JPS63131987A

JPS63131987A - 熱処理炉

Info

Publication number: JPS63131987A
Application number: JP27901386A
Authority: JP
Inventors: 明義川村
Original assignee: Murata Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1986-11-21
Filing date: 1986-11-21
Publication date: 1988-06-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は主としてセラミック電子部品の銀電極焼付や抵
抗膜焼付等に使用される熱処理炉に関する。

（従来技術）一般に、この種の熱処理炉としては、従来より、メツシ
ュベルト式連続炉やバッチ式焼付炉が周知である。

メツシュベルト式連続炉は、エンドレスのメツシュベル
ト上に被熱処理物を積載した匣鉢を載せ、メツシュベル
トの移動とともに上記匣鉢および被熱処理物が熱処理炉
内を通過し、その間に被熱処理物が熱処理されるように
したものである。このメツシュベルト式連続炉は、熱処
理炉がトンネル状に入口から出口まで連続しているので
、各温度ゾーン毎のガス雰囲気の制御は不可能であり、
ガスの分布も不均一で、熱処理後のセラミック電子部品
の品質も安定しないという問題があった。また、メツシ
ュベルト式連続炉は、被熱処理物を連続的に熱処理する
形式のものであるから、セラミック電子部品の少量多品
種生産には向かず、設備も大がかりで高価になる。

一方、バッチ式焼付炉には、被熱処理物を炉本体に出し
入れする形式により、扉開閉式のものと、炉床昇降式の
ものとがある。

扉開閉式の熱処理炉は、たとえば第３図にその縦断面を
、また、第４図に第３図のＩＶ−ＩＶ線に沿う断面を示
すように、炉本体１の側面に開口２を設け、この間口２
を閉塞する扉３を開閉して被熱処理物４を炉本体１の内
部に出し入れするものである。上記炉本体１はベース５
の上に載置され、その内部に収容された上記被熱処理物
４は、上記開口２から内側を見て、炉本体１の左右の内
壁近くに配置された棒状の炭化けい素（ＳｉＣ）等のヒ
ータ６．６．・・・により加熱されて熱処理される。炉
本体１内にはその壁部に設けられた孔７より雰囲気ガス
が導入される。

ところで、上記のような扉開閉式のバッチ式熱処理炉は
、半密閉構造のため、雰囲気の任意性、温度プロファイ
ルの任意性を有し、かつ少量多品種生産に向き、設備コ
ストも低いが、被熱処理物４は、上記ヒータ６．６．・
・・により、左右２方向から加熱されるに過ぎないので
、被熱処理物４はその中心部分とその外側部分で温度差
が生じる。このように、第３図および第４図に示す従来
の熱処理炉では、炉本体ｌの内部の温度が不均一になる
ので、均一な品質を有するセラミック電子部品を得るの
が困難であった。

（発明の目的）本発明の目的は、被熱処理物の均一な熱処理が任意の雰
囲気のもとで行えるようにした熱処理炉を提供すること
である。

（発明の構成）このため、本発明は、炉本体と昇降式の炉床とを有する
炉床昇降式の熱処理炉において、炉本体内部の熱処理空
間の側壁、天井および炉床上のいずれにも発熱体が設置
されていることを特徴としている。上記炉本体内部の熱
処理空間に収容された被熱処理物は、前後左右および上
下の全方向から熱を受け、均等に加熱される。また、被
熱処理物は、半密閉状態の炉本体内の熱処理空間内で、
所望の雰囲気のもとで熱処理される。

（発明の効果）本発明によれば、半密閉状態にある炉本体内の熱処理空
間内にて、被熱処理物が前後左右および＝３− 上下の全方向から熱を受けて熱処理されるので、希望す
るガス雰囲気中にて被熱処理物が均一に加熱され、品質
のばらつきが少なく、品質の良好なセラミック電子部品
を得ることができる。

（実施例）以下、添付の図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図において、炉本体１１は、内部に熱処理空間Ｓを
有する横断面形状が大略正方形状のもので支持ベース１
０上に配置され、その底部には被熱処理物１２を出し入
れするためのたとえば円形の開口１３が形成されている
。この開口１３は、炉本体１１の外側の開口径が炉本体
１１の内側の開口径よりも大きく、その内壁面に段部１
４を有している。

上記炉本体１１の炉床１５は、炉本体１１の開口１３の
内壁と小さい間隙ｇ１をおいて上記開口１３に嵌合する
。この炉床１５は、油圧ピストン１６の先端に固定され
た台板１７の上に載置されてこの台板１７に固定されて
いる。上記油圧ピストン１６は油圧機構１８により駆動
され、上記炉床１５を炉本体１１の底部の開口１３との
嵌合位置およびこの嵌合位置の下方に、矢印Ａ１および
Ａ、で示すように、上下方向に昇降される。

上記炉本体１１の内部の熱処理空間Ｓはたとえば、横断
面形状が四角形の大略直方体形状を有するもので、その
前後左右の側壁および天井に近接して、多数の発熱体１
９，１９．・・・を配置している。

この各発熱体１９としては、たとえばニクロムやカンタ
ル等の金属ヒータもしくは炭化硅素（ＳｉＣ）やモリブ
デンシリサイド等の棒状ヒータを使用することができる
。

上記炉床１５の上にもまた、上記と同様に、多数の発熱
体１９，１９．・・・が配置される。そして、炉床１５
のこれら発熱体１９，１９．・・・上には、第２図に示
すように、横断面が四角形状の２本の支持部材２１．２
１により炉床板２２がその両端部にて支持されている。

この炉床板２２の上には、第１図に示すように、被熱処
理物１２，１２．・・効く載置される。

一方、炉本体１１の側壁には、上記熱処理空間Ｓ内に雰
囲気ガスを導入するガス導入パイプ２３を設けるととも
に、上記熱処理空間で発生した排ガスを排出するための
ガス排出パイプ２４が設けられている。上記炉本体１１
の開口１３の段部１４とこの段部１４に対向する炉床１
５の段部２５との間には、セラミックウール等のシール
材２６が介装される。これは、炉本体１１の開口１３と
炉床１５との間の間隙ｇ＋から、炉本体１１の熱処理空
間Ｓ内の雰囲気ガスや排ガスが排出されないようにする
ためである。

このような構成であれば、炉本体１１の内部の熱処理空
間Ｓ内で、被熱処理物１２，１２．・・・が前後左右お
よび上下の６方向から発熱体１９により均等に加熱され
る。また、炉本体１１は炉床１５によりその内部の熱処
理空間Ｓが半密閉状態となり、ガス導入パイプ２３から
上記熱処理空間Ｓ内に導入された雰囲気ガスは、上記熱
処理空間Ｓ内に均等に廻り込み、被熱処理物１２に与え
られる。

これにより、品質の安定した、特性のばらつきの少ない
セラミック電子部品等を得ることができる。

なお、上記実施例において、炉床１５の昇降には、油圧
機構１８に代えて、スクリュ機構や他の昇降機構を使用
することもできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る熱処理炉の一実施例の縦断面図、第２図は第１図の熱処理炉の炉床部分の斜視図、第３図
は従来の熱処理炉の縦断面図、第４図は第３図のＩＶ−ＩＶ線に沿う断面図である。１１・・・炉本体、　　　　１２・・・被熱処理物、１
３・・・開口、　　　　　１５・・炉床、１６・・・油
圧ピストン、Ｉ８　・油圧機構、１９・・発熱体、　　
　　２３・・・ガス導入パイプ、２４・・・ガス排出パ
イプ、２６・・シール材。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）内部に横断面が多角形状を有する熱処理空間を有
し、底部に被熱処理物を出し入れする開口を有する炉本
体と、この炉本体下部に配設された昇降手段上に載置され、上
記炉本体底部の開口の嵌合位置およびこの嵌合位置の下
方に昇降される炉床とを備えた熱処理炉において、上記炉本体の熱処理空間の側壁、天井および炉床上のい
ずれにも発熱体が設置されていることを特徴とする熱処
理炉。