JPS6284414A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS6284414A JPS6284414A JP22507885A JP22507885A JPS6284414A JP S6284414 A JPS6284414 A JP S6284414A JP 22507885 A JP22507885 A JP 22507885A JP 22507885 A JP22507885 A JP 22507885A JP S6284414 A JPS6284414 A JP S6284414A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- coil
- layer coil
- magnetic head
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ヘッドの製造方法に関する。
本発明は、磁気ヘッドの製造において、第１層コイルと
第２１−コイルの接合部のフォトレジストの残膜を遠紫
外線照射（以下Ｄｅｅｐ−ＵＶと配す）で除去すること
により、第２層コイルを形成するためのフォトレジスト
の形状をダレさせないようにして、第２ｒ＃ｓコイルが
コイル間でリークしないようにしたものである。
第２１−コイルの接合部のフォトレジストの残膜を遠紫
外線照射（以下Ｄｅｅｐ−ＵＶと配す）で除去すること
により、第２層コイルを形成するためのフォトレジスト
の形状をダレさせないようにして、第２ｒ＃ｓコイルが
コイル間でリークしないようにしたものである。
従来、磁気ヘッドの製造において、第１層コイルと第２
１−コイルの接合部は、例えば第２図に示すように段差
となし段差上にフォトレジストが厚く溜ｔｂ、第２層コ
イルを形成するためにフォトレジストを露光・現像する
とき、接合部を完全に露出させるために、露光されない
部分が現像除去されるネガレジストを使用するか、ポジ
レジストを使用するときは、オーバー露光して接合部の
段差上のフォトレジストを除去していた。
１−コイルの接合部は、例えば第２図に示すように段差
となし段差上にフォトレジストが厚く溜ｔｂ、第２層コ
イルを形成するためにフォトレジストを露光・現像する
とき、接合部を完全に露出させるために、露光されない
部分が現像除去されるネガレジストを使用するか、ポジ
レジストを使用するときは、オーバー露光して接合部の
段差上のフォトレジストを除去していた。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来技術では、ネガレジストを使用した場合には、
ネガレジストの解像度が悪く微細なパターンの磁気ヘッ
ドのコイル形状を形成することができない。
述の従来技術では、ネガレジストを使用した場合には、
ネガレジストの解像度が悪く微細なパターンの磁気ヘッ
ドのコイル形状を形成することができない。
又ポジレジストの使用により、オーバー露光して接合部
の段差上のフォトレジストを現像除去した場合には、第
２１１１コイルを形成するためのフオトレジストの形状
がテーパー状にダして第２層コイルを電気めっき等で形
成したときに、第５図のように、所定厚みのメッキを施
すとコイル間でコイル同士がリークするという問題点を
有する。
の段差上のフォトレジストを現像除去した場合には、第
２１１１コイルを形成するためのフオトレジストの形状
がテーパー状にダして第２層コイルを電気めっき等で形
成したときに、第５図のように、所定厚みのメッキを施
すとコイル間でコイル同士がリークするという問題点を
有する。
そこで本発明は、このような問題点を解決するもので、
その目的とするところは、第２階コイルを形成するため
のフォトレジストの断面形状をダレさせないで接合部の
段差上のフォトレジストを除去し、リークのない第２層
コイルの形成により性能のすぐれた磁気ヘッドを提供す
るところにある。
その目的とするところは、第２階コイルを形成するため
のフォトレジストの断面形状をダレさせないで接合部の
段差上のフォトレジストを除去し、リークのない第２層
コイルの形成により性能のすぐれた磁気ヘッドを提供す
るところにある。
本発明の磁気ヘッドは、第を層コイルと第２１−コイル
の接合部のフォトレジストの残膜をＤｅｅｐ・ＵＶで除
去することを特徴とする。
の接合部のフォトレジストの残膜をＤｅｅｐ・ＵＶで除
去することを特徴とする。
前述のように第１層コイルと第２１＠コイルの接続部の
段差上に厚くフォトレジストが溜１シ、厚い層の接続部
のフォトレジストを現像除去するために露光量を多くす
ると第２１ｉ＃コイル形成部分がオーバー露光となりフ
ォトレジストの形状がダしてしまうという問題点を解決
するために、第２層コイル形成部分のフォトレジストが
ダレ、ないでコイル形状を現像形成できるだけの光量を
露光してコイル接続部の段差上のフォトレジストは露光
不足の状態で現像すると、第２層コイル形成部分のフォ
トレジストは肩がダレないで垂直な壁となり、コイル接
続部の段差上のフォトレジストは残膜となり表面に残る
、この状態にてコイル接続部の段差上のフォトレジスト
の残膜をＤｅ ｏｐ・ＵＶ処理して除去する。
段差上に厚くフォトレジストが溜１シ、厚い層の接続部
のフォトレジストを現像除去するために露光量を多くす
ると第２１ｉ＃コイル形成部分がオーバー露光となりフ
ォトレジストの形状がダしてしまうという問題点を解決
するために、第２層コイル形成部分のフォトレジストが
ダレ、ないでコイル形状を現像形成できるだけの光量を
露光してコイル接続部の段差上のフォトレジストは露光
不足の状態で現像すると、第２層コイル形成部分のフォ
トレジストは肩がダレないで垂直な壁となり、コイル接
続部の段差上のフォトレジストは残膜となり表面に残る
、この状態にてコイル接続部の段差上のフォトレジスト
の残膜をＤｅ ｏｐ・ＵＶ処理して除去する。
以上の工程の後に電気めっき等で第２層コイルを形成す
るとコイル間でコイル同志がリークすることもなく、コ
イル接続部の段差上の残膜もなく第１層コイルと第２層
コイルの接続を完全におこなうことができる。
るとコイル間でコイル同志がリークすることもなく、コ
イル接続部の段差上の残膜もなく第１層コイルと第２層
コイルの接続を完全におこなうことができる。
又Ｄｅｅｐ−ＵＶ処理にてコイル接続部の段差上のフォ
トレジストヲ除去すると第２層コイル形成部分のフォト
レジストも残膜を減らした分だけ厚みが減少するが、全
面に均一に減少するのでフォトレジストの肩のダレをお
こすことがない。又、フォトレジストの目減りは僅かで
あるのでフォトレジストを塗布するときに目減シ分を厚
く塗布しておけば弊害は全く見られない。
トレジストヲ除去すると第２層コイル形成部分のフォト
レジストも残膜を減らした分だけ厚みが減少するが、全
面に均一に減少するのでフォトレジストの肩のダレをお
こすことがない。又、フォトレジストの目減りは僅かで
あるのでフォトレジストを塗布するときに目減シ分を厚
く塗布しておけば弊害は全く見られない。
５インチ基板に、フォトリングラフィで磁極、ギャップ
、第１層コイル、絶縁膜等形成後、ポジレジストを塗布
、バターニング後、Ｄｅθｌ１−Ｕ’ｌｌｔ理後、電気
鋼めっきで第２層コイルを形成した。
、第１層コイル、絶縁膜等形成後、ポジレジストを塗布
、バターニング後、Ｄｅθｌ１−Ｕ’ｌｌｔ理後、電気
鋼めっきで第２層コイルを形成した。
くポジレジスト条件〉
ポジレジスト種類 ＡＺＡＡＯＯ塗布
５０００ｒｐｍＸ５０秒乾燥
９０℃×５０分露光時間
５５秒現像時間 ６０秒ポジレ
ジスト塗布厚み ２−６μ惰（Ｄｅθｐ−ＵＶ
条件〉 使用波長 １８４９ｎｍ＆２５＆、７ｎｍ紫外線
強度 ６０ｍＷ／ｄ照射時間
５０分なおメッキ厚みは２．５μとした
。
５０００ｒｐｍＸ５０秒乾燥
９０℃×５０分露光時間
５５秒現像時間 ６０秒ポジレ
ジスト塗布厚み ２−６μ惰（Ｄｅθｐ−ＵＶ
条件〉 使用波長 １８４９ｎｍ＆２５＆、７ｎｍ紫外線
強度 ６０ｍＷ／ｄ照射時間
５０分なおメッキ厚みは２．５μとした
。
上記の方法で、第２層コイルまで形成したサンプルをつ
くり、断面をカットして電顕観察した結果、第１図に示
すように第１層コイルと第２層コイルの接続部がきれい
に接合されていた。又第２層コイルもリークがなく、き
れいな立ち上がりの形状をしておシ、フォトレジストの
ダレの発生が見受けられなかった。
くり、断面をカットして電顕観察した結果、第１図に示
すように第１層コイルと第２層コイルの接続部がきれい
に接合されていた。又第２層コイルもリークがなく、き
れいな立ち上がりの形状をしておシ、フォトレジストの
ダレの発生が見受けられなかった。
以上述べたように本発明によれば、磁気ヘッドの第１層
コイルとｍ２層コイルの接合部のフオトレジス）ｉＤｅ
ｅｐ−ＵＶで除去することにより以下のような効果を有
する。
コイルとｍ２層コイルの接合部のフオトレジス）ｉＤｅ
ｅｐ−ＵＶで除去することにより以下のような効果を有
する。
■ コイルの接続部のフォトレジストが、きれいに除去
されるために第１層コイルと第２層コイルの接続が完全
にできる。
されるために第１層コイルと第２層コイルの接続が完全
にできる。
■ 第２１−コイルを形成させるフォトレジストの形状
がダレないために、コイル間のリークが発生しない、精
度、品質の安定した磁気ヘッドをつくることができる。
がダレないために、コイル間のリークが発生しない、精
度、品質の安定した磁気ヘッドをつくることができる。
磁気ヘッドのコイルは、今後ターン数が増えてい〈方向
にあるが、コイルの巾とコイル間の巾がさらにせまくな
ってくるとフォトレジストの露光条件が増々きびしくな
るために、本発明は実用上非常に有益な発明である。
にあるが、コイルの巾とコイル間の巾がさらにせまくな
ってくるとフォトレジストの露光条件が増々きびしくな
るために、本発明は実用上非常に有益な発明である。
第１図は本発明の一実施例による磁気ヘッドの第２層コ
イル形成後の断面図。 第２図は磁気ヘッドの第２層コイル形成用フォトレジス
ト塗布後の断面図。 第５図は従来の磁気ヘッドの第２層コイル形成後の断面
図である。 １・・・基板 ２・・・アンダーコート ５・・・下磁極 ル・・・ギャップ形成用Ｓ１０゜ ５・・・絶縁膜 ６・・・第１層コイル ７・・・第２１−コイル形成用フォトレジスト８・・・
コイル接合部の段差上のフォトレジスト９・・・第２層
コイル 以 上 槌、甑へ１１．ドつ￥２凡コ１１シ形広１わ凶凧口聾
１１カ 后１気へッＲ′つフォトしツ゛スト寄キニｌ）っ断面図
１ ｚ ロ 会逆泉つ庄免へ・ソドａ＞−ｉ、ｚＱ フ僧しｔ８竹う
断相１り斉 ３１刀
イル形成後の断面図。 第２図は磁気ヘッドの第２層コイル形成用フォトレジス
ト塗布後の断面図。 第５図は従来の磁気ヘッドの第２層コイル形成後の断面
図である。 １・・・基板 ２・・・アンダーコート ５・・・下磁極 ル・・・ギャップ形成用Ｓ１０゜ ５・・・絶縁膜 ６・・・第１層コイル ７・・・第２１−コイル形成用フォトレジスト８・・・
コイル接合部の段差上のフォトレジスト９・・・第２層
コイル 以 上 槌、甑へ１１．ドつ￥２凡コ１１シ形広１わ凶凧口聾
１１カ 后１気へッＲ′つフォトしツ゛スト寄キニｌ）っ断面図
１ ｚ ロ 会逆泉つ庄免へ・ソドａ＞−ｉ、ｚＱ フ僧しｔ８竹う
断相１り斉 ３１刀
Claims (1)
- 基板上に蒸着・スパッタリング・電気めつき・フォトリ
ソグラフィ等により形成される磁性膜及び、コイルを有
する磁気ヘッドにおいて、フォトレジストを露光現像後
、遠紫外線照射処理をおこなうことを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22507885A JPS6284414A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22507885A JPS6284414A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6284414A true JPS6284414A (ja) | 1987-04-17 |
Family
ID=16823672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22507885A Pending JPS6284414A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6284414A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6360054B1 (en) | 1994-07-29 | 2002-03-19 | Sharp K.K. | Video storage type communication device |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP22507885A patent/JPS6284414A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6360054B1 (en) | 1994-07-29 | 2002-03-19 | Sharp K.K. | Video storage type communication device |
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