JPS63116861A - ワイヤドツトヘツドの製造方法 - Google Patents
ワイヤドツトヘツドの製造方法Info
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- JPS63116861A JPS63116861A JP26267586A JP26267586A JPS63116861A JP S63116861 A JPS63116861 A JP S63116861A JP 26267586 A JP26267586 A JP 26267586A JP 26267586 A JP26267586 A JP 26267586A JP S63116861 A JPS63116861 A JP S63116861A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/22—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of impact or pressure on a printing material or impression-transfer material
- B41J2/23—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of impact or pressure on a printing material or impression-transfer material using print wires
- B41J2/235—Print head assemblies
- B41J2/25—Print wires
- B41J2/255—Arrangement of the print ends of the wires
Landscapes
- Impact Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はワイヤドツトヘッドの製造方法、特に記録ワイ
ヤの耐摩耗処理を含むワイヤドツトヘッドの製造方法に
関する。
ヤの耐摩耗処理を含むワイヤドツトヘッドの製造方法に
関する。
[従来の技術]
従来より記録ワイヤをインクリボンを介して記録媒体に
8接させてドツトマトリクス記録を行なう記録装置が知
られている。近年ではこの種の装置の記録速度は200
CPS (1秒あたり200キヤラクタ)以上と、かな
り高速化されている。
8接させてドツトマトリクス記録を行なう記録装置が知
られている。近年ではこの種の装置の記録速度は200
CPS (1秒あたり200キヤラクタ)以上と、かな
り高速化されている。
[発明が解決しようとする問題点]
上記のような高速のワイヤドツトヘッドでは、従来のよ
うな比重が大きい(15g/c113以上)のタングス
テンあるいは超硬度鋼ではワイヤの追従性が悪く高速化
が難しい、一方比重が軽い(10g/cm 3)の材質
、例えばコバルト系合金や粉末ハイスなどから成るワイ
ヤは追従性は良好であるが、耐斥耗性が悪い。
うな比重が大きい(15g/c113以上)のタングス
テンあるいは超硬度鋼ではワイヤの追従性が悪く高速化
が難しい、一方比重が軽い(10g/cm 3)の材質
、例えばコバルト系合金や粉末ハイスなどから成るワイ
ヤは追従性は良好であるが、耐斥耗性が悪い。
一般にワイヤの先端が摩耗してくると、その形状はかな
り鋭い鋭角となり、インクリボンを痛めたり、記録品質
も低下する。また、ワイヤを支持している、ガイド穴が
広がりワイヤ自体も細くなるため、記録位置ずれが生じ
る。
り鋭い鋭角となり、インクリボンを痛めたり、記録品質
も低下する。また、ワイヤを支持している、ガイド穴が
広がりワイヤ自体も細くなるため、記録位置ずれが生じ
る。
[問題点を解決するための手段]
上記の問題を解決するため、本発明においてはインクリ
ボンを介して記録媒体に当接され、ワイヤドツト記録を
行なう記録ワイヤを有するワイヤドツトヘッドの製造方
法において、前記記録ワイヤを駆動部材に固定する第1
の工程と、駆動部材に固定された記録ワイヤの円周部分
に耐摩耗材を成膜する第2の工程と、記録ヘッドに記録
ワイヤを組み込んだ後記録ワイヤ先端部を研摩して記録
ワイヤ長を揃える第3の工程から構成される構成を採用
した。
ボンを介して記録媒体に当接され、ワイヤドツト記録を
行なう記録ワイヤを有するワイヤドツトヘッドの製造方
法において、前記記録ワイヤを駆動部材に固定する第1
の工程と、駆動部材に固定された記録ワイヤの円周部分
に耐摩耗材を成膜する第2の工程と、記録ヘッドに記録
ワイヤを組み込んだ後記録ワイヤ先端部を研摩して記録
ワイヤ長を揃える第3の工程から構成される構成を採用
した。
[作 用]
以上の構成によれば、記録ワイヤを駆動部材に固定した
後、記録ワイヤの円周部分に耐摩耗材を成膜し、さらに
記録ワイヤを記録ヘッドに組み込んでからワイヤ先端部
の研摩を行なってワイヤ長を揃えるようにしているので
、耐摩耗性の低い比重の軽い材料から記録ワイヤを構成
する場合でも、記録ワイヤの耐久性を向上させると同時
に良好なレスポンスにより高速な記録動作を可能にする
ことができる。
後、記録ワイヤの円周部分に耐摩耗材を成膜し、さらに
記録ワイヤを記録ヘッドに組み込んでからワイヤ先端部
の研摩を行なってワイヤ長を揃えるようにしているので
、耐摩耗性の低い比重の軽い材料から記録ワイヤを構成
する場合でも、記録ワイヤの耐久性を向上させると同時
に良好なレスポンスにより高速な記録動作を可能にする
ことができる。
[実施例]
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。
する。
以下に示す実施例では、粉末ハイス、コバルト系合金な
どの比重の小さい材料から記録ワイヤを構成し、慣性量
を小さくして記録速度を向上させるとともに、チタンそ
の他の硬質被膜を記録ワイヤにコーティングして、耐摩
耗性を向上させることを目的とする。成膜処理によって
記録ワイヤに硬質の耐摩耗材をコーティングする方法と
しては、第1図、第2図に示すような構成が考えられる
。
どの比重の小さい材料から記録ワイヤを構成し、慣性量
を小さくして記録速度を向上させるとともに、チタンそ
の他の硬質被膜を記録ワイヤにコーティングして、耐摩
耗性を向上させることを目的とする。成膜処理によって
記録ワイヤに硬質の耐摩耗材をコーティングする方法と
しては、第1図、第2図に示すような構成が考えられる
。
第1図、第2図において、符号Bは粉末ハイスやコバル
ト系合金から成る比重の軽い記録ワイヤの基材である。
ト系合金から成る比重の軽い記録ワイヤの基材である。
また、符号Aはチタンその他の硬質材料から成る被膜で
、第1図では硬質被膜Aは基材Bの周囲に、また第2図
では基材Bの先端部のみに設けられている。
、第1図では硬質被膜Aは基材Bの周囲に、また第2図
では基材Bの先端部のみに設けられている。
第2図に示す構成では、ワイヤ先端の硬質被膜によって
インクリボンと当接する部分の摩耗を抑えようとするも
のであるが、このような構成では硬質被膜Aは少なくと
も2l1以上成膜しなければならない、これは後に記録
ワイヤがワイヤドツトヘッドに組み込まれたあと、全て
の記録ワイヤの長さを一定に揃える研摩工程で硬質被膜
が削り取られてしまうため、その分の誤差を予め見込ん
でおかなければならないからである。ところが硬質被膜
を2■以上形成することは、化学的成膜法および物理的
成膜法のいずれにおいても成膜時間がかかりすぎる、寸
法精度が出しにくい、あるいは膜の付着力の劣化などの
問題があり、非常に困難である。
インクリボンと当接する部分の摩耗を抑えようとするも
のであるが、このような構成では硬質被膜Aは少なくと
も2l1以上成膜しなければならない、これは後に記録
ワイヤがワイヤドツトヘッドに組み込まれたあと、全て
の記録ワイヤの長さを一定に揃える研摩工程で硬質被膜
が削り取られてしまうため、その分の誤差を予め見込ん
でおかなければならないからである。ところが硬質被膜
を2■以上形成することは、化学的成膜法および物理的
成膜法のいずれにおいても成膜時間がかかりすぎる、寸
法精度が出しにくい、あるいは膜の付着力の劣化などの
問題があり、非常に困難である。
そこで以下の実施例では、第1図に示すように記録ワイ
ヤの円周部分のみに硬質被膜を形成することにした。こ
のような構成によれば、後に研摩工程を経ても、記録ワ
イヤの先端の硬質被膜の状態が変わることはない。
ヤの円周部分のみに硬質被膜を形成することにした。こ
のような構成によれば、後に研摩工程を経ても、記録ワ
イヤの先端の硬質被膜の状態が変わることはない。
ところで、第1図に示すような円周部分にのみ硬質被膜
を形成する方法では、ワイヤの耐久テストを行なうと第
3図、第4図に示すように、ワイヤ先端部の硬質被膜が
剥離してしまったり、基材Bの部分のみが摩耗して円周
端縁が鋭いエツジ形状となってしまうことが考えられる
0本実施例においては、この剥離やエツジ化の問題を硬
質被膜の厚みを調整し、また成膜法を選択することで解
決する。
を形成する方法では、ワイヤの耐久テストを行なうと第
3図、第4図に示すように、ワイヤ先端部の硬質被膜が
剥離してしまったり、基材Bの部分のみが摩耗して円周
端縁が鋭いエツジ形状となってしまうことが考えられる
0本実施例においては、この剥離やエツジ化の問題を硬
質被膜の厚みを調整し、また成膜法を選択することで解
決する。
ここで、硬質被膜の厚みについて考える。硬質被膜の厚
みを5.m以上とすると、硬質被膜の内部応力の増加の
ために第3図のような剥離現象が起き易くなる。一方、
硬質被膜の厚みが0.5ルm以下では、炭化物、窒化物
、酸化物など被膜の硬さがビッカース硬度で2000近
くの硬質膜でも、耐摩耗に対する効果が非常に小さくな
る。従って硬質被膜の厚さを0.5〜5ルm以内に保て
ば、剥離の心配がなく、また優れた耐摩耗性を期待する
ことができる。
みを5.m以上とすると、硬質被膜の内部応力の増加の
ために第3図のような剥離現象が起き易くなる。一方、
硬質被膜の厚みが0.5ルm以下では、炭化物、窒化物
、酸化物など被膜の硬さがビッカース硬度で2000近
くの硬質膜でも、耐摩耗に対する効果が非常に小さくな
る。従って硬質被膜の厚さを0.5〜5ルm以内に保て
ば、剥離の心配がなく、また優れた耐摩耗性を期待する
ことができる。
第5図は本実施例におけるワイヤドツトヘッドの製造工
程を示している。
程を示している。
本実施例では、まずステップS1において粉末ハイス、
コバルト系合金などから成る記録ワイヤと、ワイヤを駆
動するためのソレノイドのアーマチュアを予めロウ付け
して固定してしまう。
コバルト系合金などから成る記録ワイヤと、ワイヤを駆
動するためのソレノイドのアーマチュアを予めロウ付け
して固定してしまう。
次にステップS2において、第6図に示すような物理的
成膜方法により、ワイヤの円周部に硬質被膜を成膜する
。第6図の構成は、イオンブレーティングによる成膜方
式を示している0図において符号1はチタンその他の硬
質被膜のソースで、このソースの容器の近傍にはイオン
化電極2が配置される。この電極によりイオン化された
硬質被膜材料は、治具4にアーマチュア3と共に保持さ
れた記録ワイヤ5の円周部および先端部に付着する0本
実施例では、硬質被膜の厚みを2gm程度に制御した。
成膜方法により、ワイヤの円周部に硬質被膜を成膜する
。第6図の構成は、イオンブレーティングによる成膜方
式を示している0図において符号1はチタンその他の硬
質被膜のソースで、このソースの容器の近傍にはイオン
化電極2が配置される。この電極によりイオン化された
硬質被膜材料は、治具4にアーマチュア3と共に保持さ
れた記録ワイヤ5の円周部および先端部に付着する0本
実施例では、硬質被膜の厚みを2gm程度に制御した。
第7図は、第6図のような成膜法をとった際のワイヤの
基材Bに付着される硬質被膜Aの厚みを示したものであ
る。第6図のように垂直方向に基材Bの先端部側から成
膜を行なうと、硬質被膜Aは図示のように耐摩耗性の要
求される基材Bの先端部側が厚くなる理想的な形状にな
る。
基材Bに付着される硬質被膜Aの厚みを示したものであ
る。第6図のように垂直方向に基材Bの先端部側から成
膜を行なうと、硬質被膜Aは図示のように耐摩耗性の要
求される基材Bの先端部側が厚くなる理想的な形状にな
る。
第6図の成膜工程では、成膜を行なう部分、すなわち治
具4からイオン化電極2に露出する部分は、インクリボ
ンと接触する先端部およびワイヤドツトヘッドの先端部
ガイドと接する部分のみに限定している。これは、硬質
被膜を行なうと、その部分が膜の内部応力のために抗折
力が低下するために折れやすくなるためで、従って本実
施例ではワイヤ5とアーマチュア3のロウ付は部分およ
びワイヤがソレノイド部分から先端部へと向かう組込時
に曲率が大きくなる部分には被覆を施さない。
具4からイオン化電極2に露出する部分は、インクリボ
ンと接触する先端部およびワイヤドツトヘッドの先端部
ガイドと接する部分のみに限定している。これは、硬質
被膜を行なうと、その部分が膜の内部応力のために抗折
力が低下するために折れやすくなるためで、従って本実
施例ではワイヤ5とアーマチュア3のロウ付は部分およ
びワイヤがソレノイド部分から先端部へと向かう組込時
に曲率が大きくなる部分には被覆を施さない。
上記のように物理的な成膜法を用いる理由は、ワイヤと
アーマチュアをロウ付けした後に成膜を行なうためであ
る。すなわち、ロウ付けを行なった固定部分は500℃
以上の環境下に置くとロウ付部の強度が低下する。従っ
てCVDなどの化学的な成膜法は上記のような工程では
不向きであり、温度が400℃以下に保たれる物理的な
成膜法を用いなければならない。
アーマチュアをロウ付けした後に成膜を行なうためであ
る。すなわち、ロウ付けを行なった固定部分は500℃
以上の環境下に置くとロウ付部の強度が低下する。従っ
てCVDなどの化学的な成膜法は上記のような工程では
不向きであり、温度が400℃以下に保たれる物理的な
成膜法を用いなければならない。
以上のように硬質被膜の成膜を行なった後、第5図のス
テップS3において、アーマチュア3および成膜が行な
われた記録ワイヤ5は記録ヘッドに組み込まれる。しか
る後にステップS4においてワイヤ先端部を研摩し、全
ての記録ワイヤの長さが同一になるように加工する。
テップS3において、アーマチュア3および成膜が行な
われた記録ワイヤ5は記録ヘッドに組み込まれる。しか
る後にステップS4においてワイヤ先端部を研摩し、全
ての記録ワイヤの長さが同一になるように加工する。
以上のような製造工程によれば、次のような利点が得ら
れる。
れる。
まず、硬質被膜の成膜前に記録ワイヤのアーマチュアへ
のロウ付けを行なっているので、ロウ付は後のフラック
ス洗浄のための酸性の処理剤によって硬質被膜が損傷す
る問題がない、また、前記のように物理的成膜法を用い
ているため、ロウ付は後に硬質被膜の成膜を行なっても
、ロウ付は部分の強度が低下することがない、すなわち
、硬質被膜およびロウ付は部の強度を共に低下させるこ
とがない。
のロウ付けを行なっているので、ロウ付は後のフラック
ス洗浄のための酸性の処理剤によって硬質被膜が損傷す
る問題がない、また、前記のように物理的成膜法を用い
ているため、ロウ付は後に硬質被膜の成膜を行なっても
、ロウ付は部分の強度が低下することがない、すなわち
、硬質被膜およびロウ付は部の強度を共に低下させるこ
とがない。
また第7図のように硬質被膜を形成し、記録ワイヤをヘ
ッドに組み込んだ後長さを揃えるために研摩し、その結
果ワイヤの円周部のみに耐摩耗性を有する硬質被膜が残
ることになる。そして硬質被膜の厚みを前記のように0
.5〜5JLm以内、上記実施例では2JLmに制御し
ているので、充分な耐摩耗性を得ることができる。また
上記の構成によれば、ワイヤドツトヘッドを使用した後
においても第3図のような硬質被膜の剥離、あるいは第
4図のような先端部のエツジ化現象を生じることがない
、このことを示す耐摩耗実験の結果を以下に示す。
ッドに組み込んだ後長さを揃えるために研摩し、その結
果ワイヤの円周部のみに耐摩耗性を有する硬質被膜が残
ることになる。そして硬質被膜の厚みを前記のように0
.5〜5JLm以内、上記実施例では2JLmに制御し
ているので、充分な耐摩耗性を得ることができる。また
上記の構成によれば、ワイヤドツトヘッドを使用した後
においても第3図のような硬質被膜の剥離、あるいは第
4図のような先端部のエツジ化現象を生じることがない
、このことを示す耐摩耗実験の結果を以下に示す。
第8図は上記のような製造工程により粉末ハイスの基材
上にチタンコーティングをイオンブレーティングによっ
て2pm成膜し、その後ワイヤドツトヘッドに組み込ん
で2位キャラクタの記録を行なった後のワイヤ先端部を
拡大して示している0図示のように、インクリボンと8
接する先端部Pは第4図のようなエツジ形状とならず、
逆に円周端縁が緩やかに円味のついた曲面となっている
。この理由は第9図に示すようにワイヤ5がインクリボ
ンIRを介して当接される際、符号Rで示されるような
円周端縁の部分で摩擦力が大きくなるため、インクリボ
ンやワイヤの揺れなどのために摩耗量が大きくなるから
である。
上にチタンコーティングをイオンブレーティングによっ
て2pm成膜し、その後ワイヤドツトヘッドに組み込ん
で2位キャラクタの記録を行なった後のワイヤ先端部を
拡大して示している0図示のように、インクリボンと8
接する先端部Pは第4図のようなエツジ形状とならず、
逆に円周端縁が緩やかに円味のついた曲面となっている
。この理由は第9図に示すようにワイヤ5がインクリボ
ンIRを介して当接される際、符号Rで示されるような
円周端縁の部分で摩擦力が大きくなるため、インクリボ
ンやワイヤの揺れなどのために摩耗量が大きくなるから
である。
また第8図において、符号Qの部分はワイヤドツトヘッ
ドのガイド部と摩擦された部分であるが、この部分は実
用上問題のない程度の摩耗量しか生じていない。
ドのガイド部と摩擦された部分であるが、この部分は実
用上問題のない程度の摩耗量しか生じていない。
これはチタン膜の硬度が高いことのみならず、第10図
に示すようにチタン膜の摩擦力が粉末ハイスによる基材
よりもかなり小さいことによる。
に示すようにチタン膜の摩擦力が粉末ハイスによる基材
よりもかなり小さいことによる。
上記のようにして粉末ハイスあるいはコバルト系合金な
どの比重が軽く、追従性の高い基材により、高速な記録
動作を可能とし、しかもワイヤの基材上に硬質被膜を成
膜することで充分な耐摩耗性を得ることができる0以上
に説明したように、本実施例によれば、工程の順番を工
夫することでワイヤとアーマチュアのロウ付は部や硬質
被膜の強度を低下させることなく、またワイヤドツトヘ
ッドに対する組込後の研摩工程によって耐摩耗性を高め
るために必要な硬質被膜の形状を損なうことがない。
どの比重が軽く、追従性の高い基材により、高速な記録
動作を可能とし、しかもワイヤの基材上に硬質被膜を成
膜することで充分な耐摩耗性を得ることができる0以上
に説明したように、本実施例によれば、工程の順番を工
夫することでワイヤとアーマチュアのロウ付は部や硬質
被膜の強度を低下させることなく、またワイヤドツトヘ
ッドに対する組込後の研摩工程によって耐摩耗性を高め
るために必要な硬質被膜の形状を損なうことがない。
[発明の効果コ
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、イン
クリボンを介して記録媒体に当接され、ワイヤドツト記
録を行なう記録ワイヤを有するワイヤドツトヘッドの製
造方法において、前記記録ワイヤを駆動部材に固定する
第1の工程と、駆動部材に固定された記録ワイヤの円周
部分に耐摩耗材を成膜する第2の工程と、記録ヘッドに
記録ワイヤを組み込んだ後記録ワイヤ先端部を研摩して
記録ワイヤ長を揃える第3の工程から構成される41i
成を採用しているので、比重が軽く耐摩耗性の低い記録
ワイヤ材料を用いる場合でも、記録ワイヤの耐摩耗性を
大きく向上でき、長期間に渡って安定した高速な記録動
作を行なえる優れたワイヤドツトヘッドを製造できる。
クリボンを介して記録媒体に当接され、ワイヤドツト記
録を行なう記録ワイヤを有するワイヤドツトヘッドの製
造方法において、前記記録ワイヤを駆動部材に固定する
第1の工程と、駆動部材に固定された記録ワイヤの円周
部分に耐摩耗材を成膜する第2の工程と、記録ヘッドに
記録ワイヤを組み込んだ後記録ワイヤ先端部を研摩して
記録ワイヤ長を揃える第3の工程から構成される41i
成を採用しているので、比重が軽く耐摩耗性の低い記録
ワイヤ材料を用いる場合でも、記録ワイヤの耐摩耗性を
大きく向上でき、長期間に渡って安定した高速な記録動
作を行なえる優れたワイヤドツトヘッドを製造できる。
第1図、第2図は記録ワイヤに対する硬質被膜の成膜構
造を示した説明図、第3図、第4図は耐久テスト後の好
ましくない記録ワイヤ先端の形状を示した説明図、第5
図は本発明によるワイヤドツト製造工程を示したフロー
チャート図、第6図は第5図における物理的成膜法の一
例を示した説明図、第7図は第6図の成膜工程において
形成される硬質被膜の形状を示した説明図、第8図は耐
久テスト後の記録ワイヤ先端の拡大図、第9図は記録ワ
イヤとインクリボンの当接状態を示した説明図、第10
図は記録ワイヤの基材と被膜の摩擦力の差を示した線図
である。 1・・・ソース 2・・・イオン化電極3・・
・アーマチュア 4・・・治具5・・・記録ワイヤ
A・・・硬質被膜B・・・基材 第8図 8u@の摩擦力Σ丘しT:栓口
第9図第10図 第2図 第1図 第5図 第6′図
造を示した説明図、第3図、第4図は耐久テスト後の好
ましくない記録ワイヤ先端の形状を示した説明図、第5
図は本発明によるワイヤドツト製造工程を示したフロー
チャート図、第6図は第5図における物理的成膜法の一
例を示した説明図、第7図は第6図の成膜工程において
形成される硬質被膜の形状を示した説明図、第8図は耐
久テスト後の記録ワイヤ先端の拡大図、第9図は記録ワ
イヤとインクリボンの当接状態を示した説明図、第10
図は記録ワイヤの基材と被膜の摩擦力の差を示した線図
である。 1・・・ソース 2・・・イオン化電極3・・
・アーマチュア 4・・・治具5・・・記録ワイヤ
A・・・硬質被膜B・・・基材 第8図 8u@の摩擦力Σ丘しT:栓口
第9図第10図 第2図 第1図 第5図 第6′図
Claims (1)
- インクリボンを介して記録媒体に当接され、ワイヤドッ
ト記録を行なう記録ワイヤを有するワイヤドットヘッド
の製造方法において、前記記録ワイヤを駆動部材に固定
する第1の工程と、駆動部材に固定された記録ワイヤの
円周部分に耐摩耗材を成膜する第2の工程と、記録ヘッ
ドに記録ワイヤを組み込んだ後記録ワイヤ先端部を研摩
して記録ワイヤ長を揃える第3の工程から構成されるこ
とを特徴とするワイヤドットヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26267586A JPS63116861A (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | ワイヤドツトヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26267586A JPS63116861A (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | ワイヤドツトヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63116861A true JPS63116861A (ja) | 1988-05-21 |
Family
ID=17379030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26267586A Pending JPS63116861A (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | ワイヤドツトヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63116861A (ja) |
-
1986
- 1986-11-06 JP JP26267586A patent/JPS63116861A/ja active Pending
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