JPS6293901A - サ−マルヘツド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、サーマルヘッドの構造及びその製造方法に
関する。

（従来の技術） 感熱紙を発色させて感熱紙にＦ’　ｙ　）のモザイクを
作ることにより絵１文字等の印字をするための種々の構
造のサーマルヘッド及びそのｆ！Ａ造方決方法案されて
いる。このようなサーマルヘッドは、例えば文献（アイ
イーイーイー　トランザクション　オン　コンポーネン
ツ、バイブリンズ、アンド　マニファクチャリング　テ
クノロジ（ＩＥＥＥＴＲＡＮＳＡＣ：Ｔｌ０Ｎ　ＯＮ　
ＧＯＭＰＯＮＥＮＴＳ、ＨＹＢＩ’１ｌＤＳ、ＡＮ［ｌ
　ＭＡＮｔｌＦＡＣＴＩＪＲｒＮＧ　ＴＥＣＨＮＯＬＯ
ＧＹ）、Ｖｏｌ、Ｃ）ｔＭＴ−７，Ｎｏ、３，５ｅｐｔ
、１９８４Ｐ、２９４〜２９８）に開示されている。こ
のような閘征の薄膜型サーマルヘッドにおいては、発熱
抵抗体として主として窒化タンタル（Ｔａ２　Ｎ）が用
いられている。周知のようにＴａ２Ｎは、例えばバイブ
リア　１”　Ｉ　Ｃ等の薄膜抵抗体として用いる場合は
、抵抗１的の安定性が非常に優れているが、このＴａ２
Ｎをサーマルヘッドの発熱抵抗体として用いる場合には
、Ｔａ２Ｎの＃熱性、特に、その１耐酸化性は充分なも
のではなかった。このため、Ｔａ２Ｎを発熱抵抗体とし
て用いる場合は、　一般に、サーマルヘッドの構造を築
５図に示すような構造とじていた。

第５図は従来の薄膜型サーマルヘッドの要部を示す断面
図であり、この場合、下地上しての絶縁基板上に多数設
けられた発熱抵抗体のうちの一つの発熱抵抗体に着目し
て示した断面図である。

第５図において、　１１はグレーズドアルミナ基板を示
し、この絶縁基板１１ＬにＴａ２Ｎ１１１２からなる発
２８抵抗体１３が設けられている。この発熱抵抗体１３
ｈの犀間した位置に給′市体１５及び１７が１没けられ
ていて、これら給電体１５及び１７の間の発熱抵抗体１
３の部分（図中、斜線で示す部分）が発熱部１９となる
。さらに、給゛ｉヒ体１５及び１７と発熱部１３との１
−には順次に耐酸化ｌｌｑ　２１と耐摩耗膜２３とが設
けられていて、これら−二層の１１りにより発、８抵抗
体の保護１模が形成されている。

サーマルヘッドにおいては、発熱抵抗体１３の保護１模
、特に、耐酸化膜２１はサーマルヘッドの寿命に影響す
る重要な保護膜である。発熱抵抗体１３に高い′心力を
印加しこの発熱抵抗体１３を高温に発熱させて印字を行
う際、このｔｆｍｆｆｅ化＋１Ｑ　２１によって、高温
状態にある発熱抵抗体１５を酸素から遮断し。

よって発熱抵抗体１５の酸化を防１．１：され発熱抵抗
体１３のガ命奢向りさせることがｔＪ」来る。

次に従来のサーマルヘッドの製造方法につき簡単に説明
する。

下地上してのグレーズドアルミナ基板１１−Ｌ：に。

スバンタ法によりＴａ２ＮＦｌ膜を形成し、次に、フォ
トリン技術によりＴａ７　Ｎ薄膜を所定の形状にパター
ンニングして発熱抵抗体１３を形成する。

次に、スバンタ法によりこの発熱抵抗体１５１．に例え
ばニクロム（ＮｉＣｒ）と金（Ａｕ）とｔ一連続して成
膜し、続いて、このニクロム及び金の金属薄膜を所定の
形状にバターニングして、発熱抵抗体１３の一部である
発熱部１９を露出させるとノ（に、この発熱部２１の両
側領域にこの金属薄１１！２からなり尾いに電気的に絶
縁されたｊ０電体１５及び１７を形成する。

さらに、スパッタ法によりこの発熱部１９と給電体１７
及び１９とのＬ側に例えば５ｉ０２薄膜を形成し、この
薄膜を所定形状にバターニングして＃酸化１１Ｑ　２１
を形成する。続いて、スパッタ法によりこ）耐酸化ｌＩ
！、！２１　ＬＬ：　＃摩耗ｌ１１２２３とし−（ｔｙ
）Ｔ　ａ２０５膜を形成して、サーマルヘッドを得てい
た。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、サーマルヘッドに用いられている従来の
発熱抵抗体は、その発熱抵抗体Ｊ−に１＃酸化膜２１を
別途に設けて、１５？ｉ熟抵抗体の醇化を防止する必要
があった。従って、サーマルヘッドの製造を行う際は、
耐酸化１１λ２１を成膜するため例えばスパッタ装置等
の、高価な製造設領１が必要になるという問題点があっ
た。

又、慟れた印字品質を得るため、さらには、低電力でか
つρｉ速印字を行うためには１発熱部１９と感熱紙と金
ＩＩ′！′接に接触させるか、或は、耐酸化ｊ１りや耐
摩耗膜から成る保護層を可能な限り薄くして発熱部【９
から感熱紙への熱伝導を効率良く行うことが望ましい。

しかし、従来のサーマルへ７トでは、発熱抵抗体１３ｆ
：に別途形成する耐酸化ＩＩ！、！２１の１模厚のバラ
ツキやこの＃酸化１模２１中のピンホールの影響を考慮
すると、発熱抵抗体１３を確実に酸化防止するためには
、この耐酸化膜２１の厚みをノ）くすることには限界が
あるという問題点があった。

ところで、金属珪化物はその金属珪化物を酸化処理する
と、その表面に自ら酸化膜を形成し、その酸化ｊ１りに
よりそれ以にの酸化の進行を防止する物性を４１するこ
とか知られている。この物性については例えば文献（Ｊ
、Ｖａｃ、Ｓｃｉ、Ｔｅｃｈｎｏｌ、、１７（４）、Ｊ
ｕｌ、／Ａｕｇ、１９８０、Ｐ、７７５〜７９２　）に
開示されている。

又、この文献のＰ、７８８には、蒸気により金属珪化物
であるＴａＳｉ２薄膜を酸化させた際のＴａ５ｉ２ｖｊ
膜のシート抵抗値の変化が報告されている。第６図はそ
の報告内容を示す特性曲線図で、蒸気温度をパラメータ
（図中、工で示す曲線が９００°Ｃ１■で示す曲線が１
０５０℃）として、横軸に蒸気酸化時間をとり縦軸にシ
ート抵抗値をとって示しである。同文献によれば９００
℃の温度で工時間の蒸気酸化を行うと、１４０ＯＡの膜
厚で酸化層が形成されたことが報告されている。

この出願の発明者は金属珪化物のこのような物性に着目
し、ざらに、サーマルヘッドに用いて好適な高融点金属
珪化物に着目して試験を行った結果、サーマルヘラｆ’
の発熱抵抗体に高融点金属珪化物を用いることにより種
々の工業的な利点を発見した。この発明はこのような知
見に基づいてなされたものである。

この出願の第一発明の目的は、前述した問題点を解決し
、低電力でかつ高速に然も印字品質の惧れた印字が行え
るサーマルヘッドを提供することにある。

この出願の第二発明の目的は、低電力でかつ高速に然も
印字品質の優れた印字が行えるサーマルヘッドを、Ｂ易
にｇＩ造することが出来る製造方法を提供することにあ
る。

（問題点を解決するための手段） この目的の達成を図るため、この発明によれば、発熱抵
抗体と、＃酸化膜とを具えるサーマルヘッドにおいて、 前述した発熱抵抗体を金属珪化物の層を以って形成し、
ざらに、＠述した耐酸化膜をこの金属珪化物の層に対す
る酸化処理によって得られた酸化物層をもって形成して
成ることを特徴とする。

この発明の実施に尚り、金属珪化物は、タンタル（Ｔ　
ａ）珪化物、クロム（Ｃｒ）珪化物、タングステン（Ｗ
）珪化物、モリブデン（ＭＯ）珪化物、ニオブ（Ｎ　ｂ
）珪化物、バナジウム（Ｖ）珪化物、コへル）（Ｃｏ）
珪化物、白金（Ｐｔ）珪化物、パラジウム（Ｐ　ｄ）珪
化物、チタン（Ｔｉ）珪化物からなる群より選ばれた一
種類の金属珪化物とするのが好適である。

又、Ｔｉｔ！！旧に、発熱抵抗体と、給電体と、耐酸化
膜とを具えるサーマルヘッドを製造するに当り、その製
造工程には、 下地土に金属珪化物の層を形成する工程と。

この金属珪化物の層丘に、この層の一部分を露出させて
給電体を形成する工程と、 この露出部分の表面領域を耐酸化膜とし、この表面領域
以外の前述した金属珪化物の層部分を発熱抵抗体とする
ために、前述した露出部分の表面領域に対して酸化処理
を行う工程とを含むことを特徴とする。

（作用） この発明のサーマルヘッドの構造によれば、発熱抵抗体
を構成している金属珪化物の層に対して酸化処理して得
た酸化物層を以って＃酸化膜を構成しているから、非常
に緻密でかつ非常に薄い耐酸化膜が得られる。

従って１発８抵抗体の酸化防止を確実に行うことが出来
る。ざらに１発熱部と感熱紙との間の、例えば耐酸化１
１！２及び耐摩耗膜から成る保護層の層厚を薄くするこ
とが出来ると共に、この保護層の熱容１４を小さくする
ことが出来る。

又、この発明のサーマルヘッドの製造方法によれば、例
えば大気中で金属珪化物の層を熱処理して、金属珪化物
の大気と接する部分を耐酸化膜とすることが出来る。

従って、耐酸化膜の形成を簡易に行うことが出来る。

（実施例） 以ド、図面を参照してこの発明の−・実施例につき説明
する。尚、以ｒの実施例の説明に用いる第１図〜第４図
は、この発明が理解でさる程度に概略的に示しであるに
すぎず、各構成成分の寸法。

形状及び配置関係は図示例に限定されるものではない。

又、各図において同・の構成成分については同一の符号
を付し示しである。又、従来と同一の構成成分について
は同一の符号を付して示してある。

第１図はこの発明のサーマルヘフドの構造を示す要部断
面図であり、第５図と同様、ド地としての例えばグレー
ズドアルミナ基板（以ド、中に絶縁基板と称することも
ある）ヒに多数設けられた発熱抵抗体のうちの、　一つ
の発熱抵抗体に着１１シて示した断面図である。

７ＦＳ１図において、１１は絶縁基板を示し、この絶縁
ノ、（板１１１−、に５例えば、金属珪化物（金属シリ
サイド）としてのタンタル（Ｔ　ａ）珪化物の層からな
る発熱抵抗体３１が設けである。又、この発熱抵抗体３
１Ｌ：の離間した一つの領域には例えばニクロム（Ｎ　
ｉ　Ｃｒ）と金（Ａ　ｕ）とから成る金属薄膜で形成し
た給電体１５及び１７が設けてあり、これら給′屯体１
５及び１７の間の発熱抵抗体３１の部分（図中、斜線で
示す部分）が発熱部１９となる。又、発熱抵抗体３１の
給電体１５及び１７と接する領域を除き、少なくとも発
熱部１９を画成する発熱抵抗体３１の表面領域に、この
発熱抵抗体３１を構成するタンタル珪化物の層に対して
酸化処理を行って得た、酸化物層から成る１酎酸化膜３
３（図中１完熟抵抗体３１１−に人い実線で示す）か設
けである。この酸化物層は非常にｗ！１．密でかつ非常
に薄い。ざらに、この耐酸化膜３３１−に例えばＴａｒ
’５から成る耐摩耗膜２３か設けられている。

尚、金属珪化物この場合タンタル珪化物の層に対して酸
化処理を行って表面に形成される酸化物層は、明らかで
はないが５ｉ０２　と推定され、この５ｉＯ２ｊＩりに
より金属珪化物のまま残存した部分（発熱抵抗体）の酸
化を防＋Ｉ＝する。

次に、第１図及び詔２図（Ａ）〜（Ｃ）を藝照してこの
発明のサーマルヘッドの製Φ方法につきサーマルヘッド
の製造［程に従って説明する。

先ず、グレーズドアルミナ基板１１Ｆに金属珪化物とし
て例えばタンタル珪化物（タンタルシリサイド）の層３
５を５０００Ａの層厚に形成して第２図（Ａ）に示すウ
ェハ構造を得る。このタンタル珪化物の層３５の形成力
法は例えばマグネトロンスパッタ法により、ＴａＳｉ２
をターゲフトと１．て行い、そのスパッタ条件は、アル
ゴン（Ａｒ）ガス圧を３Ｘ　Ｌ　０１Ｔｏ　ｒ　ｒとし
、スパッタ市力を１１　Ｗ／　ｃ　ｍ／　とじて、成膜
速度を２００　Ａ　／　ｍｉｎ、とじて行った。

次に、例えば、エツチングガスとしてＣＦ４　ガスに０
２カスを体積比で５％混合したガスを用い、エツチング
パワーを７００Ｗ／ｃｍ・′とし、カス圧を３パスカル
としたドライエツチング工程により、タンタル珪化物の
層３５を発８抵抗体形状にバターニングする。

次に、例えば真空薄着法によりこのバターニングしたタ
ンタル珪化物の層３５１１に、例えばニクロム（ＮｉＣ
ｒ）を５０ＯＡの膜厚に、続いて金（Ａｕ）を３００Ｏ
Ａの膜厚に連続的に形成する。さらに、例えば電気メッ
キによりさらに金をメッキして金の膜厚を２ｇｍとする
。続いて、ウェットエツチング法界の好適な４段により
、このニクロム及び金の金属Ｆｇ膜を所定の形状にバタ
ーニングして、タンタル珪化物の層３５の・部分を露出
させると共にこの露出部分３７の両側領域に、この金属
薄膜からなりＷいに電気的に絶縁された給電体１５及び
１７を形成して、第２図（、Ｂ）に示すウェハ構造を得
る。

次に、このウェハを例えば空気中（人気中）雰囲気で６
００℃の温度で正時間のアニール処理を行う。この作業
によりこのウェハは酸化処理される。この際、大気と接
触している部分で活性な部分、例えばタンタル珪化物の
層３５の露出部分３７が丁として酸化される。従って、
露出部分３７の表面領域に酸化物層３３が形成されると
共に、タンタル珪化物のまま残イトした部分が発熱抵抗
体３１となる。又、図中１９で示す部分が発熱部となる
（第２図（Ｃ））。尚、この酸化物層３３は発熱＃；机
体３１の耐酸化膜３３として機能する。

次に、スパッタ法により＃酸化ＩＱ３３と、給電体１５
及び１７とのＬに例えばＴａ２０５からなる＃摩耗１１
！Ｊ　２３を３．５ｕＬｍのＩＩ！、！厚に形成して、
第１図に示すこの発明のサーマルヘツドを得ることが出
来る。

試験結果 次に、発熱抵抗体をタンタル珪化物とし、酸化処理によ
り酸化物層を形成した後、従来構造及びこの発明の構造
で二種類のサーマルヘッド（詳細は後述する）を作製す
る。

第３図はこの二種類のサーマルヘッドに′電力を印加し
、その電力を徐々に大きく変えていって行ったステップ
ストレス試験結果を示した特性曲線図である。この図は
縦軸にサーマルヘッドの発熱抵抗体の抵抗変化：ｉＡ（
％）をとり、横軸に印加電力（Ｗ／ドツト）をとり、印
加電力に対して１発熱抵抗体の初期抵抗値Ｒと、各ステ
ップでの試験間７′時の抵抗値との差ΔＲから求まる抵
抗率変化ΔＲ／Ｒをプロットして示してあり、図中、■
で示す曲線がこの発明のサーマルヘッドの特性であり、
ＩＩで示す曲線が従来構造のサーマルヘッドの特性であ
る。

尚、この試験に用いたこの発明のサーマルヘッドとは、
５０００Ａの膜厚のタンタル珪化物を前述の製造方法と
同条件で酸化処理し、その上側に３牌ｍの膜厚のＴａ２
０５の耐摩耗膜を形成したサーマルヘッドである。又、
従来構造のサーマルヘッドとは、５０００Ａの膜厚のタ
ンタル珪化物を同様に酸化処理し、さらにそのＥ側に、
別途に２ｐｍの膜厚の５ｉ０２　を耐酸化膜として設け
、その上側に３　ｋ　ｍ　（７）　ＩＩ！２厚のＴａ２
０５の＃ＦＩ！耗＋１Ｑを形成したサーマルへ７Ｆであ
る。

又、ステップストレス試験の条件は、印加する初期電力
を０．０２Ｗ／ｍｍ’　とし、ステップを０．０２Ｗと
して印力ロ電力を増加させた。又、各ステップでの電力
印加条件は、繰り返し周期を５ｍ５ｅＣとし、パルス幅
を１ｍ５ｅｃとし、パルス印加回数を２００００回とし
て行った。そして、このような試験条件でこの発明及び
従来の試１１共各試料がｌｉｌ！２壊するまで印７＋１
７電力をＦげて試験を行った。

第３図に示した試験結果からも明らかなように、通常サ
ーマルへ７Ｆを使用する電力（０，１３Ｗ／ｌツト）程
度では、この発明及び従来構造のサーマルヘッドには特
性Ｅの差異は見られない。又、高電力側で抵抗値変化に
やや差異が見られるが、実質的には問題となる差異では
ない。

従って、別途に耐酸化膜を設けていないこの発明のサー
マルヘッドの特性は実用上全く問題が無いことが分かっ
た。

又、第４図はステップストレス試験に用いたと同様に二
種類のサーマルヘッドを用意し、大気中で４４０°Ｃの
温度でアニール処理を行った際の各サーマルヘッドの抵
抗値変化を調査した特性曲線図である。この図は横軸に
アニール時間をとり。

縦軸に初期抵抗１ｉＱＲと、アニール中に適時測定して
Ｔ４ｊた抵抗値との差ΔＲから求まる抵抗値変化率ΔＲ
／Ｒ（％）をとり、示しである。尚、図中０−０−０で
示す曲線がこの発明のサーマルヘッドの特性であり、φ
−・−・で示す曲線が従来構造のサーマルヘッドの特性
を示す。この発明のサーマルヘッドはタンタル珪化物の
酸化が原因と思われる抵抗値のＬ昇が初期に起こるが、
その抵抗変化率は２％程度である。尚、アニール時間の
増加と共に抵抗値の減少が起こるが、この抵抗値の減少
は一般的なアニール効果であり、この発明の実現に影響
を及ぼす現象ではない。

ｉ：、述した試験結果からも明らかなように、この発明
によれば１業的に潰れた利点を有するサーマルヘッドを
提供することが出来る。

尚、この発明はｈ！した実施例に限定されるものではな
い。例えばタンタル珪化物を酸化処理する方法は大気中
のアニールでなく、酸素雰囲気中で７ニールすることで
行っても良い。又、熱処理の温度及び処理時間も目的に
応して換えることが出来る。

又、金属珪化物の露出部分の酸化が行え、サーマルヘッ
ドの他の部分を損傷することが無いような方法であれば
、薬品による酸化処理等の他の好適な方法でも良い。

又、発熱抵抗体に用いる金属珪化物として、この実施例
ではタンク！し珪化物のＴａＳ　ｉ２を用いたが、他の
組成のタンタル珪化物例えばＴａ５Ｓ１３等でも良い。

さらに金属珪化物を、クロム（Ｃｒ）　ｆＩ化物、タン
グステン（Ｗ）珪化物、モリブデン（ＭＯ）ＩＩ化物、
ニオブ（Ｎｂ）珪化物、／ヘナシウム（Ｖ）珪化物、コ
バルト（ＣＯ）珪化物、白金（Ｐｔ）珪化物、パラう′
ラム（Ｐ　ｄ）珪化物、チタン（Ｔｉ）珪化物からなる
群より選ばれた一種類の金属珪化物としても実施例と同
様の効果が期待ｊｆＪ来る。

尚、Ｌ述した実施例では発熱抵抗体の４ｉ面形状につい
ては説明しなかったが、この金属珪化物は如何なる形状
の発熱抵抗体１例えば四角形状やミアンタ型形状等の発
熱抵抗体に用いても実施例と同様の効果が得られること
ことは勿論である。

（発明の効果） ｌ二連した説明からも明らかなように、この発明のサー
マルヘッドの構造によれば、耐酸化膜を、発熱抵抗体を
構成している金属珪化物の層に対して酸化処理して得た
酸化物層を以って構成しているから、ピンホールのない
非常に緻密でかつ非常に薄い耐酸化膜が得られる。

従って、従来のように別途に耐酸化膜を形成しなくとも
発熱抵抗体の酸化防１Ｆを確実に行うことが出来る。さ
らに、発熱部と感熱紙との間の、例えば耐酸化膜及び耐
摩耗膜から成る保護層の層厚を薄くすることが出すると
Ｊ（に、この保護層の熱容−１を小ざくすることか出゛
にるから、発熱部と感熱紙とか効率良くかつ熟応答艮〈
接触する。

これがため、低電力でかつ高速に夜も印字品貞の役れた
印字か行えるサーマルヘッドを提供することが出来る。

又、この発明のサーマルへ・ノドの製造方法によれば、
例えば人気中で金属珪化物の層を熱処理して、金属珪化
物の大気と接する部分を耐酸化ｊ模とすることか出来る
。

従って１耐酸化１模の形成をｉ）ｎ易に行うことか出来
るから、従来のように高価な製造装置を川、低する必要
がない。

これがため、低電力でかつ高♂にへも印字品質の慟れた
印字が行えるサーマルへｙトを、簡易に製造することが
出来る製造方法を提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

７５１図はこの発明のサーマルヘッドの要部を示す断面
図、 ７ｆＳ２図はこの発明のサーマルヘッドの製造方法を示
す工程図、 帛３図は従未構伍及びこの発明のサーマルへｙドのステ
ップストレス試験結果を示す特性曲線図、 第４図はこの発明の説明に供する線図、第５図は従来の
サーマルヘッドの要部を示す断面図、 第６図は従来及びこの発明の説明に供する線図である。 １１・・・ド地（グレーズドアルミナ基板）１５．１７
・・・給電体、　　　　１９・・・化８部２３・・・耐
摩耗膜 ３１・・・発熱抵抗体（タンタル珪化物の層）３３・・
・耐酸化膜（タンタル珪化物の層の酸化物）３５・・・
タンタル珪化物の層 ３７・・・露出部分。 ／／　　下地（グし−ス゛ドアルミカＬ抜ン１５．１７
珍電依 ／り発熱部 ２３　耐摩Ｈ頑 ３１　発勢瓜抗褪（タンタル珪化物の漕）３３　耐酢化
躾（タンク／１．珪Ｉど物の層のａＸ４こ拘着）この発
明のサーマルへ７１：を示Ｔ断面図第１図 この発明の説明Ｉニイｆ４する徨２ 第３図 ＪＺａ±ｆｆｐ分 この発明の製造方法を説１！ＩＩＴ’る工程図この発８
月の８２９月１ニイ圧するｉ稟図笛４図 従来のプーマルへ１．ド゛乞示す断面図第５図 魚気故４し処理時Ｐ」（公） ２足条ｌひ゛この発明の説明にイ兵するａｒｆＪ第６図 手　Ａトレー玉　ネｒｌＴ　　　ｓＦ　　　？町ト昭和
６１憧［１１１０４目

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）発熱抵抗体と、耐酸化膜とを具えるサーマルヘッ
   ドにおいて、 前記発熱抵抗体を金属珪化物の層を以って形成し、前記
   耐酸化膜を該層に対する酸化処理によつて得られた酸化
   物層をもって形成して成ることを特徴とするサーマルヘ
   ッド。
2. （２）金属珪化物は、タンタル珪化物、クロム珪化物、
   タングステン珪化物、モリブデン珪化物、ニオブ珪化物
   、バナジウム珪化物、コバルト珪化物、白金珪化物、パ
   ラジウム珪化物、チタン珪化物からなる群より選ばれた
   一種類の金属珪化物としたことを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載のサーマルヘッド。
3. （３）下地上に、発熱抵抗体と、給電体と、耐酸化膜と
   を具えるサーマルヘッドを製造するに当下地上に金属珪
   化物の層を形成する工程と、該金属珪化物の層上に、該
   層の一部分を露出させて給電体を形成する工程と、 該露出部分の表面領域を耐酸化膜としかつ該表面領域以
   外の前記金属珪化物の層部分を発熱抵抗体とするために
   、前記露出部分の表面領域に対して酸化処理を行う工程
   と を含むことを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。