JPS63123015A - 曲面液晶セルの製造方法 - Google Patents
曲面液晶セルの製造方法Info
- Publication number
- JPS63123015A JPS63123015A JP27038886A JP27038886A JPS63123015A JP S63123015 A JPS63123015 A JP S63123015A JP 27038886 A JP27038886 A JP 27038886A JP 27038886 A JP27038886 A JP 27038886A JP S63123015 A JPS63123015 A JP S63123015A
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- Japan
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- sealant
- crystal cell
- substrate
- curved
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- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、曲面液晶セルの製造方法に関し、詳細には、
自動車用ウィンドガラス、ムーンルーフに適用される調
光素子等に使用される曲面液晶セルの製造方法に関する
。
自動車用ウィンドガラス、ムーンルーフに適用される調
光素子等に使用される曲面液晶セルの製造方法に関する
。
近年、自動車用ウィンドガラス、ムーンルーフ等に調光
素子としての液晶セルを適用することが、検討されてい
る（例えば、特開昭６０−２１３９２９号を参照）。
素子としての液晶セルを適用することが、検討されてい
る（例えば、特開昭６０−２１３９２９号を参照）。
そして、これらの液晶セルは、曲面状をしており、次の
ようにして製造されている。
ようにして製造されている。
予め曲面状をした２枚のガラス板を製造しておき、それ
らのガラス板を所定の間隔で接着することにより、液晶
を封入する空間を形成していた。
らのガラス板を所定の間隔で接着することにより、液晶
を封入する空間を形成していた。
ガラス板の互いに対向する面には、透明電極膜および配
向膜が形成されるとともに、両ガラス板を接着するため
のシール剤（接着剤）を必要とする。
向膜が形成されるとともに、両ガラス板を接着するため
のシール剤（接着剤）を必要とする。
しかしながら、曲面状ガラス板に対しては、スクリーン
印刷を適用することができないため、フィルム状のホッ
トメルトタイプの接着剤を用いることを検討した。しか
し、ホントメルトタイプの接着剤は、スクリーン印刷を
行った接着剤に比べて、接着力、液晶のシール性が充分
でなかった。
印刷を適用することができないため、フィルム状のホッ
トメルトタイプの接着剤を用いることを検討した。しか
し、ホントメルトタイプの接着剤は、スクリーン印刷を
行った接着剤に比べて、接着力、液晶のシール性が充分
でなかった。
したがって、本発明の目的は、接着力および液晶のシー
ル性が高い曲面液晶セルの製造方法を提供することにあ
る。
ル性が高い曲面液晶セルの製造方法を提供することにあ
る。
そこで、本発明にかかる曲面液晶セルの製造方法は、予
め平板状の基板にシール剤を形成しておき、基板の曲げ
加工と同時に、接着を行うことを特徴とする。
め平板状の基板にシール剤を形成しておき、基板の曲げ
加工と同時に、接着を行うことを特徴とする。
具体的には、本発明の構成は、次の通りである。
本発明は、２枚の曲面状基板により外郭を構成し、それ
らにより形成される空間に液晶を封入して曲面液晶セル
を製造する方法である。
らにより形成される空間に液晶を封入して曲面液晶セル
を製造する方法である。
まず、平面状基板の少なくとも一方にシール剤をスクー
ン印刷し、スペーサを散布する。
ン印刷し、スペーサを散布する。
次に、それら２枚の基板を重ね合わせて曲げ型に装着す
る。
る。
それらの重ね合わせた基板を、所定温度に保持した状態
で、自重もしくは曲げ荷重を加えて基板を曲面状に成形
する。
で、自重もしくは曲げ荷重を加えて基板を曲面状に成形
する。
そして、基板により形成される空間に液晶を封入するこ
とにより曲面状液晶セルを得る。
とにより曲面状液晶セルを得る。
本考案の上記構成において、液晶セルは、２枚の基板に
より外郭を構成し、液晶を封入したものが用いられる。
より外郭を構成し、液晶を封入したものが用いられる。
そして、基板には、電極膜および配向膜が形成される。
上記液晶セルに用いる基板としては白色フロートガラス
等の透明ガラスを用いることができる。
等の透明ガラスを用いることができる。
この基板上には、酸化インジウム（ＩｎｚＯ３）と酸化
錫（ＳｎＯ２）とを主成分とするＩＴＯ膜または酸化錫
（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜等の透明電極が形成さ
れる。この透明電極は通常真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法等により形成され、厚さは
数百〜数千人とされる。
錫（ＳｎＯ２）とを主成分とするＩＴＯ膜または酸化錫
（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜等の透明電極が形成さ
れる。この透明電極は通常真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法等により形成され、厚さは
数百〜数千人とされる。
この電極の上には配向膜が形成される。この配向膜は、
ＳｉＯ２、ＴｉＯ□等を真空蒸着した後、ラビング処理
を行ったものである。
ＳｉＯ２、ＴｉＯ□等を真空蒸着した後、ラビング処理
を行ったものである。
２枚の透明基板は一定の間隔をもってシール剤によりシ
ールされる。このシール剤としては、適当な溶剤に分散
させ、ペースト状にしたガラスフリフトが用いられる。
ールされる。このシール剤としては、適当な溶剤に分散
させ、ペースト状にしたガラスフリフトが用いられる。
上記した本発明にかかる曲面状液晶セルの製造方法によ
れば、予め平板状の基板にシール剤をスクリーン印刷し
ておき、基板の曲げ加工と同時に、接着を行うようにし
たので、基板とシール剤との密着性が高く、また、シー
ル剤が均一に形成される。
れば、予め平板状の基板にシール剤をスクリーン印刷し
ておき、基板の曲げ加工と同時に、接着を行うようにし
たので、基板とシール剤との密着性が高く、また、シー
ル剤が均一に形成される。
次に、図面に基づき、本発明にかかる曲面状液晶セルの
製造方法の実施例を、順を追って説明する。
製造方法の実施例を、順を追って説明する。
第１図および第２図は、本発明にかかる曲面状液晶セル
の製造方法の実施例を説明するための図面である。
の製造方法の実施例を説明するための図面である。
第１図（ａ）は、ガラス板へのスペーサの散布状態を示
す模式断面図、第１図（ｂ）は、ガラス板へのシール剤
のスクリーン印刷状態を示す模式断面図、第１図（Ｃ）
は、スペーサを散布したガラス板とシール剤を印刷した
ガラス板を重ね合わせた状態を示す模式断面図、第１図
（ｄ）は、重ね合わせたガラス板を曲げ型にセットした
状態を示す模式断面図、第１図（ｅ）は、曲げ型に装着
したガラス板の曲げ加工を行った状態を示す模式断面図
、第１図（ｆ）は、曲げ加工により形成された曲面状液
晶セルの空セルの模式断面図、そして、第２図は、液晶
を注入して製造されたＤＳＭ型液晶セルの模式断面図で
ある。
す模式断面図、第１図（ｂ）は、ガラス板へのシール剤
のスクリーン印刷状態を示す模式断面図、第１図（Ｃ）
は、スペーサを散布したガラス板とシール剤を印刷した
ガラス板を重ね合わせた状態を示す模式断面図、第１図
（ｄ）は、重ね合わせたガラス板を曲げ型にセットした
状態を示す模式断面図、第１図（ｅ）は、曲げ型に装着
したガラス板の曲げ加工を行った状態を示す模式断面図
、第１図（ｆ）は、曲げ加工により形成された曲面状液
晶セルの空セルの模式断面図、そして、第２図は、液晶
を注入して製造されたＤＳＭ型液晶セルの模式断面図で
ある。
本実施例は、第２図に示すＤＳＭ型の液晶セルを製造す
るので、この液晶セルの構成をはじめに説明する。
るので、この液晶セルの構成をはじめに説明する。
液晶セル１０は、透明基板である２枚のガラス板１２ａ
、ｂにより外郭を構成し、液晶１４を封入している。液
晶１４は、電流値調整用に４級アンモニウム塩を添加し
た負の誘電異方性を有するネマティック液晶１４を用い
た。
、ｂにより外郭を構成し、液晶１４を封入している。液
晶１４は、電流値調整用に４級アンモニウム塩を添加し
た負の誘電異方性を有するネマティック液晶１４を用い
た。
ガラス板１２ａ、ｂには、透明電極膜１６ａ、ｂおよび
配向膜１８ａ、ｂが形成されている。透明電極膜１５ａ
、ｂは、ＩＴＯ（酸化インジウムと酸化スズ固溶体）を
真空蒸着して約５００人の厚さで形成され、約２００Ω
／口のシート抵抗を有する。また、配向膜１８ａ、ｂは
、ガラス板１２ａ、ｂにＳ ｉ Ｏ２を高周波スパッタ
リングした後、ナイロン毛によるラビング処理によって
ガラス板１２ａ、ｂに平行な配列を持たせたものである
。なお、ガラス板１２ａ、ｂの間は、スペーサ２０によ
り所定間隙に保持されている。スペーサ２０は、１６＋
ｃｒｍ径のＡ７！ｚＯｓ粒を含む液を散布してガラス板
１２ａ、ｂに付着される。
配向膜１８ａ、ｂが形成されている。透明電極膜１５ａ
、ｂは、ＩＴＯ（酸化インジウムと酸化スズ固溶体）を
真空蒸着して約５００人の厚さで形成され、約２００Ω
／口のシート抵抗を有する。また、配向膜１８ａ、ｂは
、ガラス板１２ａ、ｂにＳ ｉ Ｏ２を高周波スパッタ
リングした後、ナイロン毛によるラビング処理によって
ガラス板１２ａ、ｂに平行な配列を持たせたものである
。なお、ガラス板１２ａ、ｂの間は、スペーサ２０によ
り所定間隙に保持されている。スペーサ２０は、１６＋
ｃｒｍ径のＡ７！ｚＯｓ粒を含む液を散布してガラス板
１２ａ、ｂに付着される。
ガラス板１２ａ、ｂの周囲には、シール剤２２が配設さ
れ、ガラス板１２ａ、ｂを接着するとともに、液晶１４
をシールしている。
れ、ガラス板１２ａ、ｂを接着するとともに、液晶１４
をシールしている。
次に、上述の液晶セルの製造方法を第１図（ａ）〜（ｆ
）に基づき、説明する。
）に基づき、説明する。
まず、一方のガラス板１２ｂにスペーサ粒２０を含む液
体を散布して、ガラス板１２ｂ上に均一にスペーサ２０
を付着させておく （第１図（ａ）に示す状態）。
体を散布して、ガラス板１２ｂ上に均一にスペーサ２０
を付着させておく （第１図（ａ）に示す状態）。
また、もう一方のガラス板１２ａには、シール剤２２を
、付着しておく （第１図（ｂ）に示す状態）。シール
剤２２は、ペースト状のガラスフリットをスクリーン印
刷した後、予備乾燥により溶剤（メチル力ルビトル）を
除去しである。
、付着しておく （第１図（ｂ）に示す状態）。シール
剤２２は、ペースト状のガラスフリットをスクリーン印
刷した後、予備乾燥により溶剤（メチル力ルビトル）を
除去しである。
そして、それらのガラス板１２ａ、ｂを重ね合わせる（
第１図（Ｃ）に示す状態）。
第１図（Ｃ）に示す状態）。
重ね合わせたガラス板１２ａ、ｂは、曲げ型２４にセン
トされる（第１図（ｄ）に示す状態）。
トされる（第１図（ｄ）に示す状態）。
曲げ型２４にネットされたガラス板１２ａ、ｂは、加熱
炉２６においてガラスの軟化点である約６５０℃まで加
熱される。そして、６５０℃に保持すると、自重により
ガラス板１２ａ、ｂが曲げ型の曲面２４ａに沿う（第１
図（ｅ）に示す状態）。
炉２６においてガラスの軟化点である約６５０℃まで加
熱される。そして、６５０℃に保持すると、自重により
ガラス板１２ａ、ｂが曲げ型の曲面２４ａに沿う（第１
図（ｅ）に示す状態）。
この加熱および曲げ加工により、ガラス板１２ａ、ｂが
曲面状に形成されるとともに、シール剤２２により接着
され、空セル２８ができる。
曲面状に形成されるとともに、シール剤２２により接着
され、空セル２８ができる。
この空セル２８に、液晶１４がシール剤２２の図示しな
い注入孔より注入され、封止されて、第２図に示す曲面
状液晶セルが完成する。
い注入孔より注入され、封止されて、第２図に示す曲面
状液晶セルが完成する。
本実施例においては、曲げ型を用いたので、曲げ型の曲
面２４ａに沿って、曲げを行うことができ、高い曲面精
度を得ることができる。
面２４ａに沿って、曲げを行うことができ、高い曲面精
度を得ることができる。
以上、本発明の特定の実施例について説明したが、本発
明は、この実施例に限定されるものではなく、特許請求
の範囲に記載の範囲内で種々の実施態様が包含されるも
のである。
明は、この実施例に限定されるものではなく、特許請求
の範囲に記載の範囲内で種々の実施態様が包含されるも
のである。
上述の実施例では、ガラスの自重によって曲げる方法を
用いたが、曲げ型上方より荷重を加えてもよい。あるい
は、重ね合わせた基板を２点支持して、その中央より荷
重ヲ加えてもよい。この場合、曲げ加工のための装置構
成が簡素化される利点がある。
用いたが、曲げ型上方より荷重を加えてもよい。あるい
は、重ね合わせた基板を２点支持して、その中央より荷
重ヲ加えてもよい。この場合、曲げ加工のための装置構
成が簡素化される利点がある。
以上より、本発明にかかる曲面状液晶セルの製造方法に
よれば、基板とシール剤との密着性が高く、また、シー
ル剤が均一に形成されるので、接着力および液晶のシー
ル性が高い曲面液晶セルを得ることができる。
よれば、基板とシール剤との密着性が高く、また、シー
ル剤が均一に形成されるので、接着力および液晶のシー
ル性が高い曲面液晶セルを得ることができる。
第１図および第２図は、本発明にかかる曲面状液晶セル
の製造方法の実施例を説明するための図面である。 第１図（ａ）は、ガラス板へのスペーサの散布状態を示
す模式断面図である。 第１図（ｂ）は、ガラス板へのシール剤のスクリーン印
刷状態を示す模式断面図である。 第１図（Ｃ）は、スペーサを散布したガラス板とシール
剤を印刷したガラス板を重ね合わせた状態を示す模式断
面図である。 第１図（ｄ）は、重ね合わせたガラス板を曲げ型にセッ
トした状態を示す模式断面図である。 第１図（ｅ）は、曲げ型に装着したガラス板の曲げ加工
を行った状態を示す模式断面図である。 第１図（ｆ）は、曲げ加工により形成された曲面状液晶
セルの空セルの模式断面図である。 第２図は、液晶を注入して製造されたＤＳＭ型液晶セル
の模式断面図である。 １２ａ 、 ｂ−−−−−−ガラス板（基板）２０・−
−−−−−スペーサ ２２−−−−−−シール剤 ２４−−−−−−一曲げ型 ２６−−−−−−−加熱炉 ２８−・−一一−−空セル
の製造方法の実施例を説明するための図面である。 第１図（ａ）は、ガラス板へのスペーサの散布状態を示
す模式断面図である。 第１図（ｂ）は、ガラス板へのシール剤のスクリーン印
刷状態を示す模式断面図である。 第１図（Ｃ）は、スペーサを散布したガラス板とシール
剤を印刷したガラス板を重ね合わせた状態を示す模式断
面図である。 第１図（ｄ）は、重ね合わせたガラス板を曲げ型にセッ
トした状態を示す模式断面図である。 第１図（ｅ）は、曲げ型に装着したガラス板の曲げ加工
を行った状態を示す模式断面図である。 第１図（ｆ）は、曲げ加工により形成された曲面状液晶
セルの空セルの模式断面図である。 第２図は、液晶を注入して製造されたＤＳＭ型液晶セル
の模式断面図である。 １２ａ 、 ｂ−−−−−−ガラス板（基板）２０・−
−−−−−スペーサ ２２−−−−−−シール剤 ２４−−−−−−一曲げ型 ２６−−−−−−−加熱炉 ２８−・−一一−−空セル
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ２枚の曲面状基板により外郭を構成し、それらにより形
成される空間に液晶を封入して曲面液晶セルを製造する
方法であって、 平面状基板の少なくとも一方にシール剤をスクリーン印
刷し、スペーサを散布した後、それら２枚の基板を重ね
合わせて曲げ型に装着し、所定温度に保持した状態で、
自重もしくは曲げ荷重を加えて基板を曲面状に成形して
、基板により形成される空間に液晶を封入することを特
徴とする曲面状液晶セルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27038886A JPS63123015A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 曲面液晶セルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27038886A JPS63123015A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 曲面液晶セルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63123015A true JPS63123015A (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=17485565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27038886A Pending JPS63123015A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 曲面液晶セルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63123015A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0569127A (ja) * | 1991-09-12 | 1993-03-23 | Hitachi Ltd | 鋼板製構成要素の製造方法 |
| US5907770A (en) * | 1995-07-19 | 1999-05-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., | Method for producing semiconductor device |
| US6902616B1 (en) * | 1995-07-19 | 2005-06-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and apparatus for producing semiconductor device |
-
1986
- 1986-11-13 JP JP27038886A patent/JPS63123015A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0569127A (ja) * | 1991-09-12 | 1993-03-23 | Hitachi Ltd | 鋼板製構成要素の製造方法 |
| US5907770A (en) * | 1995-07-19 | 1999-05-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., | Method for producing semiconductor device |
| US6902616B1 (en) * | 1995-07-19 | 2005-06-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and apparatus for producing semiconductor device |
| US7513949B2 (en) | 1995-07-19 | 2009-04-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and apparatus for producing semiconductor device |
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