JPS6271961A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 67
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 31
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 14
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 14
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 7
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- -1 calclum Chemical compound 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 5
- NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C=C NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 3
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C(C)=C HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYGWQJQDFKYKDP-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-n-phenylbutanamide Chemical compound CCC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1 HYGWQJQDFKYKDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical compound CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMNZROFMBSUMAB-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxybutan-1-ol Chemical compound CCCC(O)OCC HMNZROFMBSUMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REARGOUCOBYKTJ-UHFFFAOYSA-N 1-fluorohexan-2-one Chemical compound CCCCC(=O)CF REARGOUCOBYKTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-2-ol Chemical compound CC(O)COC1=CC=CC=C1 IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 2-butylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCC)=CC=C21 BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxyethanol Chemical compound OCCOCC1=CC=CC=C1 CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSWHSYHYMTVSEL-UHFFFAOYSA-N 4-methoxypentan-1-ol Chemical compound COC(C)CCCO FSWHSYHYMTVSEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N Butyl levulinate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(C)=O ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEBIKDIMAPSUBY-ARYZWOCPSA-N Crocin Chemical compound C([C@H]1O[C@H]([C@@H]([C@@H](O)[C@@H]1O)O)OC(=O)C(C)=CC=CC(C)=C\C=C\C=C(/C)\C=C\C=C(C)C(=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO[C@H]2[C@@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)O1)O)O[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O SEBIKDIMAPSUBY-ARYZWOCPSA-N 0.000 description 1
- SEBIKDIMAPSUBY-JAUCNNNOSA-N Crocin Natural products CC(=C/C=C/C=C(C)/C=C/C=C(C)/C(=O)OC1OC(COC2OC(CO)C(O)C(O)C2O)C(O)C(O)C1O)C=CC=C(/C)C(=O)OC3OC(COC4OC(CO)C(O)C(O)C4O)C(O)C(O)C3O SEBIKDIMAPSUBY-JAUCNNNOSA-N 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010016807 Fluid retention Diseases 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzylalcohol Natural products CC1=CC=CC=C1CO XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CCCCOC(C)=O HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005460 butyl levulinate Drugs 0.000 description 1
- UDHMTPILEWBIQI-UHFFFAOYSA-N butyl naphthalene-1-sulfonate;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OCCCC)=CC=CC2=C1 UDHMTPILEWBIQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- JESHZQPNPCJVNG-UHFFFAOYSA-L magnesium;sulfite Chemical compound [Mg+2].[O-]S([O-])=O JESHZQPNPCJVNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- PJASPDPXLKIZHB-UHFFFAOYSA-N n-(3-nitrophenyl)prop-2-enamide Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(NC(=O)C=C)=C1 PJASPDPXLKIZHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C(C)=C FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATGAWOHQWWULNK-UHFFFAOYSA-I pentapotassium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O ATGAWOHQWWULNK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- SONHXMAHPHADTF-UHFFFAOYSA-M sodium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [Na+].CC(=C)C([O-])=O SONHXMAHPHADTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FGDMJJQHQDFUCP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=CC2=C(S([O-])(=O)=O)C(C(C)C)=CC=C21 FGDMJJQHQDFUCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光性平版印刷版に関するものであり、更に
詳しくは特定の方法で砂目立てしたアルミニウム板と、
該アルミニウム板に良好なる適応性を有する感光性組成
物との好ましい組合せによる、良好な印刷性能を有する
感光性平版印刷版に関する。
詳しくは特定の方法で砂目立てしたアルミニウム板と、
該アルミニウム板に良好なる適応性を有する感光性組成
物との好ましい組合せによる、良好な印刷性能を有する
感光性平版印刷版に関する。
平版印刷法は、平面上に親水性部と親油性部を設け、こ
れに同時に水とイン中を供給し、親水性部に水を親油性
部にインキを受容させ九〇ち、紙にインキを転写して印
刷を行う方法である。このように親水性部と親油性部の
パターンを形成させる方法としては、通常親水性表面を
有する支持体上に親油性の感光性組成物を設層して感光
層を形成し、これに透明フィルム原画を密着させて露光
しfC後、露光部分あるいは非露光部分を溶解除去する
いわゆる4真製版法が一般的に行われている。かくして
得られた平版印刷版の印刷性能は、非画像部となる支持
体表面の性質及び画像部となる感光層皮膜の性質によシ
大きく左右され、これらの選択が適当でない場合には、
例えば次のような不都合な現象を生ずる。すなわち、支
持体表面の親水性あるいは保水性が不十分な場合には印
刷時の湿し水のコントロールが難かしく、供給が少なく
なると非画像部にインキが着肉する地汚れ現象が起った
シ、多くなるとインキ濃度が低下したりして、印刷作業
がやり難いという欠点を生ずる。
れに同時に水とイン中を供給し、親水性部に水を親油性
部にインキを受容させ九〇ち、紙にインキを転写して印
刷を行う方法である。このように親水性部と親油性部の
パターンを形成させる方法としては、通常親水性表面を
有する支持体上に親油性の感光性組成物を設層して感光
層を形成し、これに透明フィルム原画を密着させて露光
しfC後、露光部分あるいは非露光部分を溶解除去する
いわゆる4真製版法が一般的に行われている。かくして
得られた平版印刷版の印刷性能は、非画像部となる支持
体表面の性質及び画像部となる感光層皮膜の性質によシ
大きく左右され、これらの選択が適当でない場合には、
例えば次のような不都合な現象を生ずる。すなわち、支
持体表面の親水性あるいは保水性が不十分な場合には印
刷時の湿し水のコントロールが難かしく、供給が少なく
なると非画像部にインキが着肉する地汚れ現象が起った
シ、多くなるとインキ濃度が低下したりして、印刷作業
がやり難いという欠点を生ずる。
また、感光層皮膜の親油性が不十分な場合は印刷インキ
の皮、膜への着肉、したがって印刷紙へのインキの転移
が良好に行われず、濃度の低い印刷物が得られる。更に
、支持体表面、感光層皮膜の化学的あるいは物理的強度
が不十分な場合及び支持体と感光層との接着性が不十分
な場合等においては、多部数の印刷により表面が損傷し
、支持体表面が損傷する場合には地汚れ現象が生じ、他
方感光層皮膜が損傷あるいははく離する場合には印刷イ
ン中の転移が行われなくなって、事実上印刷版としての
価値を失うことになり、耐刷力の小さい印刷版となる。
の皮、膜への着肉、したがって印刷紙へのインキの転移
が良好に行われず、濃度の低い印刷物が得られる。更に
、支持体表面、感光層皮膜の化学的あるいは物理的強度
が不十分な場合及び支持体と感光層との接着性が不十分
な場合等においては、多部数の印刷により表面が損傷し
、支持体表面が損傷する場合には地汚れ現象が生じ、他
方感光層皮膜が損傷あるいははく離する場合には印刷イ
ン中の転移が行われなくなって、事実上印刷版としての
価値を失うことになり、耐刷力の小さい印刷版となる。
したがって前述のごとく、良好な印刷性能を有する感光
性平版印刷版を得るには、支持体及び感光性組成物の選
択に当って、両者の特性のみならず、両者の組合せにお
ける特性をも考慝する必要がある。
性平版印刷版を得るには、支持体及び感光性組成物の選
択に当って、両者の特性のみならず、両者の組合せにお
ける特性をも考慝する必要がある。
感光性平版印刷版の支持体として用いられるアルミニウ
ム@はボールグレイン、ワイヤーグレイン、ブラフグレ
インあるいはホーニンググレインなどの機械的粗面化法
又は電解グレインなどと称されている電気化学的粗面化
法、あるいは化学的粗面化方法更にはこれらの各種粗面
化方法の2つ以上を組合せ友方法にょシ粗面化され、次
いで、親水性及び表面の機械的強度を向上させるため、
硫酸、リン酸等の水溶液中で陽極酸化処理され、感光性
平版印刷版の支持体として用いられる。
ム@はボールグレイン、ワイヤーグレイン、ブラフグレ
インあるいはホーニンググレインなどの機械的粗面化法
又は電解グレインなどと称されている電気化学的粗面化
法、あるいは化学的粗面化方法更にはこれらの各種粗面
化方法の2つ以上を組合せ友方法にょシ粗面化され、次
いで、親水性及び表面の機械的強度を向上させるため、
硫酸、リン酸等の水溶液中で陽極酸化処理され、感光性
平版印刷版の支持体として用いられる。
感光性平版印刷版に用いられるアルミニウム板は、前記
の粗面化方法と陽極酸化処理方法の組合せによシ、印刷
版に適した砂目を有するものが製造される。
の粗面化方法と陽極酸化処理方法の組合せによシ、印刷
版に適した砂目を有するものが製造される。
従来、コスト面、砂目の均一性、印刷性能面において、
特に重大な欠点がないことから、ジアゾ樹脂と親油性高
分子化合物を主成分とする感光性組成物を塗設するアル
ミニウム支持体は、一般に(1)ブラシグレイン→硫酸
中で陽極酸化、(2)ブラシグレイン−リン酸中陽極酸
化、(3)電解グレイン→硫酸中陽極酸化によシ製造さ
れていた。
特に重大な欠点がないことから、ジアゾ樹脂と親油性高
分子化合物を主成分とする感光性組成物を塗設するアル
ミニウム支持体は、一般に(1)ブラシグレイン→硫酸
中で陽極酸化、(2)ブラシグレイン−リン酸中陽極酸
化、(3)電解グレイン→硫酸中陽極酸化によシ製造さ
れていた。
しかし、(1)の方法は、粗面化が不均一であるばかシ
でなく、印刷版として、汚れを生じ易く、耐刷力も小さ
い。(2)の方法は耐刷力は大であるが、印刷時汚れが
生じ易い、(3)の方法は、地汚れは生じ離いが、耐刷
力が小さい、という傾向がある。
でなく、印刷版として、汚れを生じ易く、耐刷力も小さ
い。(2)の方法は耐刷力は大であるが、印刷時汚れが
生じ易い、(3)の方法は、地汚れは生じ離いが、耐刷
力が小さい、という傾向がある。
また上記のごとき欠点の一部を改良する目的で、米国特
許2.344.510号明細畳、特開昭53−1252
04号、同53−145701号、同54−63902
号各公報等において、ブラシグレイン又はワイヤーグレ
インと電解グレインとの複合粗面化法が、更に特開昭6
0−19593号公報において、ホーニンググレインと
電解グレインとの複合粗面化法が開示されている。
許2.344.510号明細畳、特開昭53−1252
04号、同53−145701号、同54−63902
号各公報等において、ブラシグレイン又はワイヤーグレ
インと電解グレインとの複合粗面化法が、更に特開昭6
0−19593号公報において、ホーニンググレインと
電解グレインとの複合粗面化法が開示されている。
C発明が解決しようとする問題点〕
しかし、上記の欠点を解消し、耐刷力及び印刷時の汚れ
難さの両者を十分満足する感光性平版印刷版は、支持体
の改良のみでは得られていないのが現状である。
難さの両者を十分満足する感光性平版印刷版は、支持体
の改良のみでは得られていないのが現状である。
本発明の目的は、印刷時に湿し水供給のコントロールの
容易な、したがって印刷作業がし易い感光性平版印刷版
を提供することにある。
容易な、したがって印刷作業がし易い感光性平版印刷版
を提供することにある。
本発明の他の目的は、印刷時に地汚れが生じ難く、かつ
耐刷力が極めて大なる感光性平版印刷版を提供すること
にある。
耐刷力が極めて大なる感光性平版印刷版を提供すること
にある。
本発明を概説すれば、本発明は感光性平版印刷版に関す
る発明でろって、表面を機械的に粗面化することKよ!
Oi1次砂目全砂目し、塩酸及び/又は硝酸を含有する
電解液中で電気化学的に第2次砂目を形成したのち、リ
ン酸(塩)又はリン酸(塩〕を主成分とする電解液中で
陽極酸化処理して得られるアルミニウム板上に、水酸基
を有し、かつ南側が10〜200の親油性高分子化合物
とジアゾ樹脂とを主成分とする感光性組成物を塗設した
ものであることを特徴とする。
る発明でろって、表面を機械的に粗面化することKよ!
Oi1次砂目全砂目し、塩酸及び/又は硝酸を含有する
電解液中で電気化学的に第2次砂目を形成したのち、リ
ン酸(塩)又はリン酸(塩〕を主成分とする電解液中で
陽極酸化処理して得られるアルミニウム板上に、水酸基
を有し、かつ南側が10〜200の親油性高分子化合物
とジアゾ樹脂とを主成分とする感光性組成物を塗設した
ものであることを特徴とする。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に用いられるアルミニウム板の素材としては、純
アルミニウムのほかアルミニウム合金があ夛、後者は、
ケイ素、鉄、銅、亜鉛、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、ビスマス、カルクラム、インジウム、ガリウム、ホ
ウ素、ニッ°ケルなどの微量を含むものでもよいがいず
れにしてもアルミニウムの純度が95%以上であるもの
が好ましい。
アルミニウムのほかアルミニウム合金があ夛、後者は、
ケイ素、鉄、銅、亜鉛、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、ビスマス、カルクラム、インジウム、ガリウム、ホ
ウ素、ニッ°ケルなどの微量を含むものでもよいがいず
れにしてもアルミニウムの純度が95%以上であるもの
が好ましい。
このようなアルミニウム板は、平版印刷版として、印刷
機に装着された場合に必要な強度、耐力、伸び等の関係
から、実用的には0.1〜1l11.5飄であシ、適宜
選択される。
機に装着された場合に必要な強度、耐力、伸び等の関係
から、実用的には0.1〜1l11.5飄であシ、適宜
選択される。
本発明のアルミニウム支持体は、上記のアルミニウム板
の表面にボールグレイニング法、ワイヤーダレイニング
法、ブラシグレイニング法あるいは液体ホーニング法等
の機械的粗面化法によって第1次砂目を形成し、塩酸、
硝酸又はこれらの組合せからなる電解液中で電気化学的
に第2次砂目を形成したのち、リン酸(塩)又はリン酸
(塩)を主成分とする電解液中で陽極酸化処理されるこ
とによって製造される。
の表面にボールグレイニング法、ワイヤーダレイニング
法、ブラシグレイニング法あるいは液体ホーニング法等
の機械的粗面化法によって第1次砂目を形成し、塩酸、
硝酸又はこれらの組合せからなる電解液中で電気化学的
に第2次砂目を形成したのち、リン酸(塩)又はリン酸
(塩)を主成分とする電解液中で陽極酸化処理されるこ
とによって製造される。
本発明においては、いずれの機械的粗面化法を用いても
よいが、プラングレイニングあるいは液体ホーニング法
が好ましい。ブラシグレイニング法の詳細については、
特公昭51−46003号及び同5a−aaaay号各
公報に記載さnている。
よいが、プラングレイニングあるいは液体ホーニング法
が好ましい。ブラシグレイニング法の詳細については、
特公昭51−46003号及び同5a−aaaay号各
公報に記載さnている。
また、液体ホー二/グ法は、微細な研摩剤を液体中に懸
濁させたスラリーをアルミニウム板表面に激しく吹付け
て砂目立てする方法である。
濁させたスラリーをアルミニウム板表面に激しく吹付け
て砂目立てする方法である。
ζこに用いられる研摩剤としては、アルミナ、カーボラ
ンダム等を採用することができる。
ンダム等を採用することができる。
液体ホーニング法の好ましい態様は、特開昭51−77
405号及び特公昭54−422B2号各公報等に開示
されているように、第1段階として、比較的粒度の粗い
研摩材による液体ホーニングを行い、次いで比較的微細
な粒度の研摩材を用いて第2段階の液体ホーニングを行
うものである。この場合第1段階の液体ホーニングに用
いる研摩材の粒度は150〜280メツクユとした場合
前記1次的砂目のサイズが達成されるので適当であり、
第2段階の液体ホーニングに用いる研摩材の粒度は10
00〜3000メツシユとするのが適当でるる。
405号及び特公昭54−422B2号各公報等に開示
されているように、第1段階として、比較的粒度の粗い
研摩材による液体ホーニングを行い、次いで比較的微細
な粒度の研摩材を用いて第2段階の液体ホーニングを行
うものである。この場合第1段階の液体ホーニングに用
いる研摩材の粒度は150〜280メツクユとした場合
前記1次的砂目のサイズが達成されるので適当であり、
第2段階の液体ホーニングに用いる研摩材の粒度は10
00〜3000メツシユとするのが適当でるる。
研琴処理を行う際には、前もって、脱脂、洗浄を行うこ
とが望ましい。脱脂処理としては、石油系溶剤又くトリ
クロロエチレン、パークロロエチレン等の塩素化炭化水
素を使用して汚れを除去する溶剤脱脂、非イオン界面活
性剤とトリクロロエチレン、クロシン等の溶剤と水とを
乳化させた溶液を用いるエマルジョン脱脂、アルカリ性
の薬品を含む処理液で煮沸するアルカリ脱脂、及び電解
脱脂等が挙げられる。
とが望ましい。脱脂処理としては、石油系溶剤又くトリ
クロロエチレン、パークロロエチレン等の塩素化炭化水
素を使用して汚れを除去する溶剤脱脂、非イオン界面活
性剤とトリクロロエチレン、クロシン等の溶剤と水とを
乳化させた溶液を用いるエマルジョン脱脂、アルカリ性
の薬品を含む処理液で煮沸するアルカリ脱脂、及び電解
脱脂等が挙げられる。
機械的に粗面化されたアルミニウム板は、次いで電気化
学的に粗面化されるが、その前に、アルミニウム板の表
面を化学的にエツチングしておくことが好ましい。この
化学的エツチング処理は、機械的粗面化され危アルミニ
ウム板の表面に食い込んだ研摩剤、アルミニウムくずな
どを取除く作用を有し、その後に施される電気化学的な
徂゛面化をよシ均一に、しかも効果的に達成させること
ができる。かかる化学的エツチング方法の詳細は、米国
特許第3834998号明細舊に記されている。よシ具
体的に説明すると、アルミニウムを溶解し得る溶液、よ
シ具体的には酸又はアルカリの水溶液へ浸漬する方法で
ある。上記の酸としては、例えば硫酸、フッ酸、リン酸
、硝酸、塩酸などが用いられ、上記のアルカリとしては
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナト
リウム、第三リン酸カリウム、アルミン酸ナトリウム、
メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウムなどが用いられ
る。これらの内でも特に後者のアルカリの水溶液を使用
する方がエツチング速度が早いので好ましい。
学的に粗面化されるが、その前に、アルミニウム板の表
面を化学的にエツチングしておくことが好ましい。この
化学的エツチング処理は、機械的粗面化され危アルミニ
ウム板の表面に食い込んだ研摩剤、アルミニウムくずな
どを取除く作用を有し、その後に施される電気化学的な
徂゛面化をよシ均一に、しかも効果的に達成させること
ができる。かかる化学的エツチング方法の詳細は、米国
特許第3834998号明細舊に記されている。よシ具
体的に説明すると、アルミニウムを溶解し得る溶液、よ
シ具体的には酸又はアルカリの水溶液へ浸漬する方法で
ある。上記の酸としては、例えば硫酸、フッ酸、リン酸
、硝酸、塩酸などが用いられ、上記のアルカリとしては
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナト
リウム、第三リン酸カリウム、アルミン酸ナトリウム、
メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウムなどが用いられ
る。これらの内でも特に後者のアルカリの水溶液を使用
する方がエツチング速度が早いので好ましい。
機械的研摩を施されたアルミニウム板は、次に電解研摩
を施される。電解条件は、塩酸、硝酸、クエン酸、ホウ
酸、シュウ酸又にこれらの混合物のα1〜104の水溶
液中で、印加電圧10〜100v、電流密度1〜100
ム/dm”、浴温度プ0〜50℃、電解時間3〜300
秒の範囲から選択される。
を施される。電解条件は、塩酸、硝酸、クエン酸、ホウ
酸、シュウ酸又にこれらの混合物のα1〜104の水溶
液中で、印加電圧10〜100v、電流密度1〜100
ム/dm”、浴温度プ0〜50℃、電解時間3〜300
秒の範囲から選択される。
特に好ましいのは、硝酸又は塩酸を主成分とする浴であ
る。
る。
電解粗面化処理されたアルミニウム板の表面にはスマッ
トが生じるので、このスマットを取除くために、デスマ
ット処理を施すことが好ましい。このようなデスマット
処理は、酸又はアルカリの水溶液とアルミニウム板の表
面を、例えば浸漬処理などの方法で接触適せることによ
り行われる。上記の酸としては、リン酸、硫酸、クロム
酸などが含まれ、アルカリとしては、先に説明した機械
的な粗面化ののちに施し得る化学的エツチング処理の場
合と同様のものを使用することができる。
トが生じるので、このスマットを取除くために、デスマ
ット処理を施すことが好ましい。このようなデスマット
処理は、酸又はアルカリの水溶液とアルミニウム板の表
面を、例えば浸漬処理などの方法で接触適せることによ
り行われる。上記の酸としては、リン酸、硫酸、クロム
酸などが含まれ、アルカリとしては、先に説明した機械
的な粗面化ののちに施し得る化学的エツチング処理の場
合と同様のものを使用することができる。
本発明で使用するアルミニウム板は、次いで、リン1!
2(塩)又はリン酸(塩)を主成分とする電解液中で陽
極酸化処理される。例えば、アルミニウム板を10〜5
oz7s、好ましくは、20〜40重量係のリン酸を含
む水溶液中、又は、かかるリン酸と全酸中25重f%以
下、好ましくは、10重f%以下の他の酸、例えば、硫
酸、シュウ酸等との混酸を含む水溶液中、浴温10〜5
0℃、好ましくは、25〜45℃で、電流密度α2〜1
0 A/am”、好ましくは、1〜7A/dj!12で
、10秒〜10分、好ましくは、20秒〜3分の範囲で
、得られる陽極酸化層の陽極酸化皮膜量は、5〜70
Mf/dm”が適当であシ、好ましくは10〜40■7
’dm”である。
2(塩)又はリン酸(塩)を主成分とする電解液中で陽
極酸化処理される。例えば、アルミニウム板を10〜5
oz7s、好ましくは、20〜40重量係のリン酸を含
む水溶液中、又は、かかるリン酸と全酸中25重f%以
下、好ましくは、10重f%以下の他の酸、例えば、硫
酸、シュウ酸等との混酸を含む水溶液中、浴温10〜5
0℃、好ましくは、25〜45℃で、電流密度α2〜1
0 A/am”、好ましくは、1〜7A/dj!12で
、10秒〜10分、好ましくは、20秒〜3分の範囲で
、得られる陽極酸化層の陽極酸化皮膜量は、5〜70
Mf/dm”が適当であシ、好ましくは10〜40■7
’dm”である。
陽極酸化処理されたアルミニウム基板は、通常、更に水
又は弱酸若しくは弱アルカリ水溶液中、10〜100℃
、10〜600秒の範囲の条件で処理される。その後、
親水化処理が施される。
又は弱酸若しくは弱アルカリ水溶液中、10〜100℃
、10〜600秒の範囲の条件で処理される。その後、
親水化処理が施される。
親水化処理としては熱水封孔やケイ酸ソーダ処理が挙げ
られるが接着性やジアゾ残シ、現像性の点からは、ケイ
酸ソーダ処理が好ましい。
られるが接着性やジアゾ残シ、現像性の点からは、ケイ
酸ソーダ処理が好ましい。
ケイ酸ソーダ処理の条件としては濃度α1〜5俤のメタ
ケイ酸ソーダ溶液中に、温度50℃〜95℃で10秒間
〜5分間浸漬して行わnる。
ケイ酸ソーダ溶液中に、温度50℃〜95℃で10秒間
〜5分間浸漬して行わnる。
好ましくは、その後に60℃〜100℃の水に10秒間
〜5分間浸漬して処理される。
〜5分間浸漬して処理される。
上記アルミニウム支持体上に塗設する本発明における感
光性組成物は、水酸基を有し、かつ酸価が10〜200
の親油性高分子化合物とジアゾ樹脂とを主成分とするも
のである。
光性組成物は、水酸基を有し、かつ酸価が10〜200
の親油性高分子化合物とジアゾ樹脂とを主成分とするも
のである。
ジアゾ樹脂としては、置換又は非置換のp−ジアゾジフ
ェニルアミンとアルデヒド類との縮合物でらって、アニ
オンがPF、又はBP’4等のハロゲン化ルイス酸であ
るものが好ましく、特に下記一般式■で示され、かつ該
式におけるnが5以上である樹脂を20モル係以上、好
ましくは、20〜60モル係含有するジアゾ樹脂が好ま
しい。
ェニルアミンとアルデヒド類との縮合物でらって、アニ
オンがPF、又はBP’4等のハロゲン化ルイス酸であ
るものが好ましく、特に下記一般式■で示され、かつ該
式におけるnが5以上である樹脂を20モル係以上、好
ましくは、20〜60モル係含有するジアゾ樹脂が好ま
しい。
(式中 R1、R4及びR3は水素、アルキル基又はア
ルコキク基を示し、Rは水素、アルキル基又はフェニル
基を示し、XはPF6又はBF4を示し、nは1〜20
0の数を示す〕 その他、例えば特公昭47−1167号公報又は米国特
許第3300509号明細書に記載のアニオンが有機酸
であるものも使用すbことができる。
ルコキク基を示し、Rは水素、アルキル基又はフェニル
基を示し、XはPF6又はBF4を示し、nは1〜20
0の数を示す〕 その他、例えば特公昭47−1167号公報又は米国特
許第3300509号明細書に記載のアニオンが有機酸
であるものも使用すbことができる。
親油性高分子化合物に、接着性及び現像性の点から水酸
基を有し、かつ酸価が10〜200O親油性高分子化合
物が好適である。
基を有し、かつ酸価が10〜200O親油性高分子化合
物が好適である。
塗膜量は、10〜40aP/amsが好ましく、10〜
30■/am” O範囲が特に好適である。
30■/am” O範囲が特に好適である。
本発明において使用する水酸基を有する親油性高分子化
合物としては、例えば、下記の様な水酸基を有するアク
リルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステ
ル類又はメタクリル酸エステル類等の単量体から誘導さ
れる構成単位を含有する通常2万〜20万0分子量をも
つ共重合体が挙げらnる。
合物としては、例えば、下記の様な水酸基を有するアク
リルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステ
ル類又はメタクリル酸エステル類等の単量体から誘導さ
れる構成単位を含有する通常2万〜20万0分子量をも
つ共重合体が挙げらnる。
(1) 芳香族性水酸基を有するモノマー、例えばN
−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ)又ハN
−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o
+、m−、p−ヒドロキクスチレン、’ −* ”−
* P−ヒドロキシエチルアクリレート又はメタクリ
レート(2) 脂肪族水散基を有するモノマー、例え
ば2−とドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート 共重合する他のモノマーとしては、 (1) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等のα、β−不飽和カルボン酸 (2) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸アミル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル#
1−2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、クリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエ
チルアクリレート等の(置換)アルキルアクリレート (3) メチルメタクリレート、エテルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチ゛ルメタクリレート
、アミルメタクリレート、シクロヘキクルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート
、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の(f換
)アルキルメタクリレート (4) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルア
ミド、N−エチルアクリルアミド、N−へキシルメタク
リルアミド、N−シクロ・ヘキクルアクリルアミド、N
−ヒドロキクエテルアクリルアミド、N−フェニルアク
リル7ミ)’、M−ニトロフェニルアクリルアミド、N
−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルア
ミド若しくはメタクリルアミド類 (5) エチルビニルエーテル、2−10ロエチルビ
ニ/I/ エフfル、ヒドロキシェテルビニルエーテル
ミグロビルビニルエーテル、フチルビエルエーテル、オ
クチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類(6) ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテ−°ト、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
等のビニルエステル類 (7) スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 (8) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類 (9) エチレン、プロピレン、インブチレン、ブタ
ジェン、イソプレン等のオレフィン類α、lN−ビニル
ピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリ
ジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等 が挙げられるが、その他、水酸基を含有するモノマーと
共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定される
ものではない。また、これ以外にも必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキ7樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。
−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ)又ハN
−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o
+、m−、p−ヒドロキクスチレン、’ −* ”−
* P−ヒドロキシエチルアクリレート又はメタクリ
レート(2) 脂肪族水散基を有するモノマー、例え
ば2−とドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート 共重合する他のモノマーとしては、 (1) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等のα、β−不飽和カルボン酸 (2) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸アミル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル#
1−2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、クリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエ
チルアクリレート等の(置換)アルキルアクリレート (3) メチルメタクリレート、エテルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチ゛ルメタクリレート
、アミルメタクリレート、シクロヘキクルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート
、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の(f換
)アルキルメタクリレート (4) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルア
ミド、N−エチルアクリルアミド、N−へキシルメタク
リルアミド、N−シクロ・ヘキクルアクリルアミド、N
−ヒドロキクエテルアクリルアミド、N−フェニルアク
リル7ミ)’、M−ニトロフェニルアクリルアミド、N
−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルア
ミド若しくはメタクリルアミド類 (5) エチルビニルエーテル、2−10ロエチルビ
ニ/I/ エフfル、ヒドロキシェテルビニルエーテル
ミグロビルビニルエーテル、フチルビエルエーテル、オ
クチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類(6) ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテ−°ト、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
等のビニルエステル類 (7) スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 (8) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類 (9) エチレン、プロピレン、インブチレン、ブタ
ジェン、イソプレン等のオレフィン類α、lN−ビニル
ピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリ
ジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等 が挙げられるが、その他、水酸基を含有するモノマーと
共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定される
ものではない。また、これ以外にも必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキ7樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。
本発明に用いられる水酸基を有する親油性の高分子化合
物は、感光性組成物の固形分中に通常40〜99重量係
、好ましくは50〜95重量係含有させる。ま之、ジア
ゾ樹脂は通常1〜60重量係、好ましくは3〜30重量
係含有させる。
物は、感光性組成物の固形分中に通常40〜99重量係
、好ましくは50〜95重量係含有させる。ま之、ジア
ゾ樹脂は通常1〜60重量係、好ましくは3〜30重量
係含有させる。
本発明の感光性組成物には、更に性能を向上させるため
に以下に示した種々の公知の添加剤を加えることができ
る。
に以下に示した種々の公知の添加剤を加えることができ
る。
(1) 画像を可視画化することを目的とじ之染料(
2)塗布性を改良するためのフッ素系界面活性剤やアル
キルエーテル類 (3) 塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与する次めの可
塑剤 (4)感脂化剤 (5) 安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対しく101〜30
重量係である。
2)塗布性を改良するためのフッ素系界面活性剤やアル
キルエーテル類 (3) 塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与する次めの可
塑剤 (4)感脂化剤 (5) 安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対しく101〜30
重量係である。
本発明に係る感光性平版印刷版の現像処理に用いられる
現像液は公知のいずれのものであっても良いが、好まし
くは以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印
刷版を現像する現像液は、水、あるいは特定の有a!!
溶媒及び/又はアルカリ剤を含む水溶液が挙げられる。
現像液は公知のいずれのものであっても良いが、好まし
くは以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印
刷版を現像する現像液は、水、あるいは特定の有a!!
溶媒及び/又はアルカリ剤を含む水溶液が挙げられる。
ここに特定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき
上述の感光性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解又
は膨潤することができ、しかも常温(20℃〕において
水に対する溶解度が10重量係以下の有機溶媒をいう。
上述の感光性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解又
は膨潤することができ、しかも常温(20℃〕において
水に対する溶解度が10重量係以下の有機溶媒をいう。
このような有機溶媒としては上記のような特性を有する
ものであシさえすればよく、以下のもののみに限定され
るものではないが、これらを例示するならば、例えば酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢
酸ベンジル、エチレングリコールモノブチルアセテート
、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エ
ステル;エチルブチルケトン、メチルインブチルケトン
、フクロヘキサノンのようなケトン類;エチレングリコ
ールモノブテルエーテル、エチレングリコールベンジル
エーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、
フロピレンクリコールモノフェニルエーテル、ベンジル
アルコール、メチルフェニルカルビノール、n−7ミル
アルコール、メチルアミルアルコールのようなアルコー
ル類:キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;
メアレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノク
ロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがある。
ものであシさえすればよく、以下のもののみに限定され
るものではないが、これらを例示するならば、例えば酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢
酸ベンジル、エチレングリコールモノブチルアセテート
、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エ
ステル;エチルブチルケトン、メチルインブチルケトン
、フクロヘキサノンのようなケトン類;エチレングリコ
ールモノブテルエーテル、エチレングリコールベンジル
エーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、
フロピレンクリコールモノフェニルエーテル、ベンジル
アルコール、メチルフェニルカルビノール、n−7ミル
アルコール、メチルアミルアルコールのようなアルコー
ル類:キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;
メアレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノク
ロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがある。
これら有機溶媒は一種以上用いてもよい。これら有機溶
媒の中て16、x−fレンゲリコールモノフェニルエー
テルとベンジルアルコールが特に有効である。また、こ
れら有機溶媒の現像液中における含有11はおおむね1
〜20重量係であシ、特に2〜10重量係重量色よシ好
ましい結果を得る。
媒の中て16、x−fレンゲリコールモノフェニルエー
テルとベンジルアルコールが特に有効である。また、こ
れら有機溶媒の現像液中における含有11はおおむね1
〜20重量係であシ、特に2〜10重量係重量色よシ好
ましい結果を得る。
他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、
(4) ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は
第三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤 CB) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又
はトリエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、
n−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン
、モノ、ジ又はトリイソプロパツールアミン、エチレン
イミン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が挙
げられる。
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は
第三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤 CB) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又
はトリエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、
n−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン
、モノ、ジ又はトリイソプロパツールアミン、エチレン
イミン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が挙
げられる。
これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常aO
S〜4重量%で、好ましくは15〜2重i%である。
S〜4重量%で、好ましくは15〜2重i%である。
また、保存安定性、耐刷性等をよυ以上に高めるために
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液
組成物における含有量は通常(LO5〜4重量係で、好
ましくは[L1〜1重量係である。
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液
組成物における含有量は通常(LO5〜4重量係で、好
ましくは[L1〜1重量係である。
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所期の効果を実現するため、用
いる有機溶媒よシ水易溶性で、低分子Oアルコール、ケ
トン類を用いるのがよい。また、ア÷オン活性剤、両性
活性剤等も用いることができる。このようなアルコール
、ケトン類としては、例えばメタノール、エタノール、
プロパツール、フタノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、エチレングリコールモ/)fルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノール
、エトキシブタノール、4−メトキシ−4−メチルブタ
ノール、N−メチルビロリド7等を用いることが好まし
い。また、活性剤としては例えばイソプロピルナフタレ
ンスルホ/酸ナトリウム、n−ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ
酢酸ナトリウム、ラウリルサル7エートナトリウム塩等
が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤
の使用量については特に制限はないが、一般に現像液全
体に対し約30重t%以下とすることが好運しい。
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所期の効果を実現するため、用
いる有機溶媒よシ水易溶性で、低分子Oアルコール、ケ
トン類を用いるのがよい。また、ア÷オン活性剤、両性
活性剤等も用いることができる。このようなアルコール
、ケトン類としては、例えばメタノール、エタノール、
プロパツール、フタノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、エチレングリコールモ/)fルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノール
、エトキシブタノール、4−メトキシ−4−メチルブタ
ノール、N−メチルビロリド7等を用いることが好まし
い。また、活性剤としては例えばイソプロピルナフタレ
ンスルホ/酸ナトリウム、n−ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ
酢酸ナトリウム、ラウリルサル7エートナトリウム塩等
が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤
の使用量については特に制限はないが、一般に現像液全
体に対し約30重t%以下とすることが好運しい。
本発明に係る感光性平版印刷版は、像様露光し九後、上
述の現像液に接触させたり、おるいはこすったシすれば
、おおむね常温〜40℃にて10〜60秒後には、感光
性組成物層の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光
部の感光性組成物が完全に除去されることになる。
述の現像液に接触させたり、おるいはこすったシすれば
、おおむね常温〜40℃にて10〜60秒後には、感光
性組成物層の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光
部の感光性組成物が完全に除去されることになる。
以下、本発明で使用する砂目、ジアゾ樹脂及びポリマー
の製造例を示す。
の製造例を示す。
(砂目の製造)
研摩条件、陽極酸化処理条件の異なる5種類のアルミニ
ウム支持体を製造した。それらの製造条件を表1に示し
た。
ウム支持体を製造した。それらの製造条件を表1に示し
た。
なお、すべてのアルミニウム板(厚さα3wa)は、ト
リクロロエチレン洗浄を行って脱脂した後、研摩、陽極
酸化処理し、その後1%のメタクイ酸ソーダ溶液中に、
85℃で5分間浸漬してケイ酸ソーダ処理を行い、引続
き90℃の熱水に2分間浸漬した。
リクロロエチレン洗浄を行って脱脂した後、研摩、陽極
酸化処理し、その後1%のメタクイ酸ソーダ溶液中に、
85℃で5分間浸漬してケイ酸ソーダ処理を行い、引続
き90℃の熱水に2分間浸漬した。
(ポリマー1の合成)
N−(A−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドIQ
、Of、アクリロニトリル25t、エチルアクリレ−)
6 G ?、メタクリル酸5?及びアゾビスイソブチ
ロニトリル1.642 Fをア七ト/−メタノール1:
1混合溶媒112−に溶解し、窒素置換し死後60℃で
8時間加熱した。
、Of、アクリロニトリル25t、エチルアクリレ−)
6 G ?、メタクリル酸5?及びアゾビスイソブチ
ロニトリル1.642 Fをア七ト/−メタノール1:
1混合溶媒112−に溶解し、窒素置換し死後60℃で
8時間加熱した。
反応終了後反応液を水5L中にかくはん下注ぎ、生じた
白色沈殿を戸数乾燥してポリマー1を90f魯た。
白色沈殿を戸数乾燥してポリマー1を90f魯た。
このボリマーヲケルパーミエーションクロマトグラフイ
ー(以下GPCと略記するンによシ分子量の測定をした
ところ、重量平均分子量はa5万であった。!!念、酸
価は41.2であつ九。
ー(以下GPCと略記するンによシ分子量の測定をした
ところ、重量平均分子量はa5万であった。!!念、酸
価は41.2であつ九。
〔ポリマー2の合成〕
2−ヒドロキシエチルメタクリレートa S t。
アクリロニトリル10v1エテルメタクリレ−) 45
f、メタクリル酸2?と1.2tの過酸化ベンゾイル
の混合液を、100℃に加熱したエチレンクリコールモ
ノメチルエーテル300vに2時間かけて滴下し喪。滴
下終了後エチレンクリコールモノメチルエーテル300
fと過酸化ベンゾイル(L3fを加えてそのまま4時間
反応させた。反応終了後メタノールで希釈して水5L中
にかくはん下注ぎ生じた白色沈殿をF取乾燥してポリマ
ー2を932得た。また、酸価Fi1&oであつ之。
f、メタクリル酸2?と1.2tの過酸化ベンゾイル
の混合液を、100℃に加熱したエチレンクリコールモ
ノメチルエーテル300vに2時間かけて滴下し喪。滴
下終了後エチレンクリコールモノメチルエーテル300
fと過酸化ベンゾイル(L3fを加えてそのまま4時間
反応させた。反応終了後メタノールで希釈して水5L中
にかくはん下注ぎ生じた白色沈殿をF取乾燥してポリマ
ー2を932得た。また、酸価Fi1&oであつ之。
このポリマーをGPCによシ分子址の測定をしたところ
、重量平均分子量は6.5万であった。
、重量平均分子量は6.5万であった。
(ポリマー3の合成)
メタクリル酸メチル60?、アクリロニトリル30t1
メタクリル酸109及びアゾビスイソブチロニトリル1
.5tをメテルセロンルブ200fに溶解し、窒素を通
じながら80℃において4時間重合させた。この反応混
合物を5tの水中に滴下し、生じた白色沈殿をヂ取乾燥
してポリマー3を70f得た。
メタクリル酸109及びアゾビスイソブチロニトリル1
.5tをメテルセロンルブ200fに溶解し、窒素を通
じながら80℃において4時間重合させた。この反応混
合物を5tの水中に滴下し、生じた白色沈殿をヂ取乾燥
してポリマー3を70f得た。
このポリマーをGPOにより分子量の測定をした所、重
量平均分子tは6万であった。
量平均分子tは6万であった。
また、酸価は65.0であった。
(ポリマー4の合成)
2−ヒドロキンエテルメタクリレート451、アクリロ
ニトリル201、メチルメタクリレ−) 30 t、メ
タクリル酸5fをポリマー3の合成例と同様な方法で重
合させポリマー4を得た。
ニトリル201、メチルメタクリレ−) 30 t、メ
タクリル酸5fをポリマー3の合成例と同様な方法で重
合させポリマー4を得た。
このポリマーをGPOによシ分子量の測定をした所、重
量平均分子fは&3万であった。
量平均分子fは&3万であった。
また、酸価は32.5であった。
(ジアゾ樹脂−1の合成)
p5−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5 t(5
0ミリモル)を水冷下で419tの濃硫酸に溶解した。
0ミリモル)を水冷下で419tの濃硫酸に溶解した。
この反応液に1.2 f (40ミリモル)ノパラホル
ムアルデヒドをゆつくり滴下した。この際、反応温度が
10℃を超えないように添加していった。その後、2時
間水冷下かくはんを続は九。
ムアルデヒドをゆつくり滴下した。この際、反応温度が
10℃を超えないように添加していった。その後、2時
間水冷下かくはんを続は九。
この反応混合物を水冷下、500−のエタノールに滴下
し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄後、この
沈殿物を100−の純水に溶解し、この液に6.8tの
塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿
を濾過した後エタノールで洗浄し、これを150−の純
水に溶解した。この液に8tのへキサフルオロリン酸ア
ンモニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈
殿を戸数し水洗し友後、30℃、1昼夜乾燥してジアゾ
樹脂−1を得た。
し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄後、この
沈殿物を100−の純水に溶解し、この液に6.8tの
塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿
を濾過した後エタノールで洗浄し、これを150−の純
水に溶解した。この液に8tのへキサフルオロリン酸ア
ンモニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈
殿を戸数し水洗し友後、30℃、1昼夜乾燥してジアゾ
樹脂−1を得た。
このジアゾ樹脂−1をGPOにより分子量の測定をした
ところ、5を体以上が約35モル係合まれていた。
ところ、5を体以上が約35モル係合まれていた。
(ジアゾ樹脂−2の合成)
ジアゾ樹脂−1と同様にし合成し、最後のへキサフルオ
ロリン酸アンモニウムの代シに2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−ベンゾフェノン−5−スルホン酸151を溶解
した水溶液で処理しジアゾ樹脂−2を得た。
ロリン酸アンモニウムの代シに2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−ベンゾフェノン−5−スルホン酸151を溶解
した水溶液で処理しジアゾ樹脂−2を得た。
このジアゾ樹脂−2をGPOによシ測定したところ、5
31体以上が約32モル係官まれていた。
31体以上が約32モル係官まれていた。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこnら実施例に限定されない。
本発明はこnら実施例に限定されない。
実施例1〜3、比較例1〜6
前記のようにして得たアルミニウム板に、表2に示した
組成の感光液をホワラーを用いて塗布し、85℃、3分
間乾燥した。表3に示す感光性平版印刷版を得た。
組成の感光液をホワラーを用いて塗布し、85℃、3分
間乾燥した。表3に示す感光性平版印刷版を得た。
表 2 感光液処方
我 3 感光性平版印刷版
得られた感光性平版印刷版を5 KW の超高圧水銀灯
で60crnの距離から30秒間露光したのち、下記の
現像液を用いて、25℃、45秒現像して、平版印刷版
を得た。
で60crnの距離から30秒間露光したのち、下記の
現像液を用いて、25℃、45秒現像して、平版印刷版
を得た。
現像液
ベンジルアルコール 509トリエタノール
アミン 15?亜硫酸ソーダ
5fブチルナフタレンスルホン酸ソーダ
252水 1
000F得られた平版印刷版を枚葉オフセット印刷機で
上質紙に印刷し、耐刷力及び印刷汚れのテストを行った
。結果を表4に示す。
アミン 15?亜硫酸ソーダ
5fブチルナフタレンスルホン酸ソーダ
252水 1
000F得られた平版印刷版を枚葉オフセット印刷機で
上質紙に印刷し、耐刷力及び印刷汚れのテストを行った
。結果を表4に示す。
表4 耐刷力テスト及び汚れテスト
骨 印刷機 ハマダスター0DX900 (浜田製作
新開 軸 汚れテストは、22℃、相対湿度62%の印刷室
にて標準条件で印刷中の一定の時点で湿し水の供給を2
0%カットして印刷を行い、汚nのない印刷紙が得られ
る枚数を示した。
新開 軸 汚れテストは、22℃、相対湿度62%の印刷室
にて標準条件で印刷中の一定の時点で湿し水の供給を2
0%カットして印刷を行い、汚nのない印刷紙が得られ
る枚数を示した。
表4から本発明の印刷版が高耐刷性を有し、かつ印刷時
地汚れの生じ錐い印刷版であることがわかる。
地汚れの生じ錐い印刷版であることがわかる。
以上詳細に説明し念ように、本発明の感光性平版印刷版
は、画像再現性が向上し、高耐刷力で、印刷作業性が向
上し、しかも地汚れが発生しないという優れた効果を奏
するものである。
は、画像再現性が向上し、高耐刷力で、印刷作業性が向
上し、しかも地汚れが発生しないという優れた効果を奏
するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、表面を機械的に粗面化することにより第1次砂目を
形成し、塩酸及び/又は硝酸を含有する電解液中で電気
化学的に第2次砂目を形成したのち、リン酸(塩)又は
リン酸(塩)を主成分とする電解液中で陽極酸化処理し
て得られるアルミニウム板上に、水酸基を有し、かつ酸
価が10〜200の親油性高分子化合物とジアゾ樹脂と
を主成分とする感光性組成物を塗設したものであること
を特徴とする感光性平版印刷版。 2、該高分子化合物が、水酸基を有するアクリルアミド
類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類及びメ
タクリル酸エステル類よりなる群から選択した単量体か
ら誘導される構成単位を含有する高分子化合物である特
許請求の範囲第1項記載の感光性平版印刷版。 3、該ジアゾ樹脂が、置換又は非置換のp−ジアゾジフ
ェニルアミンとアルデヒド類との縮合物であつて、アニ
オンがPF_6又はBF_4である特許請求の範囲第1
項記載の感光性平版印刷版。 4、該ジアゾ樹脂が、下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 (式中、R^1、R^2及びR^3は水素、アルキル基
又はアルコキシ基を示し、Rは水素、アルキル基又はフ
ェニル基を示し、XはPF_6又はBF_4を示し、n
は1〜200の数を示す)で表され、かつ該式における
nが5以上の樹脂を20モル%以上含有するものである
特許請求の範囲第1項記載の感光性平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21096285A JPS6271961A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21096285A JPS6271961A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271961A true JPS6271961A (ja) | 1987-04-02 |
Family
ID=16597993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21096285A Pending JPS6271961A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6271961A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0194338A (ja) * | 1987-10-06 | 1989-04-13 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性組成物 |
| JPH01102467A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性平版印刷版 |
| JPH01102466A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性平版印刷版 |
| JPH01173032A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | レジストパターン形成法 |
| JPH01245246A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性組成物 |
| JPH035754A (ja) * | 1989-06-01 | 1991-01-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
-
1985
- 1985-09-26 JP JP21096285A patent/JPS6271961A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0194338A (ja) * | 1987-10-06 | 1989-04-13 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性組成物 |
| JPH01102467A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性平版印刷版 |
| JPH01102466A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性平版印刷版 |
| JPH01173032A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | レジストパターン形成法 |
| JPH01245246A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性組成物 |
| JPH035754A (ja) * | 1989-06-01 | 1991-01-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
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