JPH0572723A - 感光性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 56
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical class O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 98
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 28
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 16
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract description 46
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 abstract description 5
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 abstract 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 67
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 34
- -1 cyclic acid anhydride Chemical class 0.000 description 33
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 29
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 28
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 24
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 23
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 19
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 19
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 17
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000011161 development Methods 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 14
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical group O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 8
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 8
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 8
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 7
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 6
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 6
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 5
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C(OC)=C1 GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 4
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 4
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 4
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 4
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FPJPAIQDDFIEKJ-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylbutanenitrile Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC#N FPJPAIQDDFIEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 3
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N (2-aminoethyl)phosphonic acid Chemical compound [NH3+]CCP(O)([O-])=O QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPDXFYPVHRESMA-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C=C1O GPDXFYPVHRESMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=CC=C1O AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 2-butylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCC)=CC=C21 BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1O ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHBDUARGLPMOND-UHFFFAOYSA-N 4-(2-trichlorosilylethyl)benzenesulfonyl chloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 IHBDUARGLPMOND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPAMLADQPZFXMD-UHFFFAOYSA-N 4-anilinobenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 DPAMLADQPZFXMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWXICGTUELOLSQ-UHFFFAOYSA-N 4-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KWXICGTUELOLSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMFSGOFUHEVNP-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C(O)=O BBMFSGOFUHEVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxybenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCJMNOSIAGSZBM-UHFFFAOYSA-N 6-methylsalicylic acid Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O HCJMNOSIAGSZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- OGBVRMYSNSKIEF-UHFFFAOYSA-N Benzylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CC1=CC=CC=C1 OGBVRMYSNSKIEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,4-triol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(O)=C1 GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PHIBEYMUALDAQI-UHFFFAOYSA-N benzylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)CC1=CC=CC=C1 PHIBEYMUALDAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical compound CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- AQWKTFYCLNFHLF-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)c1cccc2ccccc12 AQWKTFYCLNFHLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(P(O)(=O)O)=CC=CC2=C1 YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATGUVEKSASEFFO-UHFFFAOYSA-N p-aminodiphenylamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ATGUVEKSASEFFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVJSUAQZOZWCKN-UHFFFAOYSA-N p-hydroxybenzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=C(O)C=C1 BVJSUAQZOZWCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- FGDMJJQHQDFUCP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=CC2=C(S([O-])(=O)=O)C(C(C)C)=CC=C21 FGDMJJQHQDFUCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004418 trolamine Drugs 0.000 description 2
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DEQUKPCANKRTPZ-UHFFFAOYSA-N (2,3-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O DEQUKPCANKRTPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLYXGBNUYGAFAC-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O FLYXGBNUYGAFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CROCAQYJJNCZQH-UHFFFAOYSA-N (2,6-dihydroxyphenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=C(O)C=CC=C1O CROCAQYJJNCZQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDJHJYJHQKPTKS-UHFFFAOYSA-N (2-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O RDJHJYJHQKPTKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N (3-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIUHGYUFFPSEOW-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 NIUHGYUFFPSEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJHHTWSRXUUPG-UHFFFAOYSA-N (4-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 IJJHHTWSRXUUPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 1
- FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=NC=1C=CC=CC=1)NC1=CC=CC=C1 FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPSVFNQMURAADJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dicyclohexyloxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical compound C1CCCCC1OC(=O)C(S(=O)(=O)O)CC(=O)OC1CCCCC1 QPSVFNQMURAADJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWIFXCARKJCTGL-UHFFFAOYSA-N 1,7-dimethylindole-3-carbaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC2=C1N(C)C=C2C=O FWIFXCARKJCTGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C=C NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 1-O-galloyl-3,6-(R)-HHDP-beta-D-glucose Natural products OC1C(O2)COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC1C(O)C2OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONZWNZGVZFLMNZ-UHFFFAOYSA-N 1-aminonaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C([NH3+])=C(S([O-])(=O)=O)C=CC2=C1 ONZWNZGVZFLMNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 1-dodecanesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNXICDMQCQPQEW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthyl dihydrogen phosphate Chemical compound C1=CC=C2C(OP(O)(=O)O)=CC=CC2=C1 YNXICDMQCQPQEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBZAVRDNSPUMFK-UHFFFAOYSA-N 2, 6-Dihydroxy-4-methylbenzoic acid, Natural products CC1=CC(O)=C(C(O)=O)C(O)=C1 YBZAVRDNSPUMFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTTJWXVQRJUJQW-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioctyl-3-sulfobutanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)(C(C(O)=O)S(O)(=O)=O)CCCCCCCC CTTJWXVQRJUJQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIAGYOWSALSPII-UHFFFAOYSA-N 2,3-dioctylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(CCCCCCCC)C(CCCCCCCC)=CC2=C1 JIAGYOWSALSPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBHWREHFNDMRPR-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-Trihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=C(O)C=C1O IBHWREHFNDMRPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKYWPNROPGQIFZ-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(C)=C1 BKYWPNROPGQIFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEAHMJLHQCESBZ-UHFFFAOYSA-N 2,5-diaminobenzenesulfonic acid Chemical compound NC1=CC=C(N)C(S(O)(=O)=O)=C1 HEAHMJLHQCESBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXZSGVZSSMCMB-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(Cl)=CC=C1Cl LFXZSGVZSSMCMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSQDURCMBCGCIK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dihydroxyphenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C(O)C=C1O FSQDURCMBCGCIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C=CC=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOUMISZLKFGEAX-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4,5-trihydroxyphenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 DOUMISZLKFGEAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCCILVSKPBXVIP-UHFFFAOYSA-N 2-(4-hydroxyphenyl)ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(O)C=C1 YCCILVSKPBXVIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMCHBSMFKQYNKA-UHFFFAOYSA-N 2-aminobenzenesulfonic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O ZMCHBSMFKQYNKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAIKCRUPEVOINQ-UHFFFAOYSA-N 2-aminonaphthalene-1,5-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(N)=CC=C21 YAIKCRUPEVOINQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTOPCEPRAXJJEO-UHFFFAOYSA-N 2-butoxybenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCOC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O CTOPCEPRAXJJEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMWKFQYHRBCLGU-UHFFFAOYSA-N 2-butoxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(OCCCC)=CC=C21 YMWKFQYHRBCLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFNSAOSWJSCHID-UHFFFAOYSA-N 2-butylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QFNSAOSWJSCHID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1Cl GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 2-chloroaniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1Cl AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-n-[4-(diethylamino)phenyl]-2-phenylacetamide Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1NC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1 DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAZLASMTBCLJKO-UHFFFAOYSA-N 2-decylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O UAZLASMTBCLJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBIWALRETKPJEV-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxybenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O SBIWALRETKPJEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPSOKRZKUPBFMU-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C21 QPSOKRZKUPBFMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEUCMBLQZFAWPS-UHFFFAOYSA-N 2-dodecyl-6-hydroxybenzoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O CEUCMBLQZFAWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKURFTDCIWJBDF-UHFFFAOYSA-N 2-hexylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCCCC)=CC=C21 PKURFTDCIWJBDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQDPLEDHXOOBPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-4,6-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(C(O)=O)C(O)=C1 OQDPLEDHXOOBPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHORXFCFSYPDQA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-octadecylbenzoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O MHORXFCFSYPDQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCKNWYHELSSSU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-propylbenzoic acid Chemical compound CCCC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O GSCKNWYHELSSSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxynaphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(Cl)=O)C(O)=CC=C21 WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 2-iminonaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=N)CC(=O)C2=C1 CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGYXHOXRNFKMRL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O NGYXHOXRNFKMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(3-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propanoylprop-2-enamide Chemical compound CCC(=O)NC(=O)C(C)=C VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWHHBVWZZLQUIH-UHFFFAOYSA-N 2-octylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QWHHBVWZZLQUIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical class OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxyethanol Chemical compound OCCOCC1=CC=CC=C1 CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(C(C)C)=CC=C21 ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMPRRFPMMJQXPP-UHFFFAOYSA-N 2-sulfobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O ZMPRRFPMMJQXPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVUWFIWQOSNKQJ-UHFFFAOYSA-N 3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one;sodium Chemical compound [Na].[Na].O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 DVUWFIWQOSNKQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonic acid Chemical compound COC(=O)C1=CC(C(=O)OC)=CC(S(O)(=O)=O)=C1 HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMNZPIHTZJNWOV-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydroxyphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(O)=C1C(O)=O BMNZPIHTZJNWOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-formylphenoxy)methyl]thiophene-2-carbonitrile Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1OCC1=C(C#N)SC=C1 REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 3-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Br)=C1 QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBIKLMJHBGFTPV-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxyphenol Chemical compound CCOC1=CC=CC(O)=C1 VBIKLMJHBGFTPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJMPSRSMBJLKKB-UHFFFAOYSA-N 3-methylphenylacetic acid Chemical compound CC1=CC=CC(CC(O)=O)=C1 GJMPSRSMBJLKKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDGANUIVKUCJGK-UHFFFAOYSA-N 3-nonyl-3-phenoxydodecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCCCCCCC)(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 WDGANUIVKUCJGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMVDXEDSYBMIFW-UHFFFAOYSA-N 3-pentyl-3-phenoxyoctane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCC(CCCCC)(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 IMVDXEDSYBMIFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNBZYRKENAOQOF-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxydodecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 CNBZYRKENAOQOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBWXRXFSFDFNEA-UHFFFAOYSA-N 4-(2,4-dihydroxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O XBWXRXFSFDFNEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYIYMIBXKKRMIB-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O DYIYMIBXKKRMIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWHCTSQIAULAK-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethyl)benzoic acid Chemical compound OCCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 FUWHCTSQIAULAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHNZDYJIQWLXQF-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyanilino)benzoic acid Chemical compound COC1=CC=CC(NC=2C=CC(=CC=2)C(O)=O)=C1 PHNZDYJIQWLXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROXSWPDJVVHMEQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyanilino)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1NC1=CC=C(O)C=C1 ROXSWPDJVVHMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRUPBAWWCPVHFT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyanilino)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NC1=CC=C(O)C=C1 YRUPBAWWCPVHFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLXPCYHWTLAVLN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 KLXPCYHWTLAVLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVWQOKFMAWPFSA-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)-2-methylbenzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C)=CC(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 MVWQOKFMAWPFSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTUIGZQCSANURO-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)sulfanylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 JTUIGZQCSANURO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEQHZOVQJQIZLB-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)sulfonylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 MEQHZOVQJQIZLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULXLHJKFKUXRFY-UHFFFAOYSA-N 4-(4-methoxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ULXLHJKFKUXRFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VICFCQQQOPXTJU-UHFFFAOYSA-N 4-(4-methylanilino)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 VICFCQQQOPXTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKXDNBNSQBZKFO-UHFFFAOYSA-N 4-(benzenesulfonyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 PKXDNBNSQBZKFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWYFPDXEIFBNKE-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)benzoic acid Chemical compound OCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WWYFPDXEIFBNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-2-methylphenyl)-1,1-dioxo-2,1$l^{6}-benzoxathiol-3-yl]-3-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C(=CC(O)=CC=2)C)C2=CC=CC=C2S(=O)(=O)O1 OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACPXHHDRVABPNY-UHFFFAOYSA-N 4-acetylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 ACPXHHDRVABPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQTCZINVPXJNEL-UHFFFAOYSA-N 4-amino-3-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1N WQTCZINVPXJNEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBYJAUOTBYIDX-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2,6-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=C(Cl)C=C1O OVBYJAUOTBYIDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-(2-methylprop-2-enoyl)benzamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQVAPEJNIZULEK-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C(O)=C1 JQVAPEJNIZULEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJWBTWIBUIGANW-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 RJWBTWIBUIGANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAASLEJRGFPHEV-UHFFFAOYSA-N 4-cyanobenzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=C(C#N)C=C1 XAASLEJRGFPHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGSAASVFCYXBCT-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound CCC1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 GGSAASVFCYXBCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFUMDYCIOSWRLV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,6-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(O)=CC(C)=C1C(O)=O FFUMDYCIOSWRLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- NRPFNQUDKRYCNX-UHFFFAOYSA-N 4-methoxyphenylacetic acid Chemical compound COC1=CC=C(CC(O)=O)C=C1 NRPFNQUDKRYCNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJESAXZANHETJV-UHFFFAOYSA-N 4-methylsalicylic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 NJESAXZANHETJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBLUJIWKMSZIMK-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-methoxyphenyl)benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1NC1=CC=C(N)C=C1 RBLUJIWKMSZIMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 4-nitrotoluene-2-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1S(O)(=O)=O ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXSDRJUQIXHGAZ-UHFFFAOYSA-N 4-nonyl-4-phenoxytridecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCCCCCCC)(CCCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 XXSDRJUQIXHGAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTPDRIJQXKEGS-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxytridecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(CCCS(O)(=O)=O)OC1=CC=CC=C1 IWTPDRIJQXKEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYLOSPCJTPLXSF-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2-anilinobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 HYLOSPCJTPLXSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWPJYQYRSWYIGZ-UHFFFAOYSA-N 5-aminonaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 UWPJYQYRSWYIGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMOLPZZVECHXKN-UHFFFAOYSA-N 7-aminonaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C(S(O)(=O)=O)C2=CC(N)=CC=C21 CMOLPZZVECHXKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002014 Aerosil® 130 Inorganic materials 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N Butyl levulinate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(C)=O ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAPUZOOHJHDNK-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)CCP(O)(O)O Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CCP(O)(O)O POAPUZOOHJHDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDDRFPLWSBYNLZ-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)CC[P] Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CC[P] QDDRFPLWSBYNLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001263 FEMA 3042 Substances 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPOOUUJWTUWOCG-UHFFFAOYSA-N OP(O)(O)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 Chemical compound OP(O)(O)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 HPOOUUJWTUWOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILJSNXGQARQSW-UHFFFAOYSA-N OP(O)(O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound OP(O)(O)C1=CC=CC=C1 DILJSNXGQARQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N Penta-digallate-beta-D-glucose Natural products OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- AFCIMSXHQSIHQW-UHFFFAOYSA-N [O].[P] Chemical compound [O].[P] AFCIMSXHQSIHQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N alpha-glycerophosphate Natural products OCC(O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzylalcohol Natural products CC1=CC=CC=C1CO XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N alpha-phenylbenzeneacetic acid Natural products C=1C=CC=CC=1C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N ammonium oxalate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C([O-])=O VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940052223 basic fuchsin Drugs 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- YTFJQDNGSQJFNA-UHFFFAOYSA-N benzyl dihydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OCC1=CC=CC=C1 YTFJQDNGSQJFNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAUSZEXXGVYYQH-UHFFFAOYSA-N benzylphosphonous acid Chemical compound OP(O)CC1=CC=CC=C1 IAUSZEXXGVYYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CCCCOC(C)=O HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005460 butyl levulinate Drugs 0.000 description 1
- UDHMTPILEWBIQI-UHFFFAOYSA-N butyl naphthalene-1-sulfonate;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OCCCC)=CC=CC2=C1 UDHMTPILEWBIQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COVFEVWNJUOYRL-UHFFFAOYSA-N digallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)=C1 COVFEVWNJUOYRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006840 diphenylmethane group Chemical class 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000001761 ethyl methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010944 ethyl methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-QWKBTXIPSA-N gallotannic acid Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-QWKBTXIPSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- KNQVWTDLQQGKSV-UHFFFAOYSA-O hydroxy-oxo-phenylphosphanium Chemical compound O[P+](=O)C1=CC=CC=C1 KNQVWTDLQQGKSV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- JESHZQPNPCJVNG-UHFFFAOYSA-L magnesium;sulfite Chemical compound [Mg+2].[O-]S([O-])=O JESHZQPNPCJVNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 1
- VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethene-1,2-diamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC=CNC1=CC=CC=C1 VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N n-acetyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NC(=O)C(C)=C OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C(C)=C FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enoylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(=O)C=C CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBNJJDAYHNCNRH-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphonous acid Chemical compound C1=CC=C2C(P(O)O)=CC=CC2=C1 VBNJJDAYHNCNRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- AMKYESDOVDKZKV-UHFFFAOYSA-N o-Orsellinic acid Natural products CC1=CC(O)=CC(O)=C1C(O)=O AMKYESDOVDKZKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940060184 oil ingredients Drugs 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N oxolan-2-ylmethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC1CCCO1 GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000005440 p-toluyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- CGNKSELPNJJTSM-UHFFFAOYSA-N phenylphosphonous acid Chemical compound OP(O)C1=CC=CC=C1 CGNKSELPNJJTSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N sn-glycerol 3-phosphate Chemical compound OC[C@@H](O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- FGXAXWOAJVOILP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-[methyl(pentadecyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCN(C)CC([O-])=O FGXAXWOAJVOILP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229940033123 tannic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000015523 tannic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920002258 tannic acid Polymers 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072958 tetrahydrofurfuryl oleate Drugs 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117957 triethanolamine hydrochloride Drugs 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004961 triphenylmethanes Chemical class 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003732 xanthenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ジアゾニウム化合物及び高分子化合物を含有
するネガ型感光性組成物において、さらに下記一般式
(I)で表わされる少なくとも1種類の官能基が粒子表
面に化学結合により連結した表面改質シリカ微粒子を含
有することを特徴とする感光性組成物。 (式中、RはC、H、N、O、S、Siより選ばれた2種
以上の原子よりなる2価の連結基 A1 、A2 はO又はS、Q1 、Q3 、Q4 はH又は置換
基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基、Q2 は
置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示
し、Q2 は置換基を有してもよいC1〜C15の炭化水
素基を示し、又Yは以下のものを示す。) 【効果】 露光時の感度に優れ、短い露光時間でも十分
な硬化が得られる感光性組成物が提供される。感光性平
版印刷版に使用した場合に露光現像後得られる画像部の
皮膜強度は強く、耐摩耗性に優れており、平版印刷版製
造の作業効率、コスト等が著しく改善される。
するネガ型感光性組成物において、さらに下記一般式
(I)で表わされる少なくとも1種類の官能基が粒子表
面に化学結合により連結した表面改質シリカ微粒子を含
有することを特徴とする感光性組成物。 (式中、RはC、H、N、O、S、Siより選ばれた2種
以上の原子よりなる2価の連結基 A1 、A2 はO又はS、Q1 、Q3 、Q4 はH又は置換
基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基、Q2 は
置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示
し、Q2 は置換基を有してもよいC1〜C15の炭化水
素基を示し、又Yは以下のものを示す。) 【効果】 露光時の感度に優れ、短い露光時間でも十分
な硬化が得られる感光性組成物が提供される。感光性平
版印刷版に使用した場合に露光現像後得られる画像部の
皮膜強度は強く、耐摩耗性に優れており、平版印刷版製
造の作業効率、コスト等が著しく改善される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は平版印刷版、IC回路や
フォトマスク等の製造において好適に使用される感光性
組成物に関するものである。詳しくは、ジアゾニウム化
合物及び高分子化合物、さらに表面改質シリカ微粒子を
含有し、露光時の感度及び耐摩耗性の優れたネガ型感光
性組成物に関するものである。
フォトマスク等の製造において好適に使用される感光性
組成物に関するものである。詳しくは、ジアゾニウム化
合物及び高分子化合物、さらに表面改質シリカ微粒子を
含有し、露光時の感度及び耐摩耗性の優れたネガ型感光
性組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術及びその解決すべき課題】ネガ型に作用す
る系において感光性物質として使用されているものの大
多数はジアゾニウム化合物であり、その最も常用されて
いるものにp−ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデ
ヒド縮合物に代表されるジアゾ樹脂がある。ジアゾ樹脂
を用いた感光性平版印刷版の感光性層の組成物は、例え
ば米国特許第2,714,066 号明細書に記載されているよう
にジアゾ樹脂単独のもの、つまり結合剤を使用しないも
のと、例えば特開昭50−30604号公報に記載され
ているように結合剤とジアゾ樹脂が混合されているもの
に分類することができるが、近年ジアゾニウム化合物を
用いた感光性平版印刷版の多くのものは高耐刷性を持た
せるためにジアゾニウム化合物と結合剤となるポリマー
よりなっている。
る系において感光性物質として使用されているものの大
多数はジアゾニウム化合物であり、その最も常用されて
いるものにp−ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデ
ヒド縮合物に代表されるジアゾ樹脂がある。ジアゾ樹脂
を用いた感光性平版印刷版の感光性層の組成物は、例え
ば米国特許第2,714,066 号明細書に記載されているよう
にジアゾ樹脂単独のもの、つまり結合剤を使用しないも
のと、例えば特開昭50−30604号公報に記載され
ているように結合剤とジアゾ樹脂が混合されているもの
に分類することができるが、近年ジアゾニウム化合物を
用いた感光性平版印刷版の多くのものは高耐刷性を持た
せるためにジアゾニウム化合物と結合剤となるポリマー
よりなっている。
【0003】このような感光層としては特開昭50−1
18802号公報に記載されているように、未露光部が
水性アルカリ現像液によって除去(現像)される所謂ア
ルカリ現像型と、有機溶剤系現像液によって除去される
所謂溶剤現像型が知られているが、労働安全衛生上、ア
ルカリ現像型が注目されており、これは主に結合剤の性
質により決まる。結合剤にアルカリ現像性を持たせる方
法としては前記特開昭50−118802号公報に記載
されているようにカルボン酸含有のモノマーを共重合さ
せるか、米国特許第2861058号明細書に記載され
ているようにポリビニルアルコールのヒドロキシル基と
無水フタル酸のような環状酸無水物を反応させることに
よりポリマー中にカルボン酸を導入する方法がある。
18802号公報に記載されているように、未露光部が
水性アルカリ現像液によって除去(現像)される所謂ア
ルカリ現像型と、有機溶剤系現像液によって除去される
所謂溶剤現像型が知られているが、労働安全衛生上、ア
ルカリ現像型が注目されており、これは主に結合剤の性
質により決まる。結合剤にアルカリ現像性を持たせる方
法としては前記特開昭50−118802号公報に記載
されているようにカルボン酸含有のモノマーを共重合さ
せるか、米国特許第2861058号明細書に記載され
ているようにポリビニルアルコールのヒドロキシル基と
無水フタル酸のような環状酸無水物を反応させることに
よりポリマー中にカルボン酸を導入する方法がある。
【0004】しかしながら、いずれの感光性組成物も十
分な感度を有しておらず、短い露光時間では、十分な画
像が得られない。さらに、このような感光性組成物から
得られた感光性平版印刷版からは、耐刷力の低い平版印
刷版しか得られないという欠点を有していた。また、特
開昭57−197537号公報に記載されているシリカ
粒子、4級窒素原子を有する重合体及び感光性ジアゾ化
合物を含有する感光性組成物や、特開昭57−1416
39号公報に記載されているシリカ粒子、水不溶化する
感光性樹脂を含有する感光性組成物のように現像を水の
みで行う水現像型も知られており、いずれも通常充填剤
として用いられているシリカ微粒子あるいは疎水性シリ
カ微粒子を用いているが、やはり感度が低く、耐刷力も
低いという欠点を有していた。
分な感度を有しておらず、短い露光時間では、十分な画
像が得られない。さらに、このような感光性組成物から
得られた感光性平版印刷版からは、耐刷力の低い平版印
刷版しか得られないという欠点を有していた。また、特
開昭57−197537号公報に記載されているシリカ
粒子、4級窒素原子を有する重合体及び感光性ジアゾ化
合物を含有する感光性組成物や、特開昭57−1416
39号公報に記載されているシリカ粒子、水不溶化する
感光性樹脂を含有する感光性組成物のように現像を水の
みで行う水現像型も知られており、いずれも通常充填剤
として用いられているシリカ微粒子あるいは疎水性シリ
カ微粒子を用いているが、やはり感度が低く、耐刷力も
低いという欠点を有していた。
【0005】さらに、特開昭62−52548号公報に
はエチレン性不飽和付加重合物、アルカリ可溶性かつフ
ィルム形成可能な重合体、光重合開始剤、表面が疎水化
された微粒子(シランカップリング剤、改質シリカ微粒
子も含む)を含有する感光性組成物の記載がある。しか
しながら、これも感度、耐刷力においてはやはり不十分
であった。
はエチレン性不飽和付加重合物、アルカリ可溶性かつフ
ィルム形成可能な重合体、光重合開始剤、表面が疎水化
された微粒子(シランカップリング剤、改質シリカ微粒
子も含む)を含有する感光性組成物の記載がある。しか
しながら、これも感度、耐刷力においてはやはり不十分
であった。
【0006】従って、本発明の目的は短い露光時間でも
十分な画像形成ができ、かつ画像部の皮膜強度が強く耐
摩耗性の優れたネガ型感光性組成物を提供することであ
る。
十分な画像形成ができ、かつ画像部の皮膜強度が強く耐
摩耗性の優れたネガ型感光性組成物を提供することであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意検討した結果、新規な感光性組成物を使
用することにより、これらの目的が達成されることを見
い出し、本発明に到達した。即ち本発明は、ジアゾニウ
ム化合物及び高分子化合物を含有するネガ型感光性組成
物において、さらに下記一般式(I)で表わされる少な
くとも1種類の官能基が粒子表面に化学結合により連結
した表面改質シリカ微粒子を含有することを特徴とする
感光性組成物に関するものである。
達成すべく鋭意検討した結果、新規な感光性組成物を使
用することにより、これらの目的が達成されることを見
い出し、本発明に到達した。即ち本発明は、ジアゾニウ
ム化合物及び高分子化合物を含有するネガ型感光性組成
物において、さらに下記一般式(I)で表わされる少な
くとも1種類の官能基が粒子表面に化学結合により連結
した表面改質シリカ微粒子を含有することを特徴とする
感光性組成物に関するものである。
【0008】
【化3】
【0009】式中、RはC、H、N、O、S、Siより選
ばれた2種以上の原子よりなる2価の連結基を示し、Y
は
ばれた2種以上の原子よりなる2価の連結基を示し、Y
は
【0010】
【化4】
【0011】を示し、また、A1 、A2 はそれぞれO又
はSを示し、Q1 、Q3 、Q4 はそれぞれH又は置換基
を有しいてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示し、Q2
は置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を
示す。
はSを示し、Q1 、Q3 、Q4 はそれぞれH又は置換基
を有しいてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示し、Q2
は置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を
示す。
【0012】以下、本発明について詳述する。表面改質シリカ粒子 本発明において使用される上記一般式(I)で表わされ
る少なくとも1種類の官能基が粒子表面に化学結合によ
り連結した表面改質シリカ微粒子は、好ましくは、下記
一般式(II) 〜(V) で表わされるシランカップリング
剤を用いて、シリカ微粒子を表面改質するか、又は上記
により得られたシランカップリング剤改質シリカ微粒子
をさらに、HNO3等の無機酸及びアルコール、カルボン酸
等により処理することにより得られる。
る少なくとも1種類の官能基が粒子表面に化学結合によ
り連結した表面改質シリカ微粒子は、好ましくは、下記
一般式(II) 〜(V) で表わされるシランカップリング
剤を用いて、シリカ微粒子を表面改質するか、又は上記
により得られたシランカップリング剤改質シリカ微粒子
をさらに、HNO3等の無機酸及びアルコール、カルボン酸
等により処理することにより得られる。
【0013】
【化5】
【0014】式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれC、
H、N、O、S、Siより選ばれた2種以上の原子よりな
る2価の連結基を示し、Y1 、Y2 、Y3 はそれぞれ
H、N、O、S、Siより選ばれた2種以上の原子よりな
る2価の連結基を示し、Y1 、Y2 、Y3 はそれぞれ
【0015】
【化6】
【0016】またA1 、A2 はそれぞれO又はSを示
し、M1 はハロゲン原子を示し、M2 はH又は金属又は
置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示
し、Q1 、Q3 、Q4 はそれぞれ水素原子又は置換基を
有していてもよいC1 〜C 15の炭化水素基を示し、Q2
は置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を
示す。
し、M1 はハロゲン原子を示し、M2 はH又は金属又は
置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示
し、Q1 、Q3 、Q4 はそれぞれ水素原子又は置換基を
有していてもよいC1 〜C 15の炭化水素基を示し、Q2
は置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を
示す。
【0017】X1 、X2 、X3 はそれぞれ、水素原子、
ハロゲン原子、−OQ5 、−O−CO−Q5、−N(Q6)(Q7) 、
−OSO2CF3 、また、Q5 は置換基を有してもよいC1 〜
C15の炭化水素基を示し、Q6 は水素原子または置換基
を有してもよいC1 〜C15の炭化水素基を示し、Q7 は
Siを含んでいてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示す。
ハロゲン原子、−OQ5 、−O−CO−Q5、−N(Q6)(Q7) 、
−OSO2CF3 、また、Q5 は置換基を有してもよいC1 〜
C15の炭化水素基を示し、Q6 は水素原子または置換基
を有してもよいC1 〜C15の炭化水素基を示し、Q7 は
Siを含んでいてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示す。
【0018】この中でも特に好適に用いることができる
シランカップリング剤としてX1 、X2 、X3 がそれぞ
れハロゲン原子又は−OQ5 (Q5 は置換基を有していて
もよくC1 〜C15の炭化水素基を示す。)のものが挙げ
られる。本発明において好適に用いられるシランカップ
リング剤としては、例えば
シランカップリング剤としてX1 、X2 、X3 がそれぞ
れハロゲン原子又は−OQ5 (Q5 は置換基を有していて
もよくC1 〜C15の炭化水素基を示す。)のものが挙げ
られる。本発明において好適に用いられるシランカップ
リング剤としては、例えば
【0019】
【化7】
【0020】
【化8】
【0021】
【化9】
【0022】
【化10】
【0023】
【化11】
【0024】等が挙げられる。また、上述の改質に用い
るシリカ微粒子とは、無水珪酸(SiO2) を主成分とする
粒子であり、各種市販品を用いることができる。シリカ
粒子の粒径は、好ましくは約1nmから500nmまでの範
囲である。より好ましくは100nm以下である。
るシリカ微粒子とは、無水珪酸(SiO2) を主成分とする
粒子であり、各種市販品を用いることができる。シリカ
粒子の粒径は、好ましくは約1nmから500nmまでの範
囲である。より好ましくは100nm以下である。
【0025】具体的には、日産化学工業(株)製 スノ
ーテックスOL(粒径45nmシリカ20%コロイド水溶
液)、日本アエロジル(株)製 AEROSIL130
(粒径16nmシリカ)、水澤化学工業(株)製 ミズカ
シルP−527U(粒径60nmシリカ)等が挙げられ
る。また、上記のシランカップリング剤による表面改質
シリカ微粒子は従来から公知の表面改質法によって製造
することができる。
ーテックスOL(粒径45nmシリカ20%コロイド水溶
液)、日本アエロジル(株)製 AEROSIL130
(粒径16nmシリカ)、水澤化学工業(株)製 ミズカ
シルP−527U(粒径60nmシリカ)等が挙げられ
る。また、上記のシランカップリング剤による表面改質
シリカ微粒子は従来から公知の表面改質法によって製造
することができる。
【0026】具体的には、鈴木昇、湯沢信子、遠藤敦、
宇津木弘「(色材)」57、429(1984)、吉岡
博、池野正行「表面」21、33(1983)、宇津木
弘「表面」16、525(1978)、K. Tanaka, et
al., Bull. Chem. Soc. Jpn., 53、1242(198
0)、M. L. Hair, W. Hertl. J. Phys. Chem., 77、
1965(1973)、Ya. Davydov et. al., Chromat
ographia, 14、13(1981)、K. Unger et al.
Colloid polym. Sci.,252、317(1974)、R.
Burwell, O. Leal. J. Chem. Soc.Chem. Commun., 3
42(1974)、W. Stoeber, Kolloid-Z.149、3
9(1956)、Franz.Pat. 1368765DAS 1163784
等の総説及びそれに引例の文献、特許等に記載の方法に
従って合成することができる。
宇津木弘「(色材)」57、429(1984)、吉岡
博、池野正行「表面」21、33(1983)、宇津木
弘「表面」16、525(1978)、K. Tanaka, et
al., Bull. Chem. Soc. Jpn., 53、1242(198
0)、M. L. Hair, W. Hertl. J. Phys. Chem., 77、
1965(1973)、Ya. Davydov et. al., Chromat
ographia, 14、13(1981)、K. Unger et al.
Colloid polym. Sci.,252、317(1974)、R.
Burwell, O. Leal. J. Chem. Soc.Chem. Commun., 3
42(1974)、W. Stoeber, Kolloid-Z.149、3
9(1956)、Franz.Pat. 1368765DAS 1163784
等の総説及びそれに引例の文献、特許等に記載の方法に
従って合成することができる。
【0027】また、これら記載の方法により得られた改
質シリカ微粒子をさらに HNO3 等の無機酸及びアルコー
ル、カルボン酸などにより処理するとは、具体的には、
以下の反応等が挙げられる。
質シリカ微粒子をさらに HNO3 等の無機酸及びアルコー
ル、カルボン酸などにより処理するとは、具体的には、
以下の反応等が挙げられる。
【0028】
【化12】
【0029】但し、Z、Z1 はそれぞれN、Oを含んで
いてもよいC1 〜C30の炭化水素基を示す。本発明に使
用される改質シリカ微粒子の添加量は、ジアゾニウム化
合物及び高分子化合物及び改質シリカ粒子を含む感光性
組成物全重量に対して、0.1〜60重量%、好ましくは
0.5〜25重量%である。0.1重量%より添加量が少な
いと、該改質シリカ微粒子の効果はほとんど認められ
ず、また60重量%より添加量が多いと、膜強度低下が
生じる。ジアゾニウム化合物 本発明に使用されるジアゾニウム化合物としては、例え
ばp−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドまた
はアセトアルデヒドの縮合物と、ヘキサフルオロリン酸
塩、テトラフルオロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反応生
成物であるジアゾ樹脂無機塩、また米国特許第3,300,30
9 号明細書に記載されているような、前記縮合物とスル
ホン酸類、例えばパラトルエンスルホン酸またはその
塩、ホスフィン酸類例えばベンゼンホスフィン酸または
その塩、ヒドロキシル基含有化合物、例えば、2,4−
ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン−5−スルホン酸またはその塩等
との反応生成物、さらに特開昭58−209733号公
報、同62−175731号公報、同63−26264
号公報に記載されている長鎖のアルキル基を有するスル
ホン酸との反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹
脂、さらに特公昭49−48001号公報に記載された
芳香族化合物との共縮合ジアゾ樹脂等が好ましく用いら
れる。
いてもよいC1 〜C30の炭化水素基を示す。本発明に使
用される改質シリカ微粒子の添加量は、ジアゾニウム化
合物及び高分子化合物及び改質シリカ粒子を含む感光性
組成物全重量に対して、0.1〜60重量%、好ましくは
0.5〜25重量%である。0.1重量%より添加量が少な
いと、該改質シリカ微粒子の効果はほとんど認められ
ず、また60重量%より添加量が多いと、膜強度低下が
生じる。ジアゾニウム化合物 本発明に使用されるジアゾニウム化合物としては、例え
ばp−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドまた
はアセトアルデヒドの縮合物と、ヘキサフルオロリン酸
塩、テトラフルオロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反応生
成物であるジアゾ樹脂無機塩、また米国特許第3,300,30
9 号明細書に記載されているような、前記縮合物とスル
ホン酸類、例えばパラトルエンスルホン酸またはその
塩、ホスフィン酸類例えばベンゼンホスフィン酸または
その塩、ヒドロキシル基含有化合物、例えば、2,4−
ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン−5−スルホン酸またはその塩等
との反応生成物、さらに特開昭58−209733号公
報、同62−175731号公報、同63−26264
号公報に記載されている長鎖のアルキル基を有するスル
ホン酸との反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹
脂、さらに特公昭49−48001号公報に記載された
芳香族化合物との共縮合ジアゾ樹脂等が好ましく用いら
れる。
【0030】さらにまた特願平3−110293号、同
3−120380号に開示されたエポキシ樹脂との開環
重合反応により合成されたジアゾ樹脂及び特開昭58−
187925号公報に記載されたオレフィン性不飽和化
合物による反応により合成されたジアゾ樹脂を用いても
よい。本発明において、好適に用いることができる他の
ジアゾ樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフ
ィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基のうち
の少なくとも一つの有機基を有する芳香族化合物と、ジ
アゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウム化合
物とを構造単位として含む共縮合体である。
3−120380号に開示されたエポキシ樹脂との開環
重合反応により合成されたジアゾ樹脂及び特開昭58−
187925号公報に記載されたオレフィン性不飽和化
合物による反応により合成されたジアゾ樹脂を用いても
よい。本発明において、好適に用いることができる他の
ジアゾ樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフ
ィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基のうち
の少なくとも一つの有機基を有する芳香族化合物と、ジ
アゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウム化合
物とを構造単位として含む共縮合体である。
【0031】前記カルボキシル基、スルホン酸基、スル
フィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基(以
下、これらの基を「酸基」ともいう)のうちの少なくと
も一つを有する芳香族化合物は、少なくとも一つの酸基
で置換した芳香族環を分子中に含むものであって、この
場合、上記酸基のうち二つ以上が同一の芳香族環に置換
されていてもよい。
フィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基(以
下、これらの基を「酸基」ともいう)のうちの少なくと
も一つを有する芳香族化合物は、少なくとも一つの酸基
で置換した芳香族環を分子中に含むものであって、この
場合、上記酸基のうち二つ以上が同一の芳香族環に置換
されていてもよい。
【0032】そして上記の芳香族環としては、好ましく
はフェニル基、ナフチル基を挙げることができる。また
前記の酸基は芳香族環に直接結合していてもよく、連結
基を介して結合していてもよい。連結基としては例えば
エーテル結合を含む炭素数1以上の基を挙げることがで
きる。
はフェニル基、ナフチル基を挙げることができる。また
前記の酸基は芳香族環に直接結合していてもよく、連結
基を介して結合していてもよい。連結基としては例えば
エーテル結合を含む炭素数1以上の基を挙げることがで
きる。
【0033】前述のカルボキシル基、スルホン酸基、ス
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うちの少なくとも一つを含有する芳香族化合物の具体例
としては、安息香酸、o−クロロ安息香酸、m−クロロ
安息香酸、p−クロロ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、p−メトキシフ
ェニル酢酸、p−メトキシ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、2,4−ジメチル安息香酸、p−フェノキ
シ安息香酸、4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキ
シアニリノ)安息香酸、4−(p−メトキシベンゾイ
ル)安息香酸、4−(p−メチルアニリノ)安息香酸、
4−フェニルスルホニル安息香酸、フェノール、(o,
m,p)−クレゾール、キシレノール、レゾルシン、2
−メチルレゾルシン、(o,m,p)−メトキシフェノ
ール、m−エトキシフェノール、カテコール、フロログ
ルシン、p−ヒドロキシエチルフェノール、ナフトー
ル、ピロガロール、ヒドロキノン、p−ヒドロキシベン
ジルアルコール、4−クロロレゾルシン、ビフェニル
4,4′−ジオール、1,2,4−ベンゼントリオー
ル、ビスフェノールA、2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、
p−ヒドロキシアセトフェノン、4,4−ジヒドロキシ
ジフェニルエーテル、4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルアミン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィ
ドクミルフェノール、(o,m,p)−クロロフェノー
ル、(o,m,p)−ブロモフェノール、サリチル酸、
4−メチルサリチル酸、6−メチルサリチル酸、4−エ
チルサリチル酸、6−プロピルサリチル酸、6−ラウリ
ルサリチル酸、6−ステアリルサリチル酸、4,6−ジ
メチルサリチル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、2−メチ
ル−4−ヒドロキシ安息香酸、6−メチル−4−ヒドロ
キシ安息香酸、2,6−ジメチル−4−ヒドロキシ安息
香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒド
ロキシ−6−メチル安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安
息香酸、2,6−ジヒドロキシ−4−メチル安息香酸、
4−クロロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸、4−メト
キシ−2,6−ジオキシ安息香酸、没食子酸、フロログ
ルシンカルボン酸、2,4,5−トリヒドロキシ安息香
酸、m−ガロイル没食子酸、タンニン酸、m−ベンゾイ
ル没食子酸、m−(p−トルイル)没食子酸、プロトカ
テクオイル−没食子酸、4,6−ジヒドロキシフタル
酸、(2,4−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(2,6
−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(3,4,5−トリヒ
ドロキシフェニル)酢酸、p−ヒドロキシメチル安息香
酸、p−ヒドロキシエチル安息香酸、4−(p−ヒドロ
キシフェニル)メチル安息香酸、4−(o−ヒドロキシ
ベンゾイル)安息香酸、4−(2,4−ジヒドロキシベ
ンゾイル)安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェノキ
シ)安息香酸、4−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香
酸、ビス(3−カルボキシ−4−ヒドロキシフェニル)
アミン、4−(p−ヒドロキシフェニルスルホニル)安
息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニルチオ)安息香
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベ
ンゼンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸、アニ
リン−2−スルホン酸、4−アミノ−m−トルエンスル
ホン酸、2,5−ジアミノベンゼンスルホン酸、1−ナ
フタレンスルホン酸、1−アミノ−2−ナフタレンスル
ホン酸、5−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、7−
アミノ−1,3−ナフタレンジスルホン酸、2−アミノ
−1,5−ナフタレンジスルホン酸、2−スルホ安息香
酸、(これらのスルホン酸またはスルフィン酸は、遊離
のスルホン酸またはスルフィン酸であってもよいし、ナ
トリウム、カリウム、リチウム、セシウム、カルシウ
ム、バリウム、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛など
の金属塩または、無置換もしくは置換アルミニウム塩で
あってもよい)、フェニルリン酸、フェニル亜リン酸、
フェニルホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸、ベンジルリン
酸、ベンジル亜リン酸、ベンジルホスホン酸、ベンジル
亜ホスホン酸、ベンジルホスフィン酸、ベンジル亜ホス
フィン酸、2−フェニルエチルリン酸、2−フェニルエ
チル亜リン酸、1−ナフチルリン酸、1−ナフチル亜リ
ン酸、1−ナフチルホスホン酸、1−ナフチル亜ホスホ
ン酸、1−ナフチルホスフィン酸、1−ナフチル亜ホス
フィン酸、2−ナフチルリン酸等が挙げられる。
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うちの少なくとも一つを含有する芳香族化合物の具体例
としては、安息香酸、o−クロロ安息香酸、m−クロロ
安息香酸、p−クロロ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、p−メトキシフ
ェニル酢酸、p−メトキシ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、2,4−ジメチル安息香酸、p−フェノキ
シ安息香酸、4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキ
シアニリノ)安息香酸、4−(p−メトキシベンゾイ
ル)安息香酸、4−(p−メチルアニリノ)安息香酸、
4−フェニルスルホニル安息香酸、フェノール、(o,
m,p)−クレゾール、キシレノール、レゾルシン、2
−メチルレゾルシン、(o,m,p)−メトキシフェノ
ール、m−エトキシフェノール、カテコール、フロログ
ルシン、p−ヒドロキシエチルフェノール、ナフトー
ル、ピロガロール、ヒドロキノン、p−ヒドロキシベン
ジルアルコール、4−クロロレゾルシン、ビフェニル
4,4′−ジオール、1,2,4−ベンゼントリオー
ル、ビスフェノールA、2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、
p−ヒドロキシアセトフェノン、4,4−ジヒドロキシ
ジフェニルエーテル、4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルアミン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィ
ドクミルフェノール、(o,m,p)−クロロフェノー
ル、(o,m,p)−ブロモフェノール、サリチル酸、
4−メチルサリチル酸、6−メチルサリチル酸、4−エ
チルサリチル酸、6−プロピルサリチル酸、6−ラウリ
ルサリチル酸、6−ステアリルサリチル酸、4,6−ジ
メチルサリチル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、2−メチ
ル−4−ヒドロキシ安息香酸、6−メチル−4−ヒドロ
キシ安息香酸、2,6−ジメチル−4−ヒドロキシ安息
香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒド
ロキシ−6−メチル安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安
息香酸、2,6−ジヒドロキシ−4−メチル安息香酸、
4−クロロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸、4−メト
キシ−2,6−ジオキシ安息香酸、没食子酸、フロログ
ルシンカルボン酸、2,4,5−トリヒドロキシ安息香
酸、m−ガロイル没食子酸、タンニン酸、m−ベンゾイ
ル没食子酸、m−(p−トルイル)没食子酸、プロトカ
テクオイル−没食子酸、4,6−ジヒドロキシフタル
酸、(2,4−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(2,6
−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(3,4,5−トリヒ
ドロキシフェニル)酢酸、p−ヒドロキシメチル安息香
酸、p−ヒドロキシエチル安息香酸、4−(p−ヒドロ
キシフェニル)メチル安息香酸、4−(o−ヒドロキシ
ベンゾイル)安息香酸、4−(2,4−ジヒドロキシベ
ンゾイル)安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェノキ
シ)安息香酸、4−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香
酸、ビス(3−カルボキシ−4−ヒドロキシフェニル)
アミン、4−(p−ヒドロキシフェニルスルホニル)安
息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニルチオ)安息香
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベ
ンゼンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸、アニ
リン−2−スルホン酸、4−アミノ−m−トルエンスル
ホン酸、2,5−ジアミノベンゼンスルホン酸、1−ナ
フタレンスルホン酸、1−アミノ−2−ナフタレンスル
ホン酸、5−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、7−
アミノ−1,3−ナフタレンジスルホン酸、2−アミノ
−1,5−ナフタレンジスルホン酸、2−スルホ安息香
酸、(これらのスルホン酸またはスルフィン酸は、遊離
のスルホン酸またはスルフィン酸であってもよいし、ナ
トリウム、カリウム、リチウム、セシウム、カルシウ
ム、バリウム、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛など
の金属塩または、無置換もしくは置換アルミニウム塩で
あってもよい)、フェニルリン酸、フェニル亜リン酸、
フェニルホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸、ベンジルリン
酸、ベンジル亜リン酸、ベンジルホスホン酸、ベンジル
亜ホスホン酸、ベンジルホスフィン酸、ベンジル亜ホス
フィン酸、2−フェニルエチルリン酸、2−フェニルエ
チル亜リン酸、1−ナフチルリン酸、1−ナフチル亜リ
ン酸、1−ナフチルホスホン酸、1−ナフチル亜ホスホ
ン酸、1−ナフチルホスフィン酸、1−ナフチル亜ホス
フィン酸、2−ナフチルリン酸等が挙げられる。
【0034】これらのうち特に好ましいのは、4−メト
キシ安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安
息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキ
シ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレ
ンスルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸で
ある。
キシ安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安
息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキ
シ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレ
ンスルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸で
ある。
【0035】前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす
芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭49−4
8001号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩
を用いることができるが、特に、ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン
類から誘導されるが、このような4−アミノ−ジフェニ
ルアミン類としては、4−アミノ−ジフェニルアミン、
4−アミノ−3−メトキシ−ジフェニルアミン、4−ア
ミノ−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ
−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4
−メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチ
ルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフ
ェニルアミン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシエトキ
シジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン−
2−スルホン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−
カルボン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2′−カ
ルボン酸等が挙げられ、特に好ましくは、3−メトキシ
−4−アミノ−4−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジ
フェニルアミンである。
芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭49−4
8001号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩
を用いることができるが、特に、ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン
類から誘導されるが、このような4−アミノ−ジフェニ
ルアミン類としては、4−アミノ−ジフェニルアミン、
4−アミノ−3−メトキシ−ジフェニルアミン、4−ア
ミノ−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ
−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4
−メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチ
ルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフ
ェニルアミン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシエトキ
シジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン−
2−スルホン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−
カルボン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2′−カ
ルボン酸等が挙げられ、特に好ましくは、3−メトキシ
−4−アミノ−4−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジ
フェニルアミンである。
【0036】上記共縮合ジアゾ樹脂は、公知の方法、例
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(Photo. Sci., Eng.)第17巻、第33頁
(1973)、米国特許第2,063,631号、同第2,679,498
号各明細書記載の方法に従い、硫酸やリン酸あるいは
塩酸中でジアゾニウム塩、酸基を有する芳香族化合物及
びアルデヒド類、例えばパラホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケトン類、例え
ばアセトン、アセトフェノンとを重結合させることによ
って得られる。また特公昭49−45322号公報、同
49−45323号公報記載の方法を用いても合成する
ことができる。
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(Photo. Sci., Eng.)第17巻、第33頁
(1973)、米国特許第2,063,631号、同第2,679,498
号各明細書記載の方法に従い、硫酸やリン酸あるいは
塩酸中でジアゾニウム塩、酸基を有する芳香族化合物及
びアルデヒド類、例えばパラホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケトン類、例え
ばアセトン、アセトフェノンとを重結合させることによ
って得られる。また特公昭49−45322号公報、同
49−45323号公報記載の方法を用いても合成する
ことができる。
【0037】酸基のうち少なくとも一つを有する芳香族
化合物と芳香族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.
1〜0.1:1、好ましくは1:0.5〜0.2:1、より好
ましくは1:1〜0.2:1である。またこの場合酸基の
うち少なくとも一つを有する芳香族化合物及び芳香族ジ
アゾ化合物の合計とアルデヒド類またはケトン類とをモ
ル比で通常1:0.5〜2.0、好ましくは1:0.7〜1.5
で仕込み、低温で短時間、例えば3時間程度反応させる
ことにより共縮合ジアゾ樹脂が得られる。
化合物と芳香族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.
1〜0.1:1、好ましくは1:0.5〜0.2:1、より好
ましくは1:1〜0.2:1である。またこの場合酸基の
うち少なくとも一つを有する芳香族化合物及び芳香族ジ
アゾ化合物の合計とアルデヒド類またはケトン類とをモ
ル比で通常1:0.5〜2.0、好ましくは1:0.7〜1.5
で仕込み、低温で短時間、例えば3時間程度反応させる
ことにより共縮合ジアゾ樹脂が得られる。
【0038】また、以上の酸基を有する芳香族化合物と
の共縮合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特願平1
−130493号、特願平1−303705号及び特願
平2−53101号に開示された酸基を含有するアルデ
ヒドまたはそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹脂
も好ましく用いることができる。次にジアゾ樹脂の対ア
ニオンについて説明する。
の共縮合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特願平1
−130493号、特願平1−303705号及び特願
平2−53101号に開示された酸基を含有するアルデ
ヒドまたはそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹脂
も好ましく用いることができる。次にジアゾ樹脂の対ア
ニオンについて説明する。
【0039】対アニオンは、該ジアゾ樹脂と安定に塩を
形成し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶とするアニオンを
含む。これらは、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボ
ン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を
含み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、トルフ
ルオロメタンスルホン酸などのフルオロアルカンスルホ
ン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチルスルホコハク
酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、カンファースル
ホン酸、トリルオキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニ
ルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノ
キシ−4−ブタンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−3
−プロパンスルホン酸、ジアミルフェノキシ−3−プロ
パンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−3−プロパンス
ルホン酸、ジブチルフェノキシ−4−ブタンスルホン
酸、ジノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスル
ホン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、2,5−ジク
ロロベンゼンスルホン酸、スルホサリチル酸、2,5−
ジメチルベンゼンスルホン酸、p−アセチルベンゼンス
ルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、2−
ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホ
ン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5
−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン
酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスル
ホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼ
ンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン酸、2
−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スル
ホン酸、イソプロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナ
フタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、
オクチルナフタレンスルホン酸、ブトキシナフタレンス
ルホン酸、ドデシルオキシナフタレンスルホン酸、ジブ
チルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスル
ホン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、トリ
ブチルナフタレンスルホン酸、1−ナフトール−5−ス
ルホン酸、ナフタレン−1−スルホン酸、ナフタレン−
2−スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフタレン−3,
6−ジスルホン酸、ジメチル−5−スルホイソフタレー
ト等の脂肪族並びに芳香族スルホン酸、2,2′,4,
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、1,2,3−
トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2′,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン等の水酸基含有芳香族化合物、
ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロ
ゲン化ルイス酸、CIO4、IO4 等の過ハロゲン酸等が挙げ
られるが、これに限られるものではない。これらの中で
特に好ましいものは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジ
ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−ス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。
形成し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶とするアニオンを
含む。これらは、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボ
ン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を
含み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、トルフ
ルオロメタンスルホン酸などのフルオロアルカンスルホ
ン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチルスルホコハク
酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、カンファースル
ホン酸、トリルオキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニ
ルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノ
キシ−4−ブタンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−3
−プロパンスルホン酸、ジアミルフェノキシ−3−プロ
パンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−3−プロパンス
ルホン酸、ジブチルフェノキシ−4−ブタンスルホン
酸、ジノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスル
ホン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、2,5−ジク
ロロベンゼンスルホン酸、スルホサリチル酸、2,5−
ジメチルベンゼンスルホン酸、p−アセチルベンゼンス
ルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、2−
ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホ
ン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5
−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン
酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスル
ホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼ
ンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン酸、2
−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スル
ホン酸、イソプロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナ
フタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、
オクチルナフタレンスルホン酸、ブトキシナフタレンス
ルホン酸、ドデシルオキシナフタレンスルホン酸、ジブ
チルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスル
ホン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、トリ
ブチルナフタレンスルホン酸、1−ナフトール−5−ス
ルホン酸、ナフタレン−1−スルホン酸、ナフタレン−
2−スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフタレン−3,
6−ジスルホン酸、ジメチル−5−スルホイソフタレー
ト等の脂肪族並びに芳香族スルホン酸、2,2′,4,
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、1,2,3−
トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2′,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン等の水酸基含有芳香族化合物、
ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロ
ゲン化ルイス酸、CIO4、IO4 等の過ハロゲン酸等が挙げ
られるが、これに限られるものではない。これらの中で
特に好ましいものは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジ
ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−ス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。
【0040】本発明に使用するジアゾ樹脂は、各単量体
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
乃至100,000 のもの、好ましくは、約800乃至8,00
0のものが適当である。なお上記ジアゾ樹脂は単独で用
いてもよいし2種類以上の混合物で用いてもよい。
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
乃至100,000 のもの、好ましくは、約800乃至8,00
0のものが適当である。なお上記ジアゾ樹脂は単独で用
いてもよいし2種類以上の混合物で用いてもよい。
【0041】ジアゾ樹脂は全体で感光層中に1〜70重
量%、特に3〜60重量%含有されるのが望ましい。高分子化合物 本発明において好適に使用される高分子化合物として
は、下記(1)〜(15)に示すモノマーの1種以上を
その構造単位とする共重合体が挙げられる。(1) 芳香族
水酸基を有するアクリルアミド類、メタクリルアミド
類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類及
びヒドロキシスチレン類、例えばN−(4−ヒドロキシ
フェニル)アクリルアミドまたはN−(4−ヒドロキシ
フェニル)メタクリルアミド、o−,m−,p−ヒドロ
キシスチレン、o−,m−,p−ヒドロキシフェニル−
アクリレートまたはメタクリレート、(2) 脂肪族水酸基
を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エス
テル類、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレートまた
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、(3) アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン
酸、(4) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2
−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアク
リレート、(5) メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタクリレ
ート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
(置換)アルキルメタクリレート、(6) アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチルアク
リルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シク
ロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロ
フェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルア
クリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルア
ミド類、(7) エチルビニルエーテル、2−クロロエチル
ビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プ
ロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニル
エーテル類、(8) ビニルアセテート、ビニルクロロアセ
テート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニル
エステル類、(9) スチレン、α−メチルスチレン、クロ
ロメチルスチレン等のスチレン類、(10) メチルビニル
ケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、
フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、(11) エチ
レン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプ
レン等のオレフィン類、(12) N−ビニルピロリドン、
N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル等、(13) マレイミ
ド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメ
タクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、
N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不
飽和イミド、(14)N−(o−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノ)スルホ
ニルフェニルメタクリルアミド、N−(1−(3−アミ
ノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(2
−アミノスルホニルエチル)メタクリルアミド等のメタ
クリル酸アミド類、及び上記と同様の置換基を有するア
クリルアミド類、また、o−アミノスルホニルフェニル
メタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメタク
リレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、1−(3−アミノスルホニルナフチル)メタクリレ
ート等のメタクリル酸エステル類、及び上記と同様の置
換基を有するアクリル酸エステル類などの不飽和スルホ
ンアミド。
量%、特に3〜60重量%含有されるのが望ましい。高分子化合物 本発明において好適に使用される高分子化合物として
は、下記(1)〜(15)に示すモノマーの1種以上を
その構造単位とする共重合体が挙げられる。(1) 芳香族
水酸基を有するアクリルアミド類、メタクリルアミド
類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類及
びヒドロキシスチレン類、例えばN−(4−ヒドロキシ
フェニル)アクリルアミドまたはN−(4−ヒドロキシ
フェニル)メタクリルアミド、o−,m−,p−ヒドロ
キシスチレン、o−,m−,p−ヒドロキシフェニル−
アクリレートまたはメタクリレート、(2) 脂肪族水酸基
を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エス
テル類、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレートまた
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、(3) アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン
酸、(4) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2
−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアク
リレート、(5) メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタクリレ
ート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
(置換)アルキルメタクリレート、(6) アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチルアク
リルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シク
ロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロ
フェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルア
クリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルア
ミド類、(7) エチルビニルエーテル、2−クロロエチル
ビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プ
ロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニル
エーテル類、(8) ビニルアセテート、ビニルクロロアセ
テート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニル
エステル類、(9) スチレン、α−メチルスチレン、クロ
ロメチルスチレン等のスチレン類、(10) メチルビニル
ケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、
フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、(11) エチ
レン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプ
レン等のオレフィン類、(12) N−ビニルピロリドン、
N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル等、(13) マレイミ
ド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメ
タクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、
N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不
飽和イミド、(14)N−(o−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノ)スルホ
ニルフェニルメタクリルアミド、N−(1−(3−アミ
ノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(2
−アミノスルホニルエチル)メタクリルアミド等のメタ
クリル酸アミド類、及び上記と同様の置換基を有するア
クリルアミド類、また、o−アミノスルホニルフェニル
メタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメタク
リレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、1−(3−アミノスルホニルナフチル)メタクリレ
ート等のメタクリル酸エステル類、及び上記と同様の置
換基を有するアクリル酸エステル類などの不飽和スルホ
ンアミド。
【0042】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。上記モノマーの共重合によっ
て得られる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート等によって修飾したものも
含まれるがこれらに限られるものではない。更に、上記
共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有す
ることが好ましく、共重合体の好ましいカルボン酸価の
値は0〜4 meq/g、より好ましくは、0.5〜3.5 meq
/gである。
ーを共重合させてもよい。上記モノマーの共重合によっ
て得られる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート等によって修飾したものも
含まれるがこれらに限られるものではない。更に、上記
共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有す
ることが好ましく、共重合体の好ましいカルボン酸価の
値は0〜4 meq/g、より好ましくは、0.5〜3.5 meq
/gである。
【0043】更に(1)−(15)に示されたモノマー
の中でもとりわけ上記(2)、(12)に掲げたモノマ
ー、特に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレートまたはアクリロニトリル、
更に、上記(4)、(5)に掲げたモノマー、特にアク
リル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ベンジ
ル、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレー
ト、ブチルメタクリレートまたはベンジルメタクリレー
ト等を含有する共重合体が好ましい。
の中でもとりわけ上記(2)、(12)に掲げたモノマ
ー、特に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレートまたはアクリロニトリル、
更に、上記(4)、(5)に掲げたモノマー、特にアク
リル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ベンジ
ル、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレー
ト、ブチルメタクリレートまたはベンジルメタクリレー
ト等を含有する共重合体が好ましい。
【0044】また上記以外の好ましい高分子化合物とし
ては特開昭62−123452号公報に記載されたよう
なアルカリ可溶性基を有するポリウレタンや特開昭62
−169154号公報に記載されたようなアルカリ可溶
性基を有するポリビニルアセタール樹脂が挙げられる。
上記高分子化合物の好ましい分子量は重量平均で0.5万
〜30万でありさらに好ましくは1万〜20万である。
ては特開昭62−123452号公報に記載されたよう
なアルカリ可溶性基を有するポリウレタンや特開昭62
−169154号公報に記載されたようなアルカリ可溶
性基を有するポリビニルアセタール樹脂が挙げられる。
上記高分子化合物の好ましい分子量は重量平均で0.5万
〜30万でありさらに好ましくは1万〜20万である。
【0045】上記高分子化合物は単独で用いてもよいし
2種以上混合して用いてもよい。また上記高分子化合物
には必要に応じて、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ノボラッ
ク樹脂、天然樹脂等を添加してもよい。その他の添加剤 本発明に用いられる高分子化合物は感光性組成物の固形
分中に通常40〜99重量%、好ましくは50〜95重
量%含有させる。また、本発明に用いられる感光性ジア
ゾ樹脂は通常1〜60重量%、好ましくは3〜40重量
%含有させる。
2種以上混合して用いてもよい。また上記高分子化合物
には必要に応じて、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ノボラッ
ク樹脂、天然樹脂等を添加してもよい。その他の添加剤 本発明に用いられる高分子化合物は感光性組成物の固形
分中に通常40〜99重量%、好ましくは50〜95重
量%含有させる。また、本発明に用いられる感光性ジア
ゾ樹脂は通常1〜60重量%、好ましくは3〜40重量
%含有させる。
【0046】本発明の感光性組成物には、さらに色素を
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。該色素としては、フリーラジカルま
たは酸と反応して「色調を変化する」ものが好ましく使
用できる。ここに「色調が変化する」とは、無色から有
色の色調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の
色調への変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸
と塩を形成して色調を変化するものである。
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。該色素としては、フリーラジカルま
たは酸と反応して「色調を変化する」ものが好ましく使
用できる。ここに「色調が変化する」とは、無色から有
色の色調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の
色調への変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸
と塩を形成して色調を変化するものである。
【0047】例えば、ビクトリアピュアブルーBOH
〔保土谷化学製〕、オイルブルー#603〔オリエント
化学工業製〕、パテントピュアブルー〔住友三国化学
製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリー
ン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチル
グリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マラ
カイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープ
ル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミ
ノフェニルイミノナフトキノン、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系また
はアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異な
る有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられる。
〔保土谷化学製〕、オイルブルー#603〔オリエント
化学工業製〕、パテントピュアブルー〔住友三国化学
製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリー
ン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチル
グリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マラ
カイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープ
ル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミ
ノフェニルイミノナフトキノン、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系また
はアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異な
る有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられる。
【0048】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好まし
くは、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素
が有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタ
ン系色素であり、特にビクトリアピュアブルーBOHで
ある。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好まし
くは、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素
が有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタ
ン系色素であり、特にビクトリアピュアブルーBOHで
ある。
【0049】上記色素は、感光性組成物中に通常約0.5
〜約10重量%含有させることが好ましく、より好まし
くは約1〜5重量%含有させる。本発明の感光性組成物
には、更に種々の添加物を加えることができる。例え
ば、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例え
ばエチルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界
面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤(特にフッ素系界
面活性剤が好ましい)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与
するための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー及びポ
リマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好まし
い)、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤(例
えば特開昭55−527号公報記載のスチレン−無水マ
レイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル化
物、p−t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
などのノボラック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50
%脂肪酸エステル等)、安定剤(例えば、リン酸、亜リ
ン酸、有機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリ
チル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン
−5−スルホン酸、酒石酸等))、現像促進剤(例えば
高級アルコール、酸無水物等)等が好ましく用いられ
る。
〜約10重量%含有させることが好ましく、より好まし
くは約1〜5重量%含有させる。本発明の感光性組成物
には、更に種々の添加物を加えることができる。例え
ば、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例え
ばエチルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界
面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤(特にフッ素系界
面活性剤が好ましい)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与
するための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー及びポ
リマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好まし
い)、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤(例
えば特開昭55−527号公報記載のスチレン−無水マ
レイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル化
物、p−t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
などのノボラック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50
%脂肪酸エステル等)、安定剤(例えば、リン酸、亜リ
ン酸、有機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリ
チル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン
−5−スルホン酸、酒石酸等))、現像促進剤(例えば
高級アルコール、酸無水物等)等が好ましく用いられ
る。
【0050】これらの添加剤の添加量はその使用対象、
目的によって異なるが、一般に全固形分に対して、0.0
1〜30重量%である。本発明の感光性組成物を使用した感光性平版印刷版 上述の感光性組成物を支持体上に設けるには、感光性ジ
アゾ樹脂、高分子化合物、本発明の改質シリカ微粒子、
及び必要に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒
(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2
−プロパノール、メチルセロソルブアセテート、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、エチレンジクロライド、ジメチルスルホキシド、水
またはこれらの混合物等)中に溶解又は分散させ感光性
組成物の塗布液を調整し、これを支持体上に塗布、乾燥
すればよい。
目的によって異なるが、一般に全固形分に対して、0.0
1〜30重量%である。本発明の感光性組成物を使用した感光性平版印刷版 上述の感光性組成物を支持体上に設けるには、感光性ジ
アゾ樹脂、高分子化合物、本発明の改質シリカ微粒子、
及び必要に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒
(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2
−プロパノール、メチルセロソルブアセテート、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、エチレンジクロライド、ジメチルスルホキシド、水
またはこれらの混合物等)中に溶解又は分散させ感光性
組成物の塗布液を調整し、これを支持体上に塗布、乾燥
すればよい。
【0051】用いられる溶媒は単独でもよいが、メチル
セロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メ
チルのような高沸点溶媒と、メタノール、メチルエチル
ケトンのような低沸点溶媒との混合物とするとさらに好
ましい。塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜
50重量%の範囲とすることが望ましい。この場合、感
光性組成物の塗布量は、おおむね、0.2〜10g/m
2(乾燥重量)程度とすればよく、さらに好ましくは、
0.5〜3g/m2とするとよい。
セロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メ
チルのような高沸点溶媒と、メタノール、メチルエチル
ケトンのような低沸点溶媒との混合物とするとさらに好
ましい。塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜
50重量%の範囲とすることが望ましい。この場合、感
光性組成物の塗布量は、おおむね、0.2〜10g/m
2(乾燥重量)程度とすればよく、さらに好ましくは、
0.5〜3g/m2とするとよい。
【0052】このような感光性組成物を、適当な支持体
上に塗設して感光性平版印刷版とする。このような支持
体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)ラミネート紙、
アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等のようなプラスチックの
フィルム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着さ
れた紙もしくはプラスチックフィルム、アルミニウムも
しくはクロームメッキが施された銅版等が挙げられ、こ
れらのうち特に、アルミニウム及びアルミニウム被覆さ
れた複合支持体が好ましい。
上に塗設して感光性平版印刷版とする。このような支持
体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)ラミネート紙、
アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等のようなプラスチックの
フィルム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着さ
れた紙もしくはプラスチックフィルム、アルミニウムも
しくはクロームメッキが施された銅版等が挙げられ、こ
れらのうち特に、アルミニウム及びアルミニウム被覆さ
れた複合支持体が好ましい。
【0053】好ましく用いられるアルミニウム板の厚み
は、0.1mm〜0.6mmである。尚、本発明の感光性平版印
刷版は、片面のみ使用できるものであっても、両面とも
同様な処理によって使用できるものであってもよい。以
下は片面の場合に限って説明するが、両面使用できる感
光性平版印刷版を作製する場合は同様な処理を両面に施
せばよい。
は、0.1mm〜0.6mmである。尚、本発明の感光性平版印
刷版は、片面のみ使用できるものであっても、両面とも
同様な処理によって使用できるものであってもよい。以
下は片面の場合に限って説明するが、両面使用できる感
光性平版印刷版を作製する場合は同様な処理を両面に施
せばよい。
【0054】アルミニウム材の表面は、保水性を高め、
感光層との密着性を向上させる目的で表面処理されてい
ることが望ましい。例えば、粗面化方法として、一般に
公知のブラシ研摩法、ボール研磨法、電解エッチング、
化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等
の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好ましくはブ
ラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチング及び液
体ホーニングが挙げられ、これまでのうちで、特に電解
エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さら
に、特開昭54−63902号に記載されているように
ブラシ研磨した後、電解エッチングする方法も好まし
い。
感光層との密着性を向上させる目的で表面処理されてい
ることが望ましい。例えば、粗面化方法として、一般に
公知のブラシ研摩法、ボール研磨法、電解エッチング、
化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等
の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好ましくはブ
ラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチング及び液
体ホーニングが挙げられ、これまでのうちで、特に電解
エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さら
に、特開昭54−63902号に記載されているように
ブラシ研磨した後、電解エッチングする方法も好まし
い。
【0055】また、電解エッチングの際に用いられる電
解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水
溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これ
らのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。
解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水
溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これ
らのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。
【0056】こうして得られたアルミニウム板は、陽極
酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸
またはリン酸を含む浴で処理する方法が挙げられる。ま
た、更に必要に応じて米国特許第2,714,066 号明細書や
米国特許第3,181,461 号明細書に記載されている珪酸塩
処理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム)、米国特
許第2,946,638 号明細書に記載されている弗化ジルコニ
ウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247 号明細書に
記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第1,
108,559 号に記載されているアルキルチタネート処理、
独国特許第1,091,433 号明細書に記載されているポリア
クリル酸処理、独国特許第1,134,093 号明細書や英国特
許第1,230,447 号明細書に記載されているポリビニルホ
スホン酸処理、特公昭44-6409 号公報に記載されている
ホスホン酸処理、米国特許第3,307,951 号明細書に記載
されているフィチン酸処理、さらに特開昭58-16893号や
特開昭58-18291号の各公報に記載されている親油性有機
高分子化合物と2価の金属との塩による処理等を行った
ものは特に好ましい。
酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸
またはリン酸を含む浴で処理する方法が挙げられる。ま
た、更に必要に応じて米国特許第2,714,066 号明細書や
米国特許第3,181,461 号明細書に記載されている珪酸塩
処理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム)、米国特
許第2,946,638 号明細書に記載されている弗化ジルコニ
ウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247 号明細書に
記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第1,
108,559 号に記載されているアルキルチタネート処理、
独国特許第1,091,433 号明細書に記載されているポリア
クリル酸処理、独国特許第1,134,093 号明細書や英国特
許第1,230,447 号明細書に記載されているポリビニルホ
スホン酸処理、特公昭44-6409 号公報に記載されている
ホスホン酸処理、米国特許第3,307,951 号明細書に記載
されているフィチン酸処理、さらに特開昭58-16893号や
特開昭58-18291号の各公報に記載されている親油性有機
高分子化合物と2価の金属との塩による処理等を行った
ものは特に好ましい。
【0057】その他の親水化処理方法としては米国特許
第3,658,662号明細書に記載されているシリケート電着
をも挙げることが出来る。また、砂目立て処理及び陽極
酸化後、封孔処理を施したものも好ましい。かかる封孔
処理は熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への
浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。
第3,658,662号明細書に記載されているシリケート電着
をも挙げることが出来る。また、砂目立て処理及び陽極
酸化後、封孔処理を施したものも好ましい。かかる封孔
処理は熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への
浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。
【0058】本発明に用いられるのに適した支持体につ
いてさらに詳しくいうと、鉄を0.1〜0.5%、ケイ素を
0.03〜0.3%、銅を0.001〜0.03%、更にチタン
を0.002〜0.1%含有する1Sアルミ板を、アルカリ
好ましくは1〜30%の水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム等の水溶液に、
20〜80℃の温度で5秒〜250秒間浸漬してエッチ
ングする。エッチング浴には、アルミをアルカリの5分
の1程度加えてもよい。ついで、10〜30%硝酸また
は硫酸水溶液に20〜70℃の温度で5秒〜250秒間
浸漬して、アルカリエッチング後の中和及びスマット除
去を行う。
いてさらに詳しくいうと、鉄を0.1〜0.5%、ケイ素を
0.03〜0.3%、銅を0.001〜0.03%、更にチタン
を0.002〜0.1%含有する1Sアルミ板を、アルカリ
好ましくは1〜30%の水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム等の水溶液に、
20〜80℃の温度で5秒〜250秒間浸漬してエッチ
ングする。エッチング浴には、アルミをアルカリの5分
の1程度加えてもよい。ついで、10〜30%硝酸また
は硫酸水溶液に20〜70℃の温度で5秒〜250秒間
浸漬して、アルカリエッチング後の中和及びスマット除
去を行う。
【0059】このアルミニウム合金板の表面清浄化後、
以下に示す粗面化処理が行われる。粗面化処理として
は、ブラシ研磨または/および電解エッチング処理が適
している。ブラシ研磨はパミストン−水懸濁液とナイロ
ンブラシとを用いるのが好ましく平均表面粗さは0.25
〜0.9μmが好ましい。
以下に示す粗面化処理が行われる。粗面化処理として
は、ブラシ研磨または/および電解エッチング処理が適
している。ブラシ研磨はパミストン−水懸濁液とナイロ
ンブラシとを用いるのが好ましく平均表面粗さは0.25
〜0.9μmが好ましい。
【0060】電解エッチング処理に使用される電解液は
塩酸、または硝酸の水溶液であり、濃度は0.01〜3重
量%の範囲で使用することが好ましく、0.05〜2.5重
量%であれば更に好ましい。また、この電解液には必要
に応じて硝酸塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン類、
アルデヒド類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸ア
ンモニウム塩等の腐蝕抑制剤(または安定化剤)、砂目
の均一化剤などを加えることができる。また電解液中に
は、適当量(1〜10g/l)のアルミニウムイオンを
含んでいてもよい。
塩酸、または硝酸の水溶液であり、濃度は0.01〜3重
量%の範囲で使用することが好ましく、0.05〜2.5重
量%であれば更に好ましい。また、この電解液には必要
に応じて硝酸塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン類、
アルデヒド類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸ア
ンモニウム塩等の腐蝕抑制剤(または安定化剤)、砂目
の均一化剤などを加えることができる。また電解液中に
は、適当量(1〜10g/l)のアルミニウムイオンを
含んでいてもよい。
【0061】電解液の温度は通常10〜60℃で処理さ
れる。この際に使用される交流電流は、正負の極性が交
互に交換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波
いずれのものも用いることができ、通常の商用交流の単
相及び三相交流電流を用いることができる。また電流密
度は、5〜100A/dm2 で、10〜300秒間処理す
ることが望ましい。
れる。この際に使用される交流電流は、正負の極性が交
互に交換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波
いずれのものも用いることができ、通常の商用交流の単
相及び三相交流電流を用いることができる。また電流密
度は、5〜100A/dm2 で、10〜300秒間処理す
ることが望ましい。
【0062】本発明におけるアルミニウム合金支持体の
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μmと
する。このように砂目立てされたアルミニウム合金は、
10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なアルカ
リ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したスマッ
トを除去するのが好ましい。アルカリで除去した場合
は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸漬
して中和する。
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μmと
する。このように砂目立てされたアルミニウム合金は、
10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なアルカ
リ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したスマッ
トを除去するのが好ましい。アルカリで除去した場合
は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸漬
して中和する。
【0063】表面のスマット除去を行った後、陽極酸化
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることができるが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それに次いで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用で
ある。
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることができるが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それに次いで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用で
ある。
【0064】硫酸法は通常直流電流で処理が行われる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜
30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜25
0秒間電解処理されて、表面に1〜10g/m2の酸化皮
膜が設けられる。この電解液には、アルミニウムイオン
が含まれている方が好ましい。さらにこのときの電流密
度は1〜20A/dm2 が好ましい。
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜
30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜25
0秒間電解処理されて、表面に1〜10g/m2の酸化皮
膜が設けられる。この電解液には、アルミニウムイオン
が含まれている方が好ましい。さらにこのときの電流密
度は1〜20A/dm2 が好ましい。
【0065】リン酸法の場合には、5〜50%の濃度、
30〜60℃の温度で、10〜300秒間、1〜15A
/dm2 の電流密度で処理される。このようにして処理さ
れたアルミニウム支持体には、さらに米国特許第2,714,
066 号明細書に記載されたようなシリケート類による表
面処理を行うのが望ましい。
30〜60℃の温度で、10〜300秒間、1〜15A
/dm2 の電流密度で処理される。このようにして処理さ
れたアルミニウム支持体には、さらに米国特許第2,714,
066 号明細書に記載されたようなシリケート類による表
面処理を行うのが望ましい。
【0066】本発明で用いる感光性平版印刷版の支持体
の裏面には、現像時のアルミニウムの陽極酸化皮膜の溶
出を抑えるため、および重ねた場合の感光層の傷付きを
防ぐための有機高分子化合物からなる被覆層(以後この
被覆層をバックコート層と称す)が設けられてもよい。
バックコートの素材としては、特願平2−327111
号に開示されているようなアルカリ性現像液に不溶の有
機高分子化合物が用いられる。バックコート層の厚さは
基本的には現像時アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出を
抑えられる厚さがあればよく、0.01〜50μmの範囲
が好ましく、より好ましくは0.05〜10μmが好まし
い。バックコート層をアルミニウム支持体の裏面に被覆
する方法としては種々の方法が適用できるが、上記の塗
布量を確保する上で最も好ましいものは溶液にして塗
布、乾燥する方法である。
の裏面には、現像時のアルミニウムの陽極酸化皮膜の溶
出を抑えるため、および重ねた場合の感光層の傷付きを
防ぐための有機高分子化合物からなる被覆層(以後この
被覆層をバックコート層と称す)が設けられてもよい。
バックコートの素材としては、特願平2−327111
号に開示されているようなアルカリ性現像液に不溶の有
機高分子化合物が用いられる。バックコート層の厚さは
基本的には現像時アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出を
抑えられる厚さがあればよく、0.01〜50μmの範囲
が好ましく、より好ましくは0.05〜10μmが好まし
い。バックコート層をアルミニウム支持体の裏面に被覆
する方法としては種々の方法が適用できるが、上記の塗
布量を確保する上で最も好ましいものは溶液にして塗
布、乾燥する方法である。
【0067】さらに支持体表面に下記のような化合物の
下塗りを行うのも好ましい。下塗りに用いられる化合物
としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸な
どのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホ
ン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機
リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグ
リセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン
やβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノー
ルアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミン
の塩酸塩、特開昭59−101651号公報に記載され
ているスルホン酸基を有する水溶性重合体、及び特開昭
60−64352号公報に記載されている酸性染料等が
好ましく用いられる。
下塗りを行うのも好ましい。下塗りに用いられる化合物
としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸な
どのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホ
ン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機
リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグ
リセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン
やβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノー
ルアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミン
の塩酸塩、特開昭59−101651号公報に記載され
ているスルホン酸基を有する水溶性重合体、及び特開昭
60−64352号公報に記載されている酸性染料等が
好ましく用いられる。
【0068】この下塗層は、水、メタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトン等もしくはそれらの混合溶剤に
上記の化合物を溶解させ、支持体上に塗布、乾燥して設
けることができる。また、感光性平版印刷版の調子再現
性改良のために黄色染料を添加することもできる。下塗
層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であ
り、好ましくは5〜100mg/m2である。
ル、メチルエチルケトン等もしくはそれらの混合溶剤に
上記の化合物を溶解させ、支持体上に塗布、乾燥して設
けることができる。また、感光性平版印刷版の調子再現
性改良のために黄色染料を添加することもできる。下塗
層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であ
り、好ましくは5〜100mg/m2である。
【0069】さらに塗布された感光層上には相互に独立
して設けられた突起物により構成されるマット層がある
のが好ましい。マット層の目的は密着露光におけるネガ
画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良
することにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不
良による露光時の微小網点のつぶれを防止することであ
る。
して設けられた突起物により構成されるマット層がある
のが好ましい。マット層の目的は密着露光におけるネガ
画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良
することにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不
良による露光時の微小網点のつぶれを防止することであ
る。
【0070】マット層の塗布方法としては、特開昭55
−12974号に記載されているパウダリングされた固
体粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号
に記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させ
る方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自体
が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶
解するか、あるいはこれにより除去可能なものが望まし
い。
−12974号に記載されているパウダリングされた固
体粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号
に記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させ
る方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自体
が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶
解するか、あるいはこれにより除去可能なものが望まし
い。
【0071】支持体上に塗布された本発明の感光性組成
物は線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露光
し、ついで水性アルカリ現像液で現像することにより、
原画に対してネガのレリーフ像を与える。本発明の組成
物を使用した感光性印刷版の現像処理に用いられる現像
液は公知のいずれであってもよいが、好ましくは以下の
ものがよい。
物は線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露光
し、ついで水性アルカリ現像液で現像することにより、
原画に対してネガのレリーフ像を与える。本発明の組成
物を使用した感光性印刷版の現像処理に用いられる現像
液は公知のいずれであってもよいが、好ましくは以下の
ものがよい。
【0072】例えば、現像液は少なくとも1種のアルカ
リ剤と、水とを必須成分として含有する。現像液中に必
須成分として含有されるアルカリ剤としては、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、第二または第三リン酸のナトリ
ウム、カリウム、またはアンモニウム塩、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウム、アンモニア等の無機アルカリ剤、モノ、ジ、ま
たはトリメチルアミン、モノ,ジまたはトリエチルアミ
ン、モノまたはジイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノ,ジまたはトリエタノールアミン、モノ,ジま
たはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジイミン等の有機アミン化合物等が挙げられる。
上記アルカリ剤は単独で用いてもよいし、2種以上混合
して用いてもよい。
リ剤と、水とを必須成分として含有する。現像液中に必
須成分として含有されるアルカリ剤としては、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、第二または第三リン酸のナトリ
ウム、カリウム、またはアンモニウム塩、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウム、アンモニア等の無機アルカリ剤、モノ、ジ、ま
たはトリメチルアミン、モノ,ジまたはトリエチルアミ
ン、モノまたはジイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノ,ジまたはトリエタノールアミン、モノ,ジま
たはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジイミン等の有機アミン化合物等が挙げられる。
上記アルカリ剤は単独で用いてもよいし、2種以上混合
して用いてもよい。
【0073】これらのアルカリ剤の現像液中における含
有量は0.05〜10重量%で、好ましくは0.5〜5重量
%である。0.05重量%より少ないと現像が不良とな
り、10重量%を超えると平版印刷版としての印刷性能
に悪影響を及ぼす。また、上記必須成分以外に該現像液
中に特開昭50−51324号公報に記載されているよ
うな、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、特開昭
59−75255号公報、同60−111246号公報
に記載されているような非イオン性界面活性剤のうち少
なくとも1種、または特開昭55−95946号公報、
同56−142528号公報に記載されているような高
分子電解質を含有させることにより、感光性組成物への
濡れ性を高めたり、階調性をさらに高めることができ
る。上記の中でもアニオン活性剤が好ましい。
有量は0.05〜10重量%で、好ましくは0.5〜5重量
%である。0.05重量%より少ないと現像が不良とな
り、10重量%を超えると平版印刷版としての印刷性能
に悪影響を及ぼす。また、上記必須成分以外に該現像液
中に特開昭50−51324号公報に記載されているよ
うな、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、特開昭
59−75255号公報、同60−111246号公報
に記載されているような非イオン性界面活性剤のうち少
なくとも1種、または特開昭55−95946号公報、
同56−142528号公報に記載されているような高
分子電解質を含有させることにより、感光性組成物への
濡れ性を高めたり、階調性をさらに高めることができ
る。上記の中でもアニオン活性剤が好ましい。
【0074】かかる界面活性剤、高分子電解質の添加量
には特に制限はないが、0.003〜5重量%が好まし
く、特に0.006〜1重量%の濃度が好ましい。また、
本発明の組成物を使用した感光性印刷版を現像する現像
液は、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を含有していてもよ
い。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のアル
カリまたはアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液
組成物における含有量は0〜4重量%で好ましくは、0.
1〜1重量%である。
には特に制限はないが、0.003〜5重量%が好まし
く、特に0.006〜1重量%の濃度が好ましい。また、
本発明の組成物を使用した感光性印刷版を現像する現像
液は、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を含有していてもよ
い。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のアル
カリまたはアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液
組成物における含有量は0〜4重量%で好ましくは、0.
1〜1重量%である。
【0075】また、上記水溶性亜硫酸塩の代わりにアル
カリ可溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオール
化合物、またはメチルレゾルシン等のようなヒドロキシ
芳香族化合物を含有させてもよい。勿論、これらの化合
物の水溶性亜硫酸塩を併用することもできる。また、更
に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤を
含有させることもできる。消泡剤としてはシリコン系の
ものが好ましく、硬水軟化剤としては例えば、ポリリン
酸塩やアミノポリカルボン酸類を挙げることができる。
このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度およびそ
の使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用量
を示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、より
好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有させられ
る。
カリ可溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオール
化合物、またはメチルレゾルシン等のようなヒドロキシ
芳香族化合物を含有させてもよい。勿論、これらの化合
物の水溶性亜硫酸塩を併用することもできる。また、更
に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤を
含有させることもできる。消泡剤としてはシリコン系の
ものが好ましく、硬水軟化剤としては例えば、ポリリン
酸塩やアミノポリカルボン酸類を挙げることができる。
このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度およびそ
の使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用量
を示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、より
好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有させられ
る。
【0076】本発明の組成物を使用した感光性印刷版を
現像する現像液は、必要に応じて、特定の有機溶媒を含
有していてもよい。有機溶媒としては、現像液中に含有
せしめたとき上述の感光性組成物層の非露光部(非画像
部)を溶解または膨潤または分散することができ、しか
も常温で水に対する溶解度が10重量%以下の有機溶媒
が好ましい。このような有機溶媒としては、次のものが
挙げられる。例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ベン
ジル、エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸
ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステ
ル;メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類;エチレングリコールモノブチルエーテル、
エチレングリコールベンジルエーテル、エチレングリコ
ールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチ
ルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチ
ルアミルアルコールのようなアルコール類;アルキル置
換芳香族炭化水素、及びハロゲン化炭化水素などがあ
る。これら有機溶媒の二種類以上を組み合わせて用いて
もよい。上記有機溶媒の中では、エチレングリコールモ
ノフェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有効で
ある。また、これら有機溶媒の現像液中における含有量
は、0〜20重量%であり、特に2〜10重量%のとき
より好ましい結果を得る。
現像する現像液は、必要に応じて、特定の有機溶媒を含
有していてもよい。有機溶媒としては、現像液中に含有
せしめたとき上述の感光性組成物層の非露光部(非画像
部)を溶解または膨潤または分散することができ、しか
も常温で水に対する溶解度が10重量%以下の有機溶媒
が好ましい。このような有機溶媒としては、次のものが
挙げられる。例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ベン
ジル、エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸
ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステ
ル;メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類;エチレングリコールモノブチルエーテル、
エチレングリコールベンジルエーテル、エチレングリコ
ールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチ
ルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチ
ルアミルアルコールのようなアルコール類;アルキル置
換芳香族炭化水素、及びハロゲン化炭化水素などがあ
る。これら有機溶媒の二種類以上を組み合わせて用いて
もよい。上記有機溶媒の中では、エチレングリコールモ
ノフェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有効で
ある。また、これら有機溶媒の現像液中における含有量
は、0〜20重量%であり、特に2〜10重量%のとき
より好ましい結果を得る。
【0077】また、上述の有機溶媒の水への溶解を助け
るために一定の可溶化剤を含有させることもできる。こ
のような可溶化剤としては、用いる有機溶媒より水易溶
性で低分子のアルコール、ケトン類を用いるのがよい。
また、アニオン活性剤、両性活性剤等も用いることがで
きる。活性剤としては例えばイソプロピルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルア
ミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム
塩等が好ましい。
るために一定の可溶化剤を含有させることもできる。こ
のような可溶化剤としては、用いる有機溶媒より水易溶
性で低分子のアルコール、ケトン類を用いるのがよい。
また、アニオン活性剤、両性活性剤等も用いることがで
きる。活性剤としては例えばイソプロピルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルア
ミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム
塩等が好ましい。
【0078】しかし、有機溶剤等を含有すると、作業時
の毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安
全性の問題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公
害等の問題、コストの問題等が発生するため、実質上有
機溶媒を含まないものが更に好ましい。尚、「実質上有
機溶媒を含まない」とは、前述の環境衛生、安全性、作
業性等の点からみて不都合を生じる程度までは有機溶媒
を含有しない、の意であり、本発明においては、該物質
の組成物中に占める割合が2重量%以下であることをい
い、好ましくは、1重量%以下である。
の毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安
全性の問題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公
害等の問題、コストの問題等が発生するため、実質上有
機溶媒を含まないものが更に好ましい。尚、「実質上有
機溶媒を含まない」とは、前述の環境衛生、安全性、作
業性等の点からみて不都合を生じる程度までは有機溶媒
を含有しない、の意であり、本発明においては、該物質
の組成物中に占める割合が2重量%以下であることをい
い、好ましくは、1重量%以下である。
【0079】このような、実質上有機溶媒を含まない水
性アルカリ現像液として、例えば特開昭59−8424
1号、特開昭57−192952号及び特開昭62−2
4263号公報等に記載されている、ポジ型平版印刷版
を画像露光後、現像する際に用いられる現像液組成物を
使用することができる。本発明の感光性組成物を用いた
感光性平版印刷版は、特開昭54−8002号、同55
−115045号、特開昭59−58431号の各公報
に記載されている方法で製版処理してもよい。即ち、現
像処理後、水洗してから不感脂化処理、またはそのまま
不感脂化処理、または酸を含む水溶液での処理、または
酸を含む水溶液で処理後、不感脂化処理を施してもよ
い。
性アルカリ現像液として、例えば特開昭59−8424
1号、特開昭57−192952号及び特開昭62−2
4263号公報等に記載されている、ポジ型平版印刷版
を画像露光後、現像する際に用いられる現像液組成物を
使用することができる。本発明の感光性組成物を用いた
感光性平版印刷版は、特開昭54−8002号、同55
−115045号、特開昭59−58431号の各公報
に記載されている方法で製版処理してもよい。即ち、現
像処理後、水洗してから不感脂化処理、またはそのまま
不感脂化処理、または酸を含む水溶液での処理、または
酸を含む水溶液で処理後、不感脂化処理を施してもよ
い。
【0080】さらに、この種の感光性平版印刷版の現像
工程では処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されアル
カリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時間
運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため処
理能力が低下するが、その際、特開昭54−62004
号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させて
もよい。この場合、米国特許第4,882,246 号に記載され
ている方法で補充することが好ましい。
工程では処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されアル
カリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時間
運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため処
理能力が低下するが、その際、特開昭54−62004
号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させて
もよい。この場合、米国特許第4,882,246 号に記載され
ている方法で補充することが好ましい。
【0081】また、上記のような製版処理は、特開平2
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行うことが好ましい。なお製版工程の
最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては
特公昭62−16834号、同62−25118号、同
63−52600号、特開昭62−7595号、同62
−11693号、同62−83194号の各公報に記載
されているものが好ましい。
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行うことが好ましい。なお製版工程の
最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては
特公昭62−16834号、同62−25118号、同
63−52600号、特開昭62−7595号、同62
−11693号、同62−83194号の各公報に記載
されているものが好ましい。
【0082】なお現像処理後、必要であれば画像部の不
要部分を市販のネガ用消去液で消去するか石棒で擦りと
ることもできる。また露光に使用される光源としてはカ
ーボンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、メタルハラ
イドランプ、ストロボ、紫外線、レーザ光線などが挙げ
られる。
要部分を市販のネガ用消去液で消去するか石棒で擦りと
ることもできる。また露光に使用される光源としてはカ
ーボンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、メタルハラ
イドランプ、ストロボ、紫外線、レーザ光線などが挙げ
られる。
【0083】
【発明の効果】本発明の感光性組成物は露光時の感度に
優れ、短い露光時間でも十分な硬化が得られ、さらに感
光製平版印刷版に使用した場合に露光現像後得られる画
像部の皮膜強度は強く、耐摩耗性の優れたものとなる。
従って、平版印刷版製造の作業効率、コスト等が著しく
改善される。
優れ、短い露光時間でも十分な硬化が得られ、さらに感
光製平版印刷版に使用した場合に露光現像後得られる画
像部の皮膜強度は強く、耐摩耗性の優れたものとなる。
従って、平版印刷版製造の作業効率、コスト等が著しく
改善される。
【0084】
【実施例】以下、本発明を合成例、実施例により更に詳
細に説明するが、本発明の内容がこれにより限定される
ものではない。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例1:M
G−1 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、3−シアノプロピルトリ
メトキシシラン5g、25%アンモニア水溶液5g、ト
ルエン200mlを入れ18000rpm にて1時間攪拌、
混合した。この混合物を攪拌機、冷却管、脱水用トラッ
プを備えたフラスコに入れ、2時間、トルエン還流温度
にて加熱、攪拌を行った。
細に説明するが、本発明の内容がこれにより限定される
ものではない。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例1:M
G−1 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、3−シアノプロピルトリ
メトキシシラン5g、25%アンモニア水溶液5g、ト
ルエン200mlを入れ18000rpm にて1時間攪拌、
混合した。この混合物を攪拌機、冷却管、脱水用トラッ
プを備えたフラスコに入れ、2時間、トルエン還流温度
にて加熱、攪拌を行った。
【0085】攪拌後、フラスコ内容物を遠心分離機によ
り7000rpm にて30分でトルエン溶液と沈積物とに
分離した。この沈積物をアセトン400ml中に超音波分
散機を用いて分散し、分散後、再び遠心分離機により分
離した。このアセトン洗浄の操作をさらに2回繰り返し
た後、得られた沈積物を自然乾燥することにより白色粉
末12gを得た。
り7000rpm にて30分でトルエン溶液と沈積物とに
分離した。この沈積物をアセトン400ml中に超音波分
散機を用いて分散し、分散後、再び遠心分離機により分
離した。このアセトン洗浄の操作をさらに2回繰り返し
た後、得られた沈積物を自然乾燥することにより白色粉
末12gを得た。
【0086】元素分析により炭素含有率を測定したとこ
ろ、C(%):6.25であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例2:M
G−2 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、2−(4−クロロスルホ
ニルフェニル)エチルトリクロロシラン8g、水5g、
トルエン200mlを入れ、18000rpm にて1時間攪
拌混合した。
ろ、C(%):6.25であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例2:M
G−2 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、2−(4−クロロスルホ
ニルフェニル)エチルトリクロロシラン8g、水5g、
トルエン200mlを入れ、18000rpm にて1時間攪
拌混合した。
【0087】この混合物を攪拌機、アルカリを入れたト
ラップが付いた冷却管、脱水用トラップを備えたフラス
コに入れ2時間、トルエン還流温度にて加熱、攪拌を行
った。攪拌後、フラスコ内容物を遠心分離機により70
00rpm にて30分でトルエン溶液と沈積物とに分離し
た。この沈積物を超音波分散機を用いてアセトン400
ml中に分散し、分散後、再び遠心分離機により分離し
た。このアセトン洗浄の操作をさらに2回繰り返した
後、得られた沈積物を自然乾燥することにより白色粉末
14gを得た。
ラップが付いた冷却管、脱水用トラップを備えたフラス
コに入れ2時間、トルエン還流温度にて加熱、攪拌を行
った。攪拌後、フラスコ内容物を遠心分離機により70
00rpm にて30分でトルエン溶液と沈積物とに分離し
た。この沈積物を超音波分散機を用いてアセトン400
ml中に分散し、分散後、再び遠心分離機により分離し
た。このアセトン洗浄の操作をさらに2回繰り返した
後、得られた沈積物を自然乾燥することにより白色粉末
14gを得た。
【0088】元素分析により炭素含有率を測定したとこ
ろ、C(%):11.1であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例3:M
G−3 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、3−シアノプロピルトリ
メトキシシラン2.5g、ベンゾオキサシレピンジメチル
エステル3g、25%アンモニア水溶液5g、トルエン
200mlを入れ、18000rpm にて1時間攪拌、混合
した。
ろ、C(%):11.1であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例3:M
G−3 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、3−シアノプロピルトリ
メトキシシラン2.5g、ベンゾオキサシレピンジメチル
エステル3g、25%アンモニア水溶液5g、トルエン
200mlを入れ、18000rpm にて1時間攪拌、混合
した。
【0089】この混合物を攪拌機、冷却管、脱水用トラ
ップを備えたフラスコに入れ2時間、トルエン還流温度
にて加熱、攪拌を行った。攪拌後、フラスコ内容物を遠
心分離機により7000rpm にて30分でトルエン溶液
と沈積物とに分離した。この沈積物をアセトン400ml
中に超音波分散機を用いて分散し、分散後、再び遠心分
離機により分離した。このアセトン洗浄の操作をさらに
2回繰り返した後、得られた沈積物を自然乾燥すること
により白色粉末12.5gを得た。
ップを備えたフラスコに入れ2時間、トルエン還流温度
にて加熱、攪拌を行った。攪拌後、フラスコ内容物を遠
心分離機により7000rpm にて30分でトルエン溶液
と沈積物とに分離した。この沈積物をアセトン400ml
中に超音波分散機を用いて分散し、分散後、再び遠心分
離機により分離した。このアセトン洗浄の操作をさらに
2回繰り返した後、得られた沈積物を自然乾燥すること
により白色粉末12.5gを得た。
【0090】元素分析により炭素含有率を測定したとこ
ろ、C(%):9.65であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例4:M
G−4 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、2−(4−クロロスルホ
ニルフェニル)エチルトリクロロシラン4g、水5g、
トルエン200mlを入れ、18000rpm にて1時間攪
拌、混合した。
ろ、C(%):9.65であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例4:M
G−4 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、2−(4−クロロスルホ
ニルフェニル)エチルトリクロロシラン4g、水5g、
トルエン200mlを入れ、18000rpm にて1時間攪
拌、混合した。
【0091】この混合物を攪拌機、アルカリを入れたト
ラップが付いた冷却管、脱水用トラップを備えたフラス
コに入れ、2時間、トルエン還流温度にて加熱、攪拌を
行った。攪拌後、フラスコ内容物を遠心分離機により7
000rpm にて、30分でトルエン溶液と沈積物とに分
離した。この沈積物をアセトン400ml中に超音波分散
機を用いて分散し、分散後、再び遠心分離機により分離
した。このアセトン洗浄の操作をさらに2回繰り返した
後、得られた沈積物を自然乾燥することにより白色粉末
12gを得た。元素分析により、炭素含有率を測定した
ところC(%):6.53であった。
ラップが付いた冷却管、脱水用トラップを備えたフラス
コに入れ、2時間、トルエン還流温度にて加熱、攪拌を
行った。攪拌後、フラスコ内容物を遠心分離機により7
000rpm にて、30分でトルエン溶液と沈積物とに分
離した。この沈積物をアセトン400ml中に超音波分散
機を用いて分散し、分散後、再び遠心分離機により分離
した。このアセトン洗浄の操作をさらに2回繰り返した
後、得られた沈積物を自然乾燥することにより白色粉末
12gを得た。元素分析により、炭素含有率を測定した
ところC(%):6.53であった。
【0092】高速攪拌機にこの白色粉末12gを入れ、
さらにここへ25%アンモニア水溶液5.5g、トルエン
200mlを入れ、18000rpm にて1分攪拌し、続い
て、3−シアノプロピルトリメトキシシラン2.5gを加
えて、18000rpm にて1時間攪拌、混合した。この
混合物を攪拌機、冷却管、脱水用トラップを備えたフラ
スコに入れ、2時間、トルエン還流温度にて加熱、攪拌
を行った。
さらにここへ25%アンモニア水溶液5.5g、トルエン
200mlを入れ、18000rpm にて1分攪拌し、続い
て、3−シアノプロピルトリメトキシシラン2.5gを加
えて、18000rpm にて1時間攪拌、混合した。この
混合物を攪拌機、冷却管、脱水用トラップを備えたフラ
スコに入れ、2時間、トルエン還流温度にて加熱、攪拌
を行った。
【0093】攪拌後、フラスコ内容物を遠心分離機によ
り7000rpm にて30分でトルエン溶液と沈積物とに
分離した。この沈積物を超音波分散機を用いてアセトン
400ml中に分散し、分散後、再び遠心分離機により分
離した。このアセトン洗浄の操作をさらに2回繰り返し
た後、得られた沈積物を自然乾燥することにより白色粉
末13.1gを得た。
り7000rpm にて30分でトルエン溶液と沈積物とに
分離した。この沈積物を超音波分散機を用いてアセトン
400ml中に分散し、分散後、再び遠心分離機により分
離した。このアセトン洗浄の操作をさらに2回繰り返し
た後、得られた沈積物を自然乾燥することにより白色粉
末13.1gを得た。
【0094】元素分析により炭素含有率を測定したとこ
ろ、C(%):9.13であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例5、
6:MG−5及びMG−6 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、3−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン5g、25%アンモニア水溶液5
g、トルエン200mlを入れ、18000rpm にて1時
間攪拌、混合した。
ろ、C(%):9.13であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例5、
6:MG−5及びMG−6 高速攪拌機にシリカ微粒子(水澤化学工業(株)製ミズ
カシルP−527U)10g、3−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン5g、25%アンモニア水溶液5
g、トルエン200mlを入れ、18000rpm にて1時
間攪拌、混合した。
【0095】この混合物を攪拌機、冷却管、脱水用トラ
ップを備えたフラスコに入れ、2時間、トルエン還流温
度にて加熱、攪拌を行った。攪拌後、フラスコ内容物を
遠心分離機により7000rpm にて30分でトルエン溶
液と沈積物とに分離した。この沈積物をアセトン400
ml中に超音波分散機を用いて分散し、分散後、再び遠心
分離機により分離した。このアセトン洗浄の操作をさら
に2回繰り返した後、得られた沈積物を自然乾燥するこ
とにより白色粉末(MG−5)12.8gを得た。
ップを備えたフラスコに入れ、2時間、トルエン還流温
度にて加熱、攪拌を行った。攪拌後、フラスコ内容物を
遠心分離機により7000rpm にて30分でトルエン溶
液と沈積物とに分離した。この沈積物をアセトン400
ml中に超音波分散機を用いて分散し、分散後、再び遠心
分離機により分離した。このアセトン洗浄の操作をさら
に2回繰り返した後、得られた沈積物を自然乾燥するこ
とにより白色粉末(MG−5)12.8gを得た。
【0096】元素分析により炭素含有率を測定したとこ
ろ、C(%):9.00であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。この白色粉末(MG−
5)12.8gを攪拌機、冷却管を備えたフラスコに入
れ、さらに、p−シアノベンジルアルコール5g、濃硫
酸0.2g、トルエン200mlを入れ、3時間トルエン還
流温度にて加熱、攪拌を行った。攪拌後、フラスコ内容
物を遠心分離機により7000rpm にて、30分でトル
エン溶液と沈積物とに分離した。
ろ、C(%):9.00であり、電子顕微鏡により観察し
たところ粒径60nmであった。この白色粉末(MG−
5)12.8gを攪拌機、冷却管を備えたフラスコに入
れ、さらに、p−シアノベンジルアルコール5g、濃硫
酸0.2g、トルエン200mlを入れ、3時間トルエン還
流温度にて加熱、攪拌を行った。攪拌後、フラスコ内容
物を遠心分離機により7000rpm にて、30分でトル
エン溶液と沈積物とに分離した。
【0097】この沈積物をメタノール400ml中に超音
波分散機を用いて分散し、分散後再び遠心分離機により
分離した。次に同様の洗浄操作をアセトン400mlにて
さらに2回繰り返した後、得られた沈積物を自然乾燥す
ることにより白色粉末(MG−6)14.5gを得た。元
素分析により炭素含有率を測定したところ、C(%):
16.6であり、電子顕微鏡により観察したところ粒径6
0nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例7〜3
2:MG−7〜32 改質シリカ微粒子合成例1〜6と同様にして表1に示す
シランカップリング剤及びアルコールを用い改質シリカ
微粒子MG−7〜MG−32を合成した。これらの電子
顕微鏡による観察ではどれも粒径60nmであった。
波分散機を用いて分散し、分散後再び遠心分離機により
分離した。次に同様の洗浄操作をアセトン400mlにて
さらに2回繰り返した後、得られた沈積物を自然乾燥す
ることにより白色粉末(MG−6)14.5gを得た。元
素分析により炭素含有率を測定したところ、C(%):
16.6であり、電子顕微鏡により観察したところ粒径6
0nmであった。シランカップリング剤改質シリカ微粒子の合成例7〜3
2:MG−7〜32 改質シリカ微粒子合成例1〜6と同様にして表1に示す
シランカップリング剤及びアルコールを用い改質シリカ
微粒子MG−7〜MG−32を合成した。これらの電子
顕微鏡による観察ではどれも粒径60nmであった。
【0098】
【表1】
【0099】
【表2】
【0100】
【表3】
【0101】
【表4】
【0102】
【表5】
【0103】
【表6】
【0104】
【表7】
【0105】
【表8】
【0106】
【表9】
【0107】実施例1 99.5%アルミニウムに、銅を0.01%、チタンを0.0
3%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含有するJISA1
050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板を、400
メッシュのパミストン(共立窒業製)の20wt%水性懸
濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロン)とを
用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
3%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含有するJISA1
050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板を、400
メッシュのパミストン(共立窒業製)の20wt%水性懸
濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロン)とを
用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
【0108】これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液
(アルミニウム5重量%含有)に浸漬してアルミニウム
の溶解量が5g/m2になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で中和し、次に0.
7重量%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5重量%含有)
中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルト
の矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58
−5796号公報実施例に記載されている電流波形)を
用いて160クローン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面
化処理を行った。水洗後40℃の10重量%水酸化ナト
リウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g
/m2になるようにエッチングした後、水洗した。
(アルミニウム5重量%含有)に浸漬してアルミニウム
の溶解量が5g/m2になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で中和し、次に0.
7重量%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5重量%含有)
中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルト
の矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58
−5796号公報実施例に記載されている電流波形)を
用いて160クローン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面
化処理を行った。水洗後40℃の10重量%水酸化ナト
リウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g
/m2になるようにエッチングした後、水洗した。
【0109】次に50℃、30重量%の硫酸水溶液中に
浸漬し、デスマットした後水洗した。さらに35℃の硫
酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8%含有)中で直
流電流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。
すなわち電流密度13A/dm 2 で電解を行い、電解時間
の調節により陽極酸化皮膜重量2.0g/m2とした。水洗
後、70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に30
秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。
浸漬し、デスマットした後水洗した。さらに35℃の硫
酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8%含有)中で直
流電流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。
すなわち電流密度13A/dm 2 で電解を行い、電解時間
の調節により陽極酸化皮膜重量2.0g/m2とした。水洗
後、70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に30
秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。
【0110】以上のようにして得られたアルミニウム支
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.28で、中心線平均粗さは0.54μmであっ
た。このようにして準備された基板の上に次の感光液
〔M〕−1〜〔M〕−32をホイラーを用いて塗布し、
80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1g/m2であっ
た。尚、感光液〔M〕−1〜〔M〕−32に用いた本発
明の高分子化合物を表2に示す。また、高分子化合物と
して下記の共重合体(P−1)を使用した。
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.28で、中心線平均粗さは0.54μmであっ
た。このようにして準備された基板の上に次の感光液
〔M〕−1〜〔M〕−32をホイラーを用いて塗布し、
80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1g/m2であっ
た。尚、感光液〔M〕−1〜〔M〕−32に用いた本発
明の高分子化合物を表2に示す。また、高分子化合物と
して下記の共重合体(P−1)を使用した。
【0111】P−1
【0112】
【化13】
【0113】感光液〔M〕 : 本発明のシランカップリング剤改質シリカ微粒子(表2)
0.2g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の 4−n−ドデシルベンゼンスルホン酸塩 0.5g 高分子化合物(P−1) 4.8g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)社製染料) 0.1g メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系ノニオン系界面活性剤) 0.02g 1−メトキシ−2−プロパノール 100g 尚、本発明の改質シリカ微粒子はあらかじめ1−メトキ
シ−2−プロパノール中へ超音波にて分散したものを使
用した。
0.2g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の 4−n−ドデシルベンゼンスルホン酸塩 0.5g 高分子化合物(P−1) 4.8g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)社製染料) 0.1g メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系ノニオン系界面活性剤) 0.02g 1−メトキシ−2−プロパノール 100g 尚、本発明の改質シリカ微粒子はあらかじめ1−メトキ
シ−2−プロパノール中へ超音波にて分散したものを使
用した。
【0114】次に比較例として、上記感光液中の本発明
の改質シリカ微粒子の代わりに通常充填剤として用いら
れる、未改質シリカ微粒子及び疎水性シリカ微粒子を用
いた感光液〔N〕−1、〔N〕−2及び充填剤を添加し
ていない感光液〔L〕−1(充填剤無添加による重合減
少分0.2gを高分子化合物(P−1)を5.0gと増量す
ることにより補った。)を調製した。
の改質シリカ微粒子の代わりに通常充填剤として用いら
れる、未改質シリカ微粒子及び疎水性シリカ微粒子を用
いた感光液〔N〕−1、〔N〕−2及び充填剤を添加し
ていない感光液〔L〕−1(充填剤無添加による重合減
少分0.2gを高分子化合物(P−1)を5.0gと増量す
ることにより補った。)を調製した。
【0115】尚、感光液〔N〕−1、〔N〕−2に用い
た比較用の未改質シリカ微粒子及び疎水性シリカ微粒子
は表2に示す。感光液〔M〕−1〜〔M〕−32及び
〔N〕−1、〔N〕−2、〔L〕−1を用いて得られた
各感光性平版印刷版〔M〕−1〜〔M〕−32及び
〔N〕−1、〔N〕−2、〔L〕−1の上に富士写真フ
ィルム(株)製富士ステップガイドPを重ね、富士写真
フィルム(株)製PSライトで1mの距離から1分間露
光し、次に示す現像液〔A〕に1分間浸漬した後、ブラ
シで表面を軽くこすり、未露光部を除去した。
た比較用の未改質シリカ微粒子及び疎水性シリカ微粒子
は表2に示す。感光液〔M〕−1〜〔M〕−32及び
〔N〕−1、〔N〕−2、〔L〕−1を用いて得られた
各感光性平版印刷版〔M〕−1〜〔M〕−32及び
〔N〕−1、〔N〕−2、〔L〕−1の上に富士写真フ
ィルム(株)製富士ステップガイドPを重ね、富士写真
フィルム(株)製PSライトで1mの距離から1分間露
光し、次に示す現像液〔A〕に1分間浸漬した後、ブラ
シで表面を軽くこすり、未露光部を除去した。
【0116】 現像液〔A〕 亜硫酸ナトリウム 5g ベンジルアルコール 30g 炭酸ナトリウム 5g イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム 12g トリエタノールアミン 20g 水 1000g このようにして得られた平版印刷版の露光量に対する感
度を目視によりベタ部の段数として読み取った。その結
果を表2に示す。また、これらの各印刷版をハイデルベ
ルグ社製印刷機SOR−Mにかけた。インキは大日本イ
ンキ(株)製グラフGを用い、湿し水はイソプロパノー
ル10%に富士写真フィルム(株)製EU−3を1%添
加したものを用いてコート紙に印刷した。
度を目視によりベタ部の段数として読み取った。その結
果を表2に示す。また、これらの各印刷版をハイデルベ
ルグ社製印刷機SOR−Mにかけた。インキは大日本イ
ンキ(株)製グラフGを用い、湿し水はイソプロパノー
ル10%に富士写真フィルム(株)製EU−3を1%添
加したものを用いてコート紙に印刷した。
【0117】充填剤無添加の〔L〕−1の最終印刷枚数
を基準にし、これを耐刷性100%として各印刷版の耐
刷性を調べた結果を同様に表2に示す。 表 2 ─────────────────────────────────── 感光性平版印刷版 用いた改質シリカ微粒子及び 現像後の 耐刷性(%) 充填剤 ベタ部の段数 ─────────────────────────────────── 〔M〕−1 MG−1 6 150 〔M〕−2 MG−2 4 120 〔M〕−3 MG−3 6 140 〔M〕−4 MG−4 6 140 〔M〕−5 MG−5 4 115 〔M〕−6 MG−6 6 140 〔M〕−7 MG−7 5 120 〔M〕−8 MG−8 5 120 〔M〕−9 MG−9 6.5 155 〔M〕−10 MG−10 6.5 150 〔M〕−11 MG−11 4 115 〔M〕−12 MG−12 6 140 〔M〕−13 MG−13 4 115 〔M〕−14 MG−14 6 145 〔M〕−15 MG−15 4 115 〔M〕−16 MG−16 6 150 〔M〕−17 MG−17 4 120 〔M〕−18 MG−18 6 150 〔M〕−19 MG−19 5 150 〔M〕−20 MG−20 5 150 〔M〕−21 MG−21 6 150 〔M〕−22 MG−22 6 150 〔M〕−23 MG−23 5 145 〔M〕−24 MG−24 6 155 〔M〕−25 MG−25 6 155 〔M〕−26 MG−26 6 155 〔M〕−27 MG−27 5 150 〔M〕−28 MG−28 6 155 〔M〕−29 MG−29 4 150 〔M〕−30 MG−30 6 150 〔M〕−31 MG−31 4 150 〔M〕−32 MG−32 6 150 [N]-1(比較例) ミズカシルP−527U 3 100 (水澤化学工業(株)製) [N]-2(比較例) アエロジルR972 3 105 (日本アエロジル(株)製) [L]-1(比較例) ─── 3 100 ─────────────────────────────────── 表2より、本発明のシランカップリング剤改質シリカ微
粒子は、比較例に示す〔N〕−1、〔N〕−2の通常の
充填剤添加による印刷版及び〔L〕−1の充填剤無添加
の印刷版と比較して、ベタ部の段数及び耐刷性が共に優
れており、高感度かつ高耐刷性の印刷版を与えた。
を基準にし、これを耐刷性100%として各印刷版の耐
刷性を調べた結果を同様に表2に示す。 表 2 ─────────────────────────────────── 感光性平版印刷版 用いた改質シリカ微粒子及び 現像後の 耐刷性(%) 充填剤 ベタ部の段数 ─────────────────────────────────── 〔M〕−1 MG−1 6 150 〔M〕−2 MG−2 4 120 〔M〕−3 MG−3 6 140 〔M〕−4 MG−4 6 140 〔M〕−5 MG−5 4 115 〔M〕−6 MG−6 6 140 〔M〕−7 MG−7 5 120 〔M〕−8 MG−8 5 120 〔M〕−9 MG−9 6.5 155 〔M〕−10 MG−10 6.5 150 〔M〕−11 MG−11 4 115 〔M〕−12 MG−12 6 140 〔M〕−13 MG−13 4 115 〔M〕−14 MG−14 6 145 〔M〕−15 MG−15 4 115 〔M〕−16 MG−16 6 150 〔M〕−17 MG−17 4 120 〔M〕−18 MG−18 6 150 〔M〕−19 MG−19 5 150 〔M〕−20 MG−20 5 150 〔M〕−21 MG−21 6 150 〔M〕−22 MG−22 6 150 〔M〕−23 MG−23 5 145 〔M〕−24 MG−24 6 155 〔M〕−25 MG−25 6 155 〔M〕−26 MG−26 6 155 〔M〕−27 MG−27 5 150 〔M〕−28 MG−28 6 155 〔M〕−29 MG−29 4 150 〔M〕−30 MG−30 6 150 〔M〕−31 MG−31 4 150 〔M〕−32 MG−32 6 150 [N]-1(比較例) ミズカシルP−527U 3 100 (水澤化学工業(株)製) [N]-2(比較例) アエロジルR972 3 105 (日本アエロジル(株)製) [L]-1(比較例) ─── 3 100 ─────────────────────────────────── 表2より、本発明のシランカップリング剤改質シリカ微
粒子は、比較例に示す〔N〕−1、〔N〕−2の通常の
充填剤添加による印刷版及び〔L〕−1の充填剤無添加
の印刷版と比較して、ベタ部の段数及び耐刷性が共に優
れており、高感度かつ高耐刷性の印刷版を与えた。
【0118】実施例2 99.5%アルミニウムに、銅を0.01%、チタンを0.0
3%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含有するJISA1
050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板を、400
メッシュのパミストン(共立窒業製)の20重量%水性
懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロン)と
を用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄し
た。
3%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含有するJISA1
050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板を、400
メッシュのパミストン(共立窒業製)の20重量%水性
懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロン)と
を用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄し
た。
【0119】これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液
(アルミニウム5重量%含有)に浸漬してアルミニウム
の溶解量が5g/m2になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で中和し、次いで
0.7重量%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5重量%含
有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボ
ルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭
58−5796号公報実施例に記載されている電流波
形)を用いて160クローン/dm2 の陽極時電気量で電
解粗面化処理を行った。水洗後40℃の10重量%水酸
化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量
が1g/m2になるようにエッチングした後、水洗した。
(アルミニウム5重量%含有)に浸漬してアルミニウム
の溶解量が5g/m2になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で中和し、次いで
0.7重量%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5重量%含
有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボ
ルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭
58−5796号公報実施例に記載されている電流波
形)を用いて160クローン/dm2 の陽極時電気量で電
解粗面化処理を行った。水洗後40℃の10重量%水酸
化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量
が1g/m2になるようにエッチングした後、水洗した。
【0120】次に50℃、30重量%の硫酸水溶液中に
浸漬し、デスマットした後水洗した。さらに35℃の硫
酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8重量%含有)中
で直流電流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行っ
た。すなわち電流密度13A/dm2 で電解を行い、電解
時間の調節により陽極酸化皮膜重量2.0g/m2とした。
水洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に
30秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。
浸漬し、デスマットした後水洗した。さらに35℃の硫
酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8重量%含有)中
で直流電流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行っ
た。すなわち電流密度13A/dm2 で電解を行い、電解
時間の調節により陽極酸化皮膜重量2.0g/m2とした。
水洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に
30秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。
【0121】以上のようにして得られたアルミニウム支
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.28で、中心線平均粗さは0.54μmであっ
た。このようにして準備された基板の上に次の感光液
〔V〕−1〜〔V〕−32をホイラーを用いて塗布し、
80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1g/m2であっ
た。尚、感光液〔V〕−1〜〔V〕−32に用いた本発
明の高分子化合物を表3に示す。また、高分子化合物と
して下記の共重合体(P−2)を使用した。
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.28で、中心線平均粗さは0.54μmであっ
た。このようにして準備された基板の上に次の感光液
〔V〕−1〜〔V〕−32をホイラーを用いて塗布し、
80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1g/m2であっ
た。尚、感光液〔V〕−1〜〔V〕−32に用いた本発
明の高分子化合物を表3に示す。また、高分子化合物と
して下記の共重合体(P−2)を使用した。
【0122】P−2
【0123】
【化14】
【0124】感光液〔V〕 : 本発明のシランカップリング剤改質シリカ微粒子(表3)
0.2g 4−ジアゾジフェニルアミン及びフェノキシ酢酸と ホルムアルデヒドの縮合物の4−n−ドデシルベン ゼンスルホン酸塩 0.5g 高分子化合物(P−2) 4.8g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)社製染料) 0.1g メガファックF−177(大日本インキ(株)製、 フッ素系ノニオン系界面活性剤) 0.02g 1−メトキシ−2−プロパノール 100g 尚、本発明の改質シリカ微粒子はあらかじめ1−メトキ
シ−2−プロパノール中へ超音波にて分散したものを使
用した。
0.2g 4−ジアゾジフェニルアミン及びフェノキシ酢酸と ホルムアルデヒドの縮合物の4−n−ドデシルベン ゼンスルホン酸塩 0.5g 高分子化合物(P−2) 4.8g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)社製染料) 0.1g メガファックF−177(大日本インキ(株)製、 フッ素系ノニオン系界面活性剤) 0.02g 1−メトキシ−2−プロパノール 100g 尚、本発明の改質シリカ微粒子はあらかじめ1−メトキ
シ−2−プロパノール中へ超音波にて分散したものを使
用した。
【0125】次に比較例として、上記感光液中の本発明
の改質シリカ微粒子の代わりに通常充填剤として用いら
れる、未改質シリカ微粒子及び疎水性シリカ微粒子を用
いた感光液〔W〕−1、〔W〕−2及び充填剤を添加し
ていない感光液〔K〕−1(充填剤無添加による重合減
少分0.2gを高分子化合物(P−2)を5.0gと増量す
ることにより補った。)を調製した。
の改質シリカ微粒子の代わりに通常充填剤として用いら
れる、未改質シリカ微粒子及び疎水性シリカ微粒子を用
いた感光液〔W〕−1、〔W〕−2及び充填剤を添加し
ていない感光液〔K〕−1(充填剤無添加による重合減
少分0.2gを高分子化合物(P−2)を5.0gと増量す
ることにより補った。)を調製した。
【0126】尚、感光液〔W〕−1、〔W〕−2に用い
た比較用の未改質シリカ微粒子及び疎水性シリカ微粒子
は表3に示す。感光液〔V〕−1〜〔V〕−32及び
〔W〕−1、〔W〕−2、〔K〕−1を用いて得られた
各感光性平版印刷版〔V〕−1〜〔V〕−32及び
〔W〕−1、〔W〕−2、〔K〕−1の上に富士写真フ
ィルム(株)製グレイスケールタブレットを重ね、富士
写真フィルム(株)製PSライトで1mの距離から1分
間露光し、次に示す現像液〔B〕に1分間浸漬した後、
ブラシで表面を軽くこすり、未露光部を除去した。尚、
現像液のpHは13であった。
た比較用の未改質シリカ微粒子及び疎水性シリカ微粒子
は表3に示す。感光液〔V〕−1〜〔V〕−32及び
〔W〕−1、〔W〕−2、〔K〕−1を用いて得られた
各感光性平版印刷版〔V〕−1〜〔V〕−32及び
〔W〕−1、〔W〕−2、〔K〕−1の上に富士写真フ
ィルム(株)製グレイスケールタブレットを重ね、富士
写真フィルム(株)製PSライトで1mの距離から1分
間露光し、次に示す現像液〔B〕に1分間浸漬した後、
ブラシで表面を軽くこすり、未露光部を除去した。尚、
現像液のpHは13であった。
【0127】 現像液〔B〕 SiO2/Na2Oモル比約1.2の珪酸ソーダ 25g 水 1000g このようにして得られた平版印刷版の露光量に対する感
度を目視により、ベタ部の段数として読み取った。その
結果を表3に示す。また、これらの各印刷版をハイデル
ベルグ社製印刷機SOR−Mにかけた。インキは大日本
インキ(株)製グラフGを用い、湿し水はイソプロパノ
ール10%に富士写真フィルム(株)製EU−3を1%
添加したものを用いてコート紙に印刷した。
度を目視により、ベタ部の段数として読み取った。その
結果を表3に示す。また、これらの各印刷版をハイデル
ベルグ社製印刷機SOR−Mにかけた。インキは大日本
インキ(株)製グラフGを用い、湿し水はイソプロパノ
ール10%に富士写真フィルム(株)製EU−3を1%
添加したものを用いてコート紙に印刷した。
【0128】充填剤無添加の〔K〕−1の最終印刷枚数
を基準とし、これを耐刷性100%として各印刷版の耐
刷性を調べた結果を同様に表3に示す。 表 3 ─────────────────────────────────── 感光性平版印刷版 用いた改質シリカ微粒子及び 現像後の 耐刷性(%) 充填剤 ベタ部の段数 ─────────────────────────────────── 〔V〕−1 MG−1 6 150 〔V〕−2 MG−2 4 120 〔V〕−3 MG−3 6 140 〔V〕−4 MG−4 6 140 〔V〕−5 MG−5 4 120 〔V〕−6 MG−6 6 150 〔V〕−7 MG−7 5 120 〔V〕−8 MG−8 5 120 〔V〕−9 MG−9 7 155 〔V〕−10 MG−10 7 140 〔V〕−11 MG−11 4 120 〔V〕−12 MG−12 6 130 〔V〕−13 MG−13 4 120 〔V〕−14 MG−14 6 145 〔V〕−15 MG−15 4 115 〔V〕−16 MG−16 6 150 〔V〕−17 MG−17 4 120 〔V〕−18 MG−18 6 155 〔V〕−19 MG−19 5 155 〔V〕−20 MG−20 5 155 〔V〕−21 MG−21 6 155 〔V〕−22 MG−22 6 150 〔V〕−23 MG−23 5 140 〔V〕−24 MG−24 6 155 〔V〕−25 MG−25 6 155 〔V〕−26 MG−26 6 155 〔V〕−27 MG−27 5 150 〔V〕−28 MG−28 6 155 〔V〕−29 MG−29 4 150 〔V〕−30 MG−30 6 150 〔V〕−31 MG−31 4 150 〔V〕−32 MG−32 6 150 [W]-1(比較例) ミズカシルP−527U 3 95 (水澤化学工業(株)製) [W]-2(比較例) アエロジルR972 3 100 (日本アエロジル(株)製) [K]-1(比較例) ─── 3 100 ─────────────────────────────────── 表3より、本発明のシランカップリング剤改質シリカ微
粒子は比較例に示す〔W〕−1、〔W〕−2の通常の充
填剤添加による印刷版及び〔K〕−1の充填剤無添加の
印刷版と比較して、ベタ部の段数及び耐刷性が共に優れ
ており、高感度或いは高耐刷性の印刷版を与えた。
を基準とし、これを耐刷性100%として各印刷版の耐
刷性を調べた結果を同様に表3に示す。 表 3 ─────────────────────────────────── 感光性平版印刷版 用いた改質シリカ微粒子及び 現像後の 耐刷性(%) 充填剤 ベタ部の段数 ─────────────────────────────────── 〔V〕−1 MG−1 6 150 〔V〕−2 MG−2 4 120 〔V〕−3 MG−3 6 140 〔V〕−4 MG−4 6 140 〔V〕−5 MG−5 4 120 〔V〕−6 MG−6 6 150 〔V〕−7 MG−7 5 120 〔V〕−8 MG−8 5 120 〔V〕−9 MG−9 7 155 〔V〕−10 MG−10 7 140 〔V〕−11 MG−11 4 120 〔V〕−12 MG−12 6 130 〔V〕−13 MG−13 4 120 〔V〕−14 MG−14 6 145 〔V〕−15 MG−15 4 115 〔V〕−16 MG−16 6 150 〔V〕−17 MG−17 4 120 〔V〕−18 MG−18 6 155 〔V〕−19 MG−19 5 155 〔V〕−20 MG−20 5 155 〔V〕−21 MG−21 6 155 〔V〕−22 MG−22 6 150 〔V〕−23 MG−23 5 140 〔V〕−24 MG−24 6 155 〔V〕−25 MG−25 6 155 〔V〕−26 MG−26 6 155 〔V〕−27 MG−27 5 150 〔V〕−28 MG−28 6 155 〔V〕−29 MG−29 4 150 〔V〕−30 MG−30 6 150 〔V〕−31 MG−31 4 150 〔V〕−32 MG−32 6 150 [W]-1(比較例) ミズカシルP−527U 3 95 (水澤化学工業(株)製) [W]-2(比較例) アエロジルR972 3 100 (日本アエロジル(株)製) [K]-1(比較例) ─── 3 100 ─────────────────────────────────── 表3より、本発明のシランカップリング剤改質シリカ微
粒子は比較例に示す〔W〕−1、〔W〕−2の通常の充
填剤添加による印刷版及び〔K〕−1の充填剤無添加の
印刷版と比較して、ベタ部の段数及び耐刷性が共に優れ
ており、高感度或いは高耐刷性の印刷版を与えた。
【0129】実施例3 実施例2より得られた感光性平版印刷版〔V〕−9、
〔V〕−10及び〔W〕−1、〔W〕−2、〔K〕−1
の上に富士写真(株)製グレイスケールタブレットを重
ね、富士写真フィルム(株)製PSライトで1mの距離
から1分間露光し、次に示す現像液〔C〕にそれぞれ1
分間浸漬後、ブラシで表面を軽くこすり、未露光部を除
去した。尚現像液のpHは12以下であった。
〔V〕−10及び〔W〕−1、〔W〕−2、〔K〕−1
の上に富士写真(株)製グレイスケールタブレットを重
ね、富士写真フィルム(株)製PSライトで1mの距離
から1分間露光し、次に示す現像液〔C〕にそれぞれ1
分間浸漬後、ブラシで表面を軽くこすり、未露光部を除
去した。尚現像液のpHは12以下であった。
【0130】 現像液〔C〕 炭酸水素ナトリウム 10g 炭酸ナトリウム 20g n−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 50g 水 1000g 得られた平版印刷版の露光量に対する感度を目視により
ベタ部の段数として読み取った。その結果を表4に示
す。
ベタ部の段数として読み取った。その結果を表4に示
す。
【0131】また、これらの各印刷版をハイデルベルグ
社製印刷機SOR−Mにかけた。インキは大日本インキ
(株)製グラフGを用い、湿し水はイソプロパノール1
0%に富士写真フィルム(株)製EU−3を1%添加し
たものを用いてコート紙に印刷した。充填剤無添加の
〔K〕−1の最終印刷枚数を基準とし、これを耐刷性1
00%として各印刷版の耐刷性を調べた結果を同様に表
4に示す。
社製印刷機SOR−Mにかけた。インキは大日本インキ
(株)製グラフGを用い、湿し水はイソプロパノール1
0%に富士写真フィルム(株)製EU−3を1%添加し
たものを用いてコート紙に印刷した。充填剤無添加の
〔K〕−1の最終印刷枚数を基準とし、これを耐刷性1
00%として各印刷版の耐刷性を調べた結果を同様に表
4に示す。
【0132】表4より、本発明のシランカップリング剤
改質微粒子を用いた感光性平版印刷版〔V〕−9、
〔V〕−10はいずれも比較例の感光性平版印刷版
〔W〕−1、〔W〕−2、〔K〕−1より、段数が大き
く、高感度であり、耐刷性においても優れていた。 表 4 ─────────────────────────────────── 感光性平版印刷版 用いた改質シリカ微粒子及び 現像後の 耐刷性(%) 充填剤 ベタ部の段数 ─────────────────────────────────── 〔V〕−9 MG−9 7 155 〔V〕−10 MG−10 7 150 [W]-1(比較例) ミズカシルP−527U 3 105 (水澤化学工業(株)製) [W]-2(比較例) アエロジルR972 3 110 (日本アエロジル(株)製) [K]-1(比較例) ─── 3 100 ───────────────────────────────────
改質微粒子を用いた感光性平版印刷版〔V〕−9、
〔V〕−10はいずれも比較例の感光性平版印刷版
〔W〕−1、〔W〕−2、〔K〕−1より、段数が大き
く、高感度であり、耐刷性においても優れていた。 表 4 ─────────────────────────────────── 感光性平版印刷版 用いた改質シリカ微粒子及び 現像後の 耐刷性(%) 充填剤 ベタ部の段数 ─────────────────────────────────── 〔V〕−9 MG−9 7 155 〔V〕−10 MG−10 7 150 [W]-1(比較例) ミズカシルP−527U 3 105 (水澤化学工業(株)製) [W]-2(比較例) アエロジルR972 3 110 (日本アエロジル(株)製) [K]-1(比較例) ─── 3 100 ───────────────────────────────────
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027
Claims (1)
- 【請求項1】 ジアゾニウム化合物及び高分子化合物を
含有するネガ型感光性組成物において、さらに下記一般
式(I)で表わされる少なくとも1種類の官能基が粒子
表面に化学結合により連結した表面改質シリカ微粒子を
含有することを特徴とする感光性組成物。 【化1】 (式中、RはC、H、N、O、S、Siより選ばれた2種
以上の原子よりなる2価の連結基を示し、 Yは 【化2】 を示し、 また、A1 、A2 はそれぞれO又はSを示し、 Q1 、Q3 、Q4 はそれぞれH又は置換基を有していて
もよいC1 〜C15の炭化水素基を示し、Q2 は置換基を
有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3233339A JP2652093B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3233339A JP2652093B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0572723A true JPH0572723A (ja) | 1993-03-26 |
| JP2652093B2 JP2652093B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=16953603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3233339A Expired - Fee Related JP2652093B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 感光性組成物 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2652093B2 (ja) |
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| US11866624B2 (en) | 2019-02-01 | 2024-01-09 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Non-solvent type curable composition, cured layer using the same, color filter including the cured layer, display device including the cured layer and manufacturing method of the cured layer |
| US12331234B2 (en) | 2019-01-21 | 2025-06-17 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Quantum dot, curable composition comprising the same, cured layer using the composition, color filter including the cured layer, display device including the cured layer and method of manufacturing the cured layer |
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-
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- 1991-09-12 JP JP3233339A patent/JP2652093B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| KR20210133045A (ko) * | 2020-04-28 | 2021-11-05 | 삼성에스디아이 주식회사 | 양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 디스플레이 장치 |
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| Publication number | Publication date |
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| JP2652093B2 (ja) | 1997-09-10 |
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