JPS6280324U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6280324U JPS6280324U JP17241185U JP17241185U JPS6280324U JP S6280324 U JPS6280324 U JP S6280324U JP 17241185 U JP17241185 U JP 17241185U JP 17241185 U JP17241185 U JP 17241185U JP S6280324 U JPS6280324 U JP S6280324U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cluster
- ion beam
- substrate
- axis
- cluster ion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係る薄膜形成
装置を示す概略図である。第２図および第３図は
、それぞれ、第１図の装置における走査電圧波形
の例を示す図である。第４図は、第１図の装置に
よる基板上の膜厚分布の一例を示す概略図である
。第５図および第６図は、実施例に係る装置のよ
り具体的仕様を説明するための概略図である。第
７図は、従来の装置による基板上の膜厚分布の一
例を示す概略図である。 ２……真空容器、４……基板、６……クラスタ
ビーム源、１８……クラスタビーム、１８ｉ……
クラスタイオンビーム、１８ｎ……中性クラスタ
ビーム、２０，２４……走査電極、２２，２８…
…走査電源、２６……オフセツト電源。
装置を示す概略図である。第２図および第３図は
、それぞれ、第１図の装置における走査電圧波形
の例を示す図である。第４図は、第１図の装置に
よる基板上の膜厚分布の一例を示す概略図である
。第５図および第６図は、実施例に係る装置のよ
り具体的仕様を説明するための概略図である。第
７図は、従来の装置による基板上の膜厚分布の一
例を示す概略図である。 ２……真空容器、４……基板、６……クラスタ
ビーム源、１８……クラスタビーム、１８ｉ……
クラスタイオンビーム、１８ｎ……中性クラスタ
ビーム、２０，２４……走査電極、２２，２８…
…走査電源、２６……オフセツト電源。
Claims (1)
- 真空容器内に、基板と、クラスタイオンビーム
を含むクラスタビームを射出するクラスタビーム
源とを設け、更にクラスタビーム源からのクラス
タビームの経路上に、静電気力によつてクラスタ
イオンビームをＸ軸およびＹ軸方向に走査すると
共に当該クラスタイオンビームを偏向させてそれ
のみを基板に導く静電走査手段を設けて成ること
を特徴とする薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17241185U JPS6280324U (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17241185U JPS6280324U (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6280324U true JPS6280324U (ja) | 1987-05-22 |
Family
ID=31108920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17241185U Pending JPS6280324U (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6280324U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0286824A (ja) * | 1988-06-21 | 1990-03-27 | Anelva Corp | 真空蒸着装置 |
-
1985
- 1985-11-09 JP JP17241185U patent/JPS6280324U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0286824A (ja) * | 1988-06-21 | 1990-03-27 | Anelva Corp | 真空蒸着装置 |