JPS6271863U - - Google Patents

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JPS6271863U
JPS6271863U JP16280385U JP16280385U JPS6271863U JP S6271863 U JPS6271863 U JP S6271863U JP 16280385 U JP16280385 U JP 16280385U JP 16280385 U JP16280385 U JP 16280385U JP S6271863 U JPS6271863 U JP S6271863U
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JP
Japan
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implantation
shutter
ion
ion beam
amount
Prior art date
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JP16280385U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図はイオン注入装置の概略説明図、第2図
はビームシヤツターとビームの相対位置関係図、
第3図は分割型ビームシヤツターの概略図である
。 1…イオン源、2…イオンビーム、3…ビーム
シヤツター、4…シヤツター駆動装置、5…ウエ
ーハ、6…ウエーハ搬送装置、7…打込みチヤン
バー。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 固定した大口径イオンビームを用い、固定し
    た基板(ウエーハ)に所定の注入量を均一にイオ
    ン注入するイオン打込装置において、注入口径の
    開口を中央にもつビームシヤツターを一方行に移
    動することにより、イオン注入の開始から終了ま
    でを一連の動作で行い、シヤツターの移動期間に
    おける基板両端の注入量を等しくすることを特徴
    とするイオンビームシヤツター。 2 実用新案登録請求の範囲第1項において、注
    入の開始と終了をイオンビームシヤツター移動方
    向を逆転することにより行うことを特徴とするイ
    オンビームシヤツター。 3 実用新案登録請求の範囲第1項において、ビ
    ームシヤツターの開口部周辺を分割し、それぞれ
    にイオン電流検出器を接続し、イオン注入開始前
    、注入中、注入後のイオン量を検出することによ
    りイオン量と分布を測定し、イオンビームの偏向
    、注入時間を観測、制御することを特徴とするイ
    オンビームシヤツター。
JP16280385U 1985-10-25 1985-10-25 Pending JPS6271863U (ja)

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JPS6271863U true JPS6271863U (ja) 1987-05-08

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