JPS626130Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS626130Y2 JPS626130Y2 JP17655382U JP17655382U JPS626130Y2 JP S626130 Y2 JPS626130 Y2 JP S626130Y2 JP 17655382 U JP17655382 U JP 17655382U JP 17655382 U JP17655382 U JP 17655382U JP S626130 Y2 JPS626130 Y2 JP S626130Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- substrate holder
- vacuum container
- cylindrical substrate
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、蒸着効率の向上を図つた蒸着装置に
関する。
関する。
蒸着技術は最近広い範囲に利用されるようにな
つてきている。蒸着はメツキ等に比べ公害を発生
しない等の利点を有するが、通常蒸着効率が10％
前後と低く、これが生産性の低い原因となつてい
た。
つてきている。蒸着はメツキ等に比べ公害を発生
しない等の利点を有するが、通常蒸着効率が10％
前後と低く、これが生産性の低い原因となつてい
た。
本考案は、上記の点に鑑み、真空容器の側面内
側に円筒状基板ホルダを上下移動自在に設け、上
部に蒸発物質の蒸気を下方に戻すための回転扇又
はフイルタを配置する構成とすることにより、容
器側壁への無駄な蒸着をなくして蒸着効率の大幅
な改善を図つた蒸着装置を提供しようとするもの
である。
側に円筒状基板ホルダを上下移動自在に設け、上
部に蒸発物質の蒸気を下方に戻すための回転扇又
はフイルタを配置する構成とすることにより、容
器側壁への無駄な蒸着をなくして蒸着効率の大幅
な改善を図つた蒸着装置を提供しようとするもの
である。
以下、本考案に係る蒸着装置の実施例を図面に
従つて説明する。
従つて説明する。
第１図は本考案の第１実施例を示す。この図に
おいて、ベルジヤ１の底部にはフラツシユガン２
が配置され、ベルジヤ１の側面内側には基板（サ
ブストレート）を保持する円筒状基板ホルダ３が
上下移動自在に設けられる。そして、該円筒状基
板ホルダ３の上部開口部分に高速回転扇４が配置
される。ここでフラツシユガン２は、蒸発物質に
対して濡れ性を有するノズル５に蒸発物質の線材
を供給するとともに、該ノズル５に電子ビームを
当て、ノズル先端面に蒸発物質を溶融させて蒸発
物質の蒸気を放出するものである。また高速回転
扇４はフラツシユガン２より放出された蒸気を下
方に押戻す働きをするものであり、ベルジヤ１上
面への蒸気の付着を防止している。なおベルジヤ
底部に真空排気系６が接続されている。
おいて、ベルジヤ１の底部にはフラツシユガン２
が配置され、ベルジヤ１の側面内側には基板（サ
ブストレート）を保持する円筒状基板ホルダ３が
上下移動自在に設けられる。そして、該円筒状基
板ホルダ３の上部開口部分に高速回転扇４が配置
される。ここでフラツシユガン２は、蒸発物質に
対して濡れ性を有するノズル５に蒸発物質の線材
を供給するとともに、該ノズル５に電子ビームを
当て、ノズル先端面に蒸発物質を溶融させて蒸発
物質の蒸気を放出するものである。また高速回転
扇４はフラツシユガン２より放出された蒸気を下
方に押戻す働きをするものであり、ベルジヤ１上
面への蒸気の付着を防止している。なおベルジヤ
底部に真空排気系６が接続されている。
以上の第１実施例の構成によれば、フラツシユ
ガン２より放出された蒸発物質の蒸気は殆ど側面
の円筒状基板ホルダ３に達し、該ホルダ３に保持
された基板に効率的に蒸着が行われる。このと
き、円筒状基板ホルダ３は上下移動するので蒸着
効率の向上とともに膜厚分布をより均一とするこ
とができる。
ガン２より放出された蒸発物質の蒸気は殆ど側面
の円筒状基板ホルダ３に達し、該ホルダ３に保持
された基板に効率的に蒸着が行われる。このと
き、円筒状基板ホルダ３は上下移動するので蒸着
効率の向上とともに膜厚分布をより均一とするこ
とができる。
第２図は本考案の第２実施例を示す。この図に
おいては円筒状基板ホルダ３の上部開口位置には
磁器製フイルタ７が設けられている。この磁器製
フイルタ７は通気性を有するものであり、フイル
タ７の上面より下面に向けてアルゴン（Ar）等
のガスが微量放出され、これによりフイルタ７へ
の蒸着を防止し蒸気の飛散防止を図つている。な
お、その他の構成及び作用効果は前述の第１実施
例とほぼ同様である。
おいては円筒状基板ホルダ３の上部開口位置には
磁器製フイルタ７が設けられている。この磁器製
フイルタ７は通気性を有するものであり、フイル
タ７の上面より下面に向けてアルゴン（Ar）等
のガスが微量放出され、これによりフイルタ７へ
の蒸着を防止し蒸気の飛散防止を図つている。な
お、その他の構成及び作用効果は前述の第１実施
例とほぼ同様である。
以上説明したように、本考案によれば真空容器
の側面内側に円筒状基板ホルダを上下移動自在に
設け、かつ真空容器上部に回転扇又はフイルタを
配置した構成としたので、蒸発物質の飛散を防止
して蒸着効率の大幅な改善を図りかつ膜厚の均一
化を図ることが可能な蒸着装置を得ることがで
き、生産性の向上に寄与する効果は大きい。
の側面内側に円筒状基板ホルダを上下移動自在に
設け、かつ真空容器上部に回転扇又はフイルタを
配置した構成としたので、蒸発物質の飛散を防止
して蒸着効率の大幅な改善を図りかつ膜厚の均一
化を図ることが可能な蒸着装置を得ることがで
き、生産性の向上に寄与する効果は大きい。
第１図は本考案に係る蒸着装置の第１実施例を
示す断面図、第２図は第２実施例を示す断面図で
ある。 １……ベルジヤ、２……フラツシユガン、３…
…円筒状基板ホルダ、４……高速回転扇、５……
ノズル、６……真空排気系、７……磁器製フイル
タ。
示す断面図、第２図は第２実施例を示す断面図で
ある。 １……ベルジヤ、２……フラツシユガン、３…
…円筒状基板ホルダ、４……高速回転扇、５……
ノズル、６……真空排気系、７……磁器製フイル
タ。
Claims (1)
- 真空容器の底部に蒸発源を配置し、前記真空容
器の側面内側に円筒状基板ホルダを上下移動自在
に設け、前記真空容器上部に回転扇又は下方にガ
スを送出するフイルタを配置したことを特徴とす
る蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17655382U JPS5980464U (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17655382U JPS5980464U (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5980464U JPS5980464U (ja) | 1984-05-31 |
| JPS626130Y2 true JPS626130Y2 (ja) | 1987-02-12 |
Family
ID=30383821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17655382U Granted JPS5980464U (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5980464U (ja) |
-
1982
- 1982-11-24 JP JP17655382U patent/JPS5980464U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5980464U (ja) | 1984-05-31 |
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