JPS6297132A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6297132A JPS6297132A JP23628485A JP23628485A JPS6297132A JP S6297132 A JPS6297132 A JP S6297132A JP 23628485 A JP23628485 A JP 23628485A JP 23628485 A JP23628485 A JP 23628485A JP S6297132 A JPS6297132 A JP S6297132A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- magnetic
- coating device
- magnetic layer
- recording medium
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録媒体に関し、さらに詳しくは高密度
記録に適した磁気記録媒体の製造方法に関する。
記録に適した磁気記録媒体の製造方法に関する。
近年、開発が進められてきている高密度記録用磁気記録
媒体においては磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわゆ
る間隙損失を軽減させるため、磁性層の表面性をより高
度なものとすることが要求される。この目的のためには
、磁性層の製造技術、すなわち磁性粒子の分散、塗布、
表面成形技術などの改良により磁性層の表面性を向上さ
せることが必要であると共に、支持体の表面性を向上さ
せることもまた必要となる。とくに、記録密度が高（な
るにともない記録波長が小となることにより、厚み損失
を逃がれるために磁性層を薄くする試みがなされてきて
いる。それにより、支持体の表面性が磁性層の表面性に
与える影響はますます大となってきている。
媒体においては磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわゆ
る間隙損失を軽減させるため、磁性層の表面性をより高
度なものとすることが要求される。この目的のためには
、磁性層の製造技術、すなわち磁性粒子の分散、塗布、
表面成形技術などの改良により磁性層の表面性を向上さ
せることが必要であると共に、支持体の表面性を向上さ
せることもまた必要となる。とくに、記録密度が高（な
るにともない記録波長が小となることにより、厚み損失
を逃がれるために磁性層を薄くする試みがなされてきて
いる。それにより、支持体の表面性が磁性層の表面性に
与える影響はますます大となってきている。
しかしながら磁気記録媒体に使用される支持体の表面性
を向上させることは下記の理由カラ限界がある。つまり
、製膜して巻き取る工程において、フィルムの表面性が
良いと搬送ローラーに対する摩擦抵抗が大となり、しば
しば蛇行を起こしたり、ンワが生じたりする。またフィ
ルム間の摩擦抵抗が増大し巻き取りロールの形状にゆが
みが生じたりもする。
を向上させることは下記の理由カラ限界がある。つまり
、製膜して巻き取る工程において、フィルムの表面性が
良いと搬送ローラーに対する摩擦抵抗が大となり、しば
しば蛇行を起こしたり、ンワが生じたりする。またフィ
ルム間の摩擦抵抗が増大し巻き取りロールの形状にゆが
みが生じたりもする。
前記の背反する問題点の解決のために、これまでに種々
の試みがなされてきている。たとえば特開昭５３−１０
９６０５号公報には、支持体上に熱可塑性樹脂の微粒子
を突出させ、巻き取り後、磁性層形成時に溶剤にて該樹
脂を溶解除去する方法が記載されている。しかしながら
、この方法も熔解除去の工程を要するばかりでなく、高
密度記録用磁気記録媒体としての満足すべき特性を付与
しうるにはいたっていない。
の試みがなされてきている。たとえば特開昭５３−１０
９６０５号公報には、支持体上に熱可塑性樹脂の微粒子
を突出させ、巻き取り後、磁性層形成時に溶剤にて該樹
脂を溶解除去する方法が記載されている。しかしながら
、この方法も熔解除去の工程を要するばかりでなく、高
密度記録用磁気記録媒体としての満足すべき特性を付与
しうるにはいたっていない。
更に特願昭５８−１８７５１９には表面粗さ０．０１μ
ｍ以上の非磁性支持体に放射線重合可能な化合物を含む
中間層を塗設し表面を平滑にした上で磁性層を設け、著
しく平滑な磁性層を得る方法が記載されている。磁気記
録媒体の薄手化が進む中で、強度を維持する為にはこの
中間層はできる限り薄い方が好ましく、多くとも２μｍ
以下の厚みが要求される。
ｍ以上の非磁性支持体に放射線重合可能な化合物を含む
中間層を塗設し表面を平滑にした上で磁性層を設け、著
しく平滑な磁性層を得る方法が記載されている。磁気記
録媒体の薄手化が進む中で、強度を維持する為にはこの
中間層はできる限り薄い方が好ましく、多くとも２μｍ
以下の厚みが要求される。
このような薄層で且つ平滑性の高い中間層を塗布、放射
線硬化により得る為には、従来グラビアコーター、バー
コーター等による塗布方式が行われているが、この場合
下記のような問題が生じる。
線硬化により得る為には、従来グラビアコーター、バー
コーター等による塗布方式が行われているが、この場合
下記のような問題が生じる。
即ち、上記の塗布方式では塗布液を未乾の状態で１〜２
μ以下の厚みに塗布むら、ヌケ筋がなく安定に塗布する
のは挽めて困難で塗布速度を上げるほど困難さは増す、
更に、上記の塗布方式では塗布直後の表面は平坦面では
なく、例えばバーコーターによる塗布ではワイヤーの凹
凸が微小な筋として現れる。放射線照射による硬化は殆
ど瞬間的に行われる為、その塗布筋は硬化後もそのまま
残る。この種の凹凸は塗４１速度が増すほど、塗布から
硬化までの時間が短くなり、塗布液の凹凸がレベリング
する為の時間も短くなり、凹凸の程度は著しくひどくな
る。
μ以下の厚みに塗布むら、ヌケ筋がなく安定に塗布する
のは挽めて困難で塗布速度を上げるほど困難さは増す、
更に、上記の塗布方式では塗布直後の表面は平坦面では
なく、例えばバーコーターによる塗布ではワイヤーの凹
凸が微小な筋として現れる。放射線照射による硬化は殆
ど瞬間的に行われる為、その塗布筋は硬化後もそのまま
残る。この種の凹凸は塗４１速度が増すほど、塗布から
硬化までの時間が短くなり、塗布液の凹凸がレベリング
する為の時間も短くなり、凹凸の程度は著しくひどくな
る。
このような問題を解決する為に、塗布液を溶剤で希釈し
、塗布後溶剤乾燥して放射線硬化させても、溶剤乾燥時
の液の対流による、一般にベナードセル或いはオレンジ
ピールと呼ばれる表面の凹凸が発生して平滑性は低下し
、又、乾燥ゾーンも必要となり、好ましくない。
、塗布後溶剤乾燥して放射線硬化させても、溶剤乾燥時
の液の対流による、一般にベナードセル或いはオレンジ
ピールと呼ばれる表面の凹凸が発生して平滑性は低下し
、又、乾燥ゾーンも必要となり、好ましくない。
本発明の目的は、前記の従来技術の欠点を除き、高密度
記録に適する磁気記録媒体の製造方法を提供することに
ある。
記録に適する磁気記録媒体の製造方法を提供することに
ある。
本発明の他の目的はＳ／Ｎ又はＣ／Ｎの優れた磁気記録
媒体の製造方法を提供することにある。
媒体の製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は塗布通性の優れた中間層を有する磁
気記録媒体の製造方法を提供することにある。
気記録媒体の製造方法を提供することにある。
ｃ問題点を解決するための手段〕
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
表面粗さくＲａ）が０．０１μｍ（カットオフ０．２５
■■）以上である非磁性支持体と磁性層との間に放射線
重合可能な化合物を含む非磁性塗布液を後記する如き、
本出願人が先に提案したエクストルージョン型塗布装置
により塗布し、放射線照射した後に磁性層を設けること
により上記の目的が達成され、顕著な効果が得られるこ
とを見出し本発明に敗った。
表面粗さくＲａ）が０．０１μｍ（カットオフ０．２５
■■）以上である非磁性支持体と磁性層との間に放射線
重合可能な化合物を含む非磁性塗布液を後記する如き、
本出願人が先に提案したエクストルージョン型塗布装置
により塗布し、放射線照射した後に磁性層を設けること
により上記の目的が達成され、顕著な効果が得られるこ
とを見出し本発明に敗った。
すなわち、本発明は、表面粗さが０．０１μｍ以上でし
る非磁性支持体に放射線重合可能な化合物を含む非磁性
塗布液を塗布装置で塗布し、放射線照射した後に磁性層
を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法であ
る。
る非磁性支持体に放射線重合可能な化合物を含む非磁性
塗布液を塗布装置で塗布し、放射線照射した後に磁性層
を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法であ
る。
塗布装置
所定の走行経路に沿って連続的に移動している非磁性支
持体の表面に近接せしめたスロット先端部から、塗布液
を連続的に押出して前記支持体の表面に塗着するととも
に前記スロット先端部に隣接する超硬合金から成る断面
が三角状のドクターエツジにより前記塗布液を所望する
厚さにメタリングするエクストルージョン型塗布装置。
持体の表面に近接せしめたスロット先端部から、塗布液
を連続的に押出して前記支持体の表面に塗着するととも
に前記スロット先端部に隣接する超硬合金から成る断面
が三角状のドクターエツジにより前記塗布液を所望する
厚さにメタリングするエクストルージョン型塗布装置。
以下本発明について詳述する。
本発明の中間層に使用される放射線照射ニより重合可能
な化合物は炭素−炭素不飽和結合を分子中に１個以上有
する化合物でありアクリル酸エユテル類、アクリルアミ
ド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、
アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、
ビニル異部環化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類、
クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィ
ン類などが例としてあげられる。これらのうち好ましい
ものとしてアクリロイル基またはメタクリロイル基を２
個以上含む下記の化合物があげられる。ジエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、などのアクリレート類
、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールトリメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロ−ルプロパントリ
メククリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、などのメタクリレートａあるいはその他の２官
能以上のポリオールとアクリル酸メタクリル酸とのエス
テル類、など。
な化合物は炭素−炭素不飽和結合を分子中に１個以上有
する化合物でありアクリル酸エユテル類、アクリルアミ
ド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、
アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、
ビニル異部環化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類、
クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィ
ン類などが例としてあげられる。これらのうち好ましい
ものとしてアクリロイル基またはメタクリロイル基を２
個以上含む下記の化合物があげられる。ジエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、などのアクリレート類
、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールトリメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロ−ルプロパントリ
メククリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、などのメタクリレートａあるいはその他の２官
能以上のポリオールとアクリル酸メタクリル酸とのエス
テル類、など。
また、これらの化合物は高分子量体のものであってもよ
い、好ましくは高分子の主鎖末端あるいは側鎖にアクリ
ル酸またはメタクリル酸とのエステル結合を有する化合
物であり、これらは＾、 Ｖｒａｎｃｋｅｍ ”Ｆａ
Ｌｉｐｅｃ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ ” １１ １９（１
９７２）に引用されている。たとえば以下に示す化合物 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がボ ′
リウレタン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨
格、ポリカポネート骨格であってもあるいはこれらの混
合された骨格でもよい。分子量は１．０００〜２０，０
００が好ましいが、とくに限定されるものではない。
い、好ましくは高分子の主鎖末端あるいは側鎖にアクリ
ル酸またはメタクリル酸とのエステル結合を有する化合
物であり、これらは＾、 Ｖｒａｎｃｋｅｍ ”Ｆａ
Ｌｉｐｅｃ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ ” １１ １９（１
９７２）に引用されている。たとえば以下に示す化合物 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がボ ′
リウレタン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨
格、ポリカポネート骨格であってもあるいはこれらの混
合された骨格でもよい。分子量は１．０００〜２０，０
００が好ましいが、とくに限定されるものではない。
上記の放射線照射により重合可能な化合物は単独に、ま
た任意の割合で混合して使用することができる。
た任意の割合で混合して使用することができる。
さらに塩ビ酢ビ系共重合体、繊維素系樹脂、アセタール
系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、ウレタン樹脂、
アクリロニトリルブタジェン樹脂等の熱可塑性樹脂を必
要により前記放射線照射により重合可能な化合物と混合
使用することができる。
系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、ウレタン樹脂、
アクリロニトリルブタジェン樹脂等の熱可塑性樹脂を必
要により前記放射線照射により重合可能な化合物と混合
使用することができる。
本発明において使用される放射線は電子線および紫外線
である。紫外線を使用する場合には前記の化合物に光重
合開始剤を添加することが必要となる。
である。紫外線を使用する場合には前記の化合物に光重
合開始剤を添加することが必要となる。
光重合開始剤としては芳香族ケトンが使用される。
芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源
として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる
２５４．３１３．３６５ｎ＋ｗの波長において吸光係数
の比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、
アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタ
ール、ヘンジインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチ
ルフェニルケトン、ｌ−ヒドロキシシクロへキシルフェ
ニルケトン、２−２ジエトキシアセトフエノン、Ｍｉｃ
−ｈｌｅｒ’ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトン
が使用できる。
として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる
２５４．３１３．３６５ｎ＋ｗの波長において吸光係数
の比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、
アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタ
ール、ヘンジインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチ
ルフェニルケトン、ｌ−ヒドロキシシクロへキシルフェ
ニルケトン、２−２ジエトキシアセトフエノン、Ｍｉｃ
−ｈｌｅｒ’ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトン
が使用できる。
芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａｌ １００重量
部に対し０．５〜２０重量部、好ましくは２〜１５重量
部、さらに好ましくは３〜１０重量部である。
部に対し０．５〜２０重量部、好ましくは２〜１５重量
部、さらに好ましくは３〜１０重量部である。
前記塗設層の厚さは放射線照射により重合硬化後の測定
で０．１〜２μであることが好ましい。該層の表面あら
さはｏ、ｏｏｓμ以下であることが好ましい。このため
には比較的低粘度の化合物を用い塗設によるいわゆるレ
ベリング効果をもたせることが有効な手段の１つとなる
。
で０．１〜２μであることが好ましい。該層の表面あら
さはｏ、ｏｏｓμ以下であることが好ましい。このため
には比較的低粘度の化合物を用い塗設によるいわゆるレ
ベリング効果をもたせることが有効な手段の１つとなる
。
電子線加速器としてはパンデグラーフ型のスキャニング
方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム
方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力
が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性とし
ては、加速電圧が１０〜１０００ｋＶ 、好ましくは５
０〜３００ｋｖテあす、吸収線量として０．５〜２０メ
ガランド好ましくは１〜１０メガラツドである。加速電
圧が１０ｋＶ以下の場合は、エネルギーの透過量が不足
し１０００ｋｖを超えると重合に使われるエネルギー効
率が低下し経済的でない。
方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム
方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力
が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性とし
ては、加速電圧が１０〜１０００ｋＶ 、好ましくは５
０〜３００ｋｖテあす、吸収線量として０．５〜２０メ
ガランド好ましくは１〜１０メガラツドである。加速電
圧が１０ｋＶ以下の場合は、エネルギーの透過量が不足
し１０００ｋｖを超えると重合に使われるエネルギー効
率が低下し経済的でない。
吸収線量が０．５メガランド以下では硬化反応が不充分
で磁性層強度が得られず、２０メガラフト以上になると
、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照
射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形するの
で好ましくない。
で磁性層強度が得られず、２０メガラフト以上になると
、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照
射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形するの
で好ましくない。
本発明で用いられる塗布装置は、本出願人が先に堤案し
たエクストルージョン型塗布装置（特開昭５７−８４７
１１号公報）、第１図乃至第３図に例示するように、所
定走行経路に沿って矢印入方向に連続的に走行している
支持体Ｗの表面に近接させたスロット４の先端から、給
液系２からポケット部３を通って塗布液Ｃを連続的に押
出して前記支持体Ｗの表面に前記塗布液Ｃを塗着させる
と共に、前記スロット先端部に隣接する超硬合金からな
るドクターエツジ部５により、塗着した前記塗布液を幅
方向に均一な厚さにメタリングするエクストルージョン
型塗布装置１である。この塗布装置１の前記ドクターエ
ツジ部５は三角形状の断面形状をもって前記支持体表面
に向は突出するエツジ面を有している。すなわち、前記
ドクターエツジ部５のエツジ面は、下流側エツジ端面５
１゜頂部５２及び上流側エツジ端面５３からなり、前記
ドクターエツジ部５は、これよりも上流側に配設したバ
ックェツジ部６よりも通常０．０１〜１．０ｍｍ程度余
分に前記支持体Ｗ寄りに突出して段差ｄを形成しメタリ
ングを可能にしている。なお、前記ドクターエツジ部５
の下流側エツジ端面５１と上流側エツジ端面５２とが頂
部５２でなす突出角度ｄは１６５度以上、好ましくは１
７０〜１７８度である。
たエクストルージョン型塗布装置（特開昭５７−８４７
１１号公報）、第１図乃至第３図に例示するように、所
定走行経路に沿って矢印入方向に連続的に走行している
支持体Ｗの表面に近接させたスロット４の先端から、給
液系２からポケット部３を通って塗布液Ｃを連続的に押
出して前記支持体Ｗの表面に前記塗布液Ｃを塗着させる
と共に、前記スロット先端部に隣接する超硬合金からな
るドクターエツジ部５により、塗着した前記塗布液を幅
方向に均一な厚さにメタリングするエクストルージョン
型塗布装置１である。この塗布装置１の前記ドクターエ
ツジ部５は三角形状の断面形状をもって前記支持体表面
に向は突出するエツジ面を有している。すなわち、前記
ドクターエツジ部５のエツジ面は、下流側エツジ端面５
１゜頂部５２及び上流側エツジ端面５３からなり、前記
ドクターエツジ部５は、これよりも上流側に配設したバ
ックェツジ部６よりも通常０．０１〜１．０ｍｍ程度余
分に前記支持体Ｗ寄りに突出して段差ｄを形成しメタリ
ングを可能にしている。なお、前記ドクターエツジ部５
の下流側エツジ端面５１と上流側エツジ端面５２とが頂
部５２でなす突出角度ｄは１６５度以上、好ましくは１
７０〜１７８度である。
また、第２図に示す、下流側エツジ面５１の長さｌ、は
１〜１５鶴、好ましくは１〜５ｆｉ、上流側エツジ面５
２の長さｌｚは０．１〜２１、好ましくは０．１〜１鶴
、バックェツジ部６のエツジ面の長さｌ、は１〜５ｎ、
好ましくは１〜３ｆｉが適している。
１〜１５鶴、好ましくは１〜５ｆｉ、上流側エツジ面５
２の長さｌｚは０．１〜２１、好ましくは０．１〜１鶴
、バックェツジ部６のエツジ面の長さｌ、は１〜５ｎ、
好ましくは１〜３ｆｉが適している。
前記塗布装置１により、前記支持体Ｗを前記ドクターエ
ツジ部のエツジ面でほぼ三角形状に屈曲せしめるように
近接させ、スロット４から塗布される塗布液Ｃのメタリ
ングを行なう。
ツジ部のエツジ面でほぼ三角形状に屈曲せしめるように
近接させ、スロット４から塗布される塗布液Ｃのメタリ
ングを行なう。
前記ドクターエツジ部５のエツジ面の表面粗さくＲａ）
は０．２μｍ以下であることが好ましい。
は０．２μｍ以下であることが好ましい。
このような塗布装置で塗布すると高速で塗布しても塗布
むらが発生せず、塗布後の塗布液面も平坦であるため、
これに直ちに放射線照射を行っても平滑性の高い中間層
が得られる。
むらが発生せず、塗布後の塗布液面も平坦であるため、
これに直ちに放射線照射を行っても平滑性の高い中間層
が得られる。
本発明の重合硬化層の上に設けられる磁性層は強磁性粉
末と結合剤とを主成分とするものであっても、磁性金属
薄膜であってもよい。
末と結合剤とを主成分とするものであっても、磁性金属
薄膜であってもよい。
本発明に適用される磁性金属薄膜の形成法は真空槽内で
膜を形成する方法あるいはメッキ法によればよく、金属
薄膜の形成速度の速いこと、製造工程が簡単であること
、あるいは排液処理等の必要のないこと等の利点を有す
る真空槽内で膜を形成する方法が好ましい。真空槽内で
膜を形成する方法とは希薄な気体あるいは真空空間中に
おいて析出させようという物質またはその化合物を蒸気
あるいはイオン化した蒸気として基体となる支持体上に
析出させる方法で真空莫着法、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法、化学気相メッキ法等がこれに相当
する。
膜を形成する方法あるいはメッキ法によればよく、金属
薄膜の形成速度の速いこと、製造工程が簡単であること
、あるいは排液処理等の必要のないこと等の利点を有す
る真空槽内で膜を形成する方法が好ましい。真空槽内で
膜を形成する方法とは希薄な気体あるいは真空空間中に
おいて析出させようという物質またはその化合物を蒸気
あるいはイオン化した蒸気として基体となる支持体上に
析出させる方法で真空莫着法、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法、化学気相メッキ法等がこれに相当
する。
さらに本発明において磁気記録槽となるべき強磁性金属
層としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属
あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ Ｎ ｉ ％
Ｆ ｅ Ｓ ｔ −、Ｆ ｅ−Ｒｈ ＳＣｏ Ｐ
％Ｃｏ−Ｂ％ Ｃｏ−３ｉｓ Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−ＹＳ
Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｃｅ、Ｃｏ−Ｐｒ５ Ｃｏ−３ｒｎ
。
層としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属
あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ Ｎ ｉ ％
Ｆ ｅ Ｓ ｔ −、Ｆ ｅ−Ｒｈ ＳＣｏ Ｐ
％Ｃｏ−Ｂ％ Ｃｏ−３ｉｓ Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−ＹＳ
Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｃｅ、Ｃｏ−Ｐｒ５ Ｃｏ−３ｒｎ
。
Ｃｏ−ＰｔＳＣｏ−Ｍｎ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
１−Ｐ、 Ｃｏ−Ｎ１−Ｂ、 Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｇ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｎａ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｅ、Ｃ。
１−Ｐ、 Ｃｏ−Ｎ１−Ｂ、 Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｇ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｎａ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｅ、Ｃ。
Ｎｉ−Ｚｎ５ Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｎｉ −Ｗ％
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｒｅ、Ｃｏ−３ｍ−Ｃｕ等の強磁性合金
を真空槽内で膜を形成する方法あるいはメッキ法によっ
て薄膜状に形成せしめたもので、その膜厚は磁気記録媒
体として使用する場合０．０５μｍ〜２μｍの範囲であ
り特に０．１μｍ〜０．４μｍが好ましい。
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｒｅ、Ｃｏ−３ｍ−Ｃｕ等の強磁性合金
を真空槽内で膜を形成する方法あるいはメッキ法によっ
て薄膜状に形成せしめたもので、その膜厚は磁気記録媒
体として使用する場合０．０５μｍ〜２μｍの範囲であ
り特に０．１μｍ〜０．４μｍが好ましい。
本発明の磁性層に使用される強磁性粉末、各種添加剤、
有ａ溶媒、さらに分散・塗布方式などの詳細に関しては
特開昭５２−１０８８０４号、同５４−２１８０４号、
同５４−４６０１１号に記載されており必要に応じ本発
明に適用できる。
有ａ溶媒、さらに分散・塗布方式などの詳細に関しては
特開昭５２−１０８８０４号、同５４−２１８０４号、
同５４−４６０１１号に記載されており必要に応じ本発
明に適用できる。
以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
なお実施例中「部」は重量部を示す。
実施例１
表面あらさ０．０１０μｍ１厚さ１４．５μｍのポリエ
チレンテレフタレート支持体上にトリエチレングリコー
ルジアクリレートを第１図〜第３図に示す塗布装置１を
用いて塗布速度１００ｍ／＋ｍｉｎで塗布し加速電圧１
６５ｋＶ、吸収線量２ Ｍｒａｄになるように電子線照
射を行った。硬化後の塗設層厚は０．５μｍである。
チレンテレフタレート支持体上にトリエチレングリコー
ルジアクリレートを第１図〜第３図に示す塗布装置１を
用いて塗布速度１００ｍ／＋ｍｉｎで塗布し加速電圧１
６５ｋＶ、吸収線量２ Ｍｒａｄになるように電子線照
射を行った。硬化後の塗設層厚は０．５μｍである。
塗布装置（第１図〜第３図）
各寸法、材質は以下のとおり。
ドクターエツジ部（５）材質：超硬合金硬度２８８度以
上 （ロックウェルＡスケール） ドクターエツジ部突出角度（α）： １７０度ドクタ
ーエツジ部下流側エツジ面長さくｌＩ）：ｌＱｗ ドクターエツジ部上流側エツジ面長さく１２）： １
鶴 バックェツジ面長さく１．）＝１龍 バックェツジ部エツジ段差ｄ：ｌ■麓 下記組成の磁性塗液をボールミルで１０時間混線分散し
た。
上 （ロックウェルＡスケール） ドクターエツジ部突出角度（α）： １７０度ドクタ
ーエツジ部下流側エツジ面長さくｌＩ）：ｌＱｗ ドクターエツジ部上流側エツジ面長さく１２）： １
鶴 バックェツジ面長さく１．）＝１龍 バックェツジ部エツジ段差ｄ：ｌ■麓 下記組成の磁性塗液をボールミルで１０時間混線分散し
た。
分散後、トリイソシアネート化合物のトリメチロールプ
ロパン付加体（分子約７６０．ＮＧＯ含有１１３．３ｗ
ｔ％、商品名：バイエルＡ、Ｇ、社製「デスモジュール
Ｌ−７５Ｊ）の７５−１％酢酸エチル溶液を２２部加え
１時間高速剪断分散して磁性塗布液を調整した。得られ
た塗布液を前記層の上流に乾燥後の厚さが３μｍとなる
よう塗設した。ついで、直流磁場中で配向処理して１０
０℃の熱風を送って乾燥した。乾燥後、カレンダリング
処理を施して、８龍巾にスリットしてビデオ用の磁気テ
ープサンプル磁１を得た。
ロパン付加体（分子約７６０．ＮＧＯ含有１１３．３ｗ
ｔ％、商品名：バイエルＡ、Ｇ、社製「デスモジュール
Ｌ−７５Ｊ）の７５−１％酢酸エチル溶液を２２部加え
１時間高速剪断分散して磁性塗布液を調整した。得られ
た塗布液を前記層の上流に乾燥後の厚さが３μｍとなる
よう塗設した。ついで、直流磁場中で配向処理して１０
０℃の熱風を送って乾燥した。乾燥後、カレンダリング
処理を施して、８龍巾にスリットしてビデオ用の磁気テ
ープサンプル磁１を得た。
比較例１
実施例１において塗布装置１の代わりにバー径８ 璽ｍ
−、ワイヤー径０．０２＋ｎのバーコーターを用い、他
は実施例１と同様に磁気テープサンプルＮ１２を得た。
−、ワイヤー径０．０２＋ｎのバーコーターを用い、他
は実施例１と同様に磁気テープサンプルＮ１２を得た。
実施例２
実施例１において中間層の塗布速度を３００ｍ／ｌｌ１
ｉｎに代え、他は実施例１と同様に磁気テープサンプル
１１ｈ３を得た。
ｉｎに代え、他は実施例１と同様に磁気テープサンプル
１１ｈ３を得た。
比較例２
比較例１において中間層の塗布速度を３００ｍ／ｓｉｎ
に代え他は比較例１と同様に磁気テープサンプルｌ１ｋ
Ｌ４を得た。
に代え他は比較例１と同様に磁気テープサンプルｌ１ｋ
Ｌ４を得た。
比較例３
実施例１においてトリエチレングリコールジアクリレー
トを塗布せず、電子線照射を行なわず他は実施例１と同
様に磁気テープサンプル隘５を得た。
トを塗布せず、電子線照射を行なわず他は実施例１と同
様に磁気テープサンプル隘５を得た。
実施例３
実施例１において表面粗さ０．０１０μｍのポリエチレ
ンテレフタレート支持の代わりに表面粗さ０．０２０μ
、厚さ１４．５μｍのポリエチレンテレフタレート支持
体を用い、他は実施例１と同様にして磁気テープサンプ
ル隘６を得た。
ンテレフタレート支持の代わりに表面粗さ０．０２０μ
、厚さ１４．５μｍのポリエチレンテレフタレート支持
体を用い、他は実施例１と同様にして磁気テープサンプ
ル隘６を得た。
比較例４
実施例３において塗布装置１の代わりにバー径８１■、
ワイヤー径０．０２鶴のバーコーターヲ用い、他は実施
例３と同様に磁気テープサンプル隘７を得た。
ワイヤー径０．０２鶴のバーコーターヲ用い、他は実施
例３と同様に磁気テープサンプル隘７を得た。
実施例４
実施例３において中間層の塗布速度を３００ｍ／ｗｉｎ
に代え、他は実施例３と同様に磁気テープサンプル１ｉ
ｋｉ８を得た。
に代え、他は実施例３と同様に磁気テープサンプル１ｉ
ｋｉ８を得た。
比較例５
比較例４において中間層の塗布速度を３００ｍ／ｌ１ｉ
ｎに代え他は比較例４と同様に磁気テープサンプルｌ１
ｍ９を得た。
ｎに代え他は比較例４と同様に磁気テープサンプルｌ１
ｍ９を得た。
実施例５
実施例１と同様にして中間層を設けた後、該層上に斜め
蒸着によりＣｏ−Ｎ ｉ （Ｎ ｉ ：２０ｗｔ％）
磁性膜を１０００人厚となるように設け、磁気テープサ
ンプルＮａ１Ｏを得た。
蒸着によりＣｏ−Ｎ ｉ （Ｎ ｉ ：２０ｗｔ％）
磁性膜を１０００人厚となるように設け、磁気テープサ
ンプルＮａ１Ｏを得た。
比較例６
実施例５において塗布装置１の代わりにバー径８■璽、
ワイヤー径０．０２鶴のバーコーターを用いて、他は実
施例５と同様に磁気テープサンプル隘１１を得た。
ワイヤー径０．０２鶴のバーコーターを用いて、他は実
施例５と同様に磁気テープサンプル隘１１を得た。
比較例７・
実施例５においてトリエチレングリコールジアクリレー
トを塗布せず、電子線照射を行なわず他は実施例５と同
様に磁気テープサンプル１１ｈ１２を得た。
トを塗布せず、電子線照射を行なわず他は実施例５と同
様に磁気テープサンプル１１ｈ１２を得た。
以上のサンプルについてビデオ感度およびＣ／Ｎを測定
した。測定方法の概略を下記に示す。
した。測定方法の概略を下記に示す。
ビデオ感度：１３ｍＶＴＲ（富士写真フィルム製ｒＦＵ
Ｊ ｌＸ−８ｊを使用して４Ｍ Ｈｚでの再生出力を比較例５を基準 （±０ｄＢ）として測定した。
Ｊ ｌＸ−８ｊを使用して４Ｍ Ｈｚでの再生出力を比較例５を基準 （±０ｄＢ）として測定した。
Ｃ／Ｎ ：３ＭＨｚおよび３．５ＭＨｚの搬送波（
キャリヤー）を記録し、再生した ときのキャリヤーとノイズの比（Ｓ ／Ｎに相当）を比較例１を基準（± ＱｄＢ）として測定した。
キャリヤー）を記録し、再生した ときのキャリヤーとノイズの比（Ｓ ／Ｎに相当）を比較例１を基準（± ＱｄＢ）として測定した。
結果を表に示す。
表より明らかなように、本発明により前記した如き塗布
装置を用いて塗布した後に放射線照射して中間層を設け
ると塗布むらの発生がな（均一な中間層が得られ、これ
に磁性層を設けることにより１を磁変換特性の著しく向
上した磁気記録媒体を得ることができる。
装置を用いて塗布した後に放射線照射して中間層を設け
ると塗布むらの発生がな（均一な中間層が得られ、これ
に磁性層を設けることにより１を磁変換特性の著しく向
上した磁気記録媒体を得ることができる。
第１図及び第２回は本発明装置におけるエクストルーダ
の断面図、第３図は第１図及び第２図におけるエクスト
ルーダの一部を切断して示した斜視図である。 １はエクストルーダ本体、２は給液系、３はポケット部
、４はスロット部、５はドクタエッジ部、６はハックエ
ツジ部、Ｗは支持体、Ｃは塗布液、ｄは段差である。
の断面図、第３図は第１図及び第２図におけるエクスト
ルーダの一部を切断して示した斜視図である。 １はエクストルーダ本体、２は給液系、３はポケット部
、４はスロット部、５はドクタエッジ部、６はハックエ
ツジ部、Ｗは支持体、Ｃは塗布液、ｄは段差である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 表面粗さが０．０１０μｍ以上である非磁性支持体に放
射線重合可能な化合物を含む非磁性塗布液を下記塗布装
置に塗設し、放射線照射した後に磁性層を設けることを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ￥塗布装置￥ 所定の走行経路に沿って連続的に移動している非磁性支
持体の表面に近接せしめたスロット先端部から、塗布液
を連続的に押出して前記支持体の表面に塗着するととも
に前記スロット先端部に隣接する、超硬合金から成る断
面が三角状のドクターエッジにより前記塗布液を所望す
る厚さにメタリングするエクストルージョン型塗布装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23628485A JPS6297132A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23628485A JPS6297132A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6297132A true JPS6297132A (ja) | 1987-05-06 |
Family
ID=16998506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23628485A Pending JPS6297132A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6297132A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9848667B2 (en) | 2008-04-04 | 2017-12-26 | 3M Innovative Properties Company | Lens seal for headgear |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5784771A (en) * | 1980-11-13 | 1982-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coater |
| JPS6079525A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-10-24 JP JP23628485A patent/JPS6297132A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5784771A (en) * | 1980-11-13 | 1982-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coater |
| JPS6079525A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9848667B2 (en) | 2008-04-04 | 2017-12-26 | 3M Innovative Properties Company | Lens seal for headgear |
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