JPS6275918A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS6275918A JPS6275918A JP21240585A JP21240585A JPS6275918A JP S6275918 A JPS6275918 A JP S6275918A JP 21240585 A JP21240585 A JP 21240585A JP 21240585 A JP21240585 A JP 21240585A JP S6275918 A JPS6275918 A JP S6275918A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- thin film
- metal
- core
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/255—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for protection against wear
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドに係シ、特に金属軟磁性膜から
なる磁気コアを備えた薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。
なる磁気コアを備えた薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。
近年、ビデオテープレコーダ（以下、ＶＴＲと称する）
に用いる磁気テープとしてメタルテープが普及しておシ
、このメタルテープに対する磁気ヘッドとして、Ｆｍ−
Ｓｉ− Ａｉ系軟質合金や鉄族元素を含む非晶質軟性
合金等の高飽和磁束密度の磁性材料をコア材とした薄膜
磁気ヘッドが注目されている。しかしながら、これら金
属軟磁性材料は、磁気特性の面では優れた利点を有
□しているが、耐摩耗の面でフェライトに比べて劣
るという欠点がある。そこで、このような金属軟磁性材
をコア材として使用した磁気ヘッド □における
耐摩耗性の向上を目的として、従来よ □夛例
えば特開昭５８−１８９８１６号公報に示されるように
、磁性合金からなる磁気コアのテープ摺動面にイオン注
入を行なう方法や特開昭５．−１１０１０２５号公報に
示されるように、非晶質合金組成時に耐摩耗性の向上す
る元素を数パーセント含ませる等の方法が提案されてい
るが、これら従来方法では金属軟磁性材からなるコア材
のもつ優れた磁気特性を損うという問題があった。
に用いる磁気テープとしてメタルテープが普及しておシ
、このメタルテープに対する磁気ヘッドとして、Ｆｍ−
Ｓｉ− Ａｉ系軟質合金や鉄族元素を含む非晶質軟性
合金等の高飽和磁束密度の磁性材料をコア材とした薄膜
磁気ヘッドが注目されている。しかしながら、これら金
属軟磁性材料は、磁気特性の面では優れた利点を有
□しているが、耐摩耗の面でフェライトに比べて劣
るという欠点がある。そこで、このような金属軟磁性材
をコア材として使用した磁気ヘッド □における
耐摩耗性の向上を目的として、従来よ □夛例
えば特開昭５８−１８９８１６号公報に示されるように
、磁性合金からなる磁気コアのテープ摺動面にイオン注
入を行なう方法や特開昭５．−１１０１０２５号公報に
示されるように、非晶質合金組成時に耐摩耗性の向上す
る元素を数パーセント含ませる等の方法が提案されてい
るが、これら従来方法では金属軟磁性材からなるコア材
のもつ優れた磁気特性を損うという問題があった。
また、従来から金属軟磁性材をコア材に使用した磁気ヘ
ッドにおいて、比抵抗の小さいことによるコアロス防止
を目的として、５ｙ０２等の電気絶縁膜を介して、金属
軟磁性材を多層積層する方法が提案されているが、この
方法による電気絶縁膜厚はせいぜい０．１μｍ以下であ
って層数も少ないため、耐摩耗性に関してはほとんど効
果がなく、しかもその積層構造が金属と酸化物との接合
であるため、層間の接着力が弱く、眉間膜ハガレ等の不
具合を生じるという問題があった。
ッドにおいて、比抵抗の小さいことによるコアロス防止
を目的として、５ｙ０２等の電気絶縁膜を介して、金属
軟磁性材を多層積層する方法が提案されているが、この
方法による電気絶縁膜厚はせいぜい０．１μｍ以下であ
って層数も少ないため、耐摩耗性に関してはほとんど効
果がなく、しかもその積層構造が金属と酸化物との接合
であるため、層間の接着力が弱く、眉間膜ハガレ等の不
具合を生じるという問題があった。
なお、一般的に金属軟磁性材をコア材に使用した磁気ヘ
ッドでは、耐摩耗性を向上させるために、金属軟磁性材
からなる磁気コアを耐摩耗性のある非磁性基板で挟んだ
サンドインチ構造のものが採用されているが、この構造
の磁気ヘッドでは磁気コアの方が非磁性基板よりも摩耗
しやすいため、磁気コアと非磁性基板とに偏摩耗が生じ
易く、そのため、良好なテープタッチが得られず、スペ
ーシングロスの増大にょシ出力低下が生じるという問題
があった。
ッドでは、耐摩耗性を向上させるために、金属軟磁性材
からなる磁気コアを耐摩耗性のある非磁性基板で挟んだ
サンドインチ構造のものが採用されているが、この構造
の磁気ヘッドでは磁気コアの方が非磁性基板よりも摩耗
しやすいため、磁気コアと非磁性基板とに偏摩耗が生じ
易く、そのため、良好なテープタッチが得られず、スペ
ーシングロスの増大にょシ出力低下が生じるという問題
があった。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き金属軟磁性
膜からなる磁気コアの磁気特性を損うことなく、耐摩耗
性が優れ、かつ磁気テープとの良好なテープタッチが得
られる薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
膜からなる磁気コアの磁気特性を損うことなく、耐摩耗
性が優れ、かつ磁気テープとの良好なテープタッチが得
られる薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
この目的を達成するために、本発明は、磁気コアが金属
軟磁性膜と金属膜との２層以上の多層構造になっている
点に特徴がある。
軟磁性膜と金属膜との２層以上の多層構造になっている
点に特徴がある。
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
第１図は本発明の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドの斜視
図、第２図はその薄膜磁気ヘンドの製造工程を示す説明
図である。
図、第２図はその薄膜磁気ヘンドの製造工程を示す説明
図である。
第１図において％ ４α、４ｈはコア半休を示し、これ
らコア半体４α、４Ａは、それぞれ一対の非磁性基板１
ａ、 ＩＡ間に後述する磁気コアを挟んだサンドイッチ
構造からなシ、両コア半体４ａ、４Ａはギャップスペー
サ５を介して接合されている。
らコア半体４α、４Ａは、それぞれ一対の非磁性基板１
ａ、 ＩＡ間に後述する磁気コアを挟んだサンドイッチ
構造からなシ、両コア半体４ａ、４Ａはギャップスペー
サ５を介して接合されている。
また、一方のコア半体４ｂには巻線用窓穴７が形成され
、該巻線用窓穴７を介してコイル１０が所定ターン巻回
されている。上記磁気コアは、Ｃ。
、該巻線用窓穴７を介してコイル１０が所定ターン巻回
されている。上記磁気コアは、Ｃ。
Ｎｈ−Ｚｒ系系非晶質金属軟性性膜２Ｚｒ等の金属膜３
とが少なくとも２肩身上積層された多層構造をなしてい
る。
とが少なくとも２肩身上積層された多層構造をなしてい
る。
次に、このように構成された薄膜磁気ヘッドの製造方法
を第２図（α）〜（１）を用いて説明する。
を第２図（α）〜（１）を用いて説明する。
まず、第２図（α）に示すように、ガラス等の非磁性基
板１α上にＣｏ Ｎｈ Ｚｒ系の非晶質金属軟磁性
膜２と、Ｚｒ等の耐摩耗性のある金属膜３とを交互に少
なくとも２層以上トラック幅相当分まで多層積層し、さ
らにその上に非磁性基板１ｈを接合し、コア体６を形成
する。
板１α上にＣｏ Ｎｈ Ｚｒ系の非晶質金属軟磁性
膜２と、Ｚｒ等の耐摩耗性のある金属膜３とを交互に少
なくとも２層以上トラック幅相当分まで多層積層し、さ
らにその上に非磁性基板１ｈを接合し、コア体６を形成
する。
次に、第２図（ｈ）に示すように、上記コア体６をアジ
マス角度を持たせて２つに切断し、２つのコア半体４α
、４Ａを形成すると共に、一方のコア半体４ｂには巻線
用窓穴となる溝７′を形成する。
マス角度を持たせて２つに切断し、２つのコア半体４α
、４Ａを形成すると共に、一方のコア半体４ｂには巻線
用窓穴となる溝７′を形成する。
その後、両コア半体ｄａ、 ４Ａの上記切断面を研摩し
、ギャップ形成面８α、８Ａを形成する。
、ギャップ形成面８α、８Ａを形成する。
次に、第２図（ｃ）に示すように、上記ギャップ形成面
８α、８ｈ上にＳ Ｌ Ｏ２のギャップスペーサ５をス
パッタリング等によ如被着し、さらに低融点ガラスを接
着材にして上記コア半体４α、４Ａをギャップ形成面を
接合面として接合し、コア半体９を形成する。
８α、８ｈ上にＳ Ｌ Ｏ２のギャップスペーサ５をス
パッタリング等によ如被着し、さらに低融点ガラスを接
着材にして上記コア半体４α、４Ａをギャップ形成面を
接合面として接合し、コア半体９を形成する。
最後に、上記コア半体９をＲラップし、巻線用窓穴７に
コイル１０を巻回して第１図に示す薄膜磁気ヘッドが完
成する。
コイル１０を巻回して第１図に示す薄膜磁気ヘッドが完
成する。
この一実施例に係る薄膜磁気ヘッドにおいて上記金属膜
３に各種材料を使用した時の実装摩耗試験結果を第１表
に示す。この摩耗試験は、−肩当シの膜厚が１μｍのＣ
ｏ−Ｎｈ−Ｚｒ系の非晶質金属軟磁性膜２と同じく一層
当シの膜厚が０２μｍの金属膜３とを合計３０層積層し
て１８μｍトラック幅の薄膜磁気ヘッドを製作し、また
磁気テープにはメタルテープな使用し、ＶＴＲデツキよ
り磁気ヘッドとテープの相対速度５．８ｍ／ｓｅｃで５
００時間後の摩耗量を測定した。この第１表から、上記
実施例に係る薄膜磁気ヘッドは、磁気コア材に金属膜を
用いない従来の薄膜磁気ヘッドに比べて、耐摩耗性が著
しく向上することが明らかである。
３に各種材料を使用した時の実装摩耗試験結果を第１表
に示す。この摩耗試験は、−肩当シの膜厚が１μｍのＣ
ｏ−Ｎｈ−Ｚｒ系の非晶質金属軟磁性膜２と同じく一層
当シの膜厚が０２μｍの金属膜３とを合計３０層積層し
て１８μｍトラック幅の薄膜磁気ヘッドを製作し、また
磁気テープにはメタルテープな使用し、ＶＴＲデツキよ
り磁気ヘッドとテープの相対速度５．８ｍ／ｓｅｃで５
００時間後の摩耗量を測定した。この第１表から、上記
実施例に係る薄膜磁気ヘッドは、磁気コア材に金属膜を
用いない従来の薄膜磁気ヘッドに比べて、耐摩耗性が著
しく向上することが明らかである。
第 １ 表
また、第５図は上記一実施例に係る薄膜磁気ヘッドと磁
気テープとのへラドタッチを示す説明図であって、縦軸
は４．５ＭＨｚのヘッド再生出力横軸は走行時間をそれ
ぞれ示し、走行時間０時間なＯｄＥとし、走行による出
力低下を調べたものである。図中（α）は磁気コアに金
属膜がない場合を示し、（ｂ）は第１表におけるＺｒを
金属膜にした本実施例に係るものである。この第３図か
ら金属軟磁性膜２の層間に耐摩耗性のある金属膜３を多
数挿入した場合は、偏摩耗が生じず、出力低下も見られ
ないことがわかる。
気テープとのへラドタッチを示す説明図であって、縦軸
は４．５ＭＨｚのヘッド再生出力横軸は走行時間をそれ
ぞれ示し、走行時間０時間なＯｄＥとし、走行による出
力低下を調べたものである。図中（α）は磁気コアに金
属膜がない場合を示し、（ｂ）は第１表におけるＺｒを
金属膜にした本実施例に係るものである。この第３図か
ら金属軟磁性膜２の層間に耐摩耗性のある金属膜３を多
数挿入した場合は、偏摩耗が生じず、出力低下も見られ
ないことがわかる。
なお、上記実施例ではＣｏ−Ｎｂ Ｚｒ系の非晶質軟
磁性膜２を使用した場合について説明したが、Ｆｔ−Ａ
Ｌ−Ｓｉ−系軟磁性合金においても同様の効果が得られ
る。
磁性膜２を使用した場合について説明したが、Ｆｔ−Ａ
Ｌ−Ｓｉ−系軟磁性合金においても同様の効果が得られ
る。
第４図は本発明の他の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの斜
視図であ９１図中１１は下部コア、１２は電気絶縁非磁
性膜、１５は上部コア、１４は信号コイルであり、第１
図に対応する部分には同一符号を付けである。この実施
例は本発明を水平型薄膜磁気ヘッドに適用したものであ
り、非磁性基板１上には非晶質金属軟磁性膜からなる下
部コア１１、信号コイル１４、電気絶縁非磁性膜１２が
所望のパターンに形成され、その上部にギャップスペー
サ５を一対の上部コア半体１３α。
視図であ９１図中１１は下部コア、１２は電気絶縁非磁
性膜、１５は上部コア、１４は信号コイルであり、第１
図に対応する部分には同一符号を付けである。この実施
例は本発明を水平型薄膜磁気ヘッドに適用したものであ
り、非磁性基板１上には非晶質金属軟磁性膜からなる下
部コア１１、信号コイル１４、電気絶縁非磁性膜１２が
所望のパターンに形成され、その上部にギャップスペー
サ５を一対の上部コア半体１３α。
１３Ａで挟んだ上部コア１３が形成されている。これら
雨上部コア半体１６α、１３ｈも先に説明した第１実施
例と同様に、金属軟磁性膜２と金属膜３とを交互に少な
くとも２層以上積層した多層構造からなシ、金属軟磁性
膜２と金属膜３がテープ摺動面に露出している。
雨上部コア半体１６α、１３ｈも先に説明した第１実施
例と同様に、金属軟磁性膜２と金属膜３とを交互に少な
くとも２層以上積層した多層構造からなシ、金属軟磁性
膜２と金属膜３がテープ摺動面に露出している。
次に、第５図（α）〜（Ｊ）を用いて上記水平型薄膜磁
気ヘッドの製造方法を説明する。
気ヘッドの製造方法を説明する。
まず、第５図（ａ）に示すように、ガラス等の非磁性基
板１上にＣｏ −Ｎｈ −Ｚｒ系の非晶質金属軟磁性膜
をスパッタリング等によシ被着し、下部コア１１を形成
する。
板１上にＣｏ −Ｎｈ −Ｚｒ系の非晶質金属軟磁性膜
をスパッタリング等によシ被着し、下部コア１１を形成
する。
次に、第５図（ｂ）に示すように、前記下部コア１１上
のほぼ中央部にのみＳ ｉ ０２等の電気絶縁非磁性膜
１２をマスクスパッタ等によ多形成し、さらにその上に
所定の形成にパタニングして信号コイル１４を形成する
。
のほぼ中央部にのみＳ ｉ ０２等の電気絶縁非磁性膜
１２をマスクスパッタ等によ多形成し、さらにその上に
所定の形成にパタニングして信号コイル１４を形成する
。
次に、第５図（１）に示すように、前記信号コイル１４
上、及び前記下部コア１１の中央部にＳｉ−０２等の電
気絶縁非磁性膜１２をマスクスパッタ等によ多形成し、
その後、第５図（ｄ）に示すように。
上、及び前記下部コア１１の中央部にＳｉ−０２等の電
気絶縁非磁性膜１２をマスクスパッタ等によ多形成し、
その後、第５図（ｄ）に示すように。
上記下部コア１１横上方にパタニング材１５を被着する
。
。
次いで、第５図（１）に示すように、マスクを用いた斜
めスパッタによシ上記下部コア１１の一部にＣｏ −Ｎ
ｂ −Ｚｒ系の非晶質金属磁性膜２とＺｒ等の金属膜３
とを交互に多層積層した後、イオンミリング等によりギ
ャップ形成面８を形成し。
めスパッタによシ上記下部コア１１の一部にＣｏ −Ｎ
ｂ −Ｚｒ系の非晶質金属磁性膜２とＺｒ等の金属膜３
とを交互に多層積層した後、イオンミリング等によりギ
ャップ形成面８を形成し。
さらにその上にギャップスペーサ５を被着させる。
次に、第、５図（１）に示すように、前記下部コア１１
の残カの部分の上に、 Ｃｏ −Ｎｈ −Ｚｒ系の非晶
質金属軟磁性膜２とＺｒ等の金属膜３とを交互に多層積
層する。
の残カの部分の上に、 Ｃｏ −Ｎｈ −Ｚｒ系の非晶
質金属軟磁性膜２とＺｒ等の金属膜３とを交互に多層積
層する。
最後に、第５図（ｇ）に示すように、上記磁性膜をイオ
ンミリング等により一部除去して上部コア１３を形成し
、第４図に示す水平型薄膜ヘッドが完成する。
ンミリング等により一部除去して上部コア１３を形成し
、第４図に示す水平型薄膜ヘッドが完成する。
第６図は本発明のさらに他の実施例に係る薄膜磁気ヘッ
ドの斜視図である。本実施例が第１図に示す第１実施例
と異なるところは、一枚の非磁性基板１α上に両コア半
体４α、４ｈが形成されている点で、その他の部分は第
１図の薄膜磁気ヘッドと基本的に同一構造である。この
ように薄膜磁気ヘッドの構造が異なっても、要は、磁気
コアが金属軟磁性膜と金属膜との多層構造からなシ、そ
の金属膜がテープ摺動面に露出されていれば、同様の効
果が得られる。
ドの斜視図である。本実施例が第１図に示す第１実施例
と異なるところは、一枚の非磁性基板１α上に両コア半
体４α、４ｈが形成されている点で、その他の部分は第
１図の薄膜磁気ヘッドと基本的に同一構造である。この
ように薄膜磁気ヘッドの構造が異なっても、要は、磁気
コアが金属軟磁性膜と金属膜との多層構造からなシ、そ
の金属膜がテープ摺動面に露出されていれば、同様の効
果が得られる。
なお、コアロスの防止を目的として、上記磁気コアを、
金属軟磁性膜と金属膜およびＳｉＯ２等からなる電気絶
縁膜の３種類の膜による多層構造にすることも可能であ
る。
金属軟磁性膜と金属膜およびＳｉＯ２等からなる電気絶
縁膜の３種類の膜による多層構造にすることも可能であ
る。
以上説明したように１本発明によれば、磁気コアを金属
軟磁性膜と金属膜との２層以上の多層構造としたため、
磁気コアの磁性特性を損うことなく、耐摩耗性を向上さ
せるとともに、磁気テープとの良好なテープタッチを得
ることができ、上記従来技術の欠点を除いて優れた機能
を有する薄膜磁気ヘッドが提供できる。
軟磁性膜と金属膜との２層以上の多層構造としたため、
磁気コアの磁性特性を損うことなく、耐摩耗性を向上さ
せるとともに、磁気テープとの良好なテープタッチを得
ることができ、上記従来技術の欠点を除いて優れた機能
を有する薄膜磁気ヘッドが提供できる。
第１図は本発明の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドの斜視
図、第２図（α）〜（ｃ）はその薄膜磁気ヘッドの製造
工程を示す斜視図、第３図はその薄膜磁気ヘッドと従来
の薄膜磁気ヘッドのテープタッチの比較例を示す説明図
、第４図は本発明の他の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの
斜視図。 第５図（、）〜Ｃｇ）はその薄膜磁気ヘッドの製造工程
を示す説明図、第６図は本発明のさらに他の実施例に係
る薄膜磁気ヘッドの斜視図である。
図、第２図（α）〜（ｃ）はその薄膜磁気ヘッドの製造
工程を示す斜視図、第３図はその薄膜磁気ヘッドと従来
の薄膜磁気ヘッドのテープタッチの比較例を示す説明図
、第４図は本発明の他の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの
斜視図。 第５図（、）〜Ｃｇ）はその薄膜磁気ヘッドの製造工程
を示す説明図、第６図は本発明のさらに他の実施例に係
る薄膜磁気ヘッドの斜視図である。
Claims (4)
- （１）磁気ギャップを挟んで金属軟磁性膜からなる磁気
コアを有する薄膜磁気ヘッドにおいて前記磁気コアが金
属軟磁性膜と金属膜との２層以上の多層構造であること
を特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記金
属軟磁性膜がＦｅ−Ｓｉ−ＡＬ系の軟磁性材であること
を特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （３）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記金
属軟磁性膜が鉄族元素を含む２元素あるいは３元素から
なる非晶質軟磁性材であることを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッド。 - （４）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記金
属膜がＣｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏ
ｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｗのうち少なくとも１種の元素からな
ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21240585A JPS6275918A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21240585A JPS6275918A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6275918A true JPS6275918A (ja) | 1987-04-07 |
Family
ID=16622038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21240585A Pending JPS6275918A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6275918A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001041133A1 (en) * | 1999-12-02 | 2001-06-07 | Storage Technology Corporation | Protective film for minimization of shield and pole tip recession in thin film shielded read heads and write heads |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5845617A (ja) * | 1981-09-08 | 1983-03-16 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
-
1985
- 1985-09-27 JP JP21240585A patent/JPS6275918A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5845617A (ja) * | 1981-09-08 | 1983-03-16 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001041133A1 (en) * | 1999-12-02 | 2001-06-07 | Storage Technology Corporation | Protective film for minimization of shield and pole tip recession in thin film shielded read heads and write heads |
| US6788497B1 (en) | 1999-12-02 | 2004-09-07 | Storage Technology Corporation | Protective film for minimization of shield and pole tip recession in thin film shielded read heads and write heads |
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