JPS6288751U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の１実施例装置の要部を示す断
面図、第２図は他の１実施例装置の要部を示す断
面図、第３図及び第４図は、それぞれ従来の真空
蒸着装置の概略図である。 １……真空チヤンバー、２……排気管、３……
被処理基板、４……熱源、５，６……ヒーター、
７……反射層、８……支軸、９……反射板、１０
……反射板。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 真空チヤンバー内に、被処理基板を水平に
   保持し、該基板の上方にヒーターを配置して、加
   熱しながら所要の真空処理を行う真空処理装置に
   おいて、前記ヒーターから、前記真空チヤンバー
   の天井部ないし側壁上部に向かつて放射される熱
   線を、前記基板保持部に向かつて反射する反射層
   を、前記真空チヤンバーの内部に配置した真空処
   理装置における被処理基板加熱装置。 (2) 反射層を、真空チヤンバーの天井部ないし
   側壁上部の内壁面に形成したことを特徴とする実
   用新案登録請求の範囲第(1)項に記載の真空処理
   装置における被処理基板加熱装置。 (3) 真空チヤンバーの上部に、該チヤンバーの
   内壁面から離間して反射板を配置し、該反射板の
   被処理基板に向かう面に、反射層を形成したこと
   を特徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)項に
   記載の真空処理装置における被処理基板加熱装置
   。 (4) 反射層が、金属を蒸着し、鏡面仕上げを施
   してなることを特徴とする実用新案登録請求の範
   囲前各項のいずれかに記載の真空処理装置におけ
   る被処理基板加熱装置。 (5) 被蒸着金属が、金（Ａｕ）である実用新案
   登録請求の範囲第(4)項に記載の真空処理装置に
   おける被処理基板加熱装置。