JPS63197879A - セラミツクス焼成用セツタ− - Google Patents

セラミツクス焼成用セツタ−

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Publication number
JPS63197879A
JPS63197879A JP3075287A JP3075287A JPS63197879A JP S63197879 A JPS63197879 A JP S63197879A JP 3075287 A JP3075287 A JP 3075287A JP 3075287 A JP3075287 A JP 3075287A JP S63197879 A JPS63197879 A JP S63197879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
setter
firing
fired
ceramics
shaped
Prior art date
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Pending
Application number
JP3075287A
Other languages
English (en)
Inventor
進 斎藤
哲郎 伏見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Ceramics Co Ltd filed Critical Toshiba Ceramics Co Ltd
Priority to JP3075287A priority Critical patent/JPS63197879A/ja
Publication of JPS63197879A publication Critical patent/JPS63197879A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は電子部品等の棒状又は円盤状のセラミックスを
焼成するのに用いられるセッターに関する。
[従来の技術] 例えば、BaTiO3系のディスクタイプコンデンサー
やフェライト等を製造するには、ZrO2質などのセッ
ターで溝部を形成し、この溝部に円盤状の被焼成物をそ
の周面を接触させて載置して焼成している。
従来、上記セッターとしては、第3図(a)(平面図)
及び(b)(断面図)に示すように、連続する2つの傾
斜面を有し、断面が逆V型をなすセッター1が用いられ
ている。
このセッター1を用いたセラミックスの焼成は、第4図
に示すようにして行なわれる。第4図において、合板2
上にはセッターlが幅方向及び長手方向にそれぞれ複数
個差べられ、幅方向に並べられた隣接するセッター1.
1どうしの傾斜面で形成されるV型の溝部に円盤状の被
焼成物3をその周面が接触するように多数載置する。更
に、こうしてセッター1及び被焼成物3が設置された台
板2は多段に積層されて焼成炉内に装入され、焼成が行
なわれる。
[発明が解決しようとする問題点] しかし、従来のセッターを用いた場合、焼成後にはセッ
ターに残存歪が生じ、しかもその表面に変質層が形成さ
れやすいため、約30回の使用で交換しなければならず
、寿命が短いという問題があった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、長寿命のセラミックス焼成用セッターを提供するこ
とを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段] 本発明のセラミックス焼成用セッターは、連続する3つ
以上の傾斜面を有するセッターであって、1つのセッタ
ー自体が有する溝部又は複数のセッターを隣接して並べ
ることにより形成される溝部に、セラミックス被焼成物
をその周面を接触させて載置して焼成することを特徴と
するものである。
[作用] 本発明のセラミックス焼成用セッターは、例えば連続す
る3つの傾斜面を有する場合には断面がN型をなし、連
続す゛る4つの傾斜面を有する場合には断面がM型をな
すものであり、1回の焼成ごとに反転して使用すること
ができ、連続的に焼成を行なった場合に前後2回の焼成
時に受ける熱的影響が相殺されるので、残存歪を低減す
ることができる。また、1つの面を続けて使用すること
がないので、表面での変質層の生成も緩和することがで
きる。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図(a)(平面図)及び(b)(断面図)に示すよ
うに、本発明に係るセッター11は、連続する3つの傾
斜面を有し、断面がN型をなすものである。
このセッター11を用いたセラミックスの焼成は、第2
図に示すようにして行なわれる。第2図において、台板
12上にはセッター11が幅方向及び長手方向にそれぞ
れ複数個差べられ、セッターll自体が有するV型の溝
部又は幅方向に並べられた隣接するセッター11jlど
うしの傾斜面で形成されるV型の溝部に円盤状の被焼成
物13をその周面が接触す゛るように多数載置する。更
に、こうしてセッター11及び被焼成物13が設置され
た台板12は多段に積層されて焼成炉内に装入され、焼
成が行なわれる。
そして、セラミックス製品の焼成を行なう場合、1回の
焼成ごとにセー、ター11を反転させて使用する。なお
、セッター11を反転させてもセッター11の断面は点
対称な形状であるので、全く同一の形状を有し、やはり
第2図に示すような状態で焼成が行なわれる。
このようなセッター11を用いれば、1回の焼成ごとに
セッター11を反転させるので、前後2回の焼成で受け
る熱的影響が相殺され、残存歪を大幅に低減することが
できる。また、1つの面を続けて使用することがないの
で、表面での変質層の生成も緩和することができる。こ
の結果、従来のセッターに比べて寿命を大幅に向上する
ことができる。
実際に、従来のセッターは約30回の使用で交換しなけ
ればならなかったのに対し、本発明に係るセッターは約
90回使用することができ、従来よりも寿命が約3倍と
なった。
なお、上記実施例では断面がN型のセッターについて説
明したが、断面がM型等のセッターを用いても上記と同
様な効果を得ることができる。
また、上記実施例では円盤状の被焼成物を焼成する場合
について説明したが、本発明に係るセ・ンターは例えば
棒状の被焼成物の焼成にも同様に適用できることは勿論
である。
[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、長寿命のセラミッ
クス焼成用セッターを提供できるものである。
【図面の簡単な説明】
81図(a)は本発明の実施例におけるセラミックス焼
成用セッターの平面図、同図(b)は同セッターの断面
図、第2図は同セッターによるセラミックス製品の焼成
時の状態を示す斜視図、第3図(a)は従来のセラミッ
クス焼成用セッターの平面図、同図(b)は同セッター
の断面図、第4図は同セッターによるセラミックス製品
の焼成時の状態を示す斜視図である。 11・・・セッター、12・・・台板、!3・・・被焼
成物。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 (b)℃〜″′ 第1図 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)連続する3つ以上の傾斜面を有するセッターであ
    って、1つのセッター自体が有する溝部又は複数のセッ
    ターを隣接して並べることにより形成される溝部に、セ
    ラミックス被焼成物をその周面を接触させて載置して焼
    成することを特徴とするセラミックス焼成用セッター。
  2. (2)ジルコニア又はアルミナからなることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載のセラミックス焼成用セッ
    ター。
JP3075287A 1987-02-13 1987-02-13 セラミツクス焼成用セツタ− Pending JPS63197879A (ja)

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