JPS6259231A - エタノ−ルの製造方法 - Google Patents
エタノ−ルの製造方法Info
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- JPS6259231A JPS6259231A JP60197793A JP19779385A JPS6259231A JP S6259231 A JPS6259231 A JP S6259231A JP 60197793 A JP60197793 A JP 60197793A JP 19779385 A JP19779385 A JP 19779385A JP S6259231 A JPS6259231 A JP S6259231A
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- catalyst
- carrier
- hydrogen
- rhenium
- carbon monoxide
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
本発明はエタノールの製造方法に関する。更に詳しくは
(a)ロジウム、スカンジウム、イリジウムおよび/又
はリチウムを担体担持してなる触媒と(b)(1)レニ
ウム又は(2)レニウムおよび亜鉛を担体担持してなる
触媒の存在下、一酸化炭素と水素とを反応させエタノー
ルを製造する方法に関する。
(a)ロジウム、スカンジウム、イリジウムおよび/又
はリチウムを担体担持してなる触媒と(b)(1)レニ
ウム又は(2)レニウムおよび亜鉛を担体担持してなる
触媒の存在下、一酸化炭素と水素とを反応させエタノー
ルを製造する方法に関する。
[従来の技術及び発明が解決しようとする問題点]エタ
ノール、アセトアルデヒド等の炭素数2の含酸素化合物
は従来ナフサを原料とする石油化学的方法によって製造
されてきた。しかし近年の原油の高騰により、製造価格
の著しい」1昇か起り、原料転換の必要性か生じている
。
ノール、アセトアルデヒド等の炭素数2の含酸素化合物
は従来ナフサを原料とする石油化学的方法によって製造
されてきた。しかし近年の原油の高騰により、製造価格
の著しい」1昇か起り、原料転換の必要性か生じている
。
一方豊富で且つ安価に人手可能な一酸化炭素及び水素の
混合ガスより炭素数2の含酸素化合物を製造する方法が
種々検討されている。
混合ガスより炭素数2の含酸素化合物を製造する方法が
種々検討されている。
即ち、一酸化炭素と水素の混合ガスを、ロジウムを主成
分とし、マンガン、チタン、ジルコン、鉄などの金属も
しくは金属酸化物などより成る触媒の存在下に反応させ
て炭素数2の含酸素化合物を選択的に製造する方法は公
知(例えば特開昭51−80806号、同52−147
06号、同56−147730号等)である。
分とし、マンガン、チタン、ジルコン、鉄などの金属も
しくは金属酸化物などより成る触媒の存在下に反応させ
て炭素数2の含酸素化合物を選択的に製造する方法は公
知(例えば特開昭51−80806号、同52−147
06号、同56−147730号等)である。
しかしながら、かかる方法は副生ずる炭化水素、例えば
メタン等の量が多く、含酸素化合物の選択率が低いもの
や、含酸素化合物の選択率が高い場合には、その生成量
は極めて低いものであった。
メタン等の量が多く、含酸素化合物の選択率が低いもの
や、含酸素化合物の選択率が高い場合には、その生成量
は極めて低いものであった。
更に高価な貴金属であるロジウムあたりの目的化合物の
生成量がまた少く、経済的にもプロセス的にも完成され
た技術が提供されていないのが実情である。
生成量がまた少く、経済的にもプロセス的にも完成され
た技術が提供されていないのが実情である。
更に炭素数2の含酸素化合物を高収量で高選択的に製造
することを目的としたロジウムにリチウム(特開昭56
−8334号)、鉄(特開昭51−80807号)、ス
カンジウム(特開昭57−62233号)等が提案され
ているが、いずれの方法もアセトアルデヒド、酢酸又は
メタノールを主生成物とするものであり、エタノールの
収率、選択性などは著しく低い欠点を有している。
することを目的としたロジウムにリチウム(特開昭56
−8334号)、鉄(特開昭51−80807号)、ス
カンジウム(特開昭57−62233号)等が提案され
ているが、いずれの方法もアセトアルデヒド、酢酸又は
メタノールを主生成物とするものであり、エタノールの
収率、選択性などは著しく低い欠点を有している。
以上述べた如く、一酸化炭素及び水素を含有する気体よ
りエタノールを主成分とする含酸素化合物を効率よく、
経済性よく製造する方法は提供されていない。
りエタノールを主成分とする含酸素化合物を効率よく、
経済性よく製造する方法は提供されていない。
本発明者らは一酸化炭素及び水素を含有する気体より、
含酸素化合物を製造する際に、上記炭素数2の含酸素化
合物の選択性を改良しつつ、該反応より生成される炭素
数2の含酸素化合物中の分布をエタノールに移動させ、
かつ炭化水素の生成を最少とすることを可能にした触媒
系を開示するものであり、多数の助触媒成分の組合せ試
験につき鋭意検討を重ねた結果、(a)ロジウム、スカ
ンジウム、イリジウムおよび/又はリチウムを担体担持
してなる触媒と、(b)(1)レニウム又は(2)レニ
ウムおよび亜鉛を担体担持してなる触媒とを組合せるこ
とにより予期し得ない効果が発現し、エタノールが好ま
しい収量と高選択性を有することを見い出し、本発明を
完成するに至った。
含酸素化合物を製造する際に、上記炭素数2の含酸素化
合物の選択性を改良しつつ、該反応より生成される炭素
数2の含酸素化合物中の分布をエタノールに移動させ、
かつ炭化水素の生成を最少とすることを可能にした触媒
系を開示するものであり、多数の助触媒成分の組合せ試
験につき鋭意検討を重ねた結果、(a)ロジウム、スカ
ンジウム、イリジウムおよび/又はリチウムを担体担持
してなる触媒と、(b)(1)レニウム又は(2)レニ
ウムおよび亜鉛を担体担持してなる触媒とを組合せるこ
とにより予期し得ない効果が発現し、エタノールが好ま
しい収量と高選択性を有することを見い出し、本発明を
完成するに至った。
[発明の概要]
本発明は前記した如く、(a)ロジウム、スカンジウム
、イリジウムおよび/又はリチウムを担体担持してなる
触媒と、(b)(1)レニウム又は(2)レニウムおよ
び亜鉛を担体担持してなる触媒との存在下、一酸化炭素
および水素とを反応させエタノールを製造するものであ
る。
、イリジウムおよび/又はリチウムを担体担持してなる
触媒と、(b)(1)レニウム又は(2)レニウムおよ
び亜鉛を担体担持してなる触媒との存在下、一酸化炭素
および水素とを反応させエタノールを製造するものであ
る。
以下、本発明を順次詳述する。
本発明において用いられる触媒は前述の如く、(a)ロ
ジウム、スカンジウム、イリジウムおよび/又はリチウ
ムを担体担持してなる触媒と、(b)(1)レニウム又
は(2)レニウムおよび亜鉛を担体担持してなる触媒か
らなる三者の触媒を主たる構成成分とする。両者の触媒
は各々別途に調製したものを使用することができ、使用
に際しては混合あるいは(a)の触媒の一つを上層に、
(b)の触媒の一つを下層に充填して使用することがで
きる。
ジウム、スカンジウム、イリジウムおよび/又はリチウ
ムを担体担持してなる触媒と、(b)(1)レニウム又
は(2)レニウムおよび亜鉛を担体担持してなる触媒か
らなる三者の触媒を主たる構成成分とする。両者の触媒
は各々別途に調製したものを使用することができ、使用
に際しては混合あるいは(a)の触媒の一つを上層に、
(b)の触媒の一つを下層に充填して使用することがで
きる。
(a)の触媒の調製に際しては通常、貴金属触媒におい
て行われている如く担体上に上記の成分を分散させてい
る。
て行われている如く担体上に上記の成分を分散させてい
る。
本発明方法において用いられる(a)の触媒は貴金属を
使用する場合に用いられる常法に従って調製することが
できる。例えば含浸法、浸漬法、イオン交換法、共沈法
、混錬法等によって調製できる。触媒を構成する成分で
あるロジウム及びイリジウムにおいて触媒調製のために
使用できる原料化合物としては、塩化物、臭化物等のハ
ロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、酢酸塩、シュ
ウ酸塩、アセチルアセトナート塩、エチレンジアミン酢
酸塩等の有機酸塩又はキレート化合物、カルボニル化合
物、アンミン錯体、金属アルコキシド化合物、アルキル
金属化合物等通常貴金属触媒を調製する際に用いられる
化合物を使用することができる。
使用する場合に用いられる常法に従って調製することが
できる。例えば含浸法、浸漬法、イオン交換法、共沈法
、混錬法等によって調製できる。触媒を構成する成分で
あるロジウム及びイリジウムにおいて触媒調製のために
使用できる原料化合物としては、塩化物、臭化物等のハ
ロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、酢酸塩、シュ
ウ酸塩、アセチルアセトナート塩、エチレンジアミン酢
酸塩等の有機酸塩又はキレート化合物、カルボニル化合
物、アンミン錯体、金属アルコキシド化合物、アルキル
金属化合物等通常貴金属触媒を調製する際に用いられる
化合物を使用することができる。
助触媒として使用されるスカンジウム、リチウムに使用
できる原料化合物としてはノ\ロゲン化物、ハロゲン酸
塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩、水ルアセトン力ルボ
ニル化合物等を使用することができる。
できる原料化合物としてはノ\ロゲン化物、ハロゲン酸
塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩、水ルアセトン力ルボ
ニル化合物等を使用することができる。
また亜鉛として使用できる原料化合物としては、ハロゲ
ン化物、硝酸塩、酢酸塩、金属アルコキト化合物等を使
用することができる。
ン化物、硝酸塩、酢酸塩、金属アルコキト化合物等を使
用することができる。
これらの触媒構成成分を担体上へ担持することを容易に
するためには、エタノール、水又は他の適当な溶媒に可
溶性の高い化合物が好ましくは用いられる。
するためには、エタノール、水又は他の適当な溶媒に可
溶性の高い化合物が好ましくは用いられる。
以下に含浸法を例にとり触媒の調製法を説明する。上記
の金属化合物を水、メタノール、エタノール、アセトン
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマルヘキサン
、ベンゼン、トルエン等の単独または混合溶媒に溶解し
、その溶液に担体を加え浸漬し、溶媒を留去し、乾燥し
、必要とあれば加熱、ガス処理等の処理を行い、担体に
金属化合物を担持する。
の金属化合物を水、メタノール、エタノール、アセトン
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマルヘキサン
、ベンゼン、トルエン等の単独または混合溶媒に溶解し
、その溶液に担体を加え浸漬し、溶媒を留去し、乾燥し
、必要とあれば加熱、ガス処理等の処理を行い、担体に
金属化合物を担持する。
(a)又は(b)触媒の担持の手法としては原料化合物
を同一溶媒に同時に溶解した混合溶液を作り、担体に同
時に担持する方法、各成分を逐次的に担持する方法、あ
るいは各成分を必要に応じて還元、熱処理等の処理を行
いながら逐次的、段階的に担持する方法などの各手法を
用いることができる。
を同一溶媒に同時に溶解した混合溶液を作り、担体に同
時に担持する方法、各成分を逐次的に担持する方法、あ
るいは各成分を必要に応じて還元、熱処理等の処理を行
いながら逐次的、段階的に担持する方法などの各手法を
用いることができる。
その他の調製法、例えば担体のイオン交換能を利用した
イオン交換によって金属を担持する方法、共沈法、混錬
法によって触媒を調製する方法なども本発明方法に用い
られる触媒の調製手法として採用できる。
イオン交換によって金属を担持する方法、共沈法、混錬
法によって触媒を調製する方法なども本発明方法に用い
られる触媒の調製手法として採用できる。
上述の手法によって調製された(a)および(b)の触
媒は通常還元処理を行うことにより活性化し次いで反応
に供せられる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であって好ましい。
媒は通常還元処理を行うことにより活性化し次いで反応
に供せられる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であって好ましい。
(a)の触媒の還元温度として、ロジウムの還元温度と
して、ロジウムの還元される温度、即ち100℃程度の
温度条件下でも還元処理かできるが、好ましくは200
℃〜600℃の温度下で還元処理を行う。この際触媒の
各成分の分散を充分に行わせる目的で低温より徐々に、
あるいは段階的に昇温しながら水素還元を行ってもよい
。また還元剤を用いて、化学的に還元を行うこともでき
る。
して、ロジウムの還元される温度、即ち100℃程度の
温度条件下でも還元処理かできるが、好ましくは200
℃〜600℃の温度下で還元処理を行う。この際触媒の
各成分の分散を充分に行わせる目的で低温より徐々に、
あるいは段階的に昇温しながら水素還元を行ってもよい
。また還元剤を用いて、化学的に還元を行うこともでき
る。
たとえば一酸化炭素と水を用いたり、ヒドラジン、水素
化ホウ素化合物、水素化アルミニウム化合物などの還元
剤を用いた還元処理を行ってもよい。
化ホウ素化合物、水素化アルミニウム化合物などの還元
剤を用いた還元処理を行ってもよい。
また(b)の触媒は(a)の触媒と同様な方法で還元処
理を行うことができる。
理を行うことができる。
本発明において用いられる担体は、好ましくは比表面積
10〜1,000ゴ/g、細孔径10A以上を有するも
のであれば通常担体として知られているものを使用する
ことができる。具体的な担体としては、シリカ、各種の
珪酸塩、アルミナ、活性炭、各種金属の酸化物(例えば
酸化ジルコニウム、酸化チタン、マグネシアなど)、モ
レキュラーシーブ、ケイソウ土などがあげられるが、シ
リカ系の担体が好ましい。
10〜1,000ゴ/g、細孔径10A以上を有するも
のであれば通常担体として知られているものを使用する
ことができる。具体的な担体としては、シリカ、各種の
珪酸塩、アルミナ、活性炭、各種金属の酸化物(例えば
酸化ジルコニウム、酸化チタン、マグネシアなど)、モ
レキュラーシーブ、ケイソウ土などがあげられるが、シ
リカ系の担体が好ましい。
上記(a)の触媒における各構成成分の比率は以下の様
である。
である。
ロジウムと担体に対する比率は、担体の比表面積を考慮
して重量比でO,,0001〜0.5、好ましくは0.
001〜0.3である。スカンジウムとロジウムの比率
はスカンジウム/ロジウム(原子比)でo、oooi〜
10、好ましくは0.005〜3の範囲である。イリジ
ウムとロジウムの比率はイリジウム/ロジウム(原子比
)で0.001〜6、好ましくは0.005〜3の範囲
である。リチウムとロジウムの比率はリチウム/ロジウ
ム(原子比)で0.001〜3、好ましくは0゜001
〜2の範囲である。更に上記(b)の触媒における各構
成成分の比率は以下の様である。Reと担体に対する比
率は、担体の比表面積を考慮して重量比でo、ooi〜
50、好ましくは0゜01〜10である。亜鉛とレニウ
ムの比率は亜鉛/レニウム(原子比)で0.01〜30
、好ましくは0.1〜10の範囲である。
して重量比でO,,0001〜0.5、好ましくは0.
001〜0.3である。スカンジウムとロジウムの比率
はスカンジウム/ロジウム(原子比)でo、oooi〜
10、好ましくは0.005〜3の範囲である。イリジ
ウムとロジウムの比率はイリジウム/ロジウム(原子比
)で0.001〜6、好ましくは0.005〜3の範囲
である。リチウムとロジウムの比率はリチウム/ロジウ
ム(原子比)で0.001〜3、好ましくは0゜001
〜2の範囲である。更に上記(b)の触媒における各構
成成分の比率は以下の様である。Reと担体に対する比
率は、担体の比表面積を考慮して重量比でo、ooi〜
50、好ましくは0゜01〜10である。亜鉛とレニウ
ムの比率は亜鉛/レニウム(原子比)で0.01〜30
、好ましくは0.1〜10の範囲である。
本発明はたとえば固定床の流通式反応装置に適用するこ
とができる。すなわち反応器内に上記(b)の触媒のう
ちの一つの上に、(a)の触媒のうちの一つを充填する
か、(a)の触媒のうちの一つと(b)の触媒のうちの
一つを混合して充填し、原料ガスを送入して反応を行わ
せる。
とができる。すなわち反応器内に上記(b)の触媒のう
ちの一つの上に、(a)の触媒のうちの一つを充填する
か、(a)の触媒のうちの一つと(b)の触媒のうちの
一つを混合して充填し、原料ガスを送入して反応を行わ
せる。
生成物は分離し、未反応の原料ガスは必要に応じて精製
したのち循環再使用することも可能である。
したのち循環再使用することも可能である。
また本発明は流動床式の反応装置にも適用できる。すな
わち、原料ガスと上記(a)の触媒のうちの一つと(b
)の触媒のうちの一つを混合、流動化した触媒を同伴さ
せて反応を行わせることもできる。更に本発明は溶媒中
に触媒を分散させ、原料ガスを送入し反応を行うことか
らなる液相不均一反応にも適用できる。
わち、原料ガスと上記(a)の触媒のうちの一つと(b
)の触媒のうちの一つを混合、流動化した触媒を同伴さ
せて反応を行わせることもできる。更に本発明は溶媒中
に触媒を分散させ、原料ガスを送入し反応を行うことか
らなる液相不均一反応にも適用できる。
本発明方法を実施するに際して採用される条件反応圧力
は、常圧(すなわちOkg / crlゲージ)でも当
該目的化合物を高選択率・高収率で製造できるのである
が、空時収率を高める目的で加圧下において反応を行う
ことができる。従って反応圧力としてはOkg/cJゲ
ージ〜350kg/caゲージ好ましくはOkg/cI
#ゲージ〜250kg/cJゲージの圧力下で行う。反
応温度は1509C〜450℃、好ましくは1806C
〜350℃である。反応温度が高い場合には、炭化水素
の副生量が増加するための原料の送入速度を早くしたり
、水素、一酸化炭素の組成比を変える必要がある。従っ
て、空間速度(原料ガス送入量/触媒容量)は標準状態
(0℃、1気圧)換算で10h−1〜107h−’の範
囲より、反応圧力、反応温度、原料ガス組成との関係よ
り適宜選択される。
は、常圧(すなわちOkg / crlゲージ)でも当
該目的化合物を高選択率・高収率で製造できるのである
が、空時収率を高める目的で加圧下において反応を行う
ことができる。従って反応圧力としてはOkg/cJゲ
ージ〜350kg/caゲージ好ましくはOkg/cI
#ゲージ〜250kg/cJゲージの圧力下で行う。反
応温度は1509C〜450℃、好ましくは1806C
〜350℃である。反応温度が高い場合には、炭化水素
の副生量が増加するための原料の送入速度を早くしたり
、水素、一酸化炭素の組成比を変える必要がある。従っ
て、空間速度(原料ガス送入量/触媒容量)は標準状態
(0℃、1気圧)換算で10h−1〜107h−’の範
囲より、反応圧力、反応温度、原料ガス組成との関係よ
り適宜選択される。
= 11−
当該原料ガスの組成は、主として一酸化炭素と水素を含
有しているガスであって、窒素、アルゴン、ヘリウム、
メタン等のガス、あるいは反応条件下において、気体の
状態であれば炭化水素、二酸化炭素、生成した含酸素化
合物や水を含有してしくは60〜100容積%である。
有しているガスであって、窒素、アルゴン、ヘリウム、
メタン等のガス、あるいは反応条件下において、気体の
状態であれば炭化水素、二酸化炭素、生成した含酸素化
合物や水を含有してしくは60〜100容積%である。
以下実施例によって、本発明をさらに詳細に説明するが
、これらの例は本発明の理解を容易にするためにあえて
同一反応条件で示すものであり、本発明はこれによりな
んら限定されるものでないことは言うまでもない。
、これらの例は本発明の理解を容易にするためにあえて
同一反応条件で示すものであり、本発明はこれによりな
んら限定されるものでないことは言うまでもない。
実施例1
塩化ロジウム(RhC1・3H20)1.2og、塩化
スカンジウム(ScC1・6H20)0.059g、塩
化リチウム(LiC1−N20)0.055gをメタノ
ール11.5mlに溶解させ、コレニシリカゲル(DA
VISON GR−91112)25mlを加えた後
、室温、減圧下で15時間乾燥した。この担持触媒をパ
イレックスガラス製反応管に充填し、水素40m1/毎
分下、450℃で5時間還元してRh−8c−Li触媒
を調製した。
スカンジウム(ScC1・6H20)0.059g、塩
化リチウム(LiC1−N20)0.055gをメタノ
ール11.5mlに溶解させ、コレニシリカゲル(DA
VISON GR−91112)25mlを加えた後
、室温、減圧下で15時間乾燥した。この担持触媒をパ
イレックスガラス製反応管に充填し、水素40m1/毎
分下、450℃で5時間還元してRh−8c−Li触媒
を調製した。
また過レニウム酸アンモン(N H4Re O4)
1−10gを水22.5mlに溶解させ、これにシリカ
活性試験及び結果 外径8mraの熱雷対保護管を有する内径18mmのチ
タン製反応管に上記のRe触媒15m1を充填し、つい
で上記のRh−8c−Li触媒10m1を上記に記載の
シリカゲル30m1で希釈して充填した。
1−10gを水22.5mlに溶解させ、これにシリカ
活性試験及び結果 外径8mraの熱雷対保護管を有する内径18mmのチ
タン製反応管に上記のRe触媒15m1を充填し、つい
で上記のRh−8c−Li触媒10m1を上記に記載の
シリカゲル30m1で希釈して充填した。
反応管内を窒素で置換し、常圧下、窒素希釈水素ガス(
N2:N2−200 : 200m1/毎分)で200
℃、1時間回速元した後、水素/一酸化炭素=2/1
(容積比)の混合ガスを21 ON 1/毎時送入し、
反応圧力20kg/cI#、反応温度275℃において
反応を行った。反応流出物のうち、液状生成物は水に吸
収させて捕集し、また流出ガス組成はガスクロ法により
分析し、その結果を第1表に示す。
N2:N2−200 : 200m1/毎分)で200
℃、1時間回速元した後、水素/一酸化炭素=2/1
(容積比)の混合ガスを21 ON 1/毎時送入し、
反応圧力20kg/cI#、反応温度275℃において
反応を行った。反応流出物のうち、液状生成物は水に吸
収させて捕集し、また流出ガス組成はガスクロ法により
分析し、その結果を第1表に示す。
実施例2
実施例1と同様にして、同様の組成比でRh−8c−L
i触媒を調整した。また過レニウム酸アンモン1.10
g、硝酸亜鉛(zn(NO3)2・6H20)3.50
gを水30m1に溶解させ、こi触媒10m1を前記に
記載のシリカゲル30m1で希釈して充填した後、実施
例1と同様にして反応を行った。結果を第1表に示す。
i触媒を調整した。また過レニウム酸アンモン1.10
g、硝酸亜鉛(zn(NO3)2・6H20)3.50
gを水30m1に溶解させ、こi触媒10m1を前記に
記載のシリカゲル30m1で希釈して充填した後、実施
例1と同様にして反応を行った。結果を第1表に示す。
実施例3
塩化ロジウム1.20g、塩化スカンジウム0゜059
g、塩化リチウム0.055g、塩化イリジ’yム(
I rcI ・HO)0.064gをメタノール11
.5nnlに溶解させ、これに実施例1に記載のシリカ
ゲル25m1を加えた後、実施例1と同様の操作で乾燥
、還元処理してRh−8c−Li−1r触媒を調製した
。
g、塩化リチウム0.055g、塩化イリジ’yム(
I rcI ・HO)0.064gをメタノール11
.5nnlに溶解させ、これに実施例1に記載のシリカ
ゲル25m1を加えた後、実施例1と同様の操作で乾燥
、還元処理してRh−8c−Li−1r触媒を調製した
。
また実施例1と同様の反応装置に上記のRe触媒15m
1を充填し、ついで上記のRh−8c−Li−Ir触媒
10m1を前記に記載のシリカゲル30m1で希釈して
充填した後、実施例1と同様にして反応を行った。結果
を第1表に示す。
1を充填し、ついで上記のRh−8c−Li−Ir触媒
10m1を前記に記載のシリカゲル30m1で希釈して
充填した後、実施例1と同様にして反応を行った。結果
を第1表に示す。
実施例4
実施例3と同様にして、同様の組成比でRh−1−Ir
触媒10m1を前記に記載のシリカゲル30m1で希釈
して充填した後、実施例1と同様にして反応を行った。
触媒10m1を前記に記載のシリカゲル30m1で希釈
して充填した後、実施例1と同様にして反応を行った。
結果を第1表に示す。
比較例1
実施例1と同様にして同様の組成比でRh−3c−Li
触媒を調製し、その10m1を前記に記載のシリカゲル
30m1で希釈して充填した以外は、実施例1と同様に
して反応を行った。結果を第1表に示す。
触媒を調製し、その10m1を前記に記載のシリカゲル
30m1で希釈して充填した以外は、実施例1と同様に
して反応を行った。結果を第1表に示す。
比較例2
実施例3と同様にして同様の組成比でRh−8c−Li
−Ir触媒を調製し、その10m1を前記に記載のシリ
カゲル30m1で希釈して充填した以外は、実施例1と
同様にして反応を行った。結果を第1表に示す。
−Ir触媒を調製し、その10m1を前記に記載のシリ
カゲル30m1で希釈して充填した以外は、実施例1と
同様にして反応を行った。結果を第1表に示す。
消費された一酸化炭素のモル数
転化率−X100
供給した一酸化炭素のモル数
選択率−消費された一酸化炭素基僧
Ett(O:エタノール+酢酸エチル中のエタノール分
AcII:アセトアルデヒド Ac011 :酢酸十酢酸エステル中の酢酸骨H,C,
:メタン、エタン等の炭化水素特許出願人 工業技術院
長 等々力 達−18=
AcII:アセトアルデヒド Ac011 :酢酸十酢酸エステル中の酢酸骨H,C,
:メタン、エタン等の炭化水素特許出願人 工業技術院
長 等々力 達−18=
Claims (1)
- ロジウム、スカンジウム、イリジウムおよび/又はリチ
ウムを担体担持してなる触媒と、(1)レニウム又は(
2)レニウムおよび亜鉛を担体担持してなる触媒の存在
下、一酸化炭素と水素とを反応させることからなるエタ
ノールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60197793A JPS6259231A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | エタノ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60197793A JPS6259231A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | エタノ−ルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259231A true JPS6259231A (ja) | 1987-03-14 |
| JPS63415B2 JPS63415B2 (ja) | 1988-01-07 |
Family
ID=16380442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60197793A Granted JPS6259231A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | エタノ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6259231A (ja) |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP60197793A patent/JPS6259231A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63415B2 (ja) | 1988-01-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |