JPS63197879A - セラミツクス焼成用セツタ− - Google Patents
セラミツクス焼成用セツタ−Info
- Publication number
- JPS63197879A JPS63197879A JP3075287A JP3075287A JPS63197879A JP S63197879 A JPS63197879 A JP S63197879A JP 3075287 A JP3075287 A JP 3075287A JP 3075287 A JP3075287 A JP 3075287A JP S63197879 A JPS63197879 A JP S63197879A
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- Japan
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- setter
- firing
- fired
- ceramics
- shaped
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- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 18
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 27
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
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Landscapes
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は電子部品等の棒状又は円盤状のセラミックスを
焼成するのに用いられるセッターに関する。
焼成するのに用いられるセッターに関する。
[従来の技術]
例えば、BaTiO3系のディスクタイプコンデンサー
やフェライト等を製造するには、ZrO2質などのセッ
ターで溝部を形成し、この溝部に円盤状の被焼成物をそ
の周面を接触させて載置して焼成している。
やフェライト等を製造するには、ZrO2質などのセッ
ターで溝部を形成し、この溝部に円盤状の被焼成物をそ
の周面を接触させて載置して焼成している。
従来、上記セッターとしては、第3図(a)(平面図)
及び(b)(断面図)に示すように、連続する2つの傾
斜面を有し、断面が逆V型をなすセッター1が用いられ
ている。
及び(b)(断面図)に示すように、連続する2つの傾
斜面を有し、断面が逆V型をなすセッター1が用いられ
ている。
このセッター1を用いたセラミックスの焼成は、第4図
に示すようにして行なわれる。第4図において、合板2
上にはセッターlが幅方向及び長手方向にそれぞれ複数
個差べられ、幅方向に並べられた隣接するセッター1.
1どうしの傾斜面で形成されるV型の溝部に円盤状の被
焼成物3をその周面が接触するように多数載置する。更
に、こうしてセッター1及び被焼成物3が設置された台
板2は多段に積層されて焼成炉内に装入され、焼成が行
なわれる。
に示すようにして行なわれる。第4図において、合板2
上にはセッターlが幅方向及び長手方向にそれぞれ複数
個差べられ、幅方向に並べられた隣接するセッター1.
1どうしの傾斜面で形成されるV型の溝部に円盤状の被
焼成物3をその周面が接触するように多数載置する。更
に、こうしてセッター1及び被焼成物3が設置された台
板2は多段に積層されて焼成炉内に装入され、焼成が行
なわれる。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし、従来のセッターを用いた場合、焼成後にはセッ
ターに残存歪が生じ、しかもその表面に変質層が形成さ
れやすいため、約30回の使用で交換しなければならず
、寿命が短いという問題があった。
ターに残存歪が生じ、しかもその表面に変質層が形成さ
れやすいため、約30回の使用で交換しなければならず
、寿命が短いという問題があった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、長寿命のセラミックス焼成用セッターを提供するこ
とを目的とするものである。
り、長寿命のセラミックス焼成用セッターを提供するこ
とを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明のセラミックス焼成用セッターは、連続する3つ
以上の傾斜面を有するセッターであって、1つのセッタ
ー自体が有する溝部又は複数のセッターを隣接して並べ
ることにより形成される溝部に、セラミックス被焼成物
をその周面を接触させて載置して焼成することを特徴と
するものである。
以上の傾斜面を有するセッターであって、1つのセッタ
ー自体が有する溝部又は複数のセッターを隣接して並べ
ることにより形成される溝部に、セラミックス被焼成物
をその周面を接触させて載置して焼成することを特徴と
するものである。
[作用]
本発明のセラミックス焼成用セッターは、例えば連続す
る3つの傾斜面を有する場合には断面がN型をなし、連
続す゛る4つの傾斜面を有する場合には断面がM型をな
すものであり、1回の焼成ごとに反転して使用すること
ができ、連続的に焼成を行なった場合に前後2回の焼成
時に受ける熱的影響が相殺されるので、残存歪を低減す
ることができる。また、1つの面を続けて使用すること
がないので、表面での変質層の生成も緩和することがで
きる。
る3つの傾斜面を有する場合には断面がN型をなし、連
続す゛る4つの傾斜面を有する場合には断面がM型をな
すものであり、1回の焼成ごとに反転して使用すること
ができ、連続的に焼成を行なった場合に前後2回の焼成
時に受ける熱的影響が相殺されるので、残存歪を低減す
ることができる。また、1つの面を続けて使用すること
がないので、表面での変質層の生成も緩和することがで
きる。
[実施例]
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図(a)(平面図)及び(b)(断面図)に示すよ
うに、本発明に係るセッター11は、連続する3つの傾
斜面を有し、断面がN型をなすものである。
うに、本発明に係るセッター11は、連続する3つの傾
斜面を有し、断面がN型をなすものである。
このセッター11を用いたセラミックスの焼成は、第2
図に示すようにして行なわれる。第2図において、台板
12上にはセッター11が幅方向及び長手方向にそれぞ
れ複数個差べられ、セッターll自体が有するV型の溝
部又は幅方向に並べられた隣接するセッター11jlど
うしの傾斜面で形成されるV型の溝部に円盤状の被焼成
物13をその周面が接触す゛るように多数載置する。更
に、こうしてセッター11及び被焼成物13が設置され
た台板12は多段に積層されて焼成炉内に装入され、焼
成が行なわれる。
図に示すようにして行なわれる。第2図において、台板
12上にはセッター11が幅方向及び長手方向にそれぞ
れ複数個差べられ、セッターll自体が有するV型の溝
部又は幅方向に並べられた隣接するセッター11jlど
うしの傾斜面で形成されるV型の溝部に円盤状の被焼成
物13をその周面が接触す゛るように多数載置する。更
に、こうしてセッター11及び被焼成物13が設置され
た台板12は多段に積層されて焼成炉内に装入され、焼
成が行なわれる。
そして、セラミックス製品の焼成を行なう場合、1回の
焼成ごとにセー、ター11を反転させて使用する。なお
、セッター11を反転させてもセッター11の断面は点
対称な形状であるので、全く同一の形状を有し、やはり
第2図に示すような状態で焼成が行なわれる。
焼成ごとにセー、ター11を反転させて使用する。なお
、セッター11を反転させてもセッター11の断面は点
対称な形状であるので、全く同一の形状を有し、やはり
第2図に示すような状態で焼成が行なわれる。
このようなセッター11を用いれば、1回の焼成ごとに
セッター11を反転させるので、前後2回の焼成で受け
る熱的影響が相殺され、残存歪を大幅に低減することが
できる。また、1つの面を続けて使用することがないの
で、表面での変質層の生成も緩和することができる。こ
の結果、従来のセッターに比べて寿命を大幅に向上する
ことができる。
セッター11を反転させるので、前後2回の焼成で受け
る熱的影響が相殺され、残存歪を大幅に低減することが
できる。また、1つの面を続けて使用することがないの
で、表面での変質層の生成も緩和することができる。こ
の結果、従来のセッターに比べて寿命を大幅に向上する
ことができる。
実際に、従来のセッターは約30回の使用で交換しなけ
ればならなかったのに対し、本発明に係るセッターは約
90回使用することができ、従来よりも寿命が約3倍と
なった。
ればならなかったのに対し、本発明に係るセッターは約
90回使用することができ、従来よりも寿命が約3倍と
なった。
なお、上記実施例では断面がN型のセッターについて説
明したが、断面がM型等のセッターを用いても上記と同
様な効果を得ることができる。
明したが、断面がM型等のセッターを用いても上記と同
様な効果を得ることができる。
また、上記実施例では円盤状の被焼成物を焼成する場合
について説明したが、本発明に係るセ・ンターは例えば
棒状の被焼成物の焼成にも同様に適用できることは勿論
である。
について説明したが、本発明に係るセ・ンターは例えば
棒状の被焼成物の焼成にも同様に適用できることは勿論
である。
[発明の効果]
以上詳述したように本発明によれば、長寿命のセラミッ
クス焼成用セッターを提供できるものである。
クス焼成用セッターを提供できるものである。
81図(a)は本発明の実施例におけるセラミックス焼
成用セッターの平面図、同図(b)は同セッターの断面
図、第2図は同セッターによるセラミックス製品の焼成
時の状態を示す斜視図、第3図(a)は従来のセラミッ
クス焼成用セッターの平面図、同図(b)は同セッター
の断面図、第4図は同セッターによるセラミックス製品
の焼成時の状態を示す斜視図である。 11・・・セッター、12・・・台板、!3・・・被焼
成物。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 (b)℃〜″′ 第1図 第2図
成用セッターの平面図、同図(b)は同セッターの断面
図、第2図は同セッターによるセラミックス製品の焼成
時の状態を示す斜視図、第3図(a)は従来のセラミッ
クス焼成用セッターの平面図、同図(b)は同セッター
の断面図、第4図は同セッターによるセラミックス製品
の焼成時の状態を示す斜視図である。 11・・・セッター、12・・・台板、!3・・・被焼
成物。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 (b)℃〜″′ 第1図 第2図
Claims (2)
- (1)連続する3つ以上の傾斜面を有するセッターであ
って、1つのセッター自体が有する溝部又は複数のセッ
ターを隣接して並べることにより形成される溝部に、セ
ラミックス被焼成物をその周面を接触させて載置して焼
成することを特徴とするセラミックス焼成用セッター。 - (2)ジルコニア又はアルミナからなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のセラミックス焼成用セッ
ター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3075287A JPS63197879A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | セラミツクス焼成用セツタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3075287A JPS63197879A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | セラミツクス焼成用セツタ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63197879A true JPS63197879A (ja) | 1988-08-16 |
Family
ID=12312416
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3075287A Pending JPS63197879A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | セラミツクス焼成用セツタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63197879A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011151197A (ja) * | 2010-01-21 | 2011-08-04 | Tdk Corp | チップ型電子部品の製造方法 |
| CN103503186A (zh) * | 2011-03-16 | 2014-01-08 | 埃普科斯股份有限公司 | 用于制造压电激励器部件的方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58148402A (ja) * | 1982-02-27 | 1983-09-03 | マルコン電子株式会社 | セラミツク電子部品の焼結方法 |
| JPS58204877A (ja) * | 1982-05-19 | 1983-11-29 | マルコン電子株式会社 | セラミツク電子部品の焼結方法 |
| JPS58217471A (ja) * | 1982-06-10 | 1983-12-17 | マルコン電子株式会社 | セラミツク電子部品の焼結方法 |
-
1987
- 1987-02-13 JP JP3075287A patent/JPS63197879A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58148402A (ja) * | 1982-02-27 | 1983-09-03 | マルコン電子株式会社 | セラミツク電子部品の焼結方法 |
| JPS58204877A (ja) * | 1982-05-19 | 1983-11-29 | マルコン電子株式会社 | セラミツク電子部品の焼結方法 |
| JPS58217471A (ja) * | 1982-06-10 | 1983-12-17 | マルコン電子株式会社 | セラミツク電子部品の焼結方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011151197A (ja) * | 2010-01-21 | 2011-08-04 | Tdk Corp | チップ型電子部品の製造方法 |
| CN103503186A (zh) * | 2011-03-16 | 2014-01-08 | 埃普科斯股份有限公司 | 用于制造压电激励器部件的方法 |
| JP2014512674A (ja) * | 2011-03-16 | 2014-05-22 | エプコス アーゲー | 圧電アクチュエータ素子の製造方法 |
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