JPS6317254Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6317254Y2 JPS6317254Y2 JP1982176640U JP17664082U JPS6317254Y2 JP S6317254 Y2 JPS6317254 Y2 JP S6317254Y2 JP 1982176640 U JP1982176640 U JP 1982176640U JP 17664082 U JP17664082 U JP 17664082U JP S6317254 Y2 JPS6317254 Y2 JP S6317254Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- air
- tunnel
- wafer transfer
- clean air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Advancing Webs (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はウエハ搬送装置、特にウエハを搬送面
に沿つて搬送する装置に関する。
に沿つて搬送する装置に関する。
LSI等の半導体装置は完成品となるまでに各種
の製造工程を経るわけであるが、各製造工程にお
いて半導体部品を搭載したウエハを順次搬送する
ために、一般にウエハ搬送装置が設置されてい
る。
の製造工程を経るわけであるが、各製造工程にお
いて半導体部品を搭載したウエハを順次搬送する
ために、一般にウエハ搬送装置が設置されてい
る。
第1図には従来のウエハ搬送装置の1例が示さ
れ、第2図にはその外観が示されている。第1図
において基台10には搬送台12が支持されてお
り、基台10に取り付けられた駆動モータ14の
モータ軸には駆動プーリ16が固定され、また搬
送台12には駆動プーリ18が回転自在に取り付
けられている。前記各駆動プーリ16,18には
駆動ベルト20が架け渡され、更に駆動プーリ1
6には第2図で示されるような2本のコンベアベ
ルト22,24が搬送方向に沿つて架け渡されて
いる。従つて、駆動モータ14の回転は駆動プー
リ16、駆動ベルト20、駆動プーリ18を介し
てコンベアベルト22,24に伝達され、コンベ
アベルト22,24に載せられたウエハ26は第
2図の矢印で示されるように搬送される。
れ、第2図にはその外観が示されている。第1図
において基台10には搬送台12が支持されてお
り、基台10に取り付けられた駆動モータ14の
モータ軸には駆動プーリ16が固定され、また搬
送台12には駆動プーリ18が回転自在に取り付
けられている。前記各駆動プーリ16,18には
駆動ベルト20が架け渡され、更に駆動プーリ1
6には第2図で示されるような2本のコンベアベ
ルト22,24が搬送方向に沿つて架け渡されて
いる。従つて、駆動モータ14の回転は駆動プー
リ16、駆動ベルト20、駆動プーリ18を介し
てコンベアベルト22,24に伝達され、コンベ
アベルト22,24に載せられたウエハ26は第
2図の矢印で示されるように搬送される。
このようなウエハ26の搬送工程において、ウ
エハ26に塵埃等が付着すると、製品の品質低下
の原因となるので、ウエハ26の上部に浮遊して
いる塵埃やウエハ26とコンベアベルト22,2
4との接触部から発生した塵埃が、ウエハ26の
表面に落下付着しないようにする必要がある。
エハ26に塵埃等が付着すると、製品の品質低下
の原因となるので、ウエハ26の上部に浮遊して
いる塵埃やウエハ26とコンベアベルト22,2
4との接触部から発生した塵埃が、ウエハ26の
表面に落下付着しないようにする必要がある。
このため、従来、ウエハ搬送装置が設置されて
いる部屋の天井に、装置全体を覆うように高性能
集塵機を取り付け、装置全面に清浄空気を吹き付
けることにより、ウエハ26の表面に塵埃等が落
下付着しないような対策が採られていた。
いる部屋の天井に、装置全体を覆うように高性能
集塵機を取り付け、装置全面に清浄空気を吹き付
けることにより、ウエハ26の表面に塵埃等が落
下付着しないような対策が採られていた。
しかしながら、このような従来装置において
は、ウエハ26の近傍から舞い上るような局所的
塵埃等の付着を防止することができないので、製
品が充分に清浄に保たれず、製品の欠陥が生じる
という欠点があつた。
は、ウエハ26の近傍から舞い上るような局所的
塵埃等の付着を防止することができないので、製
品が充分に清浄に保たれず、製品の欠陥が生じる
という欠点があつた。
このようなウエハ26の表面への塵埃等の付着
を少なくするために、次に説明するようなウエハ
搬送装置を使用することが試みられた。
を少なくするために、次に説明するようなウエハ
搬送装置を使用することが試みられた。
第3図には改良されたウエハ搬送装置の一例が
示され、図において前述した従来装置と同一部材
には同一符号を付して説明を省略する。
示され、図において前述した従来装置と同一部材
には同一符号を付して説明を省略する。
図においてウエハ搬送面両側面には、搬送方向
に沿つて防塵覆い28,30が立設され、防塵覆
い28,30の上部にはウエハ搬送面と平行にチ
ヤンバ32が設けられており、これら防塵覆い2
8,30及びチヤンバ32によりウエハ搬送面が
密閉状態に保持されている。
に沿つて防塵覆い28,30が立設され、防塵覆
い28,30の上部にはウエハ搬送面と平行にチ
ヤンバ32が設けられており、これら防塵覆い2
8,30及びチヤンバ32によりウエハ搬送面が
密閉状態に保持されている。
また、前記チヤンバ32の下面にはウエハ搬送
面に向つてスリツト状の空気吹込口34が形成さ
れており、送風機(図示せず)からチヤンバ32
上部の吸気ダクト39を介してチヤンバ32に供
給された清浄空気は、この空気吹込口34からウ
エハ26の表面に向けて吹き込まれる。更に、前
記防塵覆い28,30にはスリツト状の空気吹出
口38,40が形成されており、ウエハ26の表
面に向けて吹き込まれた清浄空気はこの空気吹出
口38,40から吹き出され、防塵覆い28,3
0及びチヤンバ32の周部に設けられた排気ダク
ト42を通つて外部に排気される。ここで前記空
気吹出口38,40はウエハ26の表面と同高さ
位置に形成されており、空気吹込口34からウエ
ハの表面に向けて吹き込まれた清浄空気は、矢印
で示されるようにウエハ26の表面に沿つて流
れ、空気吹出口38,40から吹き出されること
となる。
面に向つてスリツト状の空気吹込口34が形成さ
れており、送風機(図示せず)からチヤンバ32
上部の吸気ダクト39を介してチヤンバ32に供
給された清浄空気は、この空気吹込口34からウ
エハ26の表面に向けて吹き込まれる。更に、前
記防塵覆い28,30にはスリツト状の空気吹出
口38,40が形成されており、ウエハ26の表
面に向けて吹き込まれた清浄空気はこの空気吹出
口38,40から吹き出され、防塵覆い28,3
0及びチヤンバ32の周部に設けられた排気ダク
ト42を通つて外部に排気される。ここで前記空
気吹出口38,40はウエハ26の表面と同高さ
位置に形成されており、空気吹込口34からウエ
ハの表面に向けて吹き込まれた清浄空気は、矢印
で示されるようにウエハ26の表面に沿つて流
れ、空気吹出口38,40から吹き出されること
となる。
改良されたウエハ搬送装置は以上の構成から成
り、以下にその作用を説明する。
り、以下にその作用を説明する。
ウエハ26を搬送している状態において、送風
機から吸気ダクト36を介してチヤンバ32に供
給された清浄空気は、空気吹込口34からウエハ
26の表面に向けて吹き込まれ、ウエハ26の表
面に沿つて流れ、空気吹出口38,40から吹き
出される。このとき、ウエハ26の表面にはエア
カーテン気流が形成される。従つて、清浄空気を
ウエハ26に向けて吹き込めば、ウエハ26の表
面には清浄空気層が形成され、ウエハ26の搬送
時における塵埃等の付着を少なくすることができ
る。
機から吸気ダクト36を介してチヤンバ32に供
給された清浄空気は、空気吹込口34からウエハ
26の表面に向けて吹き込まれ、ウエハ26の表
面に沿つて流れ、空気吹出口38,40から吹き
出される。このとき、ウエハ26の表面にはエア
カーテン気流が形成される。従つて、清浄空気を
ウエハ26に向けて吹き込めば、ウエハ26の表
面には清浄空気層が形成され、ウエハ26の搬送
時における塵埃等の付着を少なくすることができ
る。
しかしながら、この改良されたウエハ搬送装置
においては、非常に高い清浄度の空気を供給しな
ければ十分な防塵効果を得ることができないとい
う問題があつた。このため、十分な防塵効果を得
るためには圧力損失の高いエアフイルタで何回も
過して清浄度の高い空気を得なければならず、
多大な空気清浄動力を必要とする欠点があつた。
においては、非常に高い清浄度の空気を供給しな
ければ十分な防塵効果を得ることができないとい
う問題があつた。このため、十分な防塵効果を得
るためには圧力損失の高いエアフイルタで何回も
過して清浄度の高い空気を得なければならず、
多大な空気清浄動力を必要とする欠点があつた。
本考案は前述した従来の課題に鑑み為されたも
のであり、その目的は比較的清浄度の低い空気を
使用した場合でも十分な防塵効果を得ることがで
き、この結果空気清浄動力を低減することができ
るウエハ搬送装置を提供することにある。
のであり、その目的は比較的清浄度の低い空気を
使用した場合でも十分な防塵効果を得ることがで
き、この結果空気清浄動力を低減することができ
るウエハ搬送装置を提供することにある。
上記目的を達成するために本考案は、ウエハを
搬送面に沿つて搬送するウエハ搬送装置におい
て、ウエハ搬送面に沿つて設けられ該ウエハ搬送
面を密閉状態に保持するウエハ搬送トンネルと、
ウエハ搬送トンネルの一側面に設けられ該ウエハ
搬送トンネルの幅方向であつてウエハ搬送面と平
行に清浄空気をウエハ搬送トンネル内に吹き込む
空気吹込口と、ウエハ搬送トンネルの他側面に前
記空気吹込口と対向して設けられウエハ搬送トン
ネル内に吹き込まれた清浄空気をウエハ搬送トン
ネル外に吹き出す空気吹出口と、を備えたことを
特徴とする。
搬送面に沿つて搬送するウエハ搬送装置におい
て、ウエハ搬送面に沿つて設けられ該ウエハ搬送
面を密閉状態に保持するウエハ搬送トンネルと、
ウエハ搬送トンネルの一側面に設けられ該ウエハ
搬送トンネルの幅方向であつてウエハ搬送面と平
行に清浄空気をウエハ搬送トンネル内に吹き込む
空気吹込口と、ウエハ搬送トンネルの他側面に前
記空気吹込口と対向して設けられウエハ搬送トン
ネル内に吹き込まれた清浄空気をウエハ搬送トン
ネル外に吹き出す空気吹出口と、を備えたことを
特徴とする。
以下図面に基づいて本考案の好適な実施例を説
明する。
明する。
第4図には本考案に係るウエハ搬送装置の好適
な実施例が示され、図において前述した従来例と
同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
な実施例が示され、図において前述した従来例と
同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
本考案のウエハ搬送装置はウエハ搬送面に沿つ
て該ウエハ搬送面と平行に設けられるウエハ搬送
トンネル44を有し、このウエハ搬送トンネル4
4によりウエハ搬送面は密閉状態に包囲保持さ
れ、ウエハ搬送トンネル44内のウエハ26と周
囲環境との接触が遮断されている。
て該ウエハ搬送面と平行に設けられるウエハ搬送
トンネル44を有し、このウエハ搬送トンネル4
4によりウエハ搬送面は密閉状態に包囲保持さ
れ、ウエハ搬送トンネル44内のウエハ26と周
囲環境との接触が遮断されている。
上記ウエハ搬送トンネル44の一側面には清浄
空気をウエハトンネル44内に吹き込む空気吹込
口が設けられ、本実施例において空気吹込口は空
気中に浮遊する微粒子を除去するためのフイルタ
46並びに整流格子48から構成されている。そ
して、これらフイルタ46並びに整流格子48
は、ウエハ搬送トンネル44の周部に設けられた
給気チヤンバ50を介して給気ダクト52につな
がつている。従つて、送風機(図示せず)から給
気ダクト52及び給気チヤンバ50を介して供給
された空気は、フイルタ46にて微粒子が除去さ
れた後、ウエハ搬送トンネル44の幅方向であつ
てウエハ搬送面と平行に清浄空気としてウエハ搬
送トンネル44内に吹き込まれる。
空気をウエハトンネル44内に吹き込む空気吹込
口が設けられ、本実施例において空気吹込口は空
気中に浮遊する微粒子を除去するためのフイルタ
46並びに整流格子48から構成されている。そ
して、これらフイルタ46並びに整流格子48
は、ウエハ搬送トンネル44の周部に設けられた
給気チヤンバ50を介して給気ダクト52につな
がつている。従つて、送風機(図示せず)から給
気ダクト52及び給気チヤンバ50を介して供給
された空気は、フイルタ46にて微粒子が除去さ
れた後、ウエハ搬送トンネル44の幅方向であつ
てウエハ搬送面と平行に清浄空気としてウエハ搬
送トンネル44内に吹き込まれる。
また、ウエハ搬送トンネル44の他端面には、
前記空気吹込口と対向して空気吹出口が設けら
れ、本実施例において空気吹出口は整流格子54
にて構成されている。そして、この整流格子54
は、ウエハ搬送トンネル44の周部に設けられた
排気チヤンバ56を介して排気ダクト58につな
がつている。従つて、ウエハ搬送トンネル44内
に吹き込まれた清浄空気は、整流格子54かウウ
エハ搬送トンネル44外に吹き出され、排気チヤ
ンバ56及び排気ダクト58を介して排気され
る。なお給気ダクト52及び排ダクト58は第5
図の如くトンネル44の長手方向へ間欠的に設置
されている。
前記空気吹込口と対向して空気吹出口が設けら
れ、本実施例において空気吹出口は整流格子54
にて構成されている。そして、この整流格子54
は、ウエハ搬送トンネル44の周部に設けられた
排気チヤンバ56を介して排気ダクト58につな
がつている。従つて、ウエハ搬送トンネル44内
に吹き込まれた清浄空気は、整流格子54かウウ
エハ搬送トンネル44外に吹き出され、排気チヤ
ンバ56及び排気ダクト58を介して排気され
る。なお給気ダクト52及び排ダクト58は第5
図の如くトンネル44の長手方向へ間欠的に設置
されている。
本考案の実施例は以上の構成から成り、以下に
その作用を説明する。
その作用を説明する。
送風機から給気ダクト52及び給気チヤンバ5
0を介して供給された空気は、フイルタ46にて
微粒子が除去された後、ウエハ搬送トンネル44
の幅方向であつてウエハ搬送面と平行に清浄空気
としてウエハ搬送トンネル44内に吹き込まれ
る。そして、清浄空気はウエハ26の表面に沿つ
て流れた後、整流格子54からウエハ搬送トンネ
ル44外に吹き出され、排気チヤンバ56及び排
気ダクト58を介して排気される。このとき、ウ
エハ26の表面には該ウエハ26の表面と平行な
清浄空気層が形成され、この清浄空気層内にウエ
ハ26を搬送することにより、ウエハ26の表面
への塵埃等の付着を極めて少なくすることができ
る。
0を介して供給された空気は、フイルタ46にて
微粒子が除去された後、ウエハ搬送トンネル44
の幅方向であつてウエハ搬送面と平行に清浄空気
としてウエハ搬送トンネル44内に吹き込まれ
る。そして、清浄空気はウエハ26の表面に沿つ
て流れた後、整流格子54からウエハ搬送トンネ
ル44外に吹き出され、排気チヤンバ56及び排
気ダクト58を介して排気される。このとき、ウ
エハ26の表面には該ウエハ26の表面と平行な
清浄空気層が形成され、この清浄空気層内にウエ
ハ26を搬送することにより、ウエハ26の表面
への塵埃等の付着を極めて少なくすることができ
る。
第6図にはウエハ26の表面に対する清浄空気
の吹込角度(水平面に対する吹込空気の角度)と
ウエハ26表面への塵埃付着指数との関係が示さ
れている。ここで塵埃付着指数とは、清浄空気中
にウエハ26を1時間だけ曝したときのウエハ2
6表面の3″φの広さ部分に付着していた塵埃数
と、清浄空気1〔ft3〕中の塵埃数との比を表わす
ものとする。図から理解されるようにウエハ26
の表面に対する清浄空気の吹込角度を0度〜90度
の範囲で変化させた場合、吹込角度が0度のとき
の塵埃付着指数は吹込角度が90度のときに比べて
かなり減少し、実験によると1/10〜1/100にまで
減少することが明らかになつた。
の吹込角度(水平面に対する吹込空気の角度)と
ウエハ26表面への塵埃付着指数との関係が示さ
れている。ここで塵埃付着指数とは、清浄空気中
にウエハ26を1時間だけ曝したときのウエハ2
6表面の3″φの広さ部分に付着していた塵埃数
と、清浄空気1〔ft3〕中の塵埃数との比を表わす
ものとする。図から理解されるようにウエハ26
の表面に対する清浄空気の吹込角度を0度〜90度
の範囲で変化させた場合、吹込角度が0度のとき
の塵埃付着指数は吹込角度が90度のときに比べて
かなり減少し、実験によると1/10〜1/100にまで
減少することが明らかになつた。
従つて、前記改良されたウエハ搬送装置のよう
に清浄空気の吹込角度を90度とした場合に比べ
て、本考案のように吹込角度を0度とした場合に
は、ウエハ26表面への付着塵埃数を著しく減少
することができる。この結果、本考案装置におい
ては、従来と同じ清浄度の空気を用いればウエハ
26表面への付着塵埃数を低減することができ、
また従来と同数程度の付着塵埃数を許容し得るな
らば空気の清浄度を低くすることができるので、
清浄空気動力の低減により省エネルギを図ること
ができる。
に清浄空気の吹込角度を90度とした場合に比べ
て、本考案のように吹込角度を0度とした場合に
は、ウエハ26表面への付着塵埃数を著しく減少
することができる。この結果、本考案装置におい
ては、従来と同じ清浄度の空気を用いればウエハ
26表面への付着塵埃数を低減することができ、
また従来と同数程度の付着塵埃数を許容し得るな
らば空気の清浄度を低くすることができるので、
清浄空気動力の低減により省エネルギを図ること
ができる。
尚、以上説明した実施例においては、空気吹込
口及び空気吹出口の具体的形状について説明しな
かつたが、ウエハ26の表面と平行に清浄空気層
を形成することができれば、どのような形状であ
つてもよい。
口及び空気吹出口の具体的形状について説明しな
かつたが、ウエハ26の表面と平行に清浄空気層
を形成することができれば、どのような形状であ
つてもよい。
また、前述した実施例においては、フイルタ4
6が整流格子48に隣接して設けられているが、
給気ダクト52内あるいはそれより前の給気経路
内に設けてもよい。
6が整流格子48に隣接して設けられているが、
給気ダクト52内あるいはそれより前の給気経路
内に設けてもよい。
更に、前述した実施例においては、空気吹出口
から吹き出された清浄空気は排気チヤンバ56及
び排気ダクト58を介して排気されるように構成
されているが、空気吹出口から直接吹き出すよう
に構成してもよい。
から吹き出された清浄空気は排気チヤンバ56及
び排気ダクト58を介して排気されるように構成
されているが、空気吹出口から直接吹き出すよう
に構成してもよい。
以上説明したように本考案によれば、ウエハと
平行に清浄空気を吹き込むことにより、ウエハの
表面に該ウエハと平行に清浄空気層が形成され、
比較的清浄度の低い空気を使用した場合でも十分
な防塵効果を得ることができ、この結果空気清浄
動力を低減することができる。
平行に清浄空気を吹き込むことにより、ウエハの
表面に該ウエハと平行に清浄空気層が形成され、
比較的清浄度の低い空気を使用した場合でも十分
な防塵効果を得ることができ、この結果空気清浄
動力を低減することができる。
第1図は従来のウエハ搬送装置の1例を示す構
成図、第2図は第1図で示される装置の外観図、
第3図は改良されたウエハ搬送装置の構成図、第
4図は本考案に係るウエハ搬送装置の好適な実施
例を示す第5図−線断に相当する構成図、第
5図は第4図の斜視図、第6図はウエハの表面に
対する清浄空気の吹込角度とウエハ表面への塵埃
付着指数との関係を示す説明図である。 26……ウエハ、44……ウエハ搬送トンネ
ル、46……フイルタ、48,54……整流格
子。
成図、第2図は第1図で示される装置の外観図、
第3図は改良されたウエハ搬送装置の構成図、第
4図は本考案に係るウエハ搬送装置の好適な実施
例を示す第5図−線断に相当する構成図、第
5図は第4図の斜視図、第6図はウエハの表面に
対する清浄空気の吹込角度とウエハ表面への塵埃
付着指数との関係を示す説明図である。 26……ウエハ、44……ウエハ搬送トンネ
ル、46……フイルタ、48,54……整流格
子。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ウエハを搬送面に沿つて搬送するウエハ搬送装
置において、 ウエハ搬送面に沿つて設けられ該ウエハ搬送面
を包囲するウエハ搬送トンネルと、 ウエハ搬送トンネルの一側面に開口されて該ト
ンネル内のウエハ搬送面の幅方向に向けて該トン
ネル内に清浄空気を吹込み搬送されるウエハの表
面と平行にウエハ上に清浄空気層を形成する吹込
口と、 ウエハ搬送トンネルの他側面に前記空気吹込口
と対向して開口され清浄空気をウエハ搬送トンネ
ル外に排出する吹出口と、 を備えたことを特徴とするウエハ搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982176640U JPS5981034U (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | ウエハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982176640U JPS5981034U (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | ウエハ搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5981034U JPS5981034U (ja) | 1984-05-31 |
| JPS6317254Y2 true JPS6317254Y2 (ja) | 1988-05-16 |
Family
ID=30383985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982176640U Granted JPS5981034U (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | ウエハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5981034U (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004040641A1 (ja) * | 2002-10-29 | 2004-05-13 | Takehide Hayashi | 搬送機用クリーントンネル |
| JP5467905B2 (ja) * | 2010-03-25 | 2014-04-09 | 富士フイルム株式会社 | フイルム搬送装置及び方法、フイルム製造装置及び方法 |
| CN109592496A (zh) * | 2018-11-23 | 2019-04-09 | 嘉兴学院 | 一种用于卷绕纺线的具有清洁功能的纺织设备 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3976330A (en) * | 1975-10-01 | 1976-08-24 | International Business Machines Corporation | Transport system for semiconductor wafer multiprocessing station system |
| JPS55134239A (en) * | 1979-04-04 | 1980-10-18 | Toshiba Corp | Clean box |
| JPS5619635A (en) * | 1979-07-27 | 1981-02-24 | Hitachi Ltd | Manufacturing apparatus |
-
1982
- 1982-11-22 JP JP1982176640U patent/JPS5981034U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5981034U (ja) | 1984-05-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6500051B1 (en) | Polishing apparatus and method | |
| JPS62269334A (ja) | ウエ−ハキヤリア | |
| JP2581396B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
| US20020045413A1 (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate polishing apparatus with substrate cleaning apparatus | |
| JPS5994840A (ja) | ウエハ搬送装置 | |
| JPH0761618B2 (ja) | 製品製造装置 | |
| JPH0215545Y2 (ja) | ||
| JPS62297650A (ja) | コンベンシヨナルフロ−形クリ−ンル−ム | |
| CN221088657U (zh) | 一种硅片喷砂机用输送装置 | |
| JPH0544084Y2 (ja) | ||
| JPH07225Y2 (ja) | クリーンユニット | |
| JPH07227586A (ja) | 搬送トンネル内部の清掃方法および清掃装置 | |
| JP2909304B2 (ja) | 回転処理装置 | |
| JPH0230115Y2 (ja) | ||
| JPH03156231A (ja) | 精密洗浄装置およびその換気方法 | |
| JPH0525699Y2 (ja) | ||
| JPH059061Y2 (ja) | ||
| JPS59204227A (ja) | 清浄装置 | |
| JPH0534108Y2 (ja) | ||
| JPS591691Y2 (ja) | 濾過式除じん装置の分離および流路の規制装置 | |
| JPS583297Y2 (ja) | 防塵形乾燥装置 | |
| JPH0313465Y2 (ja) | ||
| JPH0356827Y2 (ja) | ||
| JPH0513008Y2 (ja) | ||
| JPS6032325A (ja) | 半導体ウエハの乾燥方法 |