JPS6294391A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は感光性平版印刷版に係り、詳しくはインキ着肉
性、耐刷性更には保水性及び親水性に優れ、地汚れを発
生せず、保存安定性の良好な感光性平版印刷版に関する
。
性、耐刷性更には保水性及び親水性に優れ、地汚れを発
生せず、保存安定性の良好な感光性平版印刷版に関する
。
従来、平版印刷版用の支持体としては、アルミニウムが
最も良く使用されている。これは、他の支持体−紙、鉄
、フィルム等−と比較し、軽量、安価、弾性及び強度の
点で総合的に優れているからでめbo ところで、平版印刷版は、感脂性の画像部と親水性の非
画像部から構成されておシ、アルミニウムを支持体とし
て使用するためには、通常砂目立てが行われ、その表面
を粗面化し、親水性を向上させる必要がある。
最も良く使用されている。これは、他の支持体−紙、鉄
、フィルム等−と比較し、軽量、安価、弾性及び強度の
点で総合的に優れているからでめbo ところで、平版印刷版は、感脂性の画像部と親水性の非
画像部から構成されておシ、アルミニウムを支持体とし
て使用するためには、通常砂目立てが行われ、その表面
を粗面化し、親水性を向上させる必要がある。
ま九、印刷版として使用するためには、優れた親水性及
び保水性以外にも、感脂性が良好で高耐刷力であること
が要求される丸め、従来より砂目立て法に関しては種々
の検討が行われてきた。
び保水性以外にも、感脂性が良好で高耐刷力であること
が要求される丸め、従来より砂目立て法に関しては種々
の検討が行われてきた。
凹凸の撤しい表面形状を有する砂目は、感光層の摩耗が
比較的少なく、概して高耐刷力でおるものの、感光層の
膜厚が薄い場合、あるいは薄くなった場合、砂目の先端
部が表面に露出し、感脂性が不良となる。特にガム除去
性が不良となる。
比較的少なく、概して高耐刷力でおるものの、感光層の
膜厚が薄い場合、あるいは薄くなった場合、砂目の先端
部が表面に露出し、感脂性が不良となる。特にガム除去
性が不良となる。
一方、凹凸が比較的少なく均一でち密な砂目は、感脂性
は良好であるものの、感光層との接着性に問題がめった
。
は良好であるものの、感光層との接着性に問題がめった
。
本発明の目的は、保水性、親水性、保存安定性、インキ
着肉性及び耐刷性の改良された感光性平版印刷版を提供
することにある。
着肉性及び耐刷性の改良された感光性平版印刷版を提供
することにある。
本発明を概説すれば、本発明は感光性平版印刷版に関す
る発明であって、表向に5〜55Hq/am”の量の陽
極酸化I−を有し、かつ中心線平均粗さ(Ra)がα4
〜0.9μmで、Raの5倍の深さにおけるアボット負
荷曲線による非空隙率が50係以下の粗面を有するアル
ミニウム支持体上に、ジアゾ樹脂と親油性高分子化合物
を主成分とする感光層が10〜40 II9/ (11
111”の量で設けられていることを特徴とする。
る発明であって、表向に5〜55Hq/am”の量の陽
極酸化I−を有し、かつ中心線平均粗さ(Ra)がα4
〜0.9μmで、Raの5倍の深さにおけるアボット負
荷曲線による非空隙率が50係以下の粗面を有するアル
ミニウム支持体上に、ジアゾ樹脂と親油性高分子化合物
を主成分とする感光層が10〜40 II9/ (11
111”の量で設けられていることを特徴とする。
本発明者等は、粗面化され九アルミニウム表面の形状と
陽極酸化層の厚さがある特定の条件を満たし、かつその
感光層がある特定の範囲の膜厚を有するとき、既述の要
求が満足されることを発見して、本発明を完成させた。
陽極酸化層の厚さがある特定の条件を満たし、かつその
感光層がある特定の範囲の膜厚を有するとき、既述の要
求が満足されることを発見して、本発明を完成させた。
以下本発明を説明すると、本発明で使用するアルミニウ
ム支持体としては、純アルずニウムあるいはアルミニウ
ム合金の板又は箔が好適である。アルミニウム合金とし
ては、撞々のものが使用でき、例えばケイ素、鉄、銅、
マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス
、ニッケルなどの金属との合金が用いられる。
ム支持体としては、純アルずニウムあるいはアルミニウ
ム合金の板又は箔が好適である。アルミニウム合金とし
ては、撞々のものが使用でき、例えばケイ素、鉄、銅、
マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス
、ニッケルなどの金属との合金が用いられる。
本発明においてrよ、かかろ支持体は、表面に5〜35
〜Zdm2量の陽極酸化層を有し、かつ、中心線平均粗
さRa が[14〜19μm、好ましくは、α5〜α8
pmで、更に、Raの5倍の深さにおけるアボット負
荷曲線による非空隙率(以下、「アボット負荷特性」と
いう。)が50係以下、好ましくけ、65優以下の粗面
を有する。
〜Zdm2量の陽極酸化層を有し、かつ、中心線平均粗
さRa が[14〜19μm、好ましくは、α5〜α8
pmで、更に、Raの5倍の深さにおけるアボット負
荷曲線による非空隙率(以下、「アボット負荷特性」と
いう。)が50係以下、好ましくけ、65優以下の粗面
を有する。
Ra が0.4pm未満の場合は、刷版の保水性が不十
分となり、印刷時に水の供給量が変動すると、すぐ汚れ
を発生するようになる。[L9μmを越えると、保水性
に良好であるが刷版の網点再・現性が低下する。
分となり、印刷時に水の供給量が変動すると、すぐ汚れ
を発生するようになる。[L9μmを越えると、保水性
に良好であるが刷版の網点再・現性が低下する。
アボット負荷特性は、耐刷力と相関がめシ、この値が小
さい程、粗面化された表面において平たんな部分の密度
が低いことを意味しておシ、^耐刷力のために必須条件
となる。 “これらの点を添付図面で説明する。
さい程、粗面化された表面において平たんな部分の密度
が低いことを意味しておシ、^耐刷力のために必須条件
となる。 “これらの点を添付図面で説明する。
(6〕
第1図及びm2図は、粗面形状とアボット負荷特性との
関係を説明するための模式図であり、(a)及び(1)
)は触針チャートを表わし、(Δ)及び(B) ifア
ボット負荷曲線を表わす。(a)、(b) 、(A)及
びΦ)において、縦軸は粗面の深さを表わす。ま几、(
ム)及び(B)において、横軸は非空隙率を表わす。
関係を説明するための模式図であり、(a)及び(1)
)は触針チャートを表わし、(Δ)及び(B) ifア
ボット負荷曲線を表わす。(a)、(b) 、(A)及
びΦ)において、縦軸は粗面の深さを表わす。ま几、(
ム)及び(B)において、横軸は非空隙率を表わす。
例えば、第1図の(a)に示すような表面に平たん部の
少ない粗面(タイプ1)のアボット負荷曲線は(A)に
示すような曲線となる。他方、第2図の(1+)に示す
ような赤面に平たん部の多い粗面(タイプ2)のアボッ
ト負荷曲線は(′B)に示すような曲線となる。これら
曲線からそれぞれ一定深さでの非空隙率を求めることが
できる。
少ない粗面(タイプ1)のアボット負荷曲線は(A)に
示すような曲線となる。他方、第2図の(1+)に示す
ような赤面に平たん部の多い粗面(タイプ2)のアボッ
ト負荷曲線は(′B)に示すような曲線となる。これら
曲線からそれぞれ一定深さでの非空隙率を求めることが
できる。
例えば、タイプ1では2μmの深さでの非空隙率が25
優程度であり、タイプ2では75%程度であることがわ
かる。
優程度であり、タイプ2では75%程度であることがわ
かる。
アボット負荷曲線は、ドイツ規格り工N 4762−1
’1.2.5に記載された方法に従って求め良ものであ
る。
’1.2.5に記載された方法に従って求め良ものであ
る。
また、本発明の支持体の異面の陽極酸化層の麺は、前記
のように5〜55 rq / dm”であり、8〜S
Oq / am”であるものが耐刷力の観点から好適で
ある。
のように5〜55 rq / dm”であり、8〜S
Oq / am”であるものが耐刷力の観点から好適で
ある。
陽極酸化+mmが5 ml / dm”より少ない場合
に12、非画像部が摩耗しやすく、耐刷力が低下する。
に12、非画像部が摩耗しやすく、耐刷力が低下する。
他方、陽極酸化層量が55 JIv/ dm”を越える
と、陽極酸化処理に要するコストが高くなるに吃かかわ
らず、非画像部の摩耗の程度は、はとんど変らなくなり
、実用的でなくなる。
と、陽極酸化処理に要するコストが高くなるに吃かかわ
らず、非画像部の摩耗の程度は、はとんど変らなくなり
、実用的でなくなる。
上記特性の粗面を有する支持体は研磨処理史には陽極酸
化処理の条件を適宜選択組合せることによって得ること
ができる。
化処理の条件を適宜選択組合せることによって得ること
ができる。
研磨方法としては、ボール研磨、ブラシ研磨、化学研磨
、電解研磨、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法
及びそれらの組合せ等、種々の方法が適用できる。機械
的研磨法において用いられる研磨材としてはアルミナ、
シリコンカーバイド、酸化クロム、ベンガラ、タングス
テンカーバイド、ボロンカーバイド、砂、クイ石、鋼球
等が挙げられる。
、電解研磨、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法
及びそれらの組合せ等、種々の方法が適用できる。機械
的研磨法において用いられる研磨材としてはアルミナ、
シリコンカーバイド、酸化クロム、ベンガラ、タングス
テンカーバイド、ボロンカーバイド、砂、クイ石、鋼球
等が挙げられる。
具体的には、アル1 ニウム合金板(材質1100等)
を1〜10優苛性ソーダ液倉用いて軽く表面処理し、酸
化層や付着した油脂、汚染物等を除去した後、ナイロン
製ブラシ等で上記研時材例えば研磨砂を用いてブラン研
磨し、表向を粗面化する。
を1〜10優苛性ソーダ液倉用いて軽く表面処理し、酸
化層や付着した油脂、汚染物等を除去した後、ナイロン
製ブラシ等で上記研時材例えば研磨砂を用いてブラン研
磨し、表向を粗面化する。
電解によりエツチングする方法としては、塩酸、クエン
酸、硝酸、ホウ酸、シュウ酸又はそれらの混合物のα1
〜10憾の水溶液中で印加電圧10〜100V%電流密
度1〜100ム/c1m”、浴温度10〜50℃、W、
解時間5=3DO秒の範囲から選択する。
酸、硝酸、ホウ酸、シュウ酸又はそれらの混合物のα1
〜10憾の水溶液中で印加電圧10〜100V%電流密
度1〜100ム/c1m”、浴温度10〜50℃、W、
解時間5=3DO秒の範囲から選択する。
特に好ましいのは、硝酸又は塩酸を主成分とする浴であ
る。
る。
研磨処理を行う際には、前もって脱脂、洗浄を行うこと
が望ましい。脱脂処理の例としては、石油系溶剤又はト
リクロロエチレン、パークロロエチレン等の塩素化炭化
水素を使用して汚れを除去する溶剤脱脂、非イオン系界
面活性剤とトリクロロエチレン、ケロシン尋の鹸剤と水
と(9〕 を乳化させた溶液を用いるエマルジョン脱脂、アルカリ
性の薬品ケ含む処理准で煮沸するアルカリ脱脂、電解脱
脂等が挙げら扛る。
が望ましい。脱脂処理の例としては、石油系溶剤又はト
リクロロエチレン、パークロロエチレン等の塩素化炭化
水素を使用して汚れを除去する溶剤脱脂、非イオン系界
面活性剤とトリクロロエチレン、ケロシン尋の鹸剤と水
と(9〕 を乳化させた溶液を用いるエマルジョン脱脂、アルカリ
性の薬品ケ含む処理准で煮沸するアルカリ脱脂、電解脱
脂等が挙げら扛る。
粗面化された基板には、表面にスマットが生成している
ので、酸又はアルカリにより表面をエツチングしてスマ
ット除去を行うことが望ましい。
ので、酸又はアルカリにより表面をエツチングしてスマ
ット除去を行うことが望ましい。
酸としてけ、硫酸、リン酸、フッ酸、硝酸、塩酸等が用
いられる。
いられる。
アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、第5リン酸ナトリウム、第5リン酸カリウム、アルミ
ン酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウ
ムなどが用いら扛る。
、第5リン酸ナトリウム、第5リン酸カリウム、アルミ
ン酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウ
ムなどが用いら扛る。
次いで、アルミニウム板には陽極酸化処理が施される。
陽極酸化処理は、硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸等
の単独又は二棟以上を組合せた水溶液中でアルミニウム
に直流又は交流の電流を流すことによシ行われる。この
時のtlv解液の磯度は1〜70%、液VIA10〜6
5℃、電尚曹度1〜60ム/ (1111”、印加電圧
1〜ILIOV%電解時間10秒〜10分の範囲から選
択する。
の単独又は二棟以上を組合せた水溶液中でアルミニウム
に直流又は交流の電流を流すことによシ行われる。この
時のtlv解液の磯度は1〜70%、液VIA10〜6
5℃、電尚曹度1〜60ム/ (1111”、印加電圧
1〜ILIOV%電解時間10秒〜10分の範囲から選
択する。
特にリン酸又はリン酸を主成分とする111M?l*中
で陽極酸化処理する場合が曳好な結果を4える。例えば
、アル(ニウム板を10〜50電量憾、好壕しくに、2
0〜40電量憾のリン酸を含む水溶液中、又は、かかる
リン酸と全酸中25重量憾以下、好ましくは、101[
警鳴以下の他の酸、例えば、硫酸、V瓢つ版等と0混鈑
を含む水溶液中、浴温10〜5aC1好ましくは、25
〜a5Cで、電訛轡度02〜1oム/d−1好ましくは
、1〜7ム/dがで、10秒〜10分、好ましくは、2
0秒〜5分の範囲で、得られる陽極酸化ノーの平均ボア
径が200〜900ム、好tL<r、+、jiOLJ
〜?00X、%に好ましくは400〜?00Xで、ボア
密度が100〜1,000個/、um”、好着シくに、
100〜500個/μm1、特に好ましくは100〜3
50個/ Pm”となるように陽極酸化処理した(1す ものを使用する。
で陽極酸化処理する場合が曳好な結果を4える。例えば
、アル(ニウム板を10〜50電量憾、好壕しくに、2
0〜40電量憾のリン酸を含む水溶液中、又は、かかる
リン酸と全酸中25重量憾以下、好ましくは、101[
警鳴以下の他の酸、例えば、硫酸、V瓢つ版等と0混鈑
を含む水溶液中、浴温10〜5aC1好ましくは、25
〜a5Cで、電訛轡度02〜1oム/d−1好ましくは
、1〜7ム/dがで、10秒〜10分、好ましくは、2
0秒〜5分の範囲で、得られる陽極酸化ノーの平均ボア
径が200〜900ム、好tL<r、+、jiOLJ
〜?00X、%に好ましくは400〜?00Xで、ボア
密度が100〜1,000個/、um”、好着シくに、
100〜500個/μm1、特に好ましくは100〜3
50個/ Pm”となるように陽極酸化処理した(1す ものを使用する。
陽極酸化されたアルミニウム板は、通常、更に水又は弱
酸又は弱アルカリ水溶液中において、10〜100℃、
10〜600秒の範囲の条件で処理される。その後、親
水化処理が施される。
酸又は弱アルカリ水溶液中において、10〜100℃、
10〜600秒の範囲の条件で処理される。その後、親
水化処理が施される。
親水化処理とじてに熱水封孔やケイ酸ソーダ処理が挙げ
られるが接着性やジアゾ残υ、現像性の点からは、ケイ
酸ソーダ処理が好ましい。
られるが接着性やジアゾ残υ、現像性の点からは、ケイ
酸ソーダ処理が好ましい。
ケイ酸ソーダ処理の条件としては濃度α1〜5係のメタ
ケイ酸ソーダ溶液中に、温度50℃〜95℃で10秒間
〜5分間浸漬して行われる。
ケイ酸ソーダ溶液中に、温度50℃〜95℃で10秒間
〜5分間浸漬して行われる。
好ましくは、その後に60℃〜100℃の水に10秒間
〜5分間浸漬して処理される。 ゛上記支持体上に塗
設する感光層は、親油性高分子化合物とジアゾ樹脂を主
成分としてお9、塗1[fとしては10〜40 ql
/ (1m”、好ましくは10〜30〜/ am”の範
囲から選ばれる。塗膜量が10〜/dが未満であると砂
目の先端部が一部突出し、感脂性が不嵐となう、他方、
40 q / am”超であると感度の低下が著しく、
かつ、現像性も不良となる。
〜5分間浸漬して処理される。 ゛上記支持体上に塗
設する感光層は、親油性高分子化合物とジアゾ樹脂を主
成分としてお9、塗1[fとしては10〜40 ql
/ (1m”、好ましくは10〜30〜/ am”の範
囲から選ばれる。塗膜量が10〜/dが未満であると砂
目の先端部が一部突出し、感脂性が不嵐となう、他方、
40 q / am”超であると感度の低下が著しく、
かつ、現像性も不良となる。
ジアゾ樹脂としては、蓋換又は非置換のp−ジアゾシフ
エールアミンとアルデヒド類との縮合物であって、アニ
オンがpt・又はBF4等のハロゲン化ルイス酸である
ものが好ましく、特に下記一般式Iで示され、かつ数式
におけるnが5以上である樹脂を20モル係以上、好ま
しくti、zo〜60モル係含有するジアゾ樹脂が好ま
しい。
エールアミンとアルデヒド類との縮合物であって、アニ
オンがpt・又はBF4等のハロゲン化ルイス酸である
ものが好ましく、特に下記一般式Iで示され、かつ数式
におけるnが5以上である樹脂を20モル係以上、好ま
しくti、zo〜60モル係含有するジアゾ樹脂が好ま
しい。
(式中 Hl、Hm及びR1は水素、アルキル基又はア
ルコキシ基を示し、Rは水素、アルキル基又はフェニル
基を示し、Xはpv・又はBF4を示し、nは1〜20
0の数を示す) (13] その他、例えば特公昭47−1167号公報又は米国特
詐第3500309号明細書に記載のアニオンが有機酸
であるものも使用することができる。
ルコキシ基を示し、Rは水素、アルキル基又はフェニル
基を示し、Xはpv・又はBF4を示し、nは1〜20
0の数を示す) (13] その他、例えば特公昭47−1167号公報又は米国特
詐第3500309号明細書に記載のアニオンが有機酸
であるものも使用することができる。
親油性高分子化合物としては、保存安定性の点から水酸
基を有する親油性高分子化合物が好適である。この目的
に使用しうる水酸基を有する親油性^分子化合物として
は、例えば、下記の様な水酸基を有するアクリルアミド
類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類又はメ
タクリル酸エステル類等の単量体から誘導される構成単
位を含有する通常2万〜20万の分子量をもつ共重曾体
が挙げられる。
基を有する親油性高分子化合物が好適である。この目的
に使用しうる水酸基を有する親油性^分子化合物として
は、例えば、下記の様な水酸基を有するアクリルアミド
類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類又はメ
タクリル酸エステル類等の単量体から誘導される構成単
位を含有する通常2万〜20万の分子量をもつ共重曾体
が挙げられる。
(1) 芳香族性水酸基を有するモノマー、例えばN
−(4−ヒドロキクフェニル)アクリルアミド又はN−
(4−ヒドロ午シフェニルノメタクリルアミド、o +
、m−、p−ヒドロキVスチレン、O−+”−5P−ヒ
ドロキクフェニル−アクリレート又はメタクリレート(
2)脂肪族水酸基を有する七ツマ−1例えば2−ヒドロ
キ7エチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート 共重合する他のモノマーとしてに、 (1) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等のa、β−不飽和カルボン酸 (2) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル
、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸−2−クロロエナル、2−ヒドロキ7エチルアクリレ
ート、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアイノエ
チルアクリレート尋の([換)アルキルアクリレート (3) メチルメタクリレ−ト、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート
、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
N−ジメチルアミノエテルメタクリレート等の(置換)
アルキルメタクリレート (4) アクリルアミド、メタクリルアイド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−へキフルメタクリ
ルアミド、N−7クロヘキフルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミド、M−二)ロフェニルアクリルアiド、m−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若
しくはメタクリルアミド類 (5) エチルビニルエーテル、2−10ロエテルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、フロビ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類(6) ビニルアセテート、ビニルクロロアセテ
ート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエ
ステル類 (7) スチレン、α−メチルスチレン、メテルスケト
ン、クロロメデルスチレン等のスチレン類 (8) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類 (9) エチレン、プロピレン、インブチレン、ブタ
ジェン、イソプレン等のオレフィン類αOM−ヒニルビ
ロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジ
ン、アクリロニトリル、メタクリレートリル等 が挙げられるが、その他、水酸基を含有するモノマーと
共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定される
ものではない。また、これ以外にも必要に応じて、ボリ
ビ二ルブテラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ボリアイド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂婢を添
加してもよい。
−(4−ヒドロキクフェニル)アクリルアミド又はN−
(4−ヒドロ午シフェニルノメタクリルアミド、o +
、m−、p−ヒドロキVスチレン、O−+”−5P−ヒ
ドロキクフェニル−アクリレート又はメタクリレート(
2)脂肪族水酸基を有する七ツマ−1例えば2−ヒドロ
キ7エチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート 共重合する他のモノマーとしてに、 (1) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等のa、β−不飽和カルボン酸 (2) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル
、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸−2−クロロエナル、2−ヒドロキ7エチルアクリレ
ート、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアイノエ
チルアクリレート尋の([換)アルキルアクリレート (3) メチルメタクリレ−ト、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート
、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
N−ジメチルアミノエテルメタクリレート等の(置換)
アルキルメタクリレート (4) アクリルアミド、メタクリルアイド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−へキフルメタクリ
ルアミド、N−7クロヘキフルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミド、M−二)ロフェニルアクリルアiド、m−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若
しくはメタクリルアミド類 (5) エチルビニルエーテル、2−10ロエテルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、フロビ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類(6) ビニルアセテート、ビニルクロロアセテ
ート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエ
ステル類 (7) スチレン、α−メチルスチレン、メテルスケト
ン、クロロメデルスチレン等のスチレン類 (8) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類 (9) エチレン、プロピレン、インブチレン、ブタ
ジェン、イソプレン等のオレフィン類αOM−ヒニルビ
ロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジ
ン、アクリロニトリル、メタクリレートリル等 が挙げられるが、その他、水酸基を含有するモノマーと
共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定される
ものではない。また、これ以外にも必要に応じて、ボリ
ビ二ルブテラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ボリアイド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂婢を添
加してもよい。
本発明に用いられる水酸基を有する親油性の高分子化合
物は、感光性組成物の固形分中に通常40〜?9重f優
、好ましくは50〜95重1優含有させる。また、ジア
ゾ樹脂は通常1〜60重1%、好ましくは5〜30重i
!L%含有させる。
物は、感光性組成物の固形分中に通常40〜?9重f優
、好ましくは50〜95重1優含有させる。また、ジア
ゾ樹脂は通常1〜60重1%、好ましくは5〜30重i
!L%含有させる。
本発明の感光性組成物には、更に性能を向上させるため
に以下に示した種々の公知の添加剤を加えることができ
る。
に以下に示した種々の公知の添加剤を加えることができ
る。
(1) 画像を可視画化することを目的とした染料(
2)塗布性を改良するためのフッ素系界面活性剤やアル
キルエーテル類 (3) 塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可
塑剤 (4) 感脂化剤 (5) 安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対しα01〜SO重
量係である。
2)塗布性を改良するためのフッ素系界面活性剤やアル
キルエーテル類 (3) 塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可
塑剤 (4) 感脂化剤 (5) 安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対しα01〜SO重
量係である。
本発明に係る感光性平版印刷版の現像処理に用いられる
現像液は公知のいずれのものであっても良いが、好まし
くは以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印
刷版を現像する現像液は、水、あるいは特定の有機溶媒
及び/又はアルカリ剤を含む水溶液が挙げられる。ここ
に特定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき上述
の感光性組成物層の非認光部(非画像部)を溶解又は膨
潤することができ、しかも常温(20℃)において水に
対する溶解度が10重重量風下の有機溶媒をいう。この
ような有機溶媒としては上記のような特性を有するもの
であ)さえすればよく、以下のもののみに限定されるも
のではないが、これらを例示するならば、例えば酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベ
ンジル、エチレングリコールモノプテルア七テート、乳
酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン飲エステ
ル:エデルプチルクトン、メチルイソブチルケトン、フ
クロヘキサノンのよりなケトン類;エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールベンジルエー
テル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベン
ジルアルコール、メチルフェニルカルビノール、n−7
(ルアルコール、メチルアミルアルコール(Dj うe
フル:2一ル類;キクレンのようなアルキル置換芳香族
炭化水累;メチレンジクロライド、エチレンジクロライ
ド、モノクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素な
どがある。これら有機溶媒は一種以上用いてもよい。こ
れら有機溶媒の中でt−I xfレンクリコールモノフ
ェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有効である
。また、これら有機溶媒の現像液中における含有量はお
おむね1〜20重11憾でらシ、特に2〜10重it憾
のときより好ましい結果を得る。
現像液は公知のいずれのものであっても良いが、好まし
くは以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印
刷版を現像する現像液は、水、あるいは特定の有機溶媒
及び/又はアルカリ剤を含む水溶液が挙げられる。ここ
に特定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき上述
の感光性組成物層の非認光部(非画像部)を溶解又は膨
潤することができ、しかも常温(20℃)において水に
対する溶解度が10重重量風下の有機溶媒をいう。この
ような有機溶媒としては上記のような特性を有するもの
であ)さえすればよく、以下のもののみに限定されるも
のではないが、これらを例示するならば、例えば酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベ
ンジル、エチレングリコールモノプテルア七テート、乳
酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン飲エステ
ル:エデルプチルクトン、メチルイソブチルケトン、フ
クロヘキサノンのよりなケトン類;エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールベンジルエー
テル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベン
ジルアルコール、メチルフェニルカルビノール、n−7
(ルアルコール、メチルアミルアルコール(Dj うe
フル:2一ル類;キクレンのようなアルキル置換芳香族
炭化水累;メチレンジクロライド、エチレンジクロライ
ド、モノクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素な
どがある。これら有機溶媒は一種以上用いてもよい。こ
れら有機溶媒の中でt−I xfレンクリコールモノフ
ェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有効である
。また、これら有機溶媒の現像液中における含有量はお
おむね1〜20重11憾でらシ、特に2〜10重it憾
のときより好ましい結果を得る。
他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、
(ム) ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は
第二リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤 CB) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又
はトリエチルアミン、モノ又はジイソプロビルアミン、
n−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノ−ルア(ン
、モノ、ジ又はトリイソプロパノ−ルアずン、エチレン
イミン、エチレンジアミン等の有機アミン化合動勢が挙
げられる。
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は
第二リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤 CB) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又
はトリエチルアミン、モノ又はジイソプロビルアミン、
n−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノ−ルア(ン
、モノ、ジ又はトリイソプロパノ−ルアずン、エチレン
イミン、エチレンジアミン等の有機アミン化合動勢が挙
げられる。
これらアルカリ剤の現像液中におけろ含有蓋は通常α0
5〜4重量僑で、好ましくは15〜2重量係である。
5〜4重量僑で、好ましくは15〜2重量係である。
また、保存安定性、耐刷性等をよ如以上に高めるために
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現俸液
組成物における含有量は通常α口5〜4重量僑で、好ま
しくはa1〜1重量優である。
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現俸液
組成物における含有量は通常α口5〜4重量僑で、好ま
しくはa1〜1重量優である。
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所(21〕 期の効果を実現するため、用いる有機溶媒よシ水易溶性
で、低分子のアルコール、ケトン類を用いるのがよい。
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所(21〕 期の効果を実現するため、用いる有機溶媒よシ水易溶性
で、低分子のアルコール、ケトン類を用いるのがよい。
また、アニオン活性剤、両性活性剤等も用いることがで
きる。このようなアルコール、ケトン類としては、例え
ばメタノール、エタノール、フロパノール、フタノール
、アセトン、メチルエチルケトン、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエテルエ
ーテル、メトキシブタノール、エトキシブタノール、4
−メトキシ−4−メチルブタノール、N−メチルピロリ
ドン等を用いることが好ましい。また、活性剤としては
例えばイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、
n−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−メチ
ル−N−ベンタデノルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリル
サルフェートナトリウム塩尋が好ましい。これらアルコ
ール、ケトン類等の可溶化剤の使用量については特に制
限はないが、一般に現像液全体に対し約SO重量憾以下
とすることが好ましい。
きる。このようなアルコール、ケトン類としては、例え
ばメタノール、エタノール、フロパノール、フタノール
、アセトン、メチルエチルケトン、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエテルエ
ーテル、メトキシブタノール、エトキシブタノール、4
−メトキシ−4−メチルブタノール、N−メチルピロリ
ドン等を用いることが好ましい。また、活性剤としては
例えばイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、
n−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−メチ
ル−N−ベンタデノルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリル
サルフェートナトリウム塩尋が好ましい。これらアルコ
ール、ケトン類等の可溶化剤の使用量については特に制
限はないが、一般に現像液全体に対し約SO重量憾以下
とすることが好ましい。
本発明に係る感光性平版印刷版は、像様露光した後、上
述の現像液に接触させたり、あるいはこすったりすれば
、おおむね常温〜40℃にて10〜60秒後には、感光
性組成物層の露光部に悪影譬を及ぼすことなく、非露光
部の感光性組成物が完全に除去されることになる。
述の現像液に接触させたり、あるいはこすったりすれば
、おおむね常温〜40℃にて10〜60秒後には、感光
性組成物層の露光部に悪影譬を及ぼすことなく、非露光
部の感光性組成物が完全に除去されることになる。
以下、本発明で使用する砂目、ジアゾ樹脂及びポリマー
の製造例を示す。
の製造例を示す。
(砂目の製造〕
研磨条件、陽極酸化処理条件の異なる9種類のアルミニ
ウム支持体を製造し友。それらの製造条件と得られた砂
目の形状について下記表1に示した。
ウム支持体を製造し友。それらの製造条件と得られた砂
目の形状について下記表1に示した。
番号1〜6はブラシ研磨品であシ、番号4〜7及び9は
、塩酸あるいは硝酸を主体とする浴組成において電解エ
ツチングを行ったものである。番号8はブラフ研磨後、
硝酸浴において電解エツチングを行ったものである。
、塩酸あるいは硝酸を主体とする浴組成において電解エ
ツチングを行ったものである。番号8はブラフ研磨後、
硝酸浴において電解エツチングを行ったものである。
なお、すべての砂目は、研磨、陽極酸化処理後、1%の
メタケイ酸ソーダ溶液中に、85℃で3分間浸漬してケ
イ酸ソーダ処理を行い、引続き90℃の熱水に2分間浸
漬した。
メタケイ酸ソーダ溶液中に、85℃で3分間浸漬してケ
イ酸ソーダ処理を行い、引続き90℃の熱水に2分間浸
漬した。
Ra 及びアボット負荷特性の測定1よ触針タイプのパ
ーツメーター[RTK−50、パーセン(PIIDRT
HEll )社製〕を用いて行った。
ーツメーター[RTK−50、パーセン(PIIDRT
HEll )社製〕を用いて行った。
(ポリマー1の合成)
N−(4−ヒドロdt7フエニル)メタクリルアずド1
[LOf、アクリロニトリル25v1エテルアクリレ−
) 40 t、メタクリル酸5v及びアゾビスイソブチ
ロニトリル1.642 f fアセトン−メタノール1
:1混合溶媒112−に溶解し、窒素置換した後6O℃
で8時間加熱した。
[LOf、アクリロニトリル25v1エテルアクリレ−
) 40 t、メタクリル酸5v及びアゾビスイソブチ
ロニトリル1.642 f fアセトン−メタノール1
:1混合溶媒112−に溶解し、窒素置換した後6O℃
で8時間加熱した。
反応終了後反応液を水5を中にかくはん下注ぎ、生じた
白色沈殿をp取乾燥してポリマー1を9Of得た。
白色沈殿をp取乾燥してポリマー1を9Of得た。
このポリマーをゲルバーイエ−ジョンクロマトグラフィ
ー(以下GPOと略記する)により分子量の測定をした
ところ、重量平均分子lIkはa5万でめった。
ー(以下GPOと略記する)により分子量の測定をした
ところ、重量平均分子lIkはa5万でめった。
(ポリマー2の合成]
2−ヒドロキシエチルメタクリレ−) 45 f。
アクリロニトリル10v、エチルメタクリレ−)45t
、/)クリル1!112vと1.2tの過酸化ベンゾイ
ルの混合液を、100℃に加熱した工チレングリコール
モノメテルエーテル300vに2時間かけて滴下した。
、/)クリル1!112vと1.2tの過酸化ベンゾイ
ルの混合液を、100℃に加熱した工チレングリコール
モノメテルエーテル300vに2時間かけて滴下した。
滴下終了後エチレングリコールモノメチルエーテル30
0vと過酸化ベンゾイルa、5?を加えてその′1ま4
時間反応させた。反応終了後メタノールで希釈して水5
を中にかくはん下注ぎ生じた白色沈殿をp取乾燥してポ
リマー2を959得た。
0vと過酸化ベンゾイルa、5?を加えてその′1ま4
時間反応させた。反応終了後メタノールで希釈して水5
を中にかくはん下注ぎ生じた白色沈殿をp取乾燥してポ
リマー2を959得た。
このポリマーをGPOによシ分子量の測定をしたところ
、重量平均分子量は&5万であった。
、重量平均分子量は&5万であった。
(ポリマー5の合成)
メタクリル酸メチル60f1アクリロニトリル50t1
メタクリル酸10を及びアゾビスイソブチロニトリル1
.52をメテルセロンルプ200tにW1解し、窒素を
通じなからaOCにおいて4時間重合させた。この反応
混合物を5tの水中に滴下し、生じた白色沈殿をP取乾
燥してポリマー3を701得た。
メタクリル酸10を及びアゾビスイソブチロニトリル1
.52をメテルセロンルプ200tにW1解し、窒素を
通じなからaOCにおいて4時間重合させた。この反応
混合物を5tの水中に滴下し、生じた白色沈殿をP取乾
燥してポリマー3を701得た。
このポリマーをGPOによシ分子量の測定をした所、重
量平均分子fは6万であった。
量平均分子fは6万であった。
(ポリマー4の合成)
2−ヒドロキシエチルメタクリレ−) 45 t。
アクリロニトリル20V、メチルメタクリレ−) 50
f、メタクリル酸5tをポリマー5の合成例と同様な
方法で重合させポリマー4を得た。
f、メタクリル酸5tをポリマー5の合成例と同様な
方法で重合させポリマー4を得た。
このポリマーをGPOによシ分子量の測定をした所、重
量平均分子1は&5万でめった。
量平均分子1は&5万でめった。
(ジアゾ樹脂−1の合成〕
p−ジアゾジフェニルアインfI&酸塩14.5 f(
50ミIJモル)を氷冷下でa!ltpttvm4mm
に溶解した。この反応液に1.2 F (40ミリモル
]のバラホルムアルデヒドをゆっくり滴下した。この際
、反応温度が10℃を超えないように添加していつ九。
50ミIJモル)を氷冷下でa!ltpttvm4mm
に溶解した。この反応液に1.2 F (40ミリモル
]のバラホルムアルデヒドをゆっくり滴下した。この際
、反応温度が10℃を超えないように添加していつ九。
その後、2時間水冷下かくはんを続けた。
この反応混合物を水冷下、500−のエタノールに滴下
し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄後、この
沈殿物を100−の純水に溶解し、この液に五8tの塩
化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を
濾過した後エタノールで洗浄し、これを150dの純水
に溶解した。この液に81のへキサフルオロリン酸アン
モニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加え九。生じた沈殿
を戸数し水洗した後、3oc。
し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄後、この
沈殿物を100−の純水に溶解し、この液に五8tの塩
化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を
濾過した後エタノールで洗浄し、これを150dの純水
に溶解した。この液に81のへキサフルオロリン酸アン
モニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加え九。生じた沈殿
を戸数し水洗した後、3oc。
1昼夜乾燥してジアゾ樹脂−1を得た。
とのジアゾ樹脂−1をGPOにより分子量の測定をした
ところ、5量体以上が約55モル係含まれていた。
ところ、5量体以上が約55モル係含まれていた。
(ジアゾ樹脂−2の合成)
ジアゾ樹脂−1と同様にし合成し、最後のへキサフルオ
ロリン酸アンモニウムの代シに2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−ベンゾフェノン−5−スルホン酸15Fを溶解
した水溶液で処理しジアゾ樹脂−2を得几。
ロリン酸アンモニウムの代シに2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−ベンゾフェノン−5−スルホン酸15Fを溶解
した水溶液で処理しジアゾ樹脂−2を得几。
とのジアゾ樹脂−2をGPOにより測定したところ、5
.It体以上が約s2モル係含まれていた。
.It体以上が約s2モル係含まれていた。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1〜5、比較例1〜3
上記製造例で得た砂目1〜8に次のような組成を有する
感光液−1をホワラーを用いて塗布した。その後85℃
の温度でS分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。塗布l
は乾燥重量で2.0y / m*であった。
感光液−1をホワラーを用いて塗布した。その後85℃
の温度でS分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。塗布l
は乾燥重量で2.0y / m*であった。
(感光液−1〕
得られた感光性平版印刷版をS KW の超高圧水銀
灯で60car(D距離から30秒間繕光重、現像液−
1で現像し、平版印刷版を得た。
灯で60car(D距離から30秒間繕光重、現像液−
1で現像し、平版印刷版を得た。
(現像液−1)
得られた平版印刷版の感度、耐刷力を測定した。その結
果を表2に示し喪。
果を表2に示し喪。
なお、耐刷力は枚葉オフセット印刷機で上質紙に印刷し
、平網のカスレあるいは着肉不良が起こった枚数を耐刷
力とした。
、平網のカスレあるいは着肉不良が起こった枚数を耐刷
力とした。
表2から本発明による印刷版が高耐刷力であることがわ
かった。
かった。
陽極酸化電解液としてリン酸を使用した砂目1及び2は
、50万枚刷了時の版のヤラレ具合から判断する限り、
特に高耐刷力であった。
、50万枚刷了時の版のヤラレ具合から判断する限り、
特に高耐刷力であった。
保存安定性を検討するために、実施例1及び20版を、
40℃、RH80係の恒温1■湿条件下に5日間放置し
、現像液−1で現像し、印刷機にかけたところ汚れがな
く、画像再現性が嵐好な画像が得られた。
40℃、RH80係の恒温1■湿条件下に5日間放置し
、現像液−1で現像し、印刷機にかけたところ汚れがな
く、画像再現性が嵐好な画像が得られた。
実施例番、比較例4
上記製造例で得九砂目−2に次のような組成を有する感
光液−2をホワラーを用いて塗布した。その後85℃の
温度で3分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。塗布量は
乾燥重量で21]jy/dが(実施例6)とaw/am
諺(比較例4)02つを得た。
光液−2をホワラーを用いて塗布した。その後85℃の
温度で3分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。塗布量は
乾燥重量で21]jy/dが(実施例6)とaw/am
諺(比較例4)02つを得た。
(感光液−2)
得られた感光性平版印刷版を3 KW の超高圧水銀灯
で602距離から50秒間露光し、現像液−1で現像し
、平版印刷版を得た。
で602距離から50秒間露光し、現像液−1で現像し
、平版印刷版を得た。
得られ九平版印刷版をオフセット印刷機(ローランド社
製、パルパRP−1)にかけて、初期着肉性を比較した
。結果を表3に示す。
製、パルパRP−1)にかけて、初期着肉性を比較した
。結果を表3に示す。
表 5
(S4)
塗膜量がa xg / a−の版は、特に刷り込ん疋時
、不良であることがわかる。
、不良であることがわかる。
実施例7及び8、比較例5
上記製造例で得た砂目−1に次のような組成を有する感
光液−5,4,5をホワラーを用いて塗布した。その後
85℃の温度でS分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。
光液−5,4,5をホワラーを用いて塗布した。その後
85℃の温度でS分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。
塗布量は乾燥重量で14 my / am”であツタ。
感度、耐刷力、保存安定性を測定し、その結果を表4に
示した。
示した。
(感光液−3,4,5〕
表 4
肴保存安定性Hagc、uH9111g6 1日後の汚
れ実施例9 上記製造例で得九砂目−9に次のような組成を有する感
光液−6をホヮラーを用いて塗布し喪。その後85℃の
温度で1分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。箪布量は
乾燥重量で2.0t/*lであった。
れ実施例9 上記製造例で得九砂目−9に次のような組成を有する感
光液−6をホヮラーを用いて塗布し喪。その後85℃の
温度で1分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。箪布量は
乾燥重量で2.0t/*lであった。
(易)
(感光液−6)
40℃、Ru2O優で3日保存後、露光、現像し、枚葉
オフセット印刷機にかけ上質紙に印刷したが、汚れは発
生せず、30万枚以上の耐刷力を示した。
オフセット印刷機にかけ上質紙に印刷したが、汚れは発
生せず、30万枚以上の耐刷力を示した。
以上説明し九ように、本発明によれば、特定の厚さの陽
極酸化層と特定の粗面を有するアルミニウム支持体上に
、感光層を特定の厚さに設けることによって、保水性、
親水性に侵れ、保存安定性が良好で、かつインキ着肉性
、耐刷性が優れた感光性平版印刷版を提供することがで
きるという顕著な効果が奏せられる。
極酸化層と特定の粗面を有するアルミニウム支持体上に
、感光層を特定の厚さに設けることによって、保水性、
親水性に侵れ、保存安定性が良好で、かつインキ着肉性
、耐刷性が優れた感光性平版印刷版を提供することがで
きるという顕著な効果が奏せられる。
第1図及び第2図は、本発明における粗面形状とアボッ
ト負荷特性との関係を説明するための模式図である。
ト負荷特性との関係を説明するための模式図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、表面に5〜35mg/dm^2の量の陽極酸化層を
有し、かつ中心線平均粗さ(Ra)が0.4〜0.9μ
mで、Raの3倍の深さにおけるアボツト負荷曲線によ
る非空隙率が50%以下の粗面を有するアルミニウム支
持体上に、ジアゾ樹脂と親油性高分子化合物を主成分と
する感光層が10〜40mg/dm^2の量で設けられ
ていることを特徴とする感光性平版印刷版。 2、該親油性高分子化合物が、水酸基を有するアクリル
アミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類
及びメタクリル酸エステル類よりなる群から選択した少
なくとも1種の単量体から誘導される構成単位を含有す
るものである特許請求の範囲1項記載の感光 性平版印刷版。 3、該ジアゾ樹脂が、置換又は非置換のp‐ジフェニル
アミンとアルデヒド類との縮合物で、そのアニオンがP
F_6又はBF_4である特許請求の範囲第1項記載の
感光性平版印刷版。 4、該ジアゾ樹脂が、下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R^1、R^2及びR^3は水素原子、アルキ
ル基又はアルコキシ基を示し、Rは水素原子、アルキル
基又はフェニル基を示し、XはPF_6又はBF_4示
し、nは1〜200の数を示す)で表わされ、かつ、該
式におけるnが5以上である樹脂を20モル%以上含有
するものである特許請求の範囲第1項記載の感光性平版
印刷版。 5、該陽極酸化層が、リン酸又はリン酸を主成分とする
電解液中で陽極酸化処理して得られる平均ボア径が20
0〜900Åで、ボア密度が100〜1000個/μm
^2陽極酸化層である特許請求の範囲第1項記載の感光
性平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60234512A JPH0773953B2 (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | 感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60234512A JPH0773953B2 (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | 感光性平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6294391A true JPS6294391A (ja) | 1987-04-30 |
| JPH0773953B2 JPH0773953B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=16972183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60234512A Expired - Lifetime JPH0773953B2 (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0773953B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2063631A (en) * | 1932-05-23 | 1936-12-08 | Kalle & Co Ag | Diazo compounds and a process of preparing them |
| JPS50124705A (ja) * | 1974-03-13 | 1975-10-01 | ||
| JPS59182967A (ja) * | 1983-02-14 | 1984-10-17 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフト | アルミニウムまたはその合金からなるオフセット印刷版用支持材料および該材料の製法 |
| JPS608091A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性平版印刷版の製造方法 |
-
1985
- 1985-10-22 JP JP60234512A patent/JPH0773953B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2063631A (en) * | 1932-05-23 | 1936-12-08 | Kalle & Co Ag | Diazo compounds and a process of preparing them |
| JPS50124705A (ja) * | 1974-03-13 | 1975-10-01 | ||
| JPS59182967A (ja) * | 1983-02-14 | 1984-10-17 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフト | アルミニウムまたはその合金からなるオフセット印刷版用支持材料および該材料の製法 |
| JPS608091A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性平版印刷版の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0773953B2 (ja) | 1995-08-09 |
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |