JPS6287460A - Plzt透光性セラミツクスの製造方法 - Google Patents
Plzt透光性セラミツクスの製造方法Info
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- JPS6287460A JPS6287460A JP60227337A JP22733785A JPS6287460A JP S6287460 A JPS6287460 A JP S6287460A JP 60227337 A JP60227337 A JP 60227337A JP 22733785 A JP22733785 A JP 22733785A JP S6287460 A JPS6287460 A JP S6287460A
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Landscapes
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- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的1
(産業上の利用分野)
本発明はP L Z T透光性セラミックスの製造法に
関する。
関する。
PLZT透光性セラミックスは、オプトエレクトロニク
スにおける光シャッタ、光ノ(シフ9画像蓄積装置、ゴ
ーグル、透明発音体1表示装置。
スにおける光シャッタ、光ノ(シフ9画像蓄積装置、ゴ
ーグル、透明発音体1表示装置。
光変調素子などとして期待されている。
本発明におけるP I、 Z T とd、ペロブスカイ
ト構造を有する一般式、(Pbl=1La)c)[(Z
ry−Ti 1−y) t−10王〕03.も【−くけ
(Pbl−2rl 2 Lax >< Zry 11T
il=y)Os (ただし、x = 0.01〜0.3
. y=0.05〜0.95. 口は陽イオン空孔を
表わす)で示されるセラミックスおよび両者の中間組成
体を言う。
ト構造を有する一般式、(Pbl=1La)c)[(Z
ry−Ti 1−y) t−10王〕03.も【−くけ
(Pbl−2rl 2 Lax >< Zry 11T
il=y)Os (ただし、x = 0.01〜0.3
. y=0.05〜0.95. 口は陽イオン空孔を
表わす)で示されるセラミックスおよび両者の中間組成
体を言う。
(従来の技術)
PLZT透光性セラミックスは原料粉末を作り、成形後
、空気中もしくは酸素雰囲気中でホットプレスするか、
蛤を過剰に加えて酸素と鉛雰囲気下で液相焼結する方法
によって製造されている。この場合、原料粉末が均−且
つ、低コスト、易焼結性であることが極めて重要である
。
、空気中もしくは酸素雰囲気中でホットプレスするか、
蛤を過剰に加えて酸素と鉛雰囲気下で液相焼結する方法
によって製造されている。この場合、原料粉末が均−且
つ、低コスト、易焼結性であることが極めて重要である
。
従来のP L Z T透光性セラミックスの原料粉末の
製造方法と17では、乾式法、アルコキシド法。
製造方法と17では、乾式法、アルコキシド法。
蓚酸塩法などが知られている。
乾式法は構成成分の化合物を混合し、これを仮焼する方
法であるが、この方法では均一組成を達成することが困
難であり、またPLZTの固相反応を完遂させるために
仮焼温度を高くすることが必要であるので、これにより
粒子が粗大化して易焼結性になりにくい欠点があった。
法であるが、この方法では均一組成を達成することが困
難であり、またPLZTの固相反応を完遂させるために
仮焼温度を高くすることが必要であるので、これにより
粒子が粗大化して易焼結性になりにくい欠点があった。
アルコキシド法は酸化鉛粉末、ジルコニウムアルコキシ
ド溶液、チタンアルコキシド溶液、ランタン酢酸塩溶液
をブレンドした後、乾燥、粉砕するなどの方法である。
ド溶液、チタンアルコキシド溶液、ランタン酢酸塩溶液
をブレンドした後、乾燥、粉砕するなどの方法である。
この方法によると高価なアルコキシド、酢酸塩などを必
要とするため、高コストとなるばかりでな(,99,9
%以上高純度の試薬を用いること、またアルコキシド、
酢酸塩の製造工程が繁雑で作業性も悪いなどの欠点があ
る。
要とするため、高コストとなるばかりでな(,99,9
%以上高純度の試薬を用いること、またアルコキシド、
酢酸塩の製造工程が繁雑で作業性も悪いなどの欠点があ
る。
蓚酸塩法はチタンアルコキシドと硝酸とからオキシ硝酸
チタン溶液を作り、これと硝酸ジルコニヤ溶液および蓚
酸アンモニウム粉末を混合して、蓚酸チタニルアンモニ
ウムと蓚酸ジルコニウムアンモニウム混合液となし、次
いでこれに61!1m鉛N液と硝酸ランタン溶液を混合
して複合蓚酸塩共沈物を生成し、蒸発乾固、熱分解・粉
砕・仮焼するなどの方法である。この方法によると高価
な薬品を多数必要とし、且つ99.9%以−Hの高純度
の試薬を必要とするので高コストになるばかりでなく、
工程も繁雑で作業性も悪い欠点がある。
チタン溶液を作り、これと硝酸ジルコニヤ溶液および蓚
酸アンモニウム粉末を混合して、蓚酸チタニルアンモニ
ウムと蓚酸ジルコニウムアンモニウム混合液となし、次
いでこれに61!1m鉛N液と硝酸ランタン溶液を混合
して複合蓚酸塩共沈物を生成し、蒸発乾固、熱分解・粉
砕・仮焼するなどの方法である。この方法によると高価
な薬品を多数必要とし、且つ99.9%以−Hの高純度
の試薬を必要とするので高コストになるばかりでなく、
工程も繁雑で作業性も悪い欠点がある。
このような高価なアルコキシドやオキシ硝酸チタンを使
用する湿式法が考えられた背景には、安価な四塩化テタ
/をチタン原料として使用した場合、四塩化チタンを沈
殿法に使用すると、四塩化チタンの塩素が鉛と反応して
白色沈殿が生じ、湿式共沈法を行うことができないこと
が挙げられる。
用する湿式法が考えられた背景には、安価な四塩化テタ
/をチタン原料として使用した場合、四塩化チタンを沈
殿法に使用すると、四塩化チタンの塩素が鉛と反応して
白色沈殿が生じ、湿式共沈法を行うことができないこと
が挙げられる。
(解決しようとする問題点)
これら従来法の欠点を解決する方法として、本発明者ら
は先に構成成分の全部を同時に共沈させることなく二重
に沈殿を形成させるいわゆる多段湿式法を発明して特詐
出願した。(特M昭59−22Wpla)とれにより、
安価で易焼結性の粉末の合成が可能となったが、この方
法を採用した場合、沈殿形成工程において、鉛もしくは
チタンが単独で沈殿形成を行うため、一般式ABO3(
ただし、Aは酸素12配位金属元素、B社酸素6配位金
属元素を表わす)で示されるペロブスカイト化合物のA
サイトもしくはBサイトでの組成の変動が若干認められ
る。
は先に構成成分の全部を同時に共沈させることなく二重
に沈殿を形成させるいわゆる多段湿式法を発明して特詐
出願した。(特M昭59−22Wpla)とれにより、
安価で易焼結性の粉末の合成が可能となったが、この方
法を採用した場合、沈殿形成工程において、鉛もしくは
チタンが単独で沈殿形成を行うため、一般式ABO3(
ただし、Aは酸素12配位金属元素、B社酸素6配位金
属元素を表わす)で示されるペロブスカイト化合物のA
サイトもしくはBサイトでの組成の変動が若干認められ
る。
本発明は多段湿式法の特徴を失なうことなしにこの問題
を解消するPLZT透光性セラミックスを製造する方法
を提供するにある〇 〔発明の構成〕 (問題を解決するだめの手段) 従来の多段湿式法では、水溶液としてランタン。
を解消するPLZT透光性セラミックスを製造する方法
を提供するにある〇 〔発明の構成〕 (問題を解決するだめの手段) 従来の多段湿式法では、水溶液としてランタン。
組合せ、あるいは水沢液としてランタン、ジルコニウム
、チタンの混合水溶液、水溶液として鉛水溶液の組合せ
という共合VC、チタンもしくは鉛V↑、単一元素で沈
殿形成を実施していた。
、チタンの混合水溶液、水溶液として鉛水溶液の組合せ
という共合VC、チタンもしくは鉛V↑、単一元素で沈
殿形成を実施していた。
このため、これらの元素の粉末特性の制御は一義的に決
寧されていた。8+たこのような方法では組成変動の起
こるξとも昭められた。
寧されていた。8+たこのような方法では組成変動の起
こるξとも昭められた。
本発明は、と1+らの問題を鋭意研究の結束解決したも
のである。
のである。
即ち、ジルコニウム水溶液の一部をチタン水溶液あるい
は、鉛水溶液と混合水溶液として形成することにより、
チタンまたは鉛の元素の粉末特性をも制御することがで
き、これにより組成変動を解消することができた。
は、鉛水溶液と混合水溶液として形成することにより、
チタンまたは鉛の元素の粉末特性をも制御することがで
き、これにより組成変動を解消することができた。
本発明によると従来の方法に比較して、仮焼温度が低く
、シたがって0.15μmと微粉末を得ることがtX(
能である0まだ1組成変動も完全に解消することができ
た。
、シたがって0.15μmと微粉末を得ることがtX(
能である0まだ1組成変動も完全に解消することができ
た。
本発明の較旨は、ペロプスカイト構造を有する一般式(
Pbl)(La)0 ((Zr)*Ti1zν)l−÷
日干〕03゜(Pb1−Tロア4、ax)(Zry−T
it=y)03 (ただし、X=0.01〜0.3.
y=o、os〜0.95 、口は陽イオン空孔を表わ
す)オたit両者の中間組成体、もしくはこれらの組成
に10wtcX以下の鉛を過剰に添加した粉末成形体の
焼結による透光性PLZTセラミックスの製造において
、鉛、ランタン、ジルコニウム、チタン西成分の水溶液
を作り、ジルコニウム水溶猷の一部とランタン水溶液を
鉛水溶液もしくけチタン水溶液のいずれか一方に混合し
て、水溶液Afi#1製し、別にジルコニウム水溶液の
残量を、鉛水溶液もしくけチタン水溶液の残り一方に混
合17て、水〆液をFA整し、この混合水溶液の一部に
過剰の沈殿形成液を混合して沈殿を形成させた債、この
沈殿の分散した水〆液に残った他の水溶液を均一に混合
して全成分の均密沈殿を作り、これを500〜1100
℃で仮!尭し、次いで仮焼物を成形後、1000〜12
80℃で空気中もしくは酸素ず囲気中でホットプレスす
るか、あるいは酸素と鉛蒸気の混合イ囲気下で常圧焼結
することを特徴とする透光性セラミックスの製造法にあ
る。
Pbl)(La)0 ((Zr)*Ti1zν)l−÷
日干〕03゜(Pb1−Tロア4、ax)(Zry−T
it=y)03 (ただし、X=0.01〜0.3.
y=o、os〜0.95 、口は陽イオン空孔を表わ
す)オたit両者の中間組成体、もしくはこれらの組成
に10wtcX以下の鉛を過剰に添加した粉末成形体の
焼結による透光性PLZTセラミックスの製造において
、鉛、ランタン、ジルコニウム、チタン西成分の水溶液
を作り、ジルコニウム水溶猷の一部とランタン水溶液を
鉛水溶液もしくけチタン水溶液のいずれか一方に混合し
て、水溶液Afi#1製し、別にジルコニウム水溶液の
残量を、鉛水溶液もしくけチタン水溶液の残り一方に混
合17て、水〆液をFA整し、この混合水溶液の一部に
過剰の沈殿形成液を混合して沈殿を形成させた債、この
沈殿の分散した水〆液に残った他の水溶液を均一に混合
して全成分の均密沈殿を作り、これを500〜1100
℃で仮!尭し、次いで仮焼物を成形後、1000〜12
80℃で空気中もしくは酸素ず囲気中でホットプレスす
るか、あるいは酸素と鉛蒸気の混合イ囲気下で常圧焼結
することを特徴とする透光性セラミックスの製造法にあ
る。
P I、 Z T系の構成成分の水溶液を11ヲ−する
ための成分化合物と17では、オキシ硝酸塩、樋醒塩。
ための成分化合物と17では、オキシ硝酸塩、樋醒塩。
硝酸塩、酢酸塩、ぎ酸塩、しゆう酸塩、オキシ塩化物、
塩化物、闇化物、金緘などがある。これらが水で可溶で
ない場合は鉱酸などを添加1.て可溶とすることができ
る。
塩化物、闇化物、金緘などがある。これらが水で可溶で
ない場合は鉱酸などを添加1.て可溶とすることができ
る。
沈殿形成液としては、例えばアンモニヤ、炭酸アンモニ
ウム、苛性アルカリ、炭酸ソーダ、しゆう酸、しゆう酸
アンモニウムおよびオキシンやアミyなどの有機試薬な
どが挙げられる。これらの中から適当な屯のを選べばよ
い。
ウム、苛性アルカリ、炭酸ソーダ、しゆう酸、しゆう酸
アンモニウムおよびオキシンやアミyなどの有機試薬な
どが挙げられる。これらの中から適当な屯のを選べばよ
い。
構成成分の沈殿を生成するに11%液を攪拌I−ながら
行うことが好ましい。
行うことが好ましい。
また、ある沈殿の生成後、ろ液を除き、沈殿形成液の種
類や濃度を残り成分に適したものに変えて沈殿させても
よい。
類や濃度を残り成分に適したものに変えて沈殿させても
よい。
沈殿物の洗浄に除して、エタノールなどのアルコール類
を用いると、以後の乾燥、仮焼工程で沈殿の凝結が抑制
されて好結果が得られる。
を用いると、以後の乾燥、仮焼工程で沈殿の凝結が抑制
されて好結果が得られる。
得られた沈殿物を乾燥し、500〜1100℃で仮焼す
る。仮焼温度が500’n未満ではPLZTの生成反応
や脱ガスが完結せず、500℃を超えるとP I、 Z
Tの固相反応が完結し、また得られるPLZT粉末の
嵩密度が低くなる。X線的には、PLZT $−相トf
l ルa 1100℃をs、すると、PLZT粉末粒子
力#11大化E7て焼結性が悪くなる。
る。仮焼温度が500’n未満ではPLZTの生成反応
や脱ガスが完結せず、500℃を超えるとP I、 Z
Tの固相反応が完結し、また得られるPLZT粉末の
嵩密度が低くなる。X線的には、PLZT $−相トf
l ルa 1100℃をs、すると、PLZT粉末粒子
力#11大化E7て焼結性が悪くなる。
したがって仮焼温關は500〜1100℃であることが
適当である。これにより、均一、高嵩密度で目つ易焼結
性のP I、 Z T系粉末が得られる。
適当である。これにより、均一、高嵩密度で目つ易焼結
性のP I、 Z T系粉末が得られる。
次に成形e焼結する。焼結は空気中でホットプレスを行
うことが安価で有利であるが、これを酸素雰囲気中で行
うと焼結性を増大させることができる。また、酸素や空
気が通過可能にした閉鎖中に、鉛を含んだ例えばペロプ
スカイト化合物などを共存させて鉛蒸気を雰囲気中に含
ませて常圧焼結を行うことにより、焼結の際鉛の飛散を
抑制することかできる。
うことが安価で有利であるが、これを酸素雰囲気中で行
うと焼結性を増大させることができる。また、酸素や空
気が通過可能にした閉鎖中に、鉛を含んだ例えばペロプ
スカイト化合物などを共存させて鉛蒸気を雰囲気中に含
ませて常圧焼結を行うことにより、焼結の際鉛の飛散を
抑制することかできる。
lρ00
焼結〆晶齋は起i”Cより低いと焼結が不十分でおり、
1280℃を超えると鉛の飛散が顕著となとが必要であ
る。
1280℃を超えると鉛の飛散が顕著となとが必要であ
る。
実施例1
硝酸鉛30.140F、硝酸ランタン2.925F、オ
キシ硝酸ジルコニウム7、347 F を含有する水
溶液300 cc tl−調製し、これを攪拌した4N
アンモニヤ水1i中に滴下して水酸化物の共沈物を作っ
た。この共沈物の懸濁した水酸液を攪拌しつつ、これに
オキシ硝酸ジルコニウム’1.34’IP、四塩化チタ
ン6.490Fを溶解した水溶液200 ccを滴下し
、鉛、チタン、ジルコニウム、ランタンの水酸化物の均
密沈殿物?:4#た。水洗後、600℃で1時間仮焼し
てPbo、st Lao、os (Zr o、as a
Ti o3s )0477503の組成のPI、ZT原
料粉末を得た。該粉末を電子顕微鏡により観察したとこ
ろ、平均粒径約0.1μmの均一粒子からなっていた。
キシ硝酸ジルコニウム7、347 F を含有する水
溶液300 cc tl−調製し、これを攪拌した4N
アンモニヤ水1i中に滴下して水酸化物の共沈物を作っ
た。この共沈物の懸濁した水酸液を攪拌しつつ、これに
オキシ硝酸ジルコニウム’1.34’IP、四塩化チタ
ン6.490Fを溶解した水溶液200 ccを滴下し
、鉛、チタン、ジルコニウム、ランタンの水酸化物の均
密沈殿物?:4#た。水洗後、600℃で1時間仮焼し
てPbo、st Lao、os (Zr o、as a
Ti o3s )0477503の組成のPI、ZT原
料粉末を得た。該粉末を電子顕微鏡により観察したとこ
ろ、平均粒径約0.1μmの均一粒子からなっていた。
またX線回折法によると、全くの琲−相であった。壕だ
組成変動は全く観察されなかった。鉛を過剰に含まない
該粉末を1.5t〜の圧力下で直径12鱈、厚さ2mに
成型し、酸素ガスと鉛蒸気の混合穿囲気下、常圧120
0℃で24時間焼結した。得られた焼結体は透過度72
需で理論透過度にtlぼ等しく、2次電気光学係数は、
9.2 X 10”−16m’/V″を示すPLZTセ
ラミックスであった。
組成変動は全く観察されなかった。鉛を過剰に含まない
該粉末を1.5t〜の圧力下で直径12鱈、厚さ2mに
成型し、酸素ガスと鉛蒸気の混合穿囲気下、常圧120
0℃で24時間焼結した。得られた焼結体は透過度72
需で理論透過度にtlぼ等しく、2次電気光学係数は、
9.2 X 10”−16m’/V″を示すPLZTセ
ラミックスであった。
比較例
硝酸鉛30.140F、硝酸ランタン2.925F、オ
キシ硝酸ジルコニウム14.694jllを含有する
水溶液300cclli製し、これを攪拌した4Nアン
モニヤ水1i中に滴下して水酸化物の共沈物を作った。
キシ硝酸ジルコニウム14.694jllを含有する
水溶液300cclli製し、これを攪拌した4Nアン
モニヤ水1i中に滴下して水酸化物の共沈物を作った。
この共沈物の懸濁した水溶液を攪拌しつつ、これに四塩
化チタン6、490 F を溶解した水溶液100
cc を滴下し、鉛、チタン、ジルコニウム、ランタ
ンの水酸化物の均密沈殿物を得た0水洗後、600℃で
1時間仮焼してPbO,91tao、oe(Zro、a
s ・Tio3s ) 0.977503 f) AI
l成OP[、ZT i料粉末を得た。
化チタン6、490 F を溶解した水溶液100
cc を滴下し、鉛、チタン、ジルコニウム、ランタ
ンの水酸化物の均密沈殿物を得た0水洗後、600℃で
1時間仮焼してPbO,91tao、oe(Zro、a
s ・Tio3s ) 0.977503 f) AI
l成OP[、ZT i料粉末を得た。
粉末X線回折の結来、ペロブスカイト構造をもつ異相が
認められ、P I、 Z T単−相ではなかった〇した
がって、高温での焼成においても、組成変動は若干ある
と考えられる。
認められ、P I、 Z T単−相ではなかった〇した
がって、高温での焼成においても、組成変動は若干ある
と考えられる。
該粉末を1.5t/QI/I の圧力下で、直径12
闘。
闘。
厚さ2■に成形し、酸素ガス雰囲気下、1200℃。
300 Krtldにて焼結した。得られた焼結体の2
次電気光学係数は、8.5 X 10”−”η■8 で
あった。
次電気光学係数は、8.5 X 10”−”η■8 で
あった。
実施例2
硝酸ランタン2.925f、オキシ硝酸ジルコニウム7
.347F、四塩化チタン6.490jiを含有する水
溶液200 ccを#4製し、これを攪拌した4Nアン
モニヤ水IIL中に滴下して水酸化物の共沈物を作った
。この共沈物のM濁した水溶液を攪拌しつつ、これに硝
酸鉛30.1405’、オキシ硝酸ジルコニウム7.3
47F を含有する水溶液200 cc中に滴下し、
鉛、チタン、ジルコニウム、ランタンの水酸化物の均密
沈殿物を得た。水洗後、600℃で1時間仮焼してPb
o、olLao、oo (Zro、as・Tio、3s
)0.9775 (13の組成のPi、ZT原料粉末
を得た0該粉末をtst%−の圧力下で直径12目、厚
さ2鱈に成型し、酸素ガス雰囲気下、1200℃、30
0Kg/l−にてホットプレスし5時間焼結した0得ら
れたP 1. Z T焼結体の嶋過度は、72にで2次
電気光学係数は9.2 X 10 ” n?/ V”で
あった0〔発明の効果〕 本発明は、下記のとおり従来の多段湿式法の利点を全て
備えており、その欠点をも改良することができた。
.347F、四塩化チタン6.490jiを含有する水
溶液200 ccを#4製し、これを攪拌した4Nアン
モニヤ水IIL中に滴下して水酸化物の共沈物を作った
。この共沈物のM濁した水溶液を攪拌しつつ、これに硝
酸鉛30.1405’、オキシ硝酸ジルコニウム7.3
47F を含有する水溶液200 cc中に滴下し、
鉛、チタン、ジルコニウム、ランタンの水酸化物の均密
沈殿物を得た。水洗後、600℃で1時間仮焼してPb
o、olLao、oo (Zro、as・Tio、3s
)0.9775 (13の組成のPi、ZT原料粉末
を得た0該粉末をtst%−の圧力下で直径12目、厚
さ2鱈に成型し、酸素ガス雰囲気下、1200℃、30
0Kg/l−にてホットプレスし5時間焼結した0得ら
れたP 1. Z T焼結体の嶋過度は、72にで2次
電気光学係数は9.2 X 10 ” n?/ V”で
あった0〔発明の効果〕 本発明は、下記のとおり従来の多段湿式法の利点を全て
備えており、その欠点をも改良することができた。
(1) P L Z Tの原料成分の内、鉛とチタン
を共沈させないので、チタン原料として安価な四塩化チ
タンを使用することができる。
を共沈させないので、チタン原料として安価な四塩化チ
タンを使用することができる。
(2) P 1. Z Tの構成成分の全部を共沈さ
せないで、二重沈殿を生成させるため、これらの沈#!
iは相互分散された状枯となり、従来の全成分の共沈に
おけるような乾燥、仮焼時に二次粒子の形成が少ない。
せないで、二重沈殿を生成させるため、これらの沈#!
iは相互分散された状枯となり、従来の全成分の共沈に
おけるような乾燥、仮焼時に二次粒子の形成が少ない。
したがって高嵩密度の易焼結性のものが得られる。
成のP 1. Z Tが容易に得らハ、る。
(4) 従来の乾式法におけるような組成成分の不均
一のない高密度のP 1. Z ’rの透光性セラミッ
クスが容易に得られる。
一のない高密度のP 1. Z ’rの透光性セラミッ
クスが容易に得られる。
(5) プロセスが簡単なこと、使用する薬品が安価
なこと、高純度薬品を使用しなくても良いこと、単なる
固相常圧焼結法でも透光性が達成で色ることなどの理由
により、高性能透光性P I、 Z Tセラミックスを
極めて安価に製造で舞る。
なこと、高純度薬品を使用しなくても良いこと、単なる
固相常圧焼結法でも透光性が達成で色ることなどの理由
により、高性能透光性P I、 Z Tセラミックスを
極めて安価に製造で舞る。
さらには、低温での仮焼でP 1. Z Tの琲−相が
得られ、より反応性に優れた微粉末の合成が可能となっ
た。
得られ、より反応性に優れた微粉末の合成が可能となっ
た。
また、組成変動は十分に解消され、該粉末を酸素ガスと
鉛蒸気の混合雰囲気下、常圧にであるいは酸素雰囲気下
ホットプレスにより、焼結することにより、良好な透過
度および2次′11L′A光学効果を示すセラミックス
が得られるようになった。
鉛蒸気の混合雰囲気下、常圧にであるいは酸素雰囲気下
ホットプレスにより、焼結することにより、良好な透過
度および2次′11L′A光学効果を示すセラミックス
が得られるようになった。
出願人 科学技術庁無機材質研究所長
後藤 優
Claims (6)
- (1)ペロブスカイト構造を有する一般式 (Pb_1_−_xLa_x)〔(Zr_y・Ti_1
_−_y)_1−(x/4)□(x/4)〕O_3、(
Pb_1_−_xLa_x)(Zr_y・Ti_1_−
_y)O_3(ただし、x=0.01〜0.3、y=0
.05〜0.95、□は陽イオン空孔を表わす)または
両者の中間組成体、もしくはこれらの組成に10wt%
以下の鉛を過剰に添加した粉末を焼結するととによる透
光性PLZTセラミックスの製造において、水溶性の鉛
、ランタン、ジルコニウム、チタンの各化合物から四成
分の水溶液を作り、ジルコニウム水溶液の一部とランタ
ン水溶液を鉛水溶液もしくはチタン水溶液のいずれか一
方に混合して水溶液を調製し、別にジルコニウム水溶液
の残量を鉛水溶液もしくはチタン水溶液の残り一方に混
合して水溶液を調整し、この混合水溶液の一種に過剰の
沈殿形成液を混合して沈殿を形成させた後、この沈殿の
分散した水溶液に残った他の水溶液を均一に混合して全
成分の均密沈殿を作り、これを500〜1100℃で仮
焼し、次いで仮焼物を成形後、1000〜1280℃の
温度で焼結することを特徴とする透光性セラミックスの
製造方法。 - (2)混合水溶液の一種がジルコニウム水溶液の一部と
ランタン水溶液と鉛水溶液の組合せである特許請求の範
囲(1)記載の方法。 - (3)混合水溶液の一種がジルコニウム水溶液の一部と
ランタン水溶液とチタン水溶液の組合せである特許請求
の範囲(1)記載の方法。 - (4)仮焼物成形後、空気中でホットプレスする特許請
求の範囲(1)記載の方法。 - (5)仮焼物成形後、酸素雰囲気中でホットプレスする
特許請求の範囲(1)記載の方法。 - (6)仮焼物成形後、酸素と鉛蒸気の混合雰囲気下常圧
焼結する特許請求の範囲4(1)記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60227337A JPS6287460A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | Plzt透光性セラミツクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60227337A JPS6287460A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | Plzt透光性セラミツクスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6287460A true JPS6287460A (ja) | 1987-04-21 |
Family
ID=16859226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60227337A Pending JPS6287460A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | Plzt透光性セラミツクスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6287460A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01298064A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-01 | Nippon Denso Co Ltd | Plztの製造方法 |
| JPH03247562A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-05 | Ube Ind Ltd | Plzt透明セラミックスの製造法 |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP60227337A patent/JPS6287460A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01298064A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-01 | Nippon Denso Co Ltd | Plztの製造方法 |
| JPH03247562A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-05 | Ube Ind Ltd | Plzt透明セラミックスの製造法 |
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