JPS63141048A - 画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は印刷板及び印刷回路の製造に有用な画像形成方
法に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕ヨー
ロッパ特許公告公報第０１５５２３１．０１８４５５３
及び０１９６９９９号には樹脂状キノンジアジドを含む
ポジのホトレジストの電着について記載されている。こ
れらのホトレジストは樹脂分子にカルボキシル基、ホス
ホン酸基スルホン酸基あ仝 るいはアミノ基を導入し、樹脂上のフェノール性水酸基
とキノンジアジドスルホン酸のエステル誘導体とを反応
することにより変性されたフェノール樹脂である。これ
らのホトレジストは電着により良好なフィルムが得られ
、像状照射により良好な画像が得られるものの、製造が
難しく、また製造に時間がかかるものである。高温を要
する変性フェノール樹脂の合成に含まれる反応はキノン
ジアジド残基が分解しないよう注意深く調節する必要が
あり、そうしないと電着したフィルムの光感度が期待し
たものより低下してしまう恐れがある。更にはとの合成
反応を順次繰返して行なわない限り、変性フェノール樹
脂の光感度や電着能を変化することはできない。

〔問題点を解決するための手段〕

電着性樹脂とキノンジアシド残基含有する化合物とを含
む水性組成物を電着すると、篤＜べきことに１キノンジ
アシド残基とカルボキシル基、ホスホン酸基、スルホン
酸基あるいはアミノ基との両方を分子中に有する樹脂を
製造する必要なしに良好な感光性フィルムが得られるこ
とが見出された。この１！＠咄ｍ樹脂とキノンジアジド
化合物は市販のものを容易に利用することができる。こ
のような混合物を使用すると配合範囲をかなりのものと
することができる。゛電着されたフィルムの光感度は、
単に混合成分の量比全調整することにより特別の必要に
応じて容易に変えることができる。

従って、本発明は、 （＋）　　導電性表面上に、囚感光性のＯ−キノンジア
ジド化合物と、（ト）電着性フィルム形成樹脂とからな
る混合物を水性媒体に入れ念溶液又は分散液である水性
組成物であって、を弁≠義同−分子中にキノンジアジド
残基とカルボい該組成物から感光性フィルムを電着し、
（ｉ）　　この電着フィルムをあらかじめ決められたパ
ターンで放射線に暴露して、フィルムの露出部を末露出
部に比して水尋性塩基で溶解し易くするようにし、 ＯｉＤ　　水性塩基で処理して露出部を除去することを
特徴とする画像形成方法を提供するものである。

樹脂とからなる混合物を（Ｃ）水性媒体に入れた溶液又
は分散物であって、箒黄学≠同一分子にキノンジアジド
残基とカルボキシル基、スルホンに使用するのに適した
水性組成物を提供するものである。

感光性Ｏ−キノンジアジド化合物は良く知られており、
例としてそれぞれに水酸基又はアミン基を有する化合物
、特に芳香族化合物の０−ベンゾキノンジアジドスルホ
ニル又は０−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル
又はアミドが挙げられる。好ましい０−キノンジアジド
は、０−ベンゾキノンジアジドスルホン酸又は０−ナフ
トキノンジアジドスルホン酸と、−価フエノール及び％
罠、２．２−ビス（ヒドロキシフェニル）プロパン、ジ
ヒドロキシジフェニル、２つ又＃′ｉ３つの水酸基で置
換されたベンゾフェノンの如き多価フェノールを含むフ
ェノール及びフェノール−アルデヒド樹脂及び重合可能
な不飽和置換基を有するフェノールの重合体などのフェ
ノール樹脂とのエステルである。エステルを誘導するの
に適したフェノール−アルデヒド樹脂には、フェノール
自体、あるい＃″ｔｏ−１ｍ−文はｐ−クレゾール、ｏ
−、ｍ−又はｐ−第三ブチルフェノール、ｏ−、ｍ−又
はｐ−オクチルフェノールの如きアルキル置換フェノー
ル、あるいは２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパンの如きビスフェノール、モジくはこれらフェノ
ールの２種以上の混合物と、アセトアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、グリオキシ酸あるいは好適にはホルムアル
デヒドの如き　　□アルデヒドから製造されたノボラッ
クが含まれる。エステルを誘導するのに適した不飽和フ
ェノールの重合体にｈｐ−ビニルフェノール及びｐ−１
ソブロペニルフエノールの単独重合体及び共重合体が含
まれる。

好ましいフェノールのＯ−キノンジアジドスルホニルエ
ステルは、ポリヒドロキンベンゾフェノンあるいはホル
ムアルデヒドとアルキル置換フェノールとから誘導され
たノボラック樹脂、あるいはこれらとフェノールとの混
合物の０−ナフトキノンジアジドスルホニルエステルで
ある。特に好ましいエステルは、ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、ホルムアルデ
ヒドとｏ−、ｍ−及びｐ−クレゾールの混合物あるいは
フェノールとｐ−第三ブチルフェノールとの混合物とか
ら誘導されるノボラックの１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホニルエステルである。

前記した感光性キノンジアジドは市販品金利用すること
ができ、あるいは、通常の方法により、例えばフェノー
ルと０−キノンジアジドスルホン酸のエステル形成誘導
体、通常０−キノンジアジドスルホン酸塩化物とを通常
の条件下でエステル化反応することにより製造すること
もできる。

電着性フィルム形成樹脂もまた良く知られている。これ
らは、アミノ基の如き塩基性基を含むカチオン性樹脂、
カルボキシル基、スルホ／酸基又はホスホン酸基の如き
酸性基を含むアニオン性樹脂もしくは塩基性基と酸性基
の双方を有する樹脂である。

電着性樹脂が電着されるためには、水性組成分において
少なくとも部分的にイオン化された形が存在する。カチ
オン性樹脂に対しては通常酸により塩基セを少なくとも
部分的に中和することによって達成される。アニオン性
情脂に対しては、これは通常、塩基により少なくとも部
分的に中和することにより達成される。塩基性基と酸性
基の双方を有する樹脂に対しては、少なくとも部分的な
中和を酸又は塩基により達成することができる。

カチオン電着性樹脂の例として、エポキシ樹脂と第１又
は第２ジアミンとの反応生成物、特に２．２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）
のジグリシジルエーテルの如きエポキシ樹脂と、エタノ
ールアミ／、ジェタノールアミンあるいはプロパツール
アミンの如きアルカノールアミンとの反応生成物、ノボ
ラック樹脂、エチレン性の不飽和部分を有するフェノー
ルの重合体あるいはエポキシし１脂とビスフェノールと
のフェノール性水酸基末端成物、例えばノボラック樹脂
又はポリ（ビニル）フェノールとアセトアルデヒド、ベ
ンズアルデヒド、あるいは好適にはホルムアルデヒドの
如きアルデヒド、及びジアルキルアミン、アルキレンジ
アミンあるいはアルカノールアミンの如きアミンとの反
応生成物、ジアルキルアミノアルキルアクリレート又は
メタクリレートの単独重合体及びアルキルアクリレート
又はメタクリレートの如き他のビニルモノマーとの共重
合体を含むこれらの共重合体及びエポキシ樹脂とアクリ
ル又はメタクリル酸とのエステルの如きアクリレート又
はメタクリレート基を含む樹脂とのグラフト共重合体な
どの塩基性基管含むアクリル物質の重合体、及びアクリ
ル基又はメタアクリル基を含有する樹脂とエタノールア
ミン、ジェタノールアミン又はモルフォリンの如き第１
又は第２アミンとのミカエル付加反応生成物が例示され
る。

アニオン性の電着性樹脂としては、カルボキシル基が末
端のジエン単独重合体及びブタジェンとの共重合体の如
きカルボキシル基が末端のジエン重合体、エチレン性不
飽和のカルボン酸、スルホン酸又はホスホン酸の重合体
、特にこれらの単独重合体及びアクリル酸又はメタアク
リル酸との共重合体、カルボキシル基が末端のポリエス
テル、水酸基が末１めポリエステル、水酸基含有ビニル
モノマーの重合体あるいは水酸基含有エポキシ樹脂の如
き水酸基含有樹脂とポリカルボン酸無水物との反応生成
物、エポキシ樹脂とメルカプトカルボン酸とのカルボキ
シル基含有反応生成物が例示される。

カチオン性基とアニオン性基の双方を含む電着性樹脂と
しては、エポキシ樹脂と、アミノカルボン酸、アミノス
ルホン酸、あるいはアミノるいはエポキシ樹脂とビスフ
ェノールのフェノール性水酸基末端付加物の如きフェノ
ール性水酸基を含む樹脂と、アセトアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、好ましくはホルムアルデヒドの如きアルデ
ヒドやアミノカルボン酸、アミノスルホン酸、アミノホ
スホン酸との反応生成物、アクリル酸又はメタアクリル
酸の如きエチレン性不飽和酸とジアルキルアミノアルキ
ルアクリレート又はメタアクリレートの如きエチレン不
飽和アミン、及び所望により更に一種以上の部分的にエ
チレン不飽和モノマーとの共重合体、不飽和酸及び不飽
和アミンと、エポキシ樹脂とアクリル酸又はメタクリル
酸とのエステルの如きアクリレート基又はメタアクリレ
ート基を含有する樹脂とのグラフト共重合体が例示され
る。

電着性樹脂として好適なものは、アミノ基、カルボキシ
ル基又はスルホン酸基を含み、水性組成物において少な
くとも部分的にイオン形を有するものである。更に好適
なものは、ノボ２ツク樹脂、アルデヒド及び第１又＃′
ｉ第２アミンもしくはアミノカルボン酸との反応生成物
であるカチオン性又はカチオン性／アニオ／性フェノー
ル對脂、ジアルキルアミノアルキルアクリレート又はメ
タアクリレートとアルキル又はヒドロキシアルキルアク
リレート又はメタアクリレート及び所望により１ｆａ以
上の他のとニルポリマーとのカチオン性共重合体、アク
リル酸又はメタアクリル酸とアルキル又はヒドロキシア
ルキルアクリレート又はメタアクリレート、及び所望に
より１種以上の他のビニルモノマーとのアニオン性共重
合体、ビニル基含有スルホン酸とアクリレート又はメタ
アクリレートエステル、及ヒ所望により１種以上の他の
ビニルモノマーとのアニオン性共重合体、ジアルキルア
ミノアルキルアクリレート又はメタアクリレートとアク
リル酸又はメタアクリル酸、アルキル又はヒドロキシア
ルキルアクリレート又はメタアクリレート及び所望によ
り１ｍ以上の他のビニルモノマーとのカチオン性／アニ
オン性共重合体である。カチオン性及びカチオン性／ア
ニオン性フェノール樹脂として好ましいものは、（ａ）
フェノールあるいはｏ−、ｍ−又はｐ−クレゾール、ｏ
、−、ｍ−又はｐ−第三プチルフェノ−／ｌ／、Ｏ＋、
ｍ−又ｄｐ−オクチルフェノールの如きアルキル置換フ
ェノール、もしくは２種以上のこれらフェノールの混合
物とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド又はベンズア
ルデヒドとから誘導されるノボラック樹脂、Φ）ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド又はベンズアルデヒド及
び（Ｃ）エタノールアミン、ジェタノールアミン、プロ
パツールアミン又はブタノールアミンの如キアルカノー
ルアミン、あるいはサルコシン、グリシン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸、イミノジ酢酸、アントラニル酸又
はｐ−アミノ安息香酸の如きアミノカルボン酸との反応
生成物でちる。これら樹脂の中で特に好ましいものは、
（ａ）がホルムアルデヒド及びｏ−、ｍ−及びｐ−クレ
ゾールの混合物あるいはフェノールとｐ−第三ブチルフ
ェノールの混合物のいずれかとから誘導されるノボラッ
ク樹脂であって、Φ）がホルムアルデヒド及び（Ｃ）が
ジェタノールアミン、サルコシン又はグリシンであるも
のである。カチオン性及びカチオン性／アニオン性フェ
ノール＃脂は反応体を通常のマンニッヒ反応条件に従わ
せることＫより製造することができる。

カチオン性共重合体として好ましいものは、ジメチルア
ミノエチルアクリレート又はメタアクリレートと、炭素
原子数１ないし１２のアルキル又はヒドロキシアルキル
アクリレート又はメタアクリレート及び、所望により１
種以上の他のビニルモノマーとの共重合体である。これ
ら共重合体の中で特に好ましいものは、ジメチルアミノ
エチルメタアクリレートと、２−エチルへキシルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレートと、ス
チレンとの共重合体である。

アニオン性共重合体として好適なものは、アクリル酸又
はメタアクリル酸と、炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル又はヒドロキシアルキルアクリレート又はメタアクリ
レートと、更に所望により１種以上のビニルモノマーと
の共重合体である。これら共重合体の中で特に好ましい
ものは、メタアクリル酸とメチルメタアルリレートと２
−ヒドロキシエチルメタアクリレートとの共重合体、及
びメタアクリル酸とメチルメタアクリレートと２−エチ
ルへキシルアクリレ−）と２−ヒドロキシエチルメタア
クリレートとの共重合体である。

他の好適なアニオン性共重合体としては、スルホン酸基
を含有するアクリルアミドと、ヒドロキシ安息香酸の３
−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル又は３
−メタアクリロイルオキシ−２−ヒドロ中ジプロピルエ
ステルと、アルキルアクリレート又はメタアクリレート
との共重合体である。これら共重合体の中で特釦好まし
いものは、２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロ
パンスルホン酸、３−メタアクリロイルオキシ−２−ヒ
ドロキシプロビルサリシレート、メチルメタアクリレー
ト及びｎ−ブチルアクリレートの共重合体である。

カチオン性／アニオン性共重合体として好ましいものは
ジアルキルアミノアルキルアクリレート又はメタアクリ
レートとアクリル酸又はメタアクリル酸、炭素原子数１
ないし１２のアルキル又はヒドロキシアルキルアクリレ
ート又はメタアクリレート、及び所望によ抄１種以上の
他のビニルモノマーとの共重合体である。これら共重合
体の中で特に好ましいものは、ジメチルアミンエチルメ
タアクリレートとメタアクリル酸、メチルメタアクリレ
ート及び２−ヒドロ水性組成物において少なくとも部分
的にイオン形を有するものでちる。該樹脂に加えて少な
くともその部分的な中和を行なうのに好適な酸は、酢酸
、プロピオン酸、乳酸、マレイン酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸及びグリコール酸の如き有機酸、塩酸及び硫酸の
如き無機酸を含む。該樹脂に加えて少なくともその部分
的な中和を行なうのに好適な塩基は、トリエチルアミン
、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルアミン、モ
ルホリン及び２−（ジメチルアミノ）エタノールの如き
有機塩基、水酸化又は炭酸す）　ＩＪウム又はカリウム
及びアンモニアの如き無機塩基を含む。該樹脂は通常少
なくとも５チ、好適には２０％ないし１００慢中和され
ている。特に好適な製造方法においては、該樹脂は完全
に中和されている。

水の１洗比較して少量のケトン、エーテル、又はエステ
ルの如き有機溶媒を水性組成物に添加することができる
。有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、エタノール、イソプロパツー
ル、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール
、２−ｎ−ブトキシェタノール、ジエチレングリコール
モツプチルエーテル、２−メトキシグロビルアセテート
、２−エトキシエチルアセテート（オキシトールアセテ
ート）及びこれらの２種以上の混合物が好ましい。ミヒ
ラーケトン、ベンツインエーテル、ベンジルケタール及
ヒチオキサントンの如き光増感剤も水性組成物に混組成
物が、重量にて少なくと０１部に対して（６）ｉ［Ｌ０
５部含有する量で使用される。キノンジアジド囚それ自
体が樹脂状の場合には、通常、（Ｂ）１重量部に対して
（Ｌ５ないし１．５部、好ましくはα７５ないし１．２
５部存在するのが見料である。

（ト）が樹脂状でない場合には、囚は、通常、＠１重量
部処対してα０５ないしα５部、好ましくはα１ないし
１１３部で存在するのが便利である。

た水性組成物が得られるまで水により希釈する。

水性組成物は、溶液であることができ、しかし通常は分
散液であるが、一般的に重量で２ないし４０％、好まし
くは５ないし２０チの固形分を含んでいる。

水性組成物からの感光性フィルムの電着は通常の樹脂状
物質に対する電着法を用いて実施することができる。こ
のように、その上に画像が形成される基体を電極、即ち
、電着性樹脂とその部分的な中和の性質に従ってカソー
ド又はアノードとして水性組成物に浸漬するとともに、
金属板の如きもう一つの導電性物質をもう一方の電極と
して浸漬し、水性組成物に電流を流して画像がその１罠
形成されるべき基体上に所望の厚さの感光性フィルムを
析出させる。通常２００ボルト以上の電圧を５分間まで
使用するが、それぞれの樹脂や基体及び所望の厚さに応
じてその正確な信性は樹脂状物質を電着する技法の当業
者により容易に決定することができる。電着の後、感光
性フィルムを有する基体は水性組成物から取出され、通
常洗浄を行なってから９０℃までの温度で加熱して感光
性フィルムを乾燥する。その上に感光性フィルムを析出
するべき基体は、電気伝導性のプラスチック材料、例え
ばその中に電気伝導性の粒子を分散して含む熱硬化性樹
脂からなるものとすることができる。

その好ましいものは、鋼又はアルミニウムの如き金属か
らなる固体金属板あるいは金属でめっきされたスルーホ
ールまたはバイアホールを有する金属被着複合材料であ
る。従って本発明方法は印刷板及びプリント回路の製造
に好適である。

予め決められたパターンによる電着性フィルムの放射線
照射はマスク、即ち実質的に不透明な部分と実質的に透
明な部分とからなる画像を有する透明体を通して露光す
るか、あるいはコンビエータ−で制御されたレーザービ
ームにより達成することができる。２００ないし６０Ｑ
ｎｍの波長を有する電磁線が一般的に使用され、好適な
線源として、炭素アーク、水銀蒸気アーク、紫外線を放
射するリンを含む螢光ランプ、アルゴン及びキセノング
ローランプ、タングステンランプ、及び写真用投光ラン
プが挙げられる。

この中で水銀蒸気アーク及び金属ハライドランプが最も
適している。必要な露光時間は、キノンジアジド及び電
着性樹脂の性質、電着されたフィルムの膜厚、線源の種
類、及び線源とフィルム間の距離の様な要因に依存する
。好ｉな露光時間は通常の経験により容易に定めること
ができる。

照射の彼、放射線により！光されたフィルム部分を、フ
ィルムを現像剤の水性塩基で処理することＫより除去す
る。好適な現像剤としてはα５ないし５重量パーセント
の水酸化又は炭酸ナトリウム又はカリウムを含む水溶液
が挙げられるが、現像剤には現像を促進するために少量
の界面活性剤及び水浴性の有機溶媒を含有することがで
きる。

現像により得られた画像は、（現像にふり露出した）基
体の表面部分と、画像露光の際の未露光部に対応し、基
体の残部を被覆している残りの感光性フィルム部分とか
らなる。基体表面が金属の場合には、現像により露出し
た金属は、エツチングされて金属が除去されるか、ある
いは画像に対応し念深さが増し、下側に６る基体を衝撃
から守る感光性フィルムが残っている部分（末露出部分
）との差異が増大する。このようなエツチング方法、例
えば銅基体上に塩化第２鉄もしくは過硫酸アンモニウム
溶液を使用する方法は良く知られている。残留している
感光性フィルムは、次いで例えば、東に画像に関係なく
照射を行なった後に水性塩基で処理することにより除去
することができる。この代りに、残留しているフィルム
を、画像を現像するために用いたものよシも強力な溶液
、例えば同様な塩基の高濃度液で処理し九り、あるいは
現像に使用したものと同様の溶液ではあるが更に苛酷な
条件、例えばフィルムと溶液を長期にわたって接触する
条件での処理により除去することができる。好適なフィ
ルム除去剤としては、１ないし１０重量パーセントの水
酸化又は炭酸ナトリウム又はカリウムとア七トン、メチ
ルエチルケトン、２−エトキシエタノール、２−ｎ−ブ
トキシェタノール、酢酸２−エトキシエチル、トルエン
、あるいはこれらの２種以上の混合物の如き有機溶媒と
を含む水性溶液が挙げられる。

基体が金属被着プラスチック複合材料の場合には、残留
しているフィルムを除去することにより、このプラスチ
ック複合材料上に金Ｆ１４による画像を形成することが
できる。

〔発明の効果〕

以上説明したよう罠、本発明方法は管穴を埋設して有す
るプリント回路板、即ち、スルーホール（両面が導電路
で相互接続するよう金属めっきされた管穴）を有する金
槁被着プラスチック積層板を使用した多層板からなるプ
リント回路の製造に役立つものである。即ち、本発明方
合体のスルーホール部分に塗布されたフィルム部分が放
射線により露光されることがないよう為Ｖリエばスルー
ホール部分に、これに対応した不透明部分を有する画像
状のマスクの不透明部分を配列して画像様に露光するこ
とにより、前記プリント回路の製造を行なうことができ
る。

下記の実施例により本発明をさらに詳細に説明する。こ
の際、特記しない限り、部及びチはそれぞれ重量部及び
重量パーセントを表わす。

実施例に使用した樹脂は下記の如く調製した。

樹脂１ 市販のクレゾール（ｉモル）とホルムアルデヒド（（ｉ
７５モル）の混合物から調製され九ノボラック（４０Ｆ
）を２−ｎ−ブトキシェタノール（８０ｆ）Ｉｃ溶解し
、８０℃に加熱した。しかる後、ジェタノールアミン（
ａ４ｆ）、パラホルムアルデヒド（ａｚｓｆ　；　ｑ　
１％　（ＨＣＯ）、）、乳酸（ｉｔ５２ｔニア５チ）及
び２−ｎ−ブトキシェタノール（ｉ０ｆ）　を含む溶液
を加え、混合物ヲ８０℃で３時間維持した。この混合物
を水（２ｏｏｙ）で希釈し、室温まで冷却し、４０℃で
攪拌した０、０５Ｎ水酸化ナトリウム＃４ｇ（ｔａリッ
トル）にゆっくり注入し次。形成された淡黄色に着色し
た沈ｆｉｌ濾過して分μし、水で洗浄して真空乾燥機に
て４５℃で乾燥し、４１．６Ｆの樹脂■を得た。

樹脂■ フェノール（２，２５モル）、ｐ−ｇ三ブチルフェノー
ル（（ｉ７５モル）及ヒホルムアルデヒド（ｉ７モル）
から調製されたノボラック（Ｓａｆ）ｌｆ２−ｎ−ブト
キシェタノールに溶解し、８００に加熱した。しかる後
、ジェタノールアミン（２１９）、ホルマＩＪ　ｙ　（
３１ｆ　；３ａ８３％ＨＣ［４０）及び２−ｎ−ブトキ
シェタノール（ｉ（ｉ）ｉ営む溶液金加え、混合物を８
０℃で２時間維持した。これに乳酸（２４ｔニア５チ）
を加え、混合物を８０℃で１時間反応させ念。次いで反
応混合＊を水（ｚ＝ｏｆ）で希釈し、室温に冷却し、攪
拌したα１２Ｎ水酸化ナトリウム溶液（ｉ６６０ＷＪＩ
）にゆっくり注入した。得られた淡黄色に着色した沈＃
全戸遇して分離し、水で洗浄して真空乾燥機にて４５℃
で乾燥し、６５．６９の樹脂■を得た。

樹脂■ フェノール（２，２５モル）、ｐ−第三ブチルフェノー
ル（ｉ７５モル）及びホルムアルデヒド（２，７モル）
から調製されたノボラック（４０ｆ）を２−ｎ−ブトキ
シェタノール（８０Ｆ）に溶解し、８０℃に加熱した。

しかる後、ジェタノールアミン（ａａｆ）、パラホルム
アルデヒド（Ａ，２８ｔ　；　９１　％　（ｉ（ＣＨＯ
）ｘ）、乳酸（ｉ１，５２２ニア５％）及び２−ｎ−ブ
トキシェタノール（ｉ０ｆ）ｔｆむ溶液を加え、混合物
を８０℃で５時間維持し喪。

反応混合物を水（２０Ｏｆ）で希釈し、室温まで冷却し
、４０℃の攪拌したα０５Ｎ水酸化ナトリクム＃ｍ　（
ｔ　８リツトル）Ｋゆっくり注入した。

形成した淡黄色に着色した沈澱を濾過して分離し、水で
洗浄して真空乾燥機にて４５℃で乾燥し、２７１の樹脂
１１Ｎを得た。

樹脂■ フェノール（２，２５モル）、ｐ−第三ブチルフェノー
ル（ＣＬ７５モル）及びホルムアルデヒド（２−７モル
）からｉＡ製されたノボラック（ｉｓｏｆ）を２−ｎ−
ブトキシェタノール（２５０９）に溶解し、８０℃に加
熱した。しかる鎌、サルコシｙ（ｉｃＬｏ２Ｆ）、パラ
ホルムアルデヒド（７，４ｔ；９１チ）、２０チ水酸化
ナトリウム水醇液（２２，５Ｖ）及び２−ｎ−ブトキシ
ェタノール（２ｓｆ）を含有する溶液を加え、混合物ｆ
：８０℃で３時間維持した。反応混合物を２０チ水酸化
ナトリウム（ｉｓｔ）″ｆｒ：含有する水（ｉ６００ａ
ｄ）で希釈し、ヱ温まで冷却し、攪拌した１１Ｎ塩酸（
４リツトル）にゆっく９注入した。得られた淡黄色に着
色した沈澱″ｆ：濾過して分離し、水で洗浄して真空乾
燥機にて４５℃で乾燥し、樹脂■を得た。

樹脂■ フェノール（Ｚ２５モル）、ｐ−第三ブチルフェノール
（（Ｌ７５モル）及びホルムアルデヒド（２，７モル）
からＢＡ製されたノボラック（ｉ００ｔ）を２−ｎ−ブ
トキシェタノール（２００ｆ）に溶解し、８０℃に加熱
した。グリシン（ｓ、６Ｆ）、バラホルムアルデ？：　
）”　（Ａｂ（ｉ；９１％）、２０　％水酸化す）　Ｉ
Ｊウム水溶ｇ（ＬＬＯｆ）　　及び２−ｎ−プトキシエ
タノール（２０ｔ）　ＩＩ−含有する溶液を加え、混合
物を８０℃で３時間維持した。

反応混合＠’に２Ｑ’４水酸化ナトリウム（ｉ２ｔ）を
含有する水（ｓｏｏｔ）で希釈し、室ＴＩＡまで冷却し
、攪拌したα０４Ｎ４酸（４リツトル）にゆっくり注入
した。

得られた淡黄色に着色した沈＃七濾過して分離し、水で
洗浄して真空乾燥機にて４５℃で乾燥し、１０５ｔの樹
脂ｖを得た。

樹脂■ 市販のクレゾール（ｉモル）とホルムアルデヒド（α７
５モ／Ｌ；）の混合物から調製されたノボラック（６（
ｉ）　’ｉ　２−　ｎ−ブトキシェタノール（ｉ２０Ｆ
）にｆ＃解し、８０℃に加熱した。しかる後、サルコシ
ンＢｚｔ）、パラホルムアルデヒド（２，５８ｔ　；　
９１チ）、２０チ水酸化ナトリウム水溶液（７，２９）
及び２−ｎ−ブトキシェタノール（ｉｏｆ）を含有する
溶液を加え、混合物を８０℃で５時間反応させた。反応
す★混合物を水（３００Ｆ）で希釈し、室温まで冷却し
、攪拌したα０３Ｎ塩酸（２，７４）にゆっくり注入し
た。形成された淡黄色に着色した沈Ｒを濾過して分離し
、水で洗浄して真空乾燥機にて４５℃で乾燥し、樹脂■
を得た。

樹脂■ メチルメタアクリレート（Ａ０ｆ）、メタアクリル酸（
ｉ０？）、２−ヒドロキシエチルメタアクＩＪ　Ｖ−）
　（４０９）及び第三−ドデシルメルカプタン（（ＬＯ
３ｆ）をテトラヒドロフラン（３５０ｔ）中で還流温度
に加熱した。しかる故、アゾビス（インブチロニトリル
）　（ＡＩＢＮ）　（ｔｓＰ）を加え、混合物を還流温
度で５時間維持した。次いで、反応混合物を室温まで冷
却し、攪拌したヘキサン（９００ｄ）にゆっくり注入し
た。形成された白色沈ｉｋ濾過して分離し、ヘキサンで
洗浄して真空乾燥機にて４５℃で乾燥し、８９ｔの助当
り１．０６当量の酸価を有する共重合体を得た。

樹脂１ メチルメタアクリレート（ｉｓｔ）、メタアクリル＃Ｉ
（ｘａｒ）、２−エチルへキシルメタアクリレート（ｉ
５ｆ）、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート（ｉ４
２Ｆ）及び第三−ドデシルメルカプタン（ｉ０１５Ｆ）
’ｉテトラヒドロ７ラン（ｉ４０ｔ　）中で還流温度に
刀口熱した。しかる後、ＡＩＢＮ　（ａ７５　ｆ　）　
’に加え、混合＝１還流下で５時間維持し、次いで室温
まで冷却し、撹拌したヘキサン（４５０ａｕ）にゆっく
シ注入した。形成された白色法＃を濾過して分離し、ヘ
キサンで洗浄して真空乾燥機にて４５℃で乾燥し、４０
２の輪当り（ｉ９０当量の酸価を有する共重合体を得た
。

樹脂■ メチルメタアクリレ−）　（４５ｔ）、２−ヒドロキシ
エチルメタアクリレート（４ｏｆ）、メタアクリル′＃
ｋ（ｉ０ｆ）、ジメチルアミノエチルメタアクリレート
（Ａｆ）及び第三−ドデシルメルカプタン（Ｌｌｏｓｔ
）をテトラヒドロ７ラン（３５０ｆ）中でＲ流温度に加
熱した。しかる後ＡＩＢＮ（ｉ，５Ｆ）を加え、混合物
を還流下で５時間維持した。反応混合物を室温まで冷却
し、攪拌したヘキサン（ｑａａｔｙ　）にゆっく９加え
た。

得られた白色沈澱を濾過して分離し、ヘキサンで洗浄し
て真空乾燥機にて４５℃で乾燥し、８０ｆの陽当９０．
５６当量のアミン価を有する共重合体を得た。

樹脂Ｘ スチレン（４（ｉ）、２−エチルへキシルアクリレ−）
（３２，５Ｆ）、２−ヒドロキシエチルメタアクリレ−
）　（２０Ｆ）、ジメチルアミノエチルメタアクリレ−
）（７，５Ｆ）及びＡＩｆ３Ｎ　（ｔｓｆ）の混合物を
２時間にわたシ滴下して１００℃の攪拌した２−ｎ−ブ
トキシェタノールに加えた。

反応混合物ヲ１００℃で更に１時間維持し、しかる後に
更にＡＩＢＮ（ｃＬ５Ｆ）及び２−　ｎ　−７’　）　
キシエタノール（ａ５ｆ）を添刀口した。この操作ｔさ
らに２回繰返して行ない、次いで反応混合物を１００℃
で更に１時間維持してから冷却した。

得られた溶液は、呻当り（ｉ２８当量のアミン価を有す
るものであった。

樹脂Ｘ 該樹脂は、３モルのフェノール、１モルのｐ−第三−ブ
チルフェノール及びホルムアルデヒドから調製されたノ
ボラックと１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロ２イドと金的１２チの７工ノール性７Ｋ
ｇ基がエステル化されるよう反応して得られた樹脂であ
り、該樹脂は約１４５０の平均分子量ヲ有するものでめ
る。

樹脂店 サリチル酸（ｉ５８ｆ）、ジオキサン（ｉ０（ｉ）、ベ
ンジルジメチルアミン（２，５ｔ）及びハイドロキノン
（α０５ｔ）の混合物ヲ１００℃に加熱した。

得られた溶液にグリシジルメタアクリレート（ｉ４ｔ４
Ｆ）及びジオキサン（ｉｏｆ）の混合物’を１００℃で
３０分間にわたって加えた。しかる後、この溶液を１０
０℃で６時間維持したところ、酸価は神当りα０６轟ｔ
Ｋまで降下した。この生成物はサリチル酸−３−メタア
クリロイルオキ７−２−ヒドロキシプロピルの７０％溶
液であった。この７０−溶液（ｉ４，２８ｔ）と、ｎ−
ブチルアクリレ−）　（４１３ｆ　）、メチルメタアク
リレート（７，１５ｆＬ　　２−アクリルアミド−２−
メチル−１−プロパンスルホン酸（ｉ，７３Ｆ）及びＡ
ＩＢＮ　（α３８ｔ）との混合物を２時間にわたり滴下
して１００℃の攪拌した２−ｎ−ブトキシェタノール（
２０，７Ｆ）に加えた。得られた混合物を１００℃で１
時間維持し、しかるｉＫ更にＡＩＢＮ（α１５ｔ）を添
加した。この１００℃に加熱し、次いでＡＩＢＮ　（α
１３ｆ）を添加する操作をさらに２回繰返し、反応混合
物ｔ１００℃で更に１時間維持してから冷却した。得ら
れた共重合溶液はに２当り１１４当址の酸価含有するも
のであった。

実施例１ 樹脂１（４，０ｆ）を攪拌しながらゆっくりと、２−ｎ
−ブトキシェタノール（ｔｏｆ）、酢酸オキシド−ｋ　
（α５ｔ）及び２．４−ジ（ｉ，２−す７トキノンー２
−ジアジド−５−スルホニルオキシ）ベンゾフェノン（
［１５ｆ）の混合物に加えた。

得られ九混合物を乳酸で中和し、次いで水で希釈して１
０％の固形成分を有する分散液を得た。

銅被着積層体及びステンレス鋼板をそれぞれカソード及
びアノードとしてこの分散液に浸漬し、２０ボルトで１
分間通電することＫより、前記積層体上に樹脂状フィル
ムを析出した。しかる後、積層体を分散液から取出し、
水とブトキシェタノール（容量比９：１）の混合液によ
り洗浄し、次いで９０°Ｃで５分間乾燥した。得られた
電着フィルムは厚さ７ミクロンの不粘着性の固体層であ
った。乾燥フィルムにマスクを通して５０秒間ｓｏｏｏ
ｗの金属ハライドランプヲ７５αの離間間隔で照射した
。照射したフィルムをα０１％の非イオン性フルオロカ
ーボン界面活性剤（２−ブトキシェタノール１％溶液と
して使用されている）を含む３チ水酸化ナトリウム水溶
液に浸漬して現像することによりマスクに対応した鮮明
なポジ画像が得られた。

現像により露出した鋼を３０℃の塩化筒２鉄の４０％水
溶液によりエツチングして除去し、しかる後、前記積層
板を水洗して乾燥し、次いでマスクを使用しないで再び
前記ｓｏｏｏｗのランプで６０秒間再び照射した。再照
射した積層体を５１の水酸化ナトリウム水溶液に浸漬す
るととＫよシ、残留していた樹脂は完全に除去され、積
層体上に銅によるマスクに対応した鮮明な画像が得られ
た。

実施例２ 樹脂１　（４，Ｏｆ）　′ｌｔ＋ｊｔ拌しながらゆつ〈
シと、２−ｎ−ブトキシェタノール（ａｎｙ）及び１モ
ルの２．５．４−トリヒドロキシベンゾフェノンと２．
５モルの１．２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−ス
ルホニルクロライドトノエステル（α５ｔ）の屁金物に
加えた。得られた混合物を乳酸で中和し、次いで水で希
釈して１０％の固形成分を有する分散液を得た。４ｏボ
ルトで１分間通電した以外は実施例１と同様にして、分
散液から銅破着積層体上に樹脂状フィルムを析出した。

次いで照射時間を１分とした以外は、実施例１と同様に
このフィルムの洗浄、乾燥を行なって厚さ７ミクロンの
乾燥フィルムを得、次いでマスクを通しての照射を行な
った。更に１実施例１と同様の現像により積層体上にマ
スクに対応した鮮明な画像を得た。

実施例３ 樹脂Ｉに代えて同量の樹脂Ｕを用い、２０ボルトで１分
間通電し、３０秒間のマスクを通した照射を行ない、α
０１％の非イオン性フルオロカーボン界面活性剤（２−
ブトキシェタノール１ｓｍａとして使用されている）を
含む１％水酸化ナトリウム水溶液により現像し友以外は
実施例２と同様の操作を繰返した。この結果、鋼被着積
層体上に１銅によるマスクに対応した鮮明な画像が得ら
れた。

現像によシ露出した鋼は実施例１と同様のエツチングに
より除去され、また残留していた樹脂は実施例１と同様
の再照射により完全に除去され、夏に、１１ｓの水酸化
ナトリウム水溶液に浸漬することにより、積層体上に鋼
によるマスクに対応した鮮明な画像が得られた。

実施例４ 使用したキノンジアジドスルホンはエステルの量を１．
Ｏｆとした以外は実施例３と同様にした。その結果、銅
被着績層体上に鮮明なマスクに対応したポジ画像が得ら
れた。

実施例５ 樹脂１１１（４，Ｏｆ）をゆっくりと、２−ｎ−ブトキ
シェタノールＢａｒ）、ｎｍオキシトール（α５２）及
び２．４−ジ（ｉ，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
５−スルホニルオキシ）ベンゾフェノン（Ｉ１５２）の
混合物に加えた。得られた混合物を乳酸で中和し、次い
で水で希釈して１゜−の固形成分を有する分散液を得た
。次いで、１５ポルトで１分間通電し、厚さ５ミクロン
の乾燥フィルムを得た以外は実施例１と同体にしなった
。乾燥フィルムを実施例３と同様にマスクを通して照射
、現像すると積層体上にマスクに対応し友鮮明なポジ画
像を得た。

実施例６ 樹脂ｌ（２，Ｏｆ）及び樹脂ＸＩ　（ｌｏｔ）を攪拌し
ながらゆっくりと２−ｎ−ブトキシェタノール（ａｏｆ
）に加えた。得られた混合４Ｅを乳酸で中和し、次いで
水で希釈して１０Ｌｓの固形成分を有する分散液を得た
。しかる鎌、１０ボルトで１分間通区し、厚さ６ミクロ
ンの乾燥フィルムを得た以外は実施例１と同様にして分
＊ｍから銅被看積層体上に樹脂状フィルムを電層し、こ
のフィルムの洗浄、乾燥を行なった。乾燥フィルムを実
施例１と同様にマスクをＡして照射し、α０１チの非イ
オン性フルオロカーボン界面活性剤（２−ブトキシェタ
ノール１％溶液として使用されている）を含む２チ水酸
化ナトリウム水溶液に浸漬して現像することによシ積層
体上にマスクに対応した鮮明なポジ画像を得た。

実施例７ 樹脂１ｕ　（２，ｏｆ）と樹脂ＸＩ　（２−Ｏｆ　）　
ｋｊｌ拌１．ｆｚがらゆりくりと２−ｎ−ブトキシェタ
ノール（ａｏｒ）に加えた。得られた混合物全乳酸で中
和し、次いで水で希釈して１０％の固形成分を有する分
散液を得た。しかる後、厚さ８ミクロンの乾燥フィルム
を得た以外は実施例６と同様にして銅被着積層体上に上
記分散液から樹脂状フィルムを電着し、このフィルムの
洗浄、乾燥を行なった。乾燥フィルムを実施例１と同様
にマスクを通して照射し、実施例５と同様の現像液に浸
漬して現像することにより債４体上にマスクに対応した
鮮明なポジ画像が得られた。

現像により露出した＠を実施例１と同様にしてエツチン
グして除去し次。残留していた樹脂も実施例１と同様の
再照射により除去し、次いで１チ水酸化ナトリウム浴准
に浸漬したところ、積層体上に銅によるマスクに対応し
た鮮明な画１１Ｊが得られた。

実施例８ ２．５ｔの１封脂■と１．５ｔの樹脂Ｘとを使用し、実
施例６と同様の現像液に浸漬して現像した以外は実施例
７と同様にして積ｌ一体上にマスクに対応した鮮明なポ
ジ画１家を得た。

実施例９ 樹月旨■（４，（ｉ）會、２−ｎ−ブトキシェタノール
（ｔｏｙ）、酢酸オキシトール（Ｉ１５ｆ）及び２．４
−ジ（ｉ，２−す７トキノンー２−ジアジド−５−スル
ホニルオキシ）ベンゾフェノン（α５Ｖ）の混合・ｉ、
、／７に溶解した。得られた混合＃を５チ水酸化カリウ
ム水浴液で中和し、次いで水で希釈して１０％の固形成
分を有する分散液を得た。次いで、この分散液に銅被Ｍ
積層体及びステンレス鋼板全それぞれアノード及びカノ
ードとして浸漬し、分ｍ液に４０ボルトで１分間通区し
、積層体上に樹脂状フィルムを析出した。

しかる後、積層体上分散液から取出し、水及び２−ｎ−
ブトキシ憂ノール（容量比９：１）の混合物で洗浄し、
９０℃で５分間乾燥した。得られた電着フィルムは、６
ミクロンの厚さを有する不粘着性の固体ｊ−であった。

この乾燥フィルムを実施例５と同様にマスクを介して照
射し、次いで現像したところ、積層体上にマスクに対応
する鮮明なポジ画像が得られた。

現像によシ露出した銅を実施例１と同様にエツチングし
て除去し、残留していた樹脂勿実力例１と同様に再照射
し、次いで１チの水酸化ナトリウム水溶液に浸漬すると
、積層体上に銅によるマスクに対応した鮮明な画像が得
られた。

実施例１０ 樹脂ｖ（ａ、ｏｒ）１攪拌しながらゆっくりと２−ｎ−
ブトキシェタノール（ｔｓｉＦ）、酢酸オキシトール（
α５ｆ）及び２．４−ジ（ｉ，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホニルオキシ）ベンゾフェノン（α
５ｙ）の混合物に加えた。得られた混合物を５チ水酸化
カリウム水溶奴で中和し、次いで水で希釈して１０ｔｓ
の固形成分を有する分散ｇを得た。５０ボルトで１分間
通電した以外は実施例９と同様にしてこの分散液から鋼
被着槓ノ一体上に樹脂状フィルムを電着し、このフィル
ムの洗浄乾燥を行なった。７ミクロンの厚さの乾燥フィ
ルムを実施例３と同様にしてマスクを通して照射してか
ら現像したところ、積層体上にマスクに対応した鮮明な
ポジ画像を得た。実施例９と同様にして露出したｍｔエ
ツチングし、次いで残留していた樹脂を除去したところ
、積層体上に銅によるマスクに対応した鮮明な画像が得
られた。

実施例１１ ｔＯｔの酢酸オキシトール及び１．０１のキノンジアジ
ドスルホニルエステルヲ使用シ、４０ボルトで１分間通
電した以外は実施例１０と同様にして厚さ９ミクロンの
乾燥フィルムを得、実施例６と同様にして現像した。そ
の結果、積層体上にマスクに対応し次鮮明なポジ画像が
得られた。

実施例１２ 実施例１０の混合物に代えて樹ｊｈＶ１（４，ｏｆ）、
２−ｎ−ブトキシェタノール（４，Ｏｆ）、酢酸オキシ
トール（（ｉｓｔ）及び２．４−ジ（ｉ，２−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−５−スルホニルオキシ）ベンゾフ
ェノン（α５Ｆ）の混合ζ勿を使用し、１００ボルトで
２分間通電した以外は実施例１０と同様にして厚さ１８
ミクロンの乾燥フィルムを得、実施例１に使用した現像
剤に浸漬して現像した。その結果、積層体上にマスクに
対応した鮮明なポジ画像が得られた。

実施例１３ 樹脂■（ｚ、ｏｒ）と樹脂ｘＩ（２，Ｏｆ）　ｆ２−　
ｎ　−ブトキシェタノール（４，５９）にゆっくりと攪
拌しながら加えた。混合＊を５チ水酸化カリウム水溶液
で中和し、次いで希釈して固形成分１０チの分散液を得
た。２５ボルトで１分間通成し、厚さ８ミクロンの乾燥
フィルムを得た以外は実施例９と同様に上記分散液から
＠破着積層体上に樹脂状フィルムｆｊｒ：電着し、洗浄
し、次いで光照射と現像を行なったところ、積層体上に
マスクに対応した鮮明なポジ画像が得られた。

実施例１４ 樹脂■に代えて樹脂Ｖ（ｉ，５Ｆ）を使用し、また、樹
脂Ｍｋ２．５？使用し、更に３０ボルトで１分間通電し
て厚さ７ミクロンの乾燥フィルムを得た以外は実施例１
３と同様にして、積層体上にマスクに対応した鮮明なポ
ジ画圀を得た。

実施例１５ 樹脂■に代えて同量の樹脂■を使用し、３５ボルトで１
分間通電した以外は実施例１３と同様にして厚さ７ミク
ロンの乾燥フィルムを得、実施例６に使用した現隙剤に
浸漬して現１象したところ、積層体上にマスクに対応し
た鮮明なポジ画像が得られた。

実施例１６ 樹脂Ｖに代えて同量の樹脂Ｖｔ全便用し、４０ボルトで
１分間通電して厚さ８ミクロンの乾燥フィルム金得た以
外は実施例１４と同様にして、積層体上にマスクに対応
した鮮明なポジ画像全得た。

現像により露出した銅を実施例１と同様にしてエツチン
グして除去した。残留していた樹脂も実施？！Ｉ　１と
同様の再照射により除去し、次いで１チ水酸化ナトリウ
ム浴敵に浸漬したところ、積層体上に鋼によるマスクに
対応した鮮明な画１、ｆ！が得られた。

樹脂■（ａ、ｏｆ）′を攪拌しながらゆっくりと２−ｎ
−ブトキシェタノール（Ａ，ｏｆ）、酢酸オキシトール
（ｉ，Ｏｆ　）及び２．４−ジ（ｉ，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−５−スルホニルオキシ）ベンゾフェノ
ン（ｉ，Ｏｆ　）の混合物に加えた。得られた混合物に
５％水酸化カリウム水浴版で中和し、次いで水で希釈し
て１０チの固形成分を有する分敢液金得た。銅被層積層
体及びステンレス鋼板金それぞれアノード及びカノード
としてこの分散液に浸漬した。この分散液に１０ボルト
で１分間通電し、前記積層体上に明脂法フィルムを析出
した。しかる後、積、・一体金分敢液から取出し、水と
２−ｎ−ブトキシェタノール（容量比９：１）の混合液
により洗浄し、次いで９０℃で５分間乾燥した。得られ
た電着フィルムは厚さ２０ミクロンの不粘性の固体層で
あった。乾燥フィルムにマスクを通して６０秒間５００
０Ｗの金属ハライドランプを７５ｃｌｎｏｆｉ間間崗で
照射した。照射したフィルムを１０１−の非イオン性フ
ルオロカーボン界面活性剤（２−ｎ−ブトキシェタノー
ル１％溶液として使用されている）を含む５チ水酸化ナ
トリウム水溶液に浸漬して現像することによりマスクに
対応した鮮明なポジ画像が得られた。

実施例１８ ＃脂■に代えて同量の樹脂■を使用し、２０ボルトで３
秒間通電した以外は実施例１７と同様にして厚さ１０ミ
クロンの乾燥フィルムを得、実施例６に使用した現像剤
に浸漬して現像したところ、積層体上にマスクに対応し
た鮮明なポジ画像を得た◎ 現像により露出した′＠を実施例１と同様にエツチング
により除去した。次いで残留していた樹脂を実施例１と
同様の再照射により除去し、２チ水酸化ナトリウム水溶
液１ｃ浸漬したところ、積層体上に銅によるマスクに対
応した鮮な画像が得られた。

実施例１９ 樹脂■（ｉ，５？　）と樹脂）ｄ（２，５Ｆ）を攪拌し
ながらゆっくりと２−ｎ−ブトキシェタノール（ｉ０ｆ
）に加えた。得られた混合物ｆ、５チ水酸化カリウム水
溶液で中和し、次いで水で希釈して１０チの固形成分を
有する分散液を得た。積層体をアノードに、鋼板をカソ
ードに使用し、乾燥した電着フィルムの厚さが１０ミク
ロンであった以外は実施例３と同様にして鋼被着積層体
上に前記分散液から樹脂状フィルムを電着し、洗浄、乾
燥、光照射及び現像したところ、積層体上にマスクに対
応した解明なポジ画像が得られた。現像により露出しｆ
ｃ鋼を実施例１と同様にエツチングして除去し、残留し
ていた樹脂を実施例３と同様の手続きで除去したところ
、積層体上に銅によるマスクに対応した鮮明な画像が得
られた。

実施例２０ 樹脂■の代りに樹脂■（２，０ｆ）を使用し、ＺＯ２の
樹脂′Ａを使用するとともに６０ボルトで１分間通電し
た以外は実施例１９と同量にして厚さ８ミクロンの乾燥
フィルムを得、次いで実施例１と同様に現像したところ
、積層体上にマスクに対応した鮮明なポジ画像が得られ
た。残留していた樹脂を実施例１と同様にしてエツチン
グして除去したところ、積層体上に銅によるマスクに対
応した鮮明な像が得られた。

実施例２１ 樹脂ＩＫ（４，０ｆ）ｋ攪拌しながらゆっくりと、２−
ｎ−ブトキシェタノール（Ａ，Ｏｆ）、酢酸オキシトー
ル（Ａ，Ｏｒ）及び２，４−ジ（ｉ，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−５−スルホニルオキシ）ベンゾフェノ
ン（０５９）の混合物に加えた。

得られた混合物を乳酸で中和し水で希釈して１０慢の固
形成分を有する分散液を得之。鋼被着積層体及びステン
レス鋼板をそれぞれカソード及びアノードとしてこの分
散液に浸漬し、１０ボルトで１分間通電することにより
、前記積層体上に樹脂状フィルムを析出した。しかる後
、積層体を分散液から取出し、水と２−ｎ−ブトキシェ
タノール（容量比９：１）の混合液洗より洗浄し、次い
で９０℃で５分間乾燥した。得られたｔＮフィルムは厚
さ１５ミクロンの不粘性の固体層であった。乾燥フィル
ムにマスクを通して３０秒間ｓ　ｏ　ｏ　ｏｗの金属ハ
ライドランプ全７５副の離間間隔で照射した。照射した
フィルムをα０１％の非イオン性フルオロカーボン界面
活性剤（２−ｎ−ブトキシェタノール１チ溶液として使
用されている）を含むＱ、５ｅｓ水酸化す）　ＩＪウム
水溶液に浸漬することにより、積層体上にマスクに対応
した鮮明なポジ画像が得られた。

実施例２２ 樹月旨■（２，ｏｒ）及び樹刀旨Ｎ　（ｚｏｐ）をゆっ
くりと攪拌しながら２−ｎ−ブトキシェタノール（Ａ，
ｏｒ）に加えた。得られた混合物を乳酸で中和し、次い
で水で希釈して１０チの固形成分を有する分散叡を得た
。実施例３と同様にこの分散散から銅被Ｎ積層体上に電
着を行ない、次いで洗浄、乾燥、光照射（ただし１分間
）及び現像を行なったところ、乾燥した電着フィルムの
厚さは１２ミクロンであり、積層体上にマスクに対応し
た鮮明なポジ画像が得られ念。

現像により露出し念銅を実施例１と同様にエツチングし
て除去し、残留していた樹脂を実施例３と同様の手続き
で除去したところ、積層体上に鋼によるマスクに対応し
た鮮明な画ｒ９が得られた。

実施例２３ 実施例２２に使用した混合物に代えて樹脂Ｘ（ｉ３３ｆ
）、樹脂Ｍ（２，（ｉ）及び２−ｎ−ブトキシェタノー
ル（五１７ｖ）の混合物を使用し、１０ポルトで１分間
通電した以外は実施例２２と同様にして厚さ１２ミクロ
ンの乾燥フィルムを得、次いで実施例１と同様にして現
像したところ、積層体上にマスクに対応した鮮明な画像
が得られ九。

実施例１と同様の手続きで、現像により露出した銅及び
残留していた樹脂を除去したところ、積層体上に銅によ
るマスクに対応した鮮明な画像が得られた。

実施例２４ 実施例１７に使用した混合物に代えて樹脂刈（８ｆ）、
２，４−ジ（ｉ，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
−スルホニルオキシ）ベンゾフェノン（ｉｆ）及び酢酸
オキシトール（ｉ２）の混合物を使用し、この混合物’
ｔｓｓの水酸化カリウム（ｉ１ａ８Ｆ）で７０チ中和し
、５０ポルトで１分間通電して厚さ１０ミクロンの乾燥
フィルムを得、次いでこのフィルムにマスク全通して３
０秒間光照射した。更にこのフィルムを実施例１７と同
様に現像したところ、マスクに対応した鮮明なポジ画像
が得られた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ｉ）導電性表面上に、（Ａ）感光性のｏ−キノン
   ジアジド化合物と、（Ｂ）電着性フィルム形成樹脂とか
   らなる混合物を水性媒体に入れた溶液又は分散液である
   水性組成物であって、同一分子中にキノンジアジド残基
   とカルボキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基または
   アミノ基との双方を有する樹脂を実質的に含まない該組
   成物から感光性フィルムを電着し、 （ｉｉ）この電着フィルムをあらかじめ決められたパタ
   ーンで放射線に暴露して、フィルムの露出部を末露出部
   に比して水性塩基で溶解し易くするようにし、 （ｉｉｉ）水性塩基で処理して露出部を除去することを
   特徴とする画像形成方法。 ２、（Ａ）が、フェノールのｏ−ベンゾキノンジアジド
   スルホニル又はｏ−ナフトキノンジアジドスルホニルエ
   ステルである特許請求の範囲第１項に記載の画像形成方
   法。 ３、（Ｂ）が、前記水性組成物中で少なくとも部分的に
   イオン形で存在するアミノ基、カルボン酸基又はスルホ
   ン酸を有する樹脂である特許請求の範囲第１項又は第２
   項に記載の画像形成方法。 ４、Ｂが、ノボラック樹脂、アルデヒド及び第１又は第
   ２アミンもしくはアミノカルボン酸の反応生成物である
   カチオン性又はカチオン性／アニオン性フェノール樹脂
   であるか、あるいは、 ジアルキルアミノアルキルアクリレート又はメタアクリ
   レートと、アルキル又はヒドロキシアルキルアクリレー
   ト又はメタアクリレート及び所望により１種以上の他の
   ビニルモノマーとのカチオン性共重合体であるか、ある
   いは、 アクリル酸又はメタアクリル酸と、アルキル又はヒドロ
   キシアルキルアクリレート又はメタアクリレート、及び
   所望により１種以上の他のビニルモノマーとのアニオン
   性共重合体であるか、あるいは、 ビニル基含有スルホン酸と、アクリレート又はメタアク
   リレートエステル、及び所望により１種以上のビニルモ
   ノマーとのアニオン性共重合体であるか、あるいは、 ジアルキルアミノアルキルアクリレート又はメタアクリ
   レートとアクリル酸又はメタアクリル酸、アルキル又は
   ヒドロキシアルキルアクリレート又はメタアクリレート
   及び所望により１種以上の他のビニルモノマーとのカチ
   オン性／アニオン性共重合体である特許請求の範囲第３
   項に記載の画像形成方法。 ５、（Ｂ）が、 （ａ）フェノール又はアルキル置換フェノール又は２種
   以上のこれらの混合物と、ホルムアルデヒド、アセトア
   ルデヒド又はベンズアルデヒドとから誘導されるノボラ
   ック樹脂、 （ｂ）ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド又はベンズ
   アルデヒド、 （ｃ）アルカノールアミン又はアミノカルボン酸との反
   応生成物であるか、あるいは、 ジメチルアミノエチルアクリレート又はメタアクリレー
   トと、炭素原子数１ないし１２のアルキル又はヒドロキ
   シアルキルアクリレート又はメタアクリレート及び、所
   望により１種以上の他のビニルモノマーとの共重合体で
   あるか、あるいは、 アクリル酸又はメタアクリル酸と、炭素原子数１ないし
   １２のアルキル又はヒドロキシアルキルアクリレート又
   はメタアクリレート及び、所望により１種以上の他のビ
   ニルモノマーとの共重合体であるか、あるいは、 スルホン酸基を含有するアクリルアミドと、ヒドロキシ
   安息香酸の３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプ
   ロピル又は３−メタアクリロイルオキシ−２−ヒドロキ
   シプロピルエステル、アルキルアクリレート又はメタア
   クリレート及び、所望により１種以上の他のビニルモノ
   マーとの共重合体であるか、あるいは ジアルキルアミノアルキルアクリレート又はメタアクリ
   レートと、アクリル酸又はメタアクリル酸、炭素原子数
   １ないし１２のアルキル又はヒドロキシアルキルアクリ
   レート又はメタアクリレート及び、所望により１種以上
   の他のビニルモノマーとの共重合体である特許請求の範
   囲第４項に記載の画像形成方法。 ６、水の量に比して少量の有機溶媒を前記水性組成物中
   に含有する特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれ
   か１項に記載の画像形成方法。 ７、（Ａ）が、樹脂状であって、かつ重量で（Ｂ）に対
   して０．５ないし１．５部で存在するか、あるいは （Ａ）が、樹脂状ではなく、かつ重量で（Ｂ）に対して
   ０．０５ないし０．５部で存在する特許請求の範囲第１
   項ないし第６項のいずれか１項に記載の画像形成方法。 ８、前記水性組成物が、重量で５ないし２０％の固形分
   を有する特許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれか
   １項に記載の画像形成方法。 ９、電着段階（ｉ）を、その上に画像が形成される基体
   を電極として前記水性組成物中に浸漬するとともに、も
   う一つの導電性物質をもう一方の電極として浸漬し、前
   記水性組成物に電流を流して前記基体上に所望の厚さの
   感光性フィルムを析出させることによって実施するもの
   である特許請求の範囲第１項ないし第８項のいずれか１
   項に記載の画像形成方法。 １０、前記基体の導電性表面が金属性であるとともに、
   この金属を現像により露出し、エッチングして露出した
   金属を除去するか、あるいは画像に対応した深さを増加
   させ、次いで残りの感光性フィルムを除去する特許請求
   の範囲第１項ないし第９項のいずれか１項に記載の画像
   形成方法。 １１、前記残りの感光性フィルムを更に画像に関係なく
   照射し、次いで水性塩基で処理することにより除去する
   特許請求の範囲第１０項に記載の画像形成方法。 １２、（Ａ）感光性ｏ−キノンジアジド化合物及び（Ｂ
   ）電着可能なフィルム形成性樹脂からなる混合物を（Ｃ
   ）水性媒体に入れた溶液又は分散液であって、実質的に
   同一分子中にキノンジアジド残基とカルボキシル基、ス
   ルホン酸基、ホスホン基あるいはアミノ基との双方を有
   する樹脂を含まないことを特徴とする水性組成物。