JPS631955B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はカナマイシンＡから耐性菌に有効なカ
ナマイシンＡのデオキシ誘導体を合成する際の有
用な中間体である3′・4′−アンヒドロ−4′−エピ
誘導体及びその合成方法に関するものである。 すなわち、第１の本発明の要旨とするところ
は、新規な中間体化合物としての次の一般式 〔式中Ｒはアルキル基、アラルキル基又はアリー
ル基を示し、Ｙは式

【式】（ここでＰ、P′は それぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を
示す）で表わされるアルキリデン基又はアラルキ
リデン基を示すか又はシクロアルキリデン基又は
テトラヒドロピラニリデン基を示す〕で表わされ
るカナマイシンＡの3′・4′−アンヒドロ−4′−エ
ピ誘導体にある。上記の一般式（）の化合物に
おいて、基−COORは公知のウレタン型のアミノ
保護基であり、Ｒがアルキル基である場合は炭素
数１〜６のもの、アラルキル基である場合にはベ
ンジル基、アリール基である場合にはフエニル基
又はニトロ置換フエニル基の如き置換フエニル基
であるのが好ましい。また基Ｙは公知の２価のヒ
ドロキシ保護基であつて、Ｐ、P′の何れか一方又
は両方がアルキル基である場合は炭素数１〜６の
もの、Ｐ、P′がアリール基である場合にはフエニ
ル基であるのが好ましい。Ｙとしてのアルキリデ
ン基の好ましい例は、ホルミリデン、エチリデ
ン、イソプロピリデン基、等であり、またＹとし
てのアラルキリデン基の好ましい例はベンジリデ
ン基であり、Ｙとしてのシクロアルキリデン基の
好ましい例はシクロペンチリデン又はシクロヘキ
シリデン基、等である。Ｙはテトラヒドロピラニ
リデン基であることもできる。 本発明の（）式の化合物はその2′及び2″位の
水酸基を保護した後ハロゲンを求核試剤として
3′・4′−エポキシドを開環し、その後に脱保護す
ると、下記の（）式で示される3′・4′−ジデオ
キシカナマイシンＡ、あるいは（）式で示され
る4′−デオキシカナマイシンＡを生成できる有用
な中間体である。 式（）で示される3′・4′−ジデオキシカナマ
イシンＡは梅沢等（本出願人の出願に係る特願昭
54−11402号、特開昭55−105699号）により、又
式（）で示される4′−デオキシカナマイシンＡ
は内藤等（特願昭49−144965号、特開昭50−
93944号）によりカナマイシンＡを原料として半
合成的に得られており、これらはカナマイシンＡ
に比較し各種の耐性菌に対し著しく高い抗菌力を
示すことが明らかにされている。しかし、これら
の製造に際してデオキシ化が必要とされるが、い
ずれのデオキシ化方法においても、デオキシ化す
べき水酸基のみを選択的に遊離の状態にするため
の予備工作として多数の工程を要している。即
ち、前記の特願昭49−144965号及び特願昭54−
11402号明細書に示された二つの合成ルートのい
ずれにも共通して、4′位の水酸基を遊離の状態と
するために、まず6′位のアミノ基を選択的に保護
した後、残りのアミノ基を他の保護基で保護して
から塩基処理により4′・6′−Ｏ・Ｎ−環状カーバ
メート化し、その後にデオキシ化しない水酸基を
保護し、カーバメイト環を開環して、再び6′位の
アミノ基を保護するという複雑な工程を必要とす
るものであつた。 これは従来、糖類のデオキシ化の常法であり、
またカナマイシンＢからデオキシカナマイシン
Ｂ、トブラマイシンの合成にも用いられた方法で
あるデオキシ化するべき水酸基のスルホニル体を
経由する方法をカナマイシンＡに適用したためで
ある。すなわちカナマイシンＢでは3′及び4′位が
水酸基であるが、カナマイシンＡでは2′・3′及び
4′位が水酸基であり、カナマイシンＢに較べて保
護の工程が煩雑になるのは避けられない。 本発明者らは、先に開発した3′・4′−ジデオキ
シカナマイシンＢの新製造法に使用した方法〔本
出願人の出願に係る特願昭50−146345号（特開昭
52−71445号）をカナマイシンＡのデオキシ誘導
体の製造の目的に転用することについて検討を行
つた。この特願昭50−146345号明細書に示された
方法ではカナマイシンＢを原料物質として用い、
かつ糖類の水酸基の中で４位の水酸基がアシルク
ロライド／ピリジンによるアシル化に際して反応
性が他の位置の水酸基に比べ格段に劣るという性
質を利用して、カナマイシンＢのペンタ−Ｎ−保
護体の4″・6″位の水酸基を保護した後にアルカン
酸クロライド又はアロイルクロライド特にベンゾ
イルクロライドを作用させるが、この時に4′位
OHをアシル化せずに3′位OH、2′位OHをアシル
化して置き、その後にカナマイシンＢの4′位の水
酸基を選択的にスルホニル化して次式（） 〔式中、R′はアルキル基又はアリール基であり、
W′はメシル基、トシル基、ベンジルスルホニル
基であり、X′はアルカノイル基特にアセチル基
の如き炭素数２〜４のもの又はアロイル基特にベ
ンゾイル基であり、Y′は式

【式】（ここで Ｐ、P′はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリ
ール基を示す）で表わされるアルキリデン基又は
アラルキリデン基を示すか又はシクロアルキリデ
ン基又はテトラヒドロピラニリデン基を示す〕を
得、これをアルカリ性低級アルカノール中アルカ
リ金属アルコラートで処理して次式（）で示さ
れるカナマイシンＢの3′・4′−アンヒドロ−4′−
エピ誘導体 （式中、R′、Y′は前記と同じ意味を持つ）を中
間体として短い工程でかつ高収率で得ている。 カナマイシンＢとカナマイシンＡの構造で異る
点は、前者では2′位がアミノ基であり、後者では
それが水酸基である点にある。本発明者らはカナ
マイシンＡの場合についてカナマイシンＡのテト
ラ−Ｎ−保護体の4″・6″位水酸基を保護した後、
アルカン酸ハライド又はベンゾイルハライドを作
用させると、4′位OHはアシル化されずに2′・3′及
び2″位OHがアシル化され、その後に遊離の4′位
の水酸基を選択的にスルホニル化し、そのスルホ
ニル化体をアルカノール中アルカリ金属アルコラ
ートで処理してさらに3′・4′−アンヒドロ−4′−
エピ誘導体に導き得ることを知見し、しかもこの
有用な中間体を使用して3′・4′−ジデオキシカナ
マイシンＡを製造できることを今回認めた。 従つて、第２の本発明においては、次の一般式 〔式中Ｒはアルキル基、アラルキル基又はアリー
ル基を示し、Ｗはメシル基、トシル基又はベンジ
ルスルホニル基を示し、Ｘはアルカノイル基又は
アロイル基を示し、Ｙは式

【式】（ここで Ｐ、P′はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリ
ール基を示す）で表わされるアルキルデン基又は
アラルキリデン基を示すか又はシクロアルキリデ
ン基又はテトラヒドロピラニリデン基を示す）で
表わされるカナマイシンＡの4′−Ｏ−スルホニル
誘導体をアルカリ性の低級アルカノール中で処理
して次の一般式 〔式中、Ｒ、Ｙは前記と同じ意味をもつ〕で表わ
されるカナマイシンＡの3′・4′−アンヒドロ−
4′−エピ誘導体を生成することを特徴とする前記
式（）のカナマイシンＡの3′・4′−アンヒドロ
−4′−エピ誘導体の製造方法を要旨とするもので
ある。 本方法を実施するには、先ずカナマイシンＡの
４個のアミノ基をウレタン型の基にして保護する
工程を行い、次式（） （ここでＲは前記と同意義である）で示されるテ
トラ−Ｎ−保護カナマイシンＡ誘導体を生成さ
せ、次いで式（）の化合物の4″・6″位の水酸基
を選択的に保護する工程を行う。この工程は公知
のヒドロキシル保護剤としてアルキリデン化剤、
アラルキリデン化剤、シクロアルキリデン化剤又
はテトラヒドロピラニリデン化剤を式（）の化
合物に反応させることにより行われる。この目的
のためには、例えばジメチルホルムアミド中で式
（）の化合物に室温で、一般的には15〜25℃の
温度で触媒量のｐ−トルエンスルホン酸の存在下
に15〜20時間、アセトアルデヒド、２・２−ジメ
トキシプロパン、アニスアルデヒド、ベンズアル
デヒド、ジエチルアセタールの如き公知のアルキ
リデン化剤又はアラルキリデン化剤あるいは１・
１−ジメトキシシクロヘキサンの如きシクロヘキ
シリデン化剤又は１・１−ジメトキシテトラヒド
ロピラニリデンを作用させるのが良い。これらの
アミノ保護工程とヒドロキシル保護工程とは特願
昭50−146345号明細書に記載されると同じ要領で
行い得る。この結果、次式（） 〔式中、Ｒ及びＹは前記の意味を持つ〕で示され
る4″・6″−Ｏ−保護体が生成される。さらに式
（）の化合物の2′・3′・2″位の水酸基をアシル基
型のヒドロキシル保護基で選択的に保護する工程
を行う。この工程は、一般的にはアシルクロライ
ドの如きアシル化剤をピリジン中で低温下で特に
５℃以下の温度で作用させることによつて行われ
る。このアシル化剤としては適当なカルボン酸、
特に炭素数２〜４のアルカン酸の酸クロライド、
例えば塩化アセチルあるいは塩化ベンゾイルが使
用できる。本工程で用いるアシル化剤は塩化ベン
ゾイルが好ましい。この際、4′位OHはアシル化
を受けず、この結果、次式（） （式中、Ｒ、Ｙは前記と同じ意味を持ち、Ｘはア
シル基、例えばアセチル基の如き低級アルカノイ
ル基、あるいはベンゾイル基の如きアロイル基で
ある）で示される2′・3′・2″−トリ−Ｏ−アシル
化体が得られる。 次に式（）の化合物の4′位の水酸基をスルホ
ニル化する工程を行う。この4′−Ｏ−スルホニル
化工程は、塩化メシル、塩化トシル又は塩化ベン
ジルスルホニルを式（）の化合物に対してピリ
ジン中で作用させることによつて行われる。反応
温度は20〜50℃で行うことができる。本工程で用
いる4′−Ｏ−スルホニル化剤としては塩化メシル
が好ましい。この工程によつて、第２の本発明の
方法で出発原料とされる次式（） （式中、Ｒ、Ｘ、Ｙは前記と同じ意味を持ち、Ｗ
はメシル基、トシル基又はベンジルスルホニル基
である）で示される4′−Ｏ−スルホニル化体が得
られる。 第２の本発明の方法では、この式（）の化合
物を3′・4′−アンヒドロ化（又は3′・4′−エピキ
シ化ともいう）する工程を行う。この3′・4′−エ
ポキシ化工程は式（）の化合物をメタノール、
エタノール等の低級アルカノールに溶かし、その
溶液中でアルカリ金属、例えばナトリウム又はカ
リウムのアルコラート特に低級アルコキシド、例
えばメトキシド又はエトキシドで処理して行われ
る。ナトリウムメトキシド又はナトリウムエトキ
シドが好適である。この3′・4′−アンヒドロ化工
程は室温で、一般的には15〜20℃の温度で行い、
また反応時間は１〜３時間であるのが適当であ
る。この工程によつて、2′位及び2″位のアシル基
（Ｘ）の加水分解的脱離を伴いながら、次式（） （式中、Ｒ、Ｙは前記と同じ意味を持つ）で示さ
れる3′・4′−アンヒドロ−4′−エピ−カナマイシ
ンＡの保護体が得られる。 本発明の式（）の化合物は、特願昭50−
146345号明細書に示されると同じ要領でキサント
ゲン酸塩で処理すると、次式（） で示される3′・4′−ジデオキシ−3′・4′−ジデヒ
ドロカナマイシンＡ、すなわち3′・4′−ジデオキ
シ−3′−エノカナマイシンＡの保護体を生成し、
次いでこれから脱保護、3′・4′−不飽和結合の水
添による飽和化をさせると3′・4′−ジデオキシカ
ナマイシンＡを製造できる。 他方、その2′位及び2″位OH基をアシル基、特
にベンゾイル基で保護してからBull.Chem.Soc.
Japan 52巻４号1131〜1134頁（1979）に記載さ
れた方法に準じてアセトン中沃化ナトリウム、酢
酸ナトリウム及び酢酸で処理すると、次式（XI） （式中、Ｒ及びＹは前記の意義を有し、R″はア
シル基を示す）で示されるヨードヒドリン体を生
成し、これをついでピリジン中塩化ベンジルスル
ホニルで処理して3′−ベンジルスルホニルオキシ
体を得、さらにこれを90℃で20〜30分加熱すると
対応の3′−エネ（ene）体を生成する。これから
脱保護すると、3′−エネ−カナマイシンＡを生成
するから、これを水添すると3′・4′−ジデオキシ
カナマイシンＡが製造される。なお、式（XI）の
ヨードヒドリン体を直ちにラネーニツケル触媒上
で水添した後に脱保護すると、4′−デオキシカナ
マイシンＡが得られた。 カナマイシンＡから出発して式（）の化合物
を調製し、次に本発明の方法を利用して式（）
のエピ体を生成し、さらに3′・4′−ジデオキシカ
ナマイシンＡ又は4′−デオキシカナマイシンＡま
で合成する場合には、デオキシ化の中間体である
化合物（）までの工程数が少なく、かつ工業的
に有利な方法である。 以下、本発明の方法を例示する実施例、並びに
本発明物質の有用性を示す参考例によつて本発明
を説明する。 参考例 １ (1) テトラ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカナマ
イシンＡの製造 カナマイシンＡ・１硫酸塩17.5ｇと苛性ソー
ダ2.4ｇを水120ml、トリエチルアミン36ml、ジ
オキサン200mlの混液に加え撹拌しつつ、ｔ−
ブトキシカルボニル基即ちBoc導入試薬として
のｔ−ブチル−Ｓ−（４・６−ジメチル−ピリ
ミジン−２−イル）−チオールカーボネート
43.2ｇを加え、室温で一夜撹拌した。析出した
沈澱をＮ−塩酸ついで水で洗い乾燥した。収量
20ｇ（75％）、〔α〕²⁵ _D＋74.1゜（ｃ＝1.0、ジメチ
ルホルムアミド） 元素分析値：Ｃ、50.92；Ｈ、7.58；Ｎ、6.45％ 計算値（C₃₈H₆₈N₄O₁₉として）：Ｃ、51.56；
Ｈ、7.76；Ｎ、6.33％ (2) 4″・6″−Ｏ−シクロヘキシリデン−テトラ−
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカナマイシンＡの
製造 前項(1)で得た物質10.5ｇをジメチルホルムア
ミド200mlに溶解し、これに１・１−ジメトキ
シシクロヘキサン20ml、ｐ−トルエンスルホン
酸−水塩0.4ｇを加え、室温で18時間撹拌した。
トリエチルアミンで中和後、減圧濃縮し、濃縮
液を水200mlに注ぎ、析出した沈澱を取し、
水洗後乾燥した。収量11ｇ（96％）〔α〕²⁵ _D＋
67.0（ｃ＝1.0、ピリジン） 元素分析値：Ｃ、53.82；Ｈ、7.41；Ｎ、5.25％ 計算値（C₄₄H₇₆N₄O₁₉として）：Ｃ、54.25；
Ｈ、7.95；Ｎ、5.81％ (3) 2′・3′・2″−トリ−Ｏ−ベンゾイル−4″・
6″−Ｏ−シクロヘキシリデン−テトラ−Ｎ−ｔ
−ブトキシカルボニルカナマイシンＡの製造 前項(2)で得た物質11.4ｇをピリジン200mlに
溶解する。０〜５℃に冷却後、塩化ベンゾイル
5.6mlを加え３時間反応させる。反応は薄層ク
ロマトグラフイー〔シリカゲル（メルク社）〕
にて確認する。反応液に水５mlを加えて過剰の
塩化ベンゾイルを分解後濃縮し、濃縮液を水
300mlに注ぎ、析出した沈澱を取し、Ｎ−重
炭酸ナトリウム水でよく洗つた後、水洗し乾燥
した。 収量14.8ｇ。これをシリカゲルクロマトで精
製し表題化合物10.2ｇ（75％）を得た。〔α〕²⁵ _D
＋100.5゜（ｃ＝1.1クロロホルム）、融点182〜188
℃。 元素分析値：Ｃ、60.31；Ｈ、6.74；Ｎ、4.09％ 計算値（C₆₅H₈₈N₄O₂₂として）Ｃ、61.10；
Ｈ、6.96；Ｎ、4.39％ (4) 2′・3′・2″−トリ−Ｏ−ベンゾイル−4″・
6″−Ｏ−シクロヘキシリデン−4′−Ｏ−メシル
−テトラ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカナマ
イシンＡの製造 前項(3)で得た物質1.9ｇをピリジン30mlに溶
解してから塩化メシル0.4mlを加え室温で３時
間反応させる。反応液に水0.2mlを加え過剰の
塩化メシルを分解した後、濃縮し、水50mlに注
ぎ、析出した沈澱を取し、水洗後乾燥した。 収量2.0ｇ（定量的）。 〔α〕²⁵ _D＋103.3゜（ｃ＝1.0、クロロホルム）、
融点194〜204℃（分解） 元素分析値：Ｃ、58.48；Ｈ、6.52；Ｎ、4.23；
Ｓ、2.20％ 計算値（C₁₀H₉₀N₄O₂₄Sとして）Ｃ、58.47；
Ｈ、6.71；Ｎ、4.13；Ｓ、2.36％ 実施例 １ (1) 3′・4′−アンヒドロ−4′−エピ−4″・6″−Ｏ
−シクロヘキシリデン−テトラ−Ｎ−ｔ−ブト
キシカルボニルカナマイシンＡの製造 参考例１、(4)で得た物質5.1ｇをメタノール
100mlに溶解し、ナトリウムメチラート1.2ｇを
加え室温で２時間撹拌し反応させる。氷冷下に
濃塩酸で中和後、濃縮し、水200mlに注ぎ、析
出した沈澱を取し水洗後乾燥した。収量3.1
ｇ（88％）。これをシリカゲルクロマトで精製
して得られる表題化合物の物性値は次の通りで
ある。 〔α〕²⁵ _D＋54.1゜（ｃ＝1.0、ジメチルホルムア
ミド） 融点190〜207℃（分解） 元素分析値：Ｃ、52.14；Ｈ、7.60；Ｎ、6.15％ 計算値（C₃₈H₆₆N₄O₁₈として）Ｃ、52.63；
Ｈ、7.69；Ｎ、6.46％ 参考例 ２ 3′・4′−ジデオキシカナマイシンＡの製造 (1) 3′・4′−アンヒドロ−4′−エピ−2′・2″−ジ
−Ｏ−ベンゾイル−4″・6″−Ｏ−シクロヘキシ
リデンテトラ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカ
ナマイシンＡの製造と3′・4′−アンヒドロ環の
ヨードヒドリン体への開環 実施例(1)で得られた物質4.3ｇをピリジン45
mlに溶解し、塩化ベンゾイル３mlを加え室温で
２時間反応させた。水１mlを加え過剰の塩化ベ
ンゾイルを分解した後、濃縮し水100mlに注ぎ
析出した沈澱を取し、１規定重炭酸ナトリウ
ム水で洗つた後、水洗し乾燥する。これを精製
せずにアセトン45mlに溶解し酢酸3.3ml、酢酸
ナトリウム0.2ｇ、沃化ナトリウム5.8ｇを加
え、４時間還流し反応させた。放冷後、濃縮し
水200mlに注ぎ析出した沈澱を取し、水洗後
乾燥した。収量5.5ｇ。これをシリカゲルクロ
マトで精製しヨードヒドリン体3.9ｇ（71％）
を得た。 元素分析値：Ｉ、9.31％ 計算値（C₅₂H₇₅N₄O₂₀Iとして）Ｉ、9.84％ (2) 2′・2″−ジ−Ｏ−ベンゾイル−4″・6″−Ｏ−
シクロヘキシリデン−3′−エノ−テトラ−Ｎ−
ｔ−ブトキシカルボニルカナマイシンＡの製造 前項(1)で得られた物質2.6ｇをピリジン50ml
に溶解する。氷冷してから塩化ベンジルスルホ
ニル1.5ｇを加え１時間反応させる。水0.5mlを
加えて過剰の塩化ベンジルスルホニルを分解し
た後、90℃で１時間処理した。放冷後に濃縮し
水200mlに注ぎ析出した沈澱を取し水洗後乾
燥した。収量2.1ｇ。これをシリカゲルクロマ
トで精製し表題物質1.3ｇ（56％）を得た。 〔α〕²⁵ _D＋19.1゜（ｃ＝1.0、クロロホルム）融
点221〜226℃（分解） 元素分析値：Ｃ、61.78；Ｈ、7.31；Ｎ、4.45％ 計算値（C₅₈H₈₂N₄O₁₉として）Ｃ、61.13；
Ｈ、7.27；Ｎ、4.92％ (3) 3′−エノ−カナマイシンＡの製造 前項(2)で得られた物質1.1ｇをメタノール20
mlに溶解し、ナトリウムメトキシド0.3ｇを加
え室温で１時間反応させた。６規定塩酸５mlを
加え50℃で２時間反応させた。氷冷下に２規定
苛性ソーダで中和し濃縮した後、水50mlに溶解
し、アンバーライトCG−50（NH⁺ ₄）30mlのカ
ラムに吸着し、0.3Nのアンモニア水でクロマ
トグラフ的に分画精製し、0.34ｇ（75％）の表
題物質を得た。 〔α〕²⁵ _D＋52.1゜（ｃ＝1.0、水） 元素分析値：Ｃ、44.36；Ｈ、7.21；Ｎ、10.54
％ 計算値（C₁₈H₃₄N₄O₉・H₂CO₃として）Ｃ、
44.51；Ｈ、7.09；Ｎ、10.93％ (4) 3′・4′−ジデオキシカナマイシンＡの製造 前項(3)で得られた3′−エノ−カナマイシン
A200mgを水100mlに溶解し、酸化白金15mgを加
え水素を常温常圧で２時間通じた。触媒を別
して3′・4′−ジデオキシカナマイシンA185mgを
得た。 参考例 ３ 4′−デオキシカナマイシンＡの製造 参考例２(1)で得られたヨードヒドリン体550mg
をメタノール10mlに溶解し、ジオキサン10mlと水
５mlを加えた。更にラネーニツケル2.3ｇを添加
し、常圧下に還元した。触媒を除去したのちナト
リウムメチラート60mgを加え２時間室温に放置し
た。１規定の塩酸で中和し、濃縮乾固した。残渣
を水洗いしたのち95％トリフロロ酢酸4.5mlに加
え室温に30分間放置した。この反応液を濃縮乾固
し、水13mlに溶解する。溶解液を４−規定の苛性
ソーダ水溶液でPH＝7.5に調整し、アンバーライ
トCG−50（NH₄ ⁺）６mlに吸着した。水洗いした
のち0.3規定アンモニア水で溶離し、溶離液を濃
縮乾固して4′−デオキシカナマイシンA105mgを
得た。このものは文献値と一致した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 次の一般式 〔式中Ｒはアルキル基、アラルキル基又はアリー
   ル基を示し、Ｙは式【式】（ここでＰ、P′は それぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を
   示す）で表わされるアルキリデン基又はアラルキ
   リデン基を示すか又はシクロアルキリデン基又は
   テトラヒドロピラニリデン基を示す〕で表わされ
   るカナマイシンＡの3′・4′−アンヒドロ−4′−エ
   ピ誘導体。 ２ 次の一般式 〔式中Ｒはアルキル基、アラルキル基又はアリー
   ル基を示し、Ｗはメシル基、トシル基又はベンジ
   ルスルホニル基を示し、Ｘはアルカノイル基又は
   アロイル基を示し、Ｙは式【式】（ここで Ｐ、P′はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリ
   ール基を示す）で表わされるアルキリデン基又は
   アラルキリデン基を示すか又はシクロアルキリデ
   ン基又はテトラヒドロピラニリデン基を示す〕で
   表わされるカナマイシンＡの4′−Ｏ−スルホニル
   誘導体をアルカリ性の低級アルカノール中で処理
   して次の一般式 〔式中Ｒ、Ｙは前記と同じ意味をもつ〕で表わさ
   れるカナマイシンＡの3′・4′−アンヒドロ−4′−
   エピ誘導体を生成することを特徴とする前記式
   （）のカナマイシンＡの3′・4′−アンヒドロ−
   4′−エピ誘導体の製造方法。