JPS62201262A - 薄膜型サ−マルヘツド - Google Patents
薄膜型サ−マルヘツドInfo
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- JPS62201262A JPS62201262A JP4424686A JP4424686A JPS62201262A JP S62201262 A JPS62201262 A JP S62201262A JP 4424686 A JP4424686 A JP 4424686A JP 4424686 A JP4424686 A JP 4424686A JP S62201262 A JPS62201262 A JP S62201262A
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 title abstract 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 2
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 37
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 229910004479 Ta2N Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- -1 Ta5i02 Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は薄膜型サーマルヘッドに関し、特に改良された
薄膜発熱抵抗体を有する薄膜型サーマルヘッドに関する
。
薄膜発熱抵抗体を有する薄膜型サーマルヘッドに関する
。
[従来技術とその問題点]
薄膜発熱抵抗体を用いる薄膜型サーマルヘッドはコンピ
ュータ、ワートプロセツザ、ファクシミリ等における印
字ヘッドとして広く用いられている。サーマルヘッドは
抵抗発熱体のドラ1〜を多数配列し、それらを選択的に
通電することにJ:り所望のパターンないし文字の形に
発熱させ、印字リボンの色材を用紙面へ熱転写させるよ
うになっている。抵抗発熱体には種々のものか知られ、
或いは使用されているが、良く用いられる月利としては
旧−cr 、 Ta2N 1Ta−3i02、Cr−8
i等がある。
ュータ、ワートプロセツザ、ファクシミリ等における印
字ヘッドとして広く用いられている。サーマルヘッドは
抵抗発熱体のドラ1〜を多数配列し、それらを選択的に
通電することにJ:り所望のパターンないし文字の形に
発熱させ、印字リボンの色材を用紙面へ熱転写させるよ
うになっている。抵抗発熱体には種々のものか知られ、
或いは使用されているが、良く用いられる月利としては
旧−cr 、 Ta2N 1Ta−3i02、Cr−8
i等がある。
これらはサーマルヘッド用抵抗発熱体としてすぐれた特
性を有するが、種々の欠点も有する。合金答の金属系の
発熱抵抗体1ユ耐熱11及び耐醇化・jJIに劣り、E
T)字t:必要な丁ネルキーを繰返し印加した場合、発
熱によって発熱抵抗体に酸化現象が発生し、抵抗値の増
大を招き、印字特性の低下を招く。
性を有するが、種々の欠点も有する。合金答の金属系の
発熱抵抗体1ユ耐熱11及び耐醇化・jJIに劣り、E
T)字t:必要な丁ネルキーを繰返し印加した場合、発
熱によって発熱抵抗体に酸化現象が発生し、抵抗値の増
大を招き、印字特性の低下を招く。
j:だ、これらの金属系の発熱抵抗体は繰返し通電によ
る熱パルスにより急激な熱サイクル下に置かれたとき人
きく熱膨張・収縮し、下地基板と表面耐摩耗性保護膜と
の間に大きい応力を生じてクラックの原因となる。一方
、Ta5i02等の酸化物や窒化物等の場合には、熱伝
導率か小さいため発熱体内での均熱性に欠け、印字品質
を低下させた。
る熱パルスにより急激な熱サイクル下に置かれたとき人
きく熱膨張・収縮し、下地基板と表面耐摩耗性保護膜と
の間に大きい応力を生じてクラックの原因となる。一方
、Ta5i02等の酸化物や窒化物等の場合には、熱伝
導率か小さいため発熱体内での均熱性に欠け、印字品質
を低下させた。
また、金属系の発熱抵抗体は固有抵抗率が小さく、また
上記の化合物系の発熱抵抗体でも固有抵抗が小さく(r
a2Nで200〜300μΩcm、 Ta−3i02で
も約2000μΩcm)、サーマルヘッドに必要な面積
抵抗1違/日前後を得ようとすると、数十人の薄膜の発
熱抵抗体を実現しなければなら\ず、安定して製造する
ことが回動である。す1!型的イ【製法はスパッタリン
グ、イオンプレーティング、CVD法イ【どの周知の半
導体プロセス技術であるか、膜厚が1000人程度ない
と工程制御か回動である。Jjた、これらの発熱体4A
判の抵抗温度係数は成分比に対して比較的不感であり、
所望値に制御づることか回動である。さらに、金属系で
は発熱体と電力供給電極との間に反応が生じ、発熱抵抗
体の抵抗値変動や断線等の不良の発生の原因となる。
上記の化合物系の発熱抵抗体でも固有抵抗が小さく(r
a2Nで200〜300μΩcm、 Ta−3i02で
も約2000μΩcm)、サーマルヘッドに必要な面積
抵抗1違/日前後を得ようとすると、数十人の薄膜の発
熱抵抗体を実現しなければなら\ず、安定して製造する
ことが回動である。す1!型的イ【製法はスパッタリン
グ、イオンプレーティング、CVD法イ【どの周知の半
導体プロセス技術であるか、膜厚が1000人程度ない
と工程制御か回動である。Jjた、これらの発熱体4A
判の抵抗温度係数は成分比に対して比較的不感であり、
所望値に制御づることか回動である。さらに、金属系で
は発熱体と電力供給電極との間に反応が生じ、発熱抵抗
体の抵抗値変動や断線等の不良の発生の原因となる。
[発明の目的]
従って、本発明の目的は、耐熱性か高く、寿命が長く、
固有抵抗率が大きく、しかも温度係数が調整可能な薄膜
発熱抵抗体を用いた薄膜型サーマルヘッドを提供するこ
とにある。
固有抵抗率が大きく、しかも温度係数が調整可能な薄膜
発熱抵抗体を用いた薄膜型サーマルヘッドを提供するこ
とにある。
[発明の概要]
本発明は、薄膜発熱抵抗体として、高融点金属と、硅素
と、アルミニウムと、酸素とを主成分として含有さけた
ことを特徴とする。すなわら、H−3i−AP−〇系発
熱抵抗体である。ここにト1は高融点金属で1+、 1
40. W 、 If、旧、V 1Zr11−a、 T
a。
と、アルミニウムと、酸素とを主成分として含有さけた
ことを特徴とする。すなわら、H−3i−AP−〇系発
熱抵抗体である。ここにト1は高融点金属で1+、 1
40. W 、 If、旧、V 1Zr11−a、 T
a。
Fe、 Co及びCrより選ばれた少なくとも1種であ
る。
る。
高融点金属の存在により発熱体の抵抗率は繰返し熱パル
スによっても長期に変化せず、安定した− 3 = す゛−マルヘッドが得られる。また金属系の場合とへか
い、△e203−3i02を含むため熱膨張・収縮か小
さく、上下層との熱膨張係数の差による大きい内部応力
の発生、ひいてはクラックの発生がない。Aj 203
成分又は金属が上記酸化物の量比を越えると熱伝導性・
均熱性が上がり、サーマルヘッドとしての電力効率の向
上が1qられだ。
スによっても長期に変化せず、安定した− 3 = す゛−マルヘッドが得られる。また金属系の場合とへか
い、△e203−3i02を含むため熱膨張・収縮か小
さく、上下層との熱膨張係数の差による大きい内部応力
の発生、ひいてはクラックの発生がない。Aj 203
成分又は金属が上記酸化物の量比を越えると熱伝導性・
均熱性が上がり、サーマルヘッドとしての電力効率の向
上が1qられだ。
また、十分な酸素の存在により経時酸化のおそれもなく
特性が安定する。さらに、高融点金属の含有率に対して
固有抵抗率が大きく変化し、かつ酸化物成分の構成比率
によって抵抗温度係数が変化するので、その組成比を制
御することでサーマルヘッドの特性の制御範囲が大きく
なり、例えば104μΩcm抵抗温度係数±1100n
p/ ’Cのような発熱体抵抗の設に1も容易になし得
る。このような高抵抗率では、発熱体の薄膜は1000
人前後が好適となり、成膜が容易となる。
特性が安定する。さらに、高融点金属の含有率に対して
固有抵抗率が大きく変化し、かつ酸化物成分の構成比率
によって抵抗温度係数が変化するので、その組成比を制
御することでサーマルヘッドの特性の制御範囲が大きく
なり、例えば104μΩcm抵抗温度係数±1100n
p/ ’Cのような発熱体抵抗の設に1も容易になし得
る。このような高抵抗率では、発熱体の薄膜は1000
人前後が好適となり、成膜が容易となる。
[発明の詳細な説明]
本発明の薄膜型サーマルヘッドの構成の概要は第1図に
示されている。図中1はグレーズドセラミック基板であ
り、その表面にグレーズ層2が形成される。グレーズ層
2は磁器のうわぐずりに相当する酸化物であり、硅素及
びアルミニウムの酸化物を含む。ブレース′層2の上に
は例えば公知のスパッタ法により本発明の薄膜抵抗発熱
体3が成膜され、さらに電力供給用電極(旧、Cr、
Au、Aj等、特に八で)4が蒸着またはスパッタなど
で成膜され、最後に公知の耐摩耗性保護膜(例えば5i
−0系、5i−Aj−0系、SiC系、Ta205等)
6がスパッタ法等で成膜される。
示されている。図中1はグレーズドセラミック基板であ
り、その表面にグレーズ層2が形成される。グレーズ層
2は磁器のうわぐずりに相当する酸化物であり、硅素及
びアルミニウムの酸化物を含む。ブレース′層2の上に
は例えば公知のスパッタ法により本発明の薄膜抵抗発熱
体3が成膜され、さらに電力供給用電極(旧、Cr、
Au、Aj等、特に八で)4が蒸着またはスパッタなど
で成膜され、最後に公知の耐摩耗性保護膜(例えば5i
−0系、5i−Aj−0系、SiC系、Ta205等)
6がスパッタ法等で成膜される。
発熱抵抗体3は本発明に従って、硅素とアルミニウムと
高融点金属M(Ti、■0、見、If、旧、V、Zr、
La、 Cr、 Ta、 Fe、 Coの少なくとも
1種)とを含む酸化物である。この高融点金属は種類に
よって作用上のらがいかあるが、しかし単独またはどの
組合せを用いても発熱抵抗体の抵抗率 107〜102
μΩcmの範囲で大きく変動する。更には特定の高融点
金属以外の成分の構成比率を選択することにより、所望
の抵抗率に於いて所望の温度係数の発熱体を設計しうる
。例えば抵抗率104μΩcmのしのを選択ηれば膜厚
は1000Å以上とイ1しうる。
高融点金属M(Ti、■0、見、If、旧、V、Zr、
La、 Cr、 Ta、 Fe、 Coの少なくとも
1種)とを含む酸化物である。この高融点金属は種類に
よって作用上のらがいかあるが、しかし単独またはどの
組合せを用いても発熱抵抗体の抵抗率 107〜102
μΩcmの範囲で大きく変動する。更には特定の高融点
金属以外の成分の構成比率を選択することにより、所望
の抵抗率に於いて所望の温度係数の発熱体を設計しうる
。例えば抵抗率104μΩcmのしのを選択ηれば膜厚
は1000Å以上とイ1しうる。
一般に高融点金属は20〜60W1%の範囲riTE、
択しつる。この点については実施例により具体的に示す
。
択しつる。この点については実施例により具体的に示す
。
Si、Ai2.0は耐熱・1ノ1、耐酸1ノ1の酸化物
を形成しうる一bのであり、それらの比率を変えること
にJ、り耐熱性を保らイtから抵抗率を変えることかで
きる。例えばSi 八ρ 0は抵抗率〉〉0
.82 0.13 107μΩCmz温度係数<−1500ppm/ ’c
であるが、高融点金属Mの含有率か10w1%以上で1
07μΩcm以下、−100ppm/ °C以1−を得
ることができる。
を形成しうる一bのであり、それらの比率を変えること
にJ、り耐熱性を保らイtから抵抗率を変えることかで
きる。例えばSi 八ρ 0は抵抗率〉〉0
.82 0.13 107μΩCmz温度係数<−1500ppm/ ’c
であるが、高融点金属Mの含有率か10w1%以上で1
07μΩcm以下、−100ppm/ °C以1−を得
ることができる。
HlSi、八e、0の少なくとも2種を含有する耐摩耗
保護層6を選択すれば、本発明の発熱抵抗体は、耐摩耗
イシ(護層に良<’+Zじみ、また熱膨張係数の差か少
なくなり好ましい。さらに、電極4゜5としてAPを用
いれば、同様に電極と発熱抵抗体とのイ【じみか良くイ
【り好ましい。
保護層6を選択すれば、本発明の発熱抵抗体は、耐摩耗
イシ(護層に良<’+Zじみ、また熱膨張係数の差か少
なくなり好ましい。さらに、電極4゜5としてAPを用
いれば、同様に電極と発熱抵抗体とのイ【じみか良くイ
【り好ましい。
本発明の発熱抵抗体は特にスパッタ法で製造することが
できる。例えば所望の組成比を有する固形物粉末を予め
製造し、それを圧縮成形してペレッ1〜化し、これをタ
ーゲラl〜として八r’をスパッター 7 = ガスとして用い、その他必要に応じて02カス等を共存
させ、Arイオンをターゲラ1へに衝撃さ1!、放出さ
れたイオンないし原子を基板上に11着さ1!る。膜組
成はペレットの組成及びスパッタ条件を変えることによ
り調整しうる。
できる。例えば所望の組成比を有する固形物粉末を予め
製造し、それを圧縮成形してペレッ1〜化し、これをタ
ーゲラl〜として八r’をスパッター 7 = ガスとして用い、その他必要に応じて02カス等を共存
させ、Arイオンをターゲラ1へに衝撃さ1!、放出さ
れたイオンないし原子を基板上に11着さ1!る。膜組
成はペレットの組成及びスパッタ条件を変えることによ
り調整しうる。
実施例
組成■OX ”0.36 Al2O,0600,/14
のベレツ1〜をターゲラ1へとして1〜6mTorrの
Arをスパツタノjスとして用い、ターゲット−基板距
111t60mm、 RF電力1〜10I/cm2.基
板温IfIf 200〜400°Cの条1′4を調整し
て、上記組成の発熱抵抗体を製作し、さらに酊電極、保
護膜を順に成膜してサーマルヘッドを作成した。なお、
基板表面層及び保護層にはAff及びSiの他にNoを
少量含有させた。得られたサーマルヘッドに対して、次
ぎのテストを行った。
のベレツ1〜をターゲラ1へとして1〜6mTorrの
Arをスパツタノjスとして用い、ターゲット−基板距
111t60mm、 RF電力1〜10I/cm2.基
板温IfIf 200〜400°Cの条1′4を調整し
て、上記組成の発熱抵抗体を製作し、さらに酊電極、保
護膜を順に成膜してサーマルヘッドを作成した。なお、
基板表面層及び保護層にはAff及びSiの他にNoを
少量含有させた。得られたサーマルヘッドに対して、次
ぎのテストを行った。
X=0.14のサンプルに対してパルス幅0.3m秒、
周期2m秒の熱パルスを加えたときの抵抗値変化率を第
2図に示した。またNoの含有率による抵抗率及び抵抗
調度係数を第3図に示した。なお対照サンプルとして従
来のTa2N発熱抵抗体八と、Zr一3i発熱抵抗体C
に対する耐熱パルステストの結果を第2図に(7F記し
た。第2図のBは本発明による発熱抵抗体を用いたサー
マルヘッドを示す。
周期2m秒の熱パルスを加えたときの抵抗値変化率を第
2図に示した。またNoの含有率による抵抗率及び抵抗
調度係数を第3図に示した。なお対照サンプルとして従
来のTa2N発熱抵抗体八と、Zr一3i発熱抵抗体C
に対する耐熱パルステストの結果を第2図に(7F記し
た。第2図のBは本発明による発熱抵抗体を用いたサー
マルヘッドを示す。
[作用効果]
第2図から分るように、本発明のNo−3i−Aj −
0系発熱抵抗体Bを用いたサーマルヘッドは熱パルスを
多数加えても抵抗値が変らず、耐熱性が良い。
0系発熱抵抗体Bを用いたサーマルヘッドは熱パルスを
多数加えても抵抗値が変らず、耐熱性が良い。
従来の発熱抵抗体へ(Ta2N)やC(7r−3i)で
は成る一定数の熱パルスを越えると抵抗の変化が太きく
なる。
は成る一定数の熱パルスを越えると抵抗の変化が太きく
なる。
第3図から分るように、本発明の発熱抵抗体は高融点金
属の含有量に応じてその抵抗率及び抵抗温度係数が大き
く変動する。従って高融点金属の含有率を調整すること
にJ:ってこれらの値を所望の値に設計することができ
る。
属の含有量に応じてその抵抗率及び抵抗温度係数が大き
く変動する。従って高融点金属の含有率を調整すること
にJ:ってこれらの値を所望の値に設計することができ
る。
発熱体中にAjを含むために耐熱性の向上、発熱体面内
の温度分布の均一化、及び熱膨張係数の減少か実現され
、Aj電極を用いてもそれが発熱体中へ拡散するおそれ
がなく、従って安価なAj電極を給電用に用いることが
できる。また耐摩耗 b− 保護膜にMo、 Aj 、 si、0を含有した月利
を用いれば、相n間のなじみが良くなって密着↑4が向
干し、熱衝撃等に強くなり、クラック・剥離等の発生が
抑制される。また、本発明の発熱抵抗体は耐薬品性に優
れ、アルカリや湿気の影響を受は難い。
の温度分布の均一化、及び熱膨張係数の減少か実現され
、Aj電極を用いてもそれが発熱体中へ拡散するおそれ
がなく、従って安価なAj電極を給電用に用いることが
できる。また耐摩耗 b− 保護膜にMo、 Aj 、 si、0を含有した月利
を用いれば、相n間のなじみが良くなって密着↑4が向
干し、熱衝撃等に強くなり、クラック・剥離等の発生が
抑制される。また、本発明の発熱抵抗体は耐薬品性に優
れ、アルカリや湿気の影響を受は難い。
第1図はサーマルヘッドの構造を示す断面図、第2図は
本発明の発熱抵抗体を用いたサーマルヘッド及び従来例
の耐熱テストを示すグラフ、及び第3図は本発明の4ノ
−−マルヘッドにおいて発熱抵抗体中に含有される高融
点金属と抵抗率及び抵抗温度係数との関係を示すグラフ
である。
本発明の発熱抵抗体を用いたサーマルヘッド及び従来例
の耐熱テストを示すグラフ、及び第3図は本発明の4ノ
−−マルヘッドにおいて発熱抵抗体中に含有される高融
点金属と抵抗率及び抵抗温度係数との関係を示すグラフ
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、熱絶縁層を有する下地基板に、高融点金属と硅素と
アルミニウムと酸素とを主成分とする発熱抵抗体薄膜を
設け、その表面に耐摩耗性保護膜を形成し、さらに前記
抵抗体に電力供給用電極を接続した、薄膜型サーマルヘ
ッド。 2、高融点金属がTi、Mo、W、Hf、Ni、V、Z
r、La、Cr、Ta、Fe、Coよりなる群から選ば
れる前記第1項記載のサーマルヘッド。 3、耐摩耗性保護膜が酸素と、硅素と、アルミニウムと
、高融点金属のうち少なくとも2種の元素を含んでいる
前記第1項記載のサーマルヘッド。 4、電力供給用電極がAl単層である前記第1項ないし
第3項のいずれかに記載のサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4424686A JPS62201262A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 薄膜型サ−マルヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4424686A JPS62201262A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 薄膜型サ−マルヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62201262A true JPS62201262A (ja) | 1987-09-04 |
Family
ID=12686178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4424686A Pending JPS62201262A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 薄膜型サ−マルヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62201262A (ja) |
-
1986
- 1986-03-03 JP JP4424686A patent/JPS62201262A/ja active Pending
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