JPS6314700B2 - - Google Patents
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- JPS6314700B2 JPS6314700B2 JP9468780A JP9468780A JPS6314700B2 JP S6314700 B2 JPS6314700 B2 JP S6314700B2 JP 9468780 A JP9468780 A JP 9468780A JP 9468780 A JP9468780 A JP 9468780A JP S6314700 B2 JPS6314700 B2 JP S6314700B2
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は酢酸メチルをカルボニル化して無水酢
酸を製造する方法に関するものである。
酸を製造する方法に関するものである。
無水酢酸はアセチルセルロース製造用原料とし
て工業的に非常に重要な化合物であり、従来、工
業的には酢酸の熱分解により得られるケテンを酢
酸と反応させることにより製造されている。
て工業的に非常に重要な化合物であり、従来、工
業的には酢酸の熱分解により得られるケテンを酢
酸と反応させることにより製造されている。
一方、メタノールのカルボニル化による酢酸の
合成法が発表されて以来、C1化学の一環として
メタノールを原料とする多くの化学反応について
広く研究が行なわれている。白金族金属−沃素系
触媒を使用する酢酸メチルまたはジメチルエーテ
ルのカルボニル化による無水酢酸の製造法もその
一例であつて、米国特許第3717670号公報、同第
3769329号公報、特開昭50−52017号公報、同51−
115403号公報などにより知られている。これらの
文献によれば、原料として酢酸メチルを使用する
場合には、良好な収率で無水酢酸が得られてい
る。
合成法が発表されて以来、C1化学の一環として
メタノールを原料とする多くの化学反応について
広く研究が行なわれている。白金族金属−沃素系
触媒を使用する酢酸メチルまたはジメチルエーテ
ルのカルボニル化による無水酢酸の製造法もその
一例であつて、米国特許第3717670号公報、同第
3769329号公報、特開昭50−52017号公報、同51−
115403号公報などにより知られている。これらの
文献によれば、原料として酢酸メチルを使用する
場合には、良好な収率で無水酢酸が得られてい
る。
本発明者らは酢酸メチルのカルボニル化により
無水酢酸を製造する方法について種々検討を行な
つた結果、ロジウム−沃素系触媒とともにN−メ
チル−2−ピロリドンおよび低級脂肪族カルボン
酸を反応系に共存させることにより反応が終始均
一液相で行ないうることおよび無水酢酸の収率が
向上することを見い出し本発明に到達したもので
ある。
無水酢酸を製造する方法について種々検討を行な
つた結果、ロジウム−沃素系触媒とともにN−メ
チル−2−ピロリドンおよび低級脂肪族カルボン
酸を反応系に共存させることにより反応が終始均
一液相で行ないうることおよび無水酢酸の収率が
向上することを見い出し本発明に到達したもので
ある。
以下に本発明について詳細に説明する。
本発明は、ロジウム、沃素、N−メチル−2−
ピロリドンおよび低級脂肪族カルボン酸の存在下
に酢酸メチルを一酸化炭素と反応させることによ
り実施される。
ピロリドンおよび低級脂肪族カルボン酸の存在下
に酢酸メチルを一酸化炭素と反応させることによ
り実施される。
ロジウムとしては、ハロゲン化ロジウム、硝酸
ロジウム、酢酸ロジウム等のロジウム塩、ロジウ
ム酸化物、ロジウムカルボニル、ハロジカルボニ
ルロジウム等のロジウムカルボニル錯体、ロジウ
ムアセチルアセトナート等のロジウムキレート化
合物、トリクロロトリスピリジンロジウム、ハイ
ドライドカルボニルトリス(トリフエニルホスフ
イン)ロジウム、クロロトリス(トリフエニルホ
スフイン)ロジウム、クロロカルボニルビス(ト
リフエニルホスフイン)ロジウム等の中性あるい
は両親性配位子を含むロジウム錯体などが使用さ
れる。これらのロジウム化合物の反応系における
形態は一義的に決定されるものではないが、少な
くとも本発明においてはロジウムが液相に溶解し
た状態で存在することが大きな特徴である。ロジ
ウムの使用量は、酢酸メチル1モルに対し、単体
に換算して0.01〜100mg原子、好ましくは0.1〜10
mg原子である。
ロジウム、酢酸ロジウム等のロジウム塩、ロジウ
ム酸化物、ロジウムカルボニル、ハロジカルボニ
ルロジウム等のロジウムカルボニル錯体、ロジウ
ムアセチルアセトナート等のロジウムキレート化
合物、トリクロロトリスピリジンロジウム、ハイ
ドライドカルボニルトリス(トリフエニルホスフ
イン)ロジウム、クロロトリス(トリフエニルホ
スフイン)ロジウム、クロロカルボニルビス(ト
リフエニルホスフイン)ロジウム等の中性あるい
は両親性配位子を含むロジウム錯体などが使用さ
れる。これらのロジウム化合物の反応系における
形態は一義的に決定されるものではないが、少な
くとも本発明においてはロジウムが液相に溶解し
た状態で存在することが大きな特徴である。ロジ
ウムの使用量は、酢酸メチル1モルに対し、単体
に換算して0.01〜100mg原子、好ましくは0.1〜10
mg原子である。
沃素としては、沃素単体、沃化水素、沃化ナト
リウム、沃化カリウム等のアルカリ金属沃化物、
沃化メチル、沃化エチル等の沃化アルキル、ヨー
ドベンゼン等の沃化アリールなどが使用される。
沃素の使用量はロジウム1g原子に対し、単体に
換算して0.01〜1000モル、好ましくは0.1〜100モ
ルである。
リウム、沃化カリウム等のアルカリ金属沃化物、
沃化メチル、沃化エチル等の沃化アルキル、ヨー
ドベンゼン等の沃化アリールなどが使用される。
沃素の使用量はロジウム1g原子に対し、単体に
換算して0.01〜1000モル、好ましくは0.1〜100モ
ルである。
N−メチル−2−ピロリドンは触媒系を均一相
に保つのに重要な役割を果し、ロジウム1グラム
原子あたり、通常0.1〜10000モル、好ましくは1
〜1000モル使用される。また、低級脂肪族カルボ
ン酸としては、酢酸、プロピオン酸などが使用さ
れるが、無水酢酸の収率のためにも、また反応系
を単純にする意味でも酢酸を使用することが好ま
しい。低級脂肪族カルボン酸の使用量は、N−メ
チル−2−ピロリドン1モルに対して0.05〜50モ
ル、特に0.1〜20モルが好ましい。N−メチル−
2−ピロリドンおよび低級脂肪族カルボン酸は通
常、反応溶媒を兼ねて使用されるので特に他の溶
媒を使用する必要はないが、所望によりアセト
ン、エチルメチルケトン等のケトン類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、n−オクタ
ン等の脂肪族飽和炭化水素、ジオキサン、無水酢
酸などを使用することもできる。
に保つのに重要な役割を果し、ロジウム1グラム
原子あたり、通常0.1〜10000モル、好ましくは1
〜1000モル使用される。また、低級脂肪族カルボ
ン酸としては、酢酸、プロピオン酸などが使用さ
れるが、無水酢酸の収率のためにも、また反応系
を単純にする意味でも酢酸を使用することが好ま
しい。低級脂肪族カルボン酸の使用量は、N−メ
チル−2−ピロリドン1モルに対して0.05〜50モ
ル、特に0.1〜20モルが好ましい。N−メチル−
2−ピロリドンおよび低級脂肪族カルボン酸は通
常、反応溶媒を兼ねて使用されるので特に他の溶
媒を使用する必要はないが、所望によりアセト
ン、エチルメチルケトン等のケトン類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、n−オクタ
ン等の脂肪族飽和炭化水素、ジオキサン、無水酢
酸などを使用することもできる。
一酸化炭素は、窒素、二酸化炭素などの反応に
不活性なガスで稀釈して使用することも、純粋な
ままで使用することもできる。また、水素は少量
混入していても差し支えないが、多量に存在する
とエチリデンジアセテートが副生するので水素の
量は20%以下に抑制することが好ましい。反応系
の一酸化炭素分圧は、1〜250Kg/cm2、好ましく
は10〜200Kg/cm2、更に好ましくは30〜150Kg/cm2
の範囲内で適宜選択される。
不活性なガスで稀釈して使用することも、純粋な
ままで使用することもできる。また、水素は少量
混入していても差し支えないが、多量に存在する
とエチリデンジアセテートが副生するので水素の
量は20%以下に抑制することが好ましい。反応系
の一酸化炭素分圧は、1〜250Kg/cm2、好ましく
は10〜200Kg/cm2、更に好ましくは30〜150Kg/cm2
の範囲内で適宜選択される。
反応温度の上限は主として経済性の観点から、
下限は反応速度の観点から決定され、100〜350
℃、好ましくは150〜250℃、更に好ましくは180
〜220℃の範囲内で選択される。
下限は反応速度の観点から決定され、100〜350
℃、好ましくは150〜250℃、更に好ましくは180
〜220℃の範囲内で選択される。
本発明方法により前記反応を行なつて得られる
反応生成液は無水酢酸、酢酸メチル、酢酸および
N−メチル−2−ピロリドンとこれらに溶解した
ロジウムおよび沃素を含む均一な溶液であり、蒸
留等の通常の分離精製手段により無水酢酸を取得
したのち残余の成分を再び反応系に循環して使用
することが可能であり、過、遠心分離等の固形
物を分離する工程が不要であるので、本発明方法
は工業的に実施するには非常に有利な方法であ
る。
反応生成液は無水酢酸、酢酸メチル、酢酸および
N−メチル−2−ピロリドンとこれらに溶解した
ロジウムおよび沃素を含む均一な溶液であり、蒸
留等の通常の分離精製手段により無水酢酸を取得
したのち残余の成分を再び反応系に循環して使用
することが可能であり、過、遠心分離等の固形
物を分離する工程が不要であるので、本発明方法
は工業的に実施するには非常に有利な方法であ
る。
次に本発明を実施例により更に具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を逸脱しない限り以下の
実施例に限定されるものではない。
るが、本発明はその要旨を逸脱しない限り以下の
実施例に限定されるものではない。
実施例 1
200c.c.容上下撹拌式チタン製オートクレーブに
酢酸メチル300mmole、三塩化ロジウム
(RhCl3・3H2O)0.5mmole、沃化メチル30m
mol、N−メチル−2−ピロリドン(以下、
NMPという。)150mmolおよび酢酸300mmolを
仕込み、一酸化炭素分圧50Kg/cm2(オートクレー
ブを圧力調節器を通して蓄圧器と連結し、反応中
一定圧を保持した。)、反応温度190℃にて3時間
反応を行なつた。その結果、得られた反応生成物
は均一で沈澱物は全く認められず、また酢酸メチ
ルの転化率は95.7%、無水酢酸の収率は81.5%で
あつた。
酢酸メチル300mmole、三塩化ロジウム
(RhCl3・3H2O)0.5mmole、沃化メチル30m
mol、N−メチル−2−ピロリドン(以下、
NMPという。)150mmolおよび酢酸300mmolを
仕込み、一酸化炭素分圧50Kg/cm2(オートクレー
ブを圧力調節器を通して蓄圧器と連結し、反応中
一定圧を保持した。)、反応温度190℃にて3時間
反応を行なつた。その結果、得られた反応生成物
は均一で沈澱物は全く認められず、また酢酸メチ
ルの転化率は95.7%、無水酢酸の収率は81.5%で
あつた。
比較例 1
NMPのかわりにβ−ピコリン20mmolを使用
し、酢酸の使用量を100mmolに変更したこと以
外は実施例1と同様に反応を行なつた。その結
果、無水酢酸の収率は81.4%であつたが、反応生
成液は不均一であり、ロジウムおよび沃素を含む
沈澱が生成していた。
し、酢酸の使用量を100mmolに変更したこと以
外は実施例1と同様に反応を行なつた。その結
果、無水酢酸の収率は81.4%であつたが、反応生
成液は不均一であり、ロジウムおよび沃素を含む
沈澱が生成していた。
比較例 2
NMPの使用量を450mmolに変更し、酢酸を使
用しなかつたこと以外は実施例1と同様に反応を
行なつた。その結果、得られた反応生成液は均一
であつたが、酢酸メチルの転化率は93.6%、無水
酢酸の収率は66.8%であつた。
用しなかつたこと以外は実施例1と同様に反応を
行なつた。その結果、得られた反応生成液は均一
であつたが、酢酸メチルの転化率は93.6%、無水
酢酸の収率は66.8%であつた。
比較例 3
酢酸の使用量を450mmolに変更し、NMPを使
用しなかつたこと以外は実施例1と同様に反応を
行なつた。その結果、酢酸メチルの転化率は66.6
%、無水酢酸の収率は56.4%であり、反応生成液
にはロジウムおよび沃素を含む沈澱が認められ
た。
用しなかつたこと以外は実施例1と同様に反応を
行なつた。その結果、酢酸メチルの転化率は66.6
%、無水酢酸の収率は56.4%であり、反応生成液
にはロジウムおよび沃素を含む沈澱が認められ
た。
比較例 4
NMPのかわりにβ−ピコリン450mmolを使用
したこと以外は比較例2と同様に反応を行なつ
た。その結果、無水酢酸の収率は0.1%であり、
反応生成液にはロジウムおよび沃素を含む沈澱が
認められた。
したこと以外は比較例2と同様に反応を行なつ
た。その結果、無水酢酸の収率は0.1%であり、
反応生成液にはロジウムおよび沃素を含む沈澱が
認められた。
比較例 5
NMPのかわりにN,N−ジメチルアセトアミ
ド450mmolを使用したこと以外は比較例2と同
様に反応を行なつた。その結果、酢酸メチルの転
化率は87.6%、無水酢酸の収率は45.9%であり、
反応生成液にはロジウムおよび沃素を含む沈澱が
認められた。
ド450mmolを使用したこと以外は比較例2と同
様に反応を行なつた。その結果、酢酸メチルの転
化率は87.6%、無水酢酸の収率は45.9%であり、
反応生成液にはロジウムおよび沃素を含む沈澱が
認められた。
実施例 2
反応温度を165℃に変更したこと以外は実施例
1と同様に反応を行なつた。その結果、酢酸メチ
ルの転化率は82%、無水酢酸の収率は61%であ
り、反応生成液には沈澱が認められなかつた。
1と同様に反応を行なつた。その結果、酢酸メチ
ルの転化率は82%、無水酢酸の収率は61%であ
り、反応生成液には沈澱が認められなかつた。
実施例 3
NMPおよび酢酸の使用量をそれぞれ300mmol
および150mmolに変更したこと以外は実施例1
と同様に反応を行なつた。その結果、酢酸メチル
の転化率は94.9%、無水酢酸の収率は80.1%であ
り、反応生成液には沈澱が認められなかつた。
および150mmolに変更したこと以外は実施例1
と同様に反応を行なつた。その結果、酢酸メチル
の転化率は94.9%、無水酢酸の収率は80.1%であ
り、反応生成液には沈澱が認められなかつた。
Claims (1)
- 1 ロジウム、沃素、N−メチル−2−ピロリド
ンおよび低級脂肪族カルボン酸の存在下に酢酸メ
チルを一酸化炭素と反応させることを特徴とする
無水酢酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9468780A JPS5721336A (en) | 1980-07-11 | 1980-07-11 | Preparation of acetic anhydride |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9468780A JPS5721336A (en) | 1980-07-11 | 1980-07-11 | Preparation of acetic anhydride |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5721336A JPS5721336A (en) | 1982-02-04 |
| JPS6314700B2 true JPS6314700B2 (ja) | 1988-04-01 |
Family
ID=14117102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9468780A Granted JPS5721336A (en) | 1980-07-11 | 1980-07-11 | Preparation of acetic anhydride |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5721336A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1157740A3 (en) * | 2000-05-18 | 2002-02-27 | Haldor Topsoe A/S | Rhodium containing solutions |
-
1980
- 1980-07-11 JP JP9468780A patent/JPS5721336A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5721336A (en) | 1982-02-04 |
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