフィルムが各種検討されている。
第6図は従来のリードキャリアフィルムの製造工程を説
明するための断面図、第7図はそのリードキャリアフィ
ルムのを囲体の側面図である。
明するための断面図、第7図はそのリードキャリアフィ
ルムのを囲体の側面図である。
従来のリードキャリアフィルムは、まず第6図fa)に
示すようにアルミニウムキ反やステンレス十反などの金
属板、あるいはポリエステルフィルムやポリイミドフィ
ルムなどの合成樹脂フィルムの表面に金属の蒸着や無電
解メッキなどで導電性を付与せしめた基板51上に、合
成樹脂からなる電気絶縁性のレジスト層52が印刷によ
って所望のパターンに形成される。この場合、レジスト
層52が形成されていない非レジスト部53が製造しよ
うとしているリードの形状と同じパターンになっている
。
示すようにアルミニウムキ反やステンレス十反などの金
属板、あるいはポリエステルフィルムやポリイミドフィ
ルムなどの合成樹脂フィルムの表面に金属の蒸着や無電
解メッキなどで導電性を付与せしめた基板51上に、合
成樹脂からなる電気絶縁性のレジスト層52が印刷によ
って所望のパターンに形成される。この場合、レジスト
層52が形成されていない非レジスト部53が製造しよ
うとしているリードの形状と同じパターンになっている
。
次にこの基板51上を亜セレン酸等により剥離処理した
のち、電鋳により銅、ニッケル、金、スズなどの金属を
付着してm重金属層からなるリード54を所定の形状に
作る(同図(b)参照)。しかるのち基板51上のレジ
スト層52を除去しく同図(c)参照)、片面に粘着剤
を塗布したキャリアフィルム55をリード54上に押し
つけ、次にそれを剥がすことにより、リード54は基板
51から離れて同図fd)に示すようにキャリアフィル
ム55上に担持される。
のち、電鋳により銅、ニッケル、金、スズなどの金属を
付着してm重金属層からなるリード54を所定の形状に
作る(同図(b)参照)。しかるのち基板51上のレジ
スト層52を除去しく同図(c)参照)、片面に粘着剤
を塗布したキャリアフィルム55をリード54上に押し
つけ、次にそれを剥がすことにより、リード54は基板
51から離れて同図fd)に示すようにキャリアフィル
ム55上に担持される。
このようにして多数のり一ド54を担持、配列したキャ
リアフィルム55は、第7図に示すように巻き取られて
、半導体装置の製造ラインに搬送、供給される。
リアフィルム55は、第7図に示すように巻き取られて
、半導体装置の製造ラインに搬送、供給される。
ところで従来のリードキャリアフィルムは、第6図(d
)に示すようにリード54の成長出張り部54bがキャ
リアフィルム55上に付着され、電鋳基部54aが外側
を向いた配置状態になっている。前記成長出張り部54
bはリード54の電鋳成形時に形成されるもので、その
表面には微細な凹凸があり、しがも図に示すように周囲
に丸味があり、キャリアフィルム55に対する接着性が
良(ない。
)に示すようにリード54の成長出張り部54bがキャ
リアフィルム55上に付着され、電鋳基部54aが外側
を向いた配置状態になっている。前記成長出張り部54
bはリード54の電鋳成形時に形成されるもので、その
表面には微細な凹凸があり、しがも図に示すように周囲
に丸味があり、キャリアフィルム55に対する接着性が
良(ない。
そのためこのリード54を担持したキャリアフィルム5
5を巻き取ったり、あるいはそのフィルム巻回体を順次
繰り出して半導体装置の製造ラインに供給するときなど
に、リード54がキャリアフィルム55から脱落し易く
、歩留りが悪く、生産性の低下をきたすなどの欠点を有
している。
5を巻き取ったり、あるいはそのフィルム巻回体を順次
繰り出して半導体装置の製造ラインに供給するときなど
に、リード54がキャリアフィルム55から脱落し易く
、歩留りが悪く、生産性の低下をきたすなどの欠点を有
している。
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、
リードの担持が確実で、取扱い性の良いリードキャリア
フィルムを提供するにある。
リードの担持が確実で、取扱い性の良いリードキャリア
フィルムを提供するにある。
前述の目的を達成するため、本発明は、リードの電鋳基
部がキャリアフィルム側に、成長出張り部がキャリアフ
ィルムの外側に向くようにしてリードをキャリアフィル
ム上に担持、配列したこを特徴とするものである。
部がキャリアフィルム側に、成長出張り部がキャリアフ
ィルムの外側に向くようにしてリードをキャリアフィル
ム上に担持、配列したこを特徴とするものである。
次に本発明の実施例を図とともに説明する。第1図は、
本発明の実施例に係るリードキャリアフィルムの製造工
程を説明するための断面図である。
本発明の実施例に係るリードキャリアフィルムの製造工
程を説明するための断面図である。
同図(alに示すように、基板1の表面に所望のパター
ンを有するレジスト層2が形成されている。
ンを有するレジスト層2が形成されている。
基板1としては、アルミニウム板、ステンレス板あるい
は銅板などの金属板、またはポリエステルフィルムやポ
リイミドフィルムなどの合成樹脂フィルム上に、銅など
の金属を蒸着や無電解メッキして導電性を付与したもの
が用いられる。レジスト層2は合成樹脂などからなる電
気絶縁性のもので、例えば、スクリーン印刷や通常の露
光硬化などによって形成される。
は銅板などの金属板、またはポリエステルフィルムやポ
リイミドフィルムなどの合成樹脂フィルム上に、銅など
の金属を蒸着や無電解メッキして導電性を付与したもの
が用いられる。レジスト層2は合成樹脂などからなる電
気絶縁性のもので、例えば、スクリーン印刷や通常の露
光硬化などによって形成される。
基板1は同図の紙面に向かって垂直方向に長尽になった
テープ状のもので、レジスト層2が形成されていない中
央の非レジスト部3aは製造すべきリードの形状と同じ
パターンを有しており、この中央非レジスト部3aの両
側に位置決め突部形成用の非レジスト部3bが形成され
る。この非レジスト部3bは基板1の長手方向に沿って
等ピッチに形成され、第4図に示すキャリアフィルム4
の両側端に設けられているスプロケット穴5のピッチと
同じである。
テープ状のもので、レジスト層2が形成されていない中
央の非レジスト部3aは製造すべきリードの形状と同じ
パターンを有しており、この中央非レジスト部3aの両
側に位置決め突部形成用の非レジスト部3bが形成され
る。この非レジスト部3bは基板1の長手方向に沿って
等ピッチに形成され、第4図に示すキャリアフィルム4
の両側端に設けられているスプロケット穴5のピッチと
同じである。
次にこの基板1上を亜セレン酸等により剥離処理して、
基板1の非レジスト部3a、3bに相当する表面を活性
化したのち、電鋳を施こし前記非レジスト部3a、3b
上に電鋳金属層6をレジスト層2より若干厚い目に形成
する。第2図は電鋳金属層6の一例を示す図で、ニッケ
ルとコバルトの合金からなる金属層本体6−1の上にス
ズとコバルトの合金からなる被膜6−2が形成されてい
る。
基板1の非レジスト部3a、3bに相当する表面を活性
化したのち、電鋳を施こし前記非レジスト部3a、3b
上に電鋳金属層6をレジスト層2より若干厚い目に形成
する。第2図は電鋳金属層6の一例を示す図で、ニッケ
ルとコバルトの合金からなる金属層本体6−1の上にス
ズとコバルトの合金からなる被膜6−2が形成されてい
る。
また他の例として、銅からなる金属層本体6−1の上に
金や銀の被膜6−2を形成することもてきる。この電鋳
金属層6はレジスト層2より若干厚い目に形成されるた
め、レジスト層2の上部端縁に若干掛った成長出張り部
7が必然的に形成される(第1図(bl参照)。
金や銀の被膜6−2を形成することもてきる。この電鋳
金属層6はレジスト層2より若干厚い目に形成されるた
め、レジスト層2の上部端縁に若干掛った成長出張り部
7が必然的に形成される(第1図(bl参照)。
第3図は電鋳の状態を示す一部斜視図で、前記中央非レ
ジスト部3a上に形成された電鋳金属層6aはリードの
形状をしている。また、両側非レジスト部3b上に形成
された電鋳金属層6bは同図に示すように小さな枠形を
しており、後述の位置決め突部となる。
ジスト部3a上に形成された電鋳金属層6aはリードの
形状をしている。また、両側非レジスト部3b上に形成
された電鋳金属層6bは同図に示すように小さな枠形を
しており、後述の位置決め突部となる。
次に第1図tc+に示すように、下面に粘着層8を形成
した基板1とほぼ同じ幅を有する転写テープ9を電鋳金
属層6の上に圧着し、転写テープ9を各電鋳金属層6に
貼りつける。そして次に第1図(dlに示すように転写
テープ9を基板1から剥がすと、レジスト層2は基板1
に残り、各電鋳金属層6a、6bは粘着層8に付着した
状態で基板1から離れる。これは前述のように予め非レ
ジスト部3a。
した基板1とほぼ同じ幅を有する転写テープ9を電鋳金
属層6の上に圧着し、転写テープ9を各電鋳金属層6に
貼りつける。そして次に第1図(dlに示すように転写
テープ9を基板1から剥がすと、レジスト層2は基板1
に残り、各電鋳金属層6a、6bは粘着層8に付着した
状態で基板1から離れる。これは前述のように予め非レ
ジスト部3a。
3bの表面に亜セレン酸等による剥離処理が施こされて
いるためである。
いるためである。
この転写工程により、各電鋳金属層6a、6bは電鋳に
よって形成されたときの相互の位置関係を保持したまま
転写テープ9に転写される。なお、電鋳金属層6は第1
図(dl、 (e)に示すように、それの成長出張り部
7が転写テープ9の粘着層8に付着し、基板1と接して
いた電鋳金属層6の電鋳基部10は転写テープ9の外側
を向いている。
よって形成されたときの相互の位置関係を保持したまま
転写テープ9に転写される。なお、電鋳金属層6は第1
図(dl、 (e)に示すように、それの成長出張り部
7が転写テープ9の粘着層8に付着し、基板1と接して
いた電鋳金属層6の電鋳基部10は転写テープ9の外側
を向いている。
次に転写テープ9は、第1図(elに示すように電鋳金
属層6を下にした状態でキャリアフィルム4の上方に供
給される。キャリアフィルム4は第4図に示すように転
写テープ9とほぼ同じ幅を有するテープ状のもので、ポ
リイミドフィルムやポリエステルフィルムからなり、そ
れの両側端部には等ピッチにスプロケット穴5が列設さ
れている。
属層6を下にした状態でキャリアフィルム4の上方に供
給される。キャリアフィルム4は第4図に示すように転
写テープ9とほぼ同じ幅を有するテープ状のもので、ポ
リイミドフィルムやポリエステルフィルムからなり、そ
れの両側端部には等ピッチにスプロケット穴5が列設さ
れている。
またキャリアフィルム4の中央部には、熱圧着型接着剤
層11が予め塗着形成されている。
層11が予め塗着形成されている。
第1図(f)に示すようにキャリアフィルム4上に前記
転写テープ9を載置し、その両側端を軽く押圧部材12
で押し下げると、転写テープ9はそれの可撓性により若
干下方に変形し、両側の電鋳金属1i6bの電鋳基部1
0がキャリアフィルム4のスプロケット穴5に挿入され
る。枠形をした電鋳金属層6bにスプロケット穴5とほ
ぼ同寸に設計されているから、電鋳金属層6bをスプロ
ケット穴5に挿入することにより、キャリアフィルム4
上での電鋳金属層6aの位置決めがなされ、電鋳金属層
6bが位置決め突部として機能する。特に電鋳金属層6
bの電鋳基部lO側は、レジスト層2の側面に規制され
て形成されるから、高い寸法精度を有している。そのた
め位置決め精度が良好である。
転写テープ9を載置し、その両側端を軽く押圧部材12
で押し下げると、転写テープ9はそれの可撓性により若
干下方に変形し、両側の電鋳金属1i6bの電鋳基部1
0がキャリアフィルム4のスプロケット穴5に挿入され
る。枠形をした電鋳金属層6bにスプロケット穴5とほ
ぼ同寸に設計されているから、電鋳金属層6bをスプロ
ケット穴5に挿入することにより、キャリアフィルム4
上での電鋳金属層6aの位置決めがなされ、電鋳金属層
6bが位置決め突部として機能する。特に電鋳金属層6
bの電鋳基部lO側は、レジスト層2の側面に規制され
て形成されるから、高い寸法精度を有している。そのた
め位置決め精度が良好である。
なおこの位置決め時には熱圧着型接着剤層11に熱が加
えられていないから粘着性がなく、従って電鋳金属N6
aの位置決めには支障をきたさない。
えられていないから粘着性がなく、従って電鋳金属N6
aの位置決めには支障をきたさない。
このようにキャリアフィルム4上において転写チー19
の位置決めがなされた後、転写テープ9の中央上部がキ
ャリアフィルム4側に向けて加熱圧着される。これによ
って接着剤層11が軟化、溶融し、その後に冷却するこ
とにより、リードとなる電鋳金属層6aが接着剤層11
に接着される。次に第1図(ff+に示すように、転写
テープ9をキャリアフィルム4から離す。このとき前記
熱圧着型接着剤層11の方が粘着rM8よりも接着力が
強いことと、リードに相当する電鋳金属層6aの電鋳基
部10側の方が成長出張り部7側よりも平坦であること
から、電鋳金属層6aはキャリアフィルム4上に接着、
支持され、転写テープ9には位置決め突部として機能し
た電鋳金属層6bのみ残こる。
の位置決めがなされた後、転写テープ9の中央上部がキ
ャリアフィルム4側に向けて加熱圧着される。これによ
って接着剤層11が軟化、溶融し、その後に冷却するこ
とにより、リードとなる電鋳金属層6aが接着剤層11
に接着される。次に第1図(ff+に示すように、転写
テープ9をキャリアフィルム4から離す。このとき前記
熱圧着型接着剤層11の方が粘着rM8よりも接着力が
強いことと、リードに相当する電鋳金属層6aの電鋳基
部10側の方が成長出張り部7側よりも平坦であること
から、電鋳金属層6aはキャリアフィルム4上に接着、
支持され、転写テープ9には位置決め突部として機能し
た電鋳金属層6bのみ残こる。
このようにして得られたリードキャリアフィルムは第5
図に示すように巻き取られて、半導体装置の製造ライン
に搬送、供給され、キャリアフィルム4のスプロケット
穴5は今度はリードに相当す電鋳金属N6aを半導体チ
ップ上に転移する際の位置決め穴として役立つ。
図に示すように巻き取られて、半導体装置の製造ライン
に搬送、供給され、キャリアフィルム4のスプロケット
穴5は今度はリードに相当す電鋳金属N6aを半導体チ
ップ上に転移する際の位置決め穴として役立つ。
前記実施例ではリードとなる電鋳金属層6aと位置決め
突部として機能する電鋳金属層6bとを所定の位置関係
をもって基板1上に電鋳形成し、前記電鋳金属層6aと
電鋳金属層6bとをそのまま一旦転写テープ9に転写せ
しめ、その後表面精度の高い電鋳金属層6bの電鋳基部
10とキャリアフィルム4のスプロケット穴5とを利用
して、電鋳金属層6aのみをキャリアフィルム4上に転
移する方法を採用した。この方法によれば、基板1上に
形成された電鋳金属層6aと電鋳金属層6bとの位置関
係を、キャリアフィルム4上のスプロケット穴5と電鋳
金属層6bとの位置関係として再現することができ、リ
ードとなる電鋳金属層6bをキャリアフィルム4上の所
定位置に正確にかつ生産性良く担持せしめることができ
る。
突部として機能する電鋳金属層6bとを所定の位置関係
をもって基板1上に電鋳形成し、前記電鋳金属層6aと
電鋳金属層6bとをそのまま一旦転写テープ9に転写せ
しめ、その後表面精度の高い電鋳金属層6bの電鋳基部
10とキャリアフィルム4のスプロケット穴5とを利用
して、電鋳金属層6aのみをキャリアフィルム4上に転
移する方法を採用した。この方法によれば、基板1上に
形成された電鋳金属層6aと電鋳金属層6bとの位置関
係を、キャリアフィルム4上のスプロケット穴5と電鋳
金属層6bとの位置関係として再現することができ、リ
ードとなる電鋳金属層6bをキャリアフィルム4上の所
定位置に正確にかつ生産性良く担持せしめることができ
る。
前記実施例ではキャリアフィルム4と電鋳金属層6aの
接着に熱圧着型接着剤層11を用いたが、他の接着剤あ
るいは粘着剤を使用することもできる。
接着に熱圧着型接着剤層11を用いたが、他の接着剤あ
るいは粘着剤を使用することもできる。
本発明は前述のように、リードの電鋳基部がキャリアフ
ィルム側に、成長出張り部がキャリアフィルムの外側を
向くようにしてリードをキャリアフィルム上に担持、配
列したことを特徴とするものである。
ィルム側に、成長出張り部がキャリアフィルムの外側を
向くようにしてリードをキャリアフィルム上に担持、配
列したことを特徴とするものである。
前記リードの電鋳基部側は成長出張り部側に比べて、表
面に微細な凹凸や丸味がなく、平坦であるからキャリア
フィルム上での担持が確実である。
面に微細な凹凸や丸味がなく、平坦であるからキャリア
フィルム上での担持が確実である。
そのためリードキャリアフィルムの取り扱い時、特にリ
ードキャリアフィルムの巻き取り時や繰り出し時に、リ
ードがキャリアフィルムから脱落することがなく、生産
性ならびに歩留りの向上が図れる。
ードキャリアフィルムの巻き取り時や繰り出し時に、リ
ードがキャリアフィルムから脱落することがなく、生産
性ならびに歩留りの向上が図れる。
第1図ないし第1図は本発明の実施例に係るリードキャ
リアフィルムを説明するためのもので、第1図はそのリ
ードキャリアフィルムの製造工程を示す断面図、第2図
は電鋳金属層の拡大断面図、第3図は電鋳の状態を示す
一部斜視図、第4図はキャリアフィルムの平面図、第5
図はこのリードキャリアフィルムの巻回体の側面図、第
6図は従来のリードキャリアフィルムの製造工程を示す
断面図、第7図はこのリードキャリアフィルムの巻回体
の側面図である。 4・・・キャリアフィルム、6a、6b・・・電鋳金属
層、作正;゛ 第1図 (CL) (b) (C) 第1図 (e) (f) bcl 11 第2図 第3図 第4図 第5図 / / bQ 第7図 直。 第6図
リアフィルムを説明するためのもので、第1図はそのリ
ードキャリアフィルムの製造工程を示す断面図、第2図
は電鋳金属層の拡大断面図、第3図は電鋳の状態を示す
一部斜視図、第4図はキャリアフィルムの平面図、第5
図はこのリードキャリアフィルムの巻回体の側面図、第
6図は従来のリードキャリアフィルムの製造工程を示す
断面図、第7図はこのリードキャリアフィルムの巻回体
の側面図である。 4・・・キャリアフィルム、6a、6b・・・電鋳金属
層、作正;゛ 第1図 (CL) (b) (C) 第1図 (e) (f) bcl 11 第2図 第3図 第4図 第5図 / / bQ 第7図 直。 第6図
Claims (1)
- リードの電鋳基部がキャリアフィルム側に、成長出張り
部がキャリアフィルムの外側に向くようにしてリードを
キャリアフィルム上に担持、配列したことを特徴とする
リードキャリアフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19773785A JPH069216B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | リ−ドキヤリアフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19773785A JPH069216B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | リ−ドキヤリアフイルム |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26819592A Division JPH0680700B2 (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6258667A true JPS6258667A (ja) | 1987-03-14 |
| JPH069216B2 JPH069216B2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=16379499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19773785A Expired - Lifetime JPH069216B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | リ−ドキヤリアフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069216B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03111936U (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-15 | ||
| WO2004053972A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-24 | Graphion Technologies Usa Llc | Lead frame and the same manufacturing method using electroforming |
| WO2004053975A1 (en) * | 2002-12-12 | 2004-06-24 | Graphion Technologies Usa, Llc | Chip-on-film and its methods of manufacturing by electro-forming |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP19773785A patent/JPH069216B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03111936U (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-15 | ||
| WO2004053972A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-24 | Graphion Technologies Usa Llc | Lead frame and the same manufacturing method using electroforming |
| WO2004053975A1 (en) * | 2002-12-12 | 2004-06-24 | Graphion Technologies Usa, Llc | Chip-on-film and its methods of manufacturing by electro-forming |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH069216B2 (ja) | 1994-02-02 |
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