JPS63198975A - 細胞培養用基材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は、細胞培養用基材に関する。さらに詳細には
、動物細胞を培養するために使用される細胞培養用基材
に関するものである。

〈従来技術及び発明が解決しようとする問題点〉近年、
生物の細胞を培養し、その細胞の代謝活動により有用な
生理活性物質、例えば、ワクチン、ホルモン、インター
フェロン等を生産する研究が活発に行われている。

このような方法において、従来、接着性動物細胞の培養
は、ガラス、プラスチック製のシャーレ、試験管、培養
ビンなどを用いて行なわれてきた。

また、最近、マイクロキャリアや中空糸を培養用基材と
して用い、より高密度の培養や、長期の培養を行なう試
みがなされつつある。接着性動物細胞を培養用基材上に
接着させ、増殖させるには、該基材表面と細胞の接着性
が良好であることと共に接着した細胞の形態、配列が、
細胞の伸展、増殖に４効な形態となっていることが必要
である。

しかしながら、従来から細胞培養用基材として用いられ
ている高分子材料は賦形性、耐久性に優れるものの、上
記接着性等の点に関して不適当であり、高密度かつ長期
間の細胞培養を行なうことができず、いずれも十分な成
果を上げるに至っていない。

この問題点を改善するため、高分子材料に試薬を作用さ
せる化学処理により高分子材料表面に親水性官能基を導
入することが検討されているが、高分子材料は安定性が
高く、導入できる親水性官能基を多くすることは困難で
ある。また、高分子材料を表面処理して親水化した細胞
培養用基材として、例えば、高分子材料がオゾンで処理
された組織培養用材料（特開昭５２−４１２９１号公報
参照）、低温プラズマで処理された組織培養用担体粒子
（特開昭５７−２２８９１号公報参照）が提案されてい
る。

しかしながら、上記のオゾンまたはプラズマ処理により
得られた細胞培養用基材は、高分子材料に特定の官能基
が導入された表面しか得られず、また、上記のように高
分子材料は安定な材料が多いので、官能基の導入量が極
めて少ない。従って、これら従来の方法では、基材と細
胞との接着性および接着した細胞の伸展、増殖に必要な
化学的、物理的表面改質が不十分であり、細胞培養を高
密度かつ長期に亘って行なうことができないという問題
点がある。

く目　的〉 この発明は上記問題点に鑑みてなされたもので゛あり、
細胞との接着性に優れ、細胞の増殖と機能維持を行うこ
とのでき、高密度、長期間の細胞培養を可能ならしめる
細胞培養用基材を提供することを目的とする。

く問題点を解決するための手段および作用〉上記の問題
点を解決すべくなされた、この発明の細胞培養用基材は
、表面処理された高分子基材の表面に、単分子膜の累積
膜が被覆されていることを特徴とするものである。

なお、高分子基材は、プラズマ、スパッタリング、紫外
線、電子線、γ線、イオン、オゾンまたは化学処理のい
ずれかにより表面処理されているものが好ましい。さら
には、高分子基材は多孔性のものや、中空糸であるもの
が好ましい。また、累積膜はポリペプチドからなるもの
が好ましい。

さらには、上記累積膜は、紫外線、電子線またはイオン
照射により部分的に処理されているものが好ましく、特
に、格子模様、縞模様、水玉模様等に処理されているも
のが好ましい。

この発明の細胞培養用基材は、上記の構成よりなり、高
分子基材が表面処理されているので、単分子膜の累積膜
との接着性に優れるだけでなく、累積膜の構造を制御し
、細胞との接着性を高めることができる。より詳細には
、水に不溶性の有機化合物を水面上で展開することによ
り、４機化合物の親水基、疎水基が所定方向に配向した
単分子膜を作製することができ、この単分子膜を適当な
圧力を加えて高分子基材に移し取ることにより、基材を
単分子膜で被覆することができる。この被覆状態では、
前記高分子基材が表面処理されているので、表面処理さ
れた基材と配向した単分子膜とが強固に接着する。上記
操作を繰返すことにより、官能基の配向および構造が制
御された累積膜で高分子基材を被覆することができる。

また、細胞表面の細胞膜の構造は、脂質二重層の中に、
膜内粒子と呼ばれる各種の糖蛋白質、糖脂質等が分布を
もって埋めこまれており、これらが、上記脂質二重層の
中を自由に移動でき、上記累積膜表面の官能基と接着す
る。すなわち、上記表面処理により官能基が導入された
高分子基材は、膜内粒子とイオン結合、疎水結合等によ
り結合可能な部位を有する前記累積膜により被覆されて
いるので、細胞との接着性が高まると共に細胞を安定し
た形態、配置で保持することができる。従って、本発明
の細胞培養用基材は、細胞の安定な接着を促すと共に接
着した細胞の良好な伸展および増殖を可能にすることが
できる。

また、上記基材は、単分子膜の累積膜により被覆されて
いるので、基材表面には、上記累積膜を構成する材料お
よび単分子膜の累積状態に応じて、正または負の電荷を
有する官能基が存在し、この官能基は、細胞との接着性
に関与する。

また、累積膜がポリペプチドからなるときは、ポリペプ
チドが細胞との接着性、伸展および増殖に有用な官能基
を有するだけでなく、ポリペプチドの種類を変えること
により、細胞の接着等に関与する前記官能基を容易に選
択することができる。

また、前記累積膜が、紫外線、電子線またはイオン照射
により部分的に処理されているときは、前記プラズマ処
理と異なり、イオンや電子衝撃がなく、−上記紫外線等
を照射するだけでよいため、反応制御が容易であるばか
りか、累積膜の全面照射のみならず、部分的に紫外線等
を照射することにより微細加工を容易に施すことができ
る。上記基材を被覆する累積膜が、紫外線等の照射によ
り部分的に処理されて微細加工されると、親水性の程度
の異なる部分が微細模様状に配置された累積膜表面が得
られるので、上記のような構造を有する細胞膜は、イオ
ン結合、疎水結合等により細胞が安定した形態、配列で
基材の累積膜上に接着することができ、ひいては細胞の
伸展、増殖を促進することができる。特に、格子模様、
縞模様、水玉模様等のように一定のパターンをもって紫
外線等で処理されているものは、上記の効果を一層高め
ることができる。

また、上記高分子基材が、多孔性であるときは、孔を通
じて物質代謝が容易となり長期に亘り細胞培養すること
ができる。特に、前記高分子基材が中空糸であるものは
、中空部内や中空糸の外側に培養液等を潅流することに
より、中空糸上に細胞を高密度に育成、増殖させること
ができる。

以下、この発明をより詳細に説明する。

この発明に使用される高分子基材としては、賦形性、機
械的強度を有するものであればいかなるものでも使用で
き、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポ
リエチレン、アイオノマー等のオレフィン系重合体、ポ
リテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン等の
フッ素系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリビニル
アルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、
ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリフェ
ニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、セル
ロース系樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタンなどの種
々の重合体もしくは共重合体またはそれらのブレンド物
が例示できる。

上記高分子材料からなる高分子基材は、種々の形態に形
成でき、例えば、シャーレ、フラスコ等の成形品の他、
フィルム、チューブ、中空糸、繊維、微粒子等の形態が
例示できる。これらの形態のうち、長期に亘り細胞培養
を行なうには、物質代謝を容易にする孔を有する多孔質
高分子基材が好ましく、また、高密度培養を行なうには
、チューブ、中空糸の形状が好適である。特に、物質代
謝が容易で、高密度培養を長期に亘り行なえる多孔質高
分子基材からなる中空糸が好ましい。この中空糸を用い
るとき、培養液を、中空糸の中空部または外側に潅流さ
せ、必要に応じて炭酸ガスや空気等を上記中空糸の中空
部等に送ることにより、細胞を中空糸上で育成し、増殖
させることができる。なお、中空糸としては、種々の大
きさのものが使用でき、例えば、内径５０〜ｔｏｏｏａ
程度のものが用いられる。

また、この発明の細胞培養用基材をマイクロキャリアー
法のビーズ担体として使用する場合には、高分子基材は
１００〜３００μｍ程度の粒径のものが用いられる。

上記高分子基材の表面は、前記累積膜との接着性を高め
るため、表面処理により改質されている。

上記基材表面の処理は、前記単分子膜、累積膜との接着
性を高めるものであればいかなる処理であってもよいが
、プラズマ、スパッタリング、紫外線、電子線、γ線、
イオン、オゾンまたは化学処理等により表面処理されて
改質されているものが好ましい。

上記高分子基材の表面をプラズマ、スパッタリング、紫
外線、電子線、γ線、イオン、オゾンまたは化学処理す
る方法は、いずれも慣用の手段が用いられる。これらの
表面処理により、高分子基材表面に、カルボキシ基、カ
ルボニル基、ヒドロパーオキシド基等の官能基が導入さ
れる。

上記処理において、プラズマ処理には慣用のプラズマ装
置が用いられ、例えば、ペルジャーにより構成される反
応容器内に対向する一対の電極を設け、その電極間に高
分子基材を保持した後、電極間に交流電源を接続して、
これにより電極間にプラズマを発生させ、このプラズマ
を高分子基材の表面に作用させる方法等が挙げられる。

スパッタリング処理には、慣用のスパッタリング装置が
用いられ、高分子基材は、真空槽内の陰極の近傍に配設
され、グロー放電により励起された正イオンは高分子基
材に衝突し、その運動エネルギーで基材表面が物理的に
改質される。さらに、雰囲気ガス中に、含酸素化合物（
例えば、酸素ガス、水等）、含窒素化合物（例えば、窒
素ガス、アンモニア等）のような反応しやすいガスを含
む場合には、上記スパッタリングにより活性化された表
面と反応し、酸化物、窒化物等が基材表面に導入され、
基材表面の親水性を一層高めることができる。

紫外線処理に使用される紫外線としては、高分子材料の
表面で化学反応を生じさせる波長のものが使用され、紫
外線のうち、２００ｎａ未満の遠紫外線は、光エネルギ
ーが大きいため、より効率的に処理することができる。

なお、上記紫外線を放射する光源としては、クセノンア
ーク、メタルハライドランプなども使用できるが、大面
積の処理が可能な水銀灯やコヒーレントで微細加工が可
能なレーザが好適に用いられる。上記水銀灯としては、
３８８ｎ■の波長が主である高圧水銀冬丁、２５３．７
ｎｍおよび１８４．９ｎ−の波長の光を同時に放射する
低圧水銀灯が例示できる。

また、レーザとしては、Ａｒ、Ｈｅ−Ｃｄ、Ｎ２等のレ
ーザの他に、短波長と高出力の光を放射するエキシマレ
ーザが利用できる。エキシマレーザは、短時間に高いエ
ネルギーを基材に与え、基材を化学的および物理的に大
きく改質できるため、好適に用いられる。上記紫外線に
よる処理は、紫外線を種々の雰囲気中で所望の高分子基
材の表面に照射することにより行なわれる。例えば、空
気中で紫外線を照射すると、高分子基材の表面にカルボ
ニル基が生成する他、ヒドロペルオキシド基や過酸基も
生じる。従って、ヨウ化カリウムなどの還元剤で還元す
ることにより、累積膜との親和性、接着性に優れた官能
基、例えば、水酸基、カルボキシ基等を高分子基材に導
入することができる。

電子線処理における電子線源としては、各種の電子線加
速機、コックロフトワルソン型、バンプグラフ型、共振
変圧器型等が使用でき、また照射線量としては、所望す
る表面改質の程度に応じて適宜選択することができ、例
えば、１〜５０Ｍｒａｄ程度のものが用いられる。

γ線照射処理に用いられる線源としては、一般にコバル
ト６０が利用される。照射線量は特に限定されず、基材
の種類、活性化させる程度等により適宜選択される。

イオン処理は、慣用のイオンビーム照射装置が用いられ
、イオンシャワーにより試料全体に照射される他、マス
クや集束イオンビームの採用により、部分的、微細模様
に照射される。イオンとしては、各種のイオンを用いる
ことができ、特に限定されないが、Ｈｅ中、Ａｒ＋、ｃ
＋、Ｎ＋等のイオンを例示することができる。また、好
適なイオンエネルギーの値としては０．０５ｋｅｖ〜５
００Ｋｅｖが挙げられ、この値未満では効果が小さく、
またこの値を越えると基材の炭化が顕著に進み好ましく
ない。

オゾン処理する方法は、慣用の方法が用いられ、例えば
、高分子基材が配設された反応容器内に、オゾン発生装
置により発生させたオゾン（必要に応じて、アルゴン等
の不活性ガスとの混合ガスとして）を導入することによ
り行われる。所望に応じて、加圧条件下に行なってもよ
く、また有機溶媒等を用いてもよい。反応容器中のオゾ
ンの濃度は、通常０．２〜１０容量％、好ましくは０．
３〜３容量％とされ、反応は通常室温で行われる。

オゾン処理した後、通常の方法に従って、水洗、乾燥さ
れる。

化学処理は、上記基材に無機または有機試薬を作用させ
て行われ、作用させる試薬の種類により、またはその後
の処理により、種々の官能基、例えば、カルボニル基、
カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、アミノ基、チオー
ル基、水酸基等を基材表面に導入することができる。

上記化学処理は高分子基材の化学構造に応じて適宜選択
されるが、例えば、クロム酸、過酸、過酸化水素、過ヨ
ウ素酸、硝酸等の酸化剤で処理することにより、カルボ
ニル基、ヒドロパーオキシド基、アルデヒド基等が導入
される。さらに、これらの官能基は酸化または還元する
ことにより、カルボキシ基、水酸基等に変換することが
できる。

また、クロルスルホン酸、発煙硫酸等のスルホン化剤を
作用させることによりスルホ基を導入することができ、
発煙硝酸、濃硝酸、硝酸と硫酸混合酸等のニトロ化剤を
作用させることによりニトロ基を導入することができ、
該ニトロ基は還元することによりアミノ基に変換するこ
とができる。さらに、ハロゲン含をポリマーにあっては
、ジチオカーバメート誘導体と反応させた後、加水分解
してチオール基を導入することもできる。

なお、化学処理は、上記の例に限定されるものではなく
、いわゆる高分子反応として、高分子と無機または有機
の低分子化合物との反応として知られている全ての反応
が適用できる。

上記のプラズマ、スパッタリング、紫外線、電子線、γ
線、イオン、オゾンおよび化学処理は、２以上を組み合
わせて行なってもよい。また、紫外線、電子線およびイ
オン処理の場合には、高分子基材表面の全面に均一な処
理のみならず、部分的に微細模様に処理することも可能
で、このように微細模様に処理された表面に化学処理を
行うことで、微細模様に沿って多くの官能基が導入され
た表面を形成することができ、単分子膜ひいては細胞の
接着性をより高めることができる。

上記のようにして表面処理された高分子基材は、細胞と
の接着性を高め、細胞の伸展、増殖を促進するため、単
分子膜の累積膜で被覆されている。

上記単分子膜は、水に不溶性の有機化合物を水面上に展
開することにより作製することができ、展開状態では、
親水基が水相側、疎水基が気相側に配向する。□また、
上記単分子膜を、適当な圧力を加えて前記基材上に移し
取ることにより、官能基が所定方向に配向した単分子膜
で前記基材を被覆することができる。従って、上記操作
を繰返すことにより、親水基、疎水基の配向および構造
が制御された累積膜を作製することができる。特に、ｌ
二足累積膜は表面圧を調整することにより前記官能基の
配向状態および構造を制御できるので、このようにして
作製された累積膜は、細胞との接着性、細胞の伸展、増
殖に有用である。

上記単分子膜を形成する有機化合物としては、低分子化
合物、高分子化合物等の多くの有機化合物が使用できる
。低分子化合物としては、例えば、カプリル酸、カプリ
ン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステ
アリン酸、ジオキシステアリン酸、ベヘン酸、リグノセ
リン酸、モンタン酸等の飽和脂肪酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、エルカ酸、リノール酸、リルン酸、エレオス
テアリン酸、アラキドン酸、リシルイン酸等の不飽和脂
肪酸等の脂肪酸；上記脂肪酸からの誘導体、例えば、メ
タノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ポリブロピレングリコール、グリセリン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリトリトール、ソルビタン等
の一価または多価アルコールとのエステル；カプリル酸
アミド、カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド、ミリス
チン酸アミド、パルミチン酸アミド、オレイン酸アミド
、ステアリン酸アミド等の前記脂肪酸のアミド；ラウリ
ルアルコール、セチルアルコール、オレイルアルコール
、ステアリルアルコール等の高級アルコール；あるいは
上記脂肪酸のビニル化合物等が例示できる。また、上記
高分子化合物としては、種々の高分子が使用できるが、
天然ペプチド、合成ポリペプチド等が好ましく、所望す
る官能基に応じて適宜選択することができる。

なお、上記ポリペプチドは、直鎖状、環状ポリペプチド
であってもよい。上記ポリペプチドのうち、特に、正電
荷を有するポリリジンやポリオルニチンのポリアミノ酸
が好ましい。これらは、表面に負の電荷を有する前記細
胞の接着を促進する。

また、上記基材を被覆する累積膜は、紫外線、電子線ま
たはイオン照射により部分的に処理されているのが好ま
しい。前記累積膜を上記紫外線、電子線またはイオン照
射処理する方法は、前記基材の表面処理と同じく、いず
れも慣用の手段が用いられる。これらの表面処理により
、細胞との接着に関与する前記官能基の分布を制御する
ことができる。すなわち、前記累積膜の表面に、カルボ
キシ基、カルボニル基、ヒドロパーオキシド基等の官能
基が導入され、親水性の程度の異なる部分を微細模様状
に形成できるので、細胞を安定した形態、配列で基材の
累積膜上に接着させ、ひいては細胞の伸展、増殖を促進
することができる。

なお、紫外線等を部分的に照射する場合、格子状、縞模
様、水玉模様等の微細模様に照射することにより、上記
効果をさらに増進できる有用な表面を形成することがで
きる。また、エキシマレーザおよび電子線は、短時間に
高いエネルギーを前記累積膜に与え、累積膜を化学的に
大きく改質できる他、累積膜表面を微細な凹凸状に微細
加工する物理的改質もできるので、細胞の物質代謝をも
促進できるという利点がある。

なお、上記微細模様は、適宜の手段により形成すること
ができ、例えば、フォトマスクを使用して前記紫外線等
を照射したり、レーザ、電子線を操作することにより、
上記微細模様状にミクロンオーダーの精度で所望の間隔
を有する模様状に描くことができる。

この発明の細胞培養用基材は、種々の細胞の培養に使用
することができ、細胞の種類は特に限定されず生体由来
細胞、ハイブリドーマ−等が挙げられ、例えば、チャイ
ニーズハムスター肺由来細胞ｖ−７９、ヒト子宮癌由来
細胞ＨｅＬａ、ヒト胎児肺由来細胞ＭＲＣ−５、ヒト肝
由来細胞Ｃｈａｎｇ　Ｌｉｖｅｒ　、ヒト肺由来正二倍
体線維芽細胞ＩＲＣ−９０、ヒトリンパ腫由来ナマルバ
細胞等が例示される。

また、この発明の細胞培養用基材を用いて動物細胞を培
養する場合、培養する細胞の種類に応じて種々の培養液
が用いられ、細胞の増殖に適した至適温度、ｐＨ等の条
件で培養が行なわれる。

本発明の細胞培養用基材は、従来公知の種々のモジュー
ルにて、動物細胞の増殖に適用できる。

本発明の細胞培養基材としてフィルム状基材を用いたモ
ジュールの一例を、添付図面に基づいて説明すると以下
の通りである。

添付図面に示す細胞培養器は、サポートスクリーン■上
に載置されたフィルム状細胞培養用基材（１）の両端が
、ポリカーボネート等からなるハウジング（３）内の両
側に設けられたスペーサ（６）により保持されている。

また、上記ハウジング（３）には、増殖させる細胞懸濁
液をハウジング（３）内に満すための孔（４）が設けら
れていると共に、培養液を濯流させるための管（５）が
取付られている。なお、」二記孔（４）は、細菌等が侵
入するのを防止するため、フィルター付きの蓋（７）で
被冠されている。

上記の細胞培養器を用いて細胞を増殖させるには、上記
孔（４）から細胞懸濁液を注入して細胞を前記基材（１
）上に接着させると共に、前記孔（４）をフィルター付
きの上記蓋（７）で被冠し、所定の培養条件の下、上記
培養液を前記管（５）を通じて所定時間濯流させること
により行なわれる。

〈実施例〉 以下、実施例に基づいてこの発明をより詳細に説明する
。

実施例１および比較例 ポリスルホン（ＵＣＣ社製、　Ｕ　ｄ　ｅ　Ｉ　　Ｐ１
７００）の厚さ５０μ履のフィルムを４５ｍ＋ｎφの円
形に打抜き、１３．５６Ｍ１ｌｚの高周波電源を有する
ペルジャー型プラズマ装置に設置し、アンモニアガスを
１Ｏｃｃ／分で流しながら、放電出力６０Ｗ、圧力０．
３５Ｔｏｒｒ、処理時間１０分の条件で処理した。一方
、ポリリジン（分子量４．０００−１５．０００）の酢
酸アンモニウム溶液（ａ度０．０１ｗｔ％）を清浄な水
面に滴下し、表面圧を０．２ｄｙｎｃ／ｃｍに保って単
分子膜を形成した。この単分子膜を上述の処理フィルム
面上に水平付管法によって移し取り、この操作を１０回
繰り返すことでその累積膜を積層した複合膜を得た。こ
の時、累積膜は、ポリスルホンフィルム上に強固に密着
していた。この複合膜を４５ｎｖｎφのガラスシャーレ
にセットし、高圧蒸気滅菌後、ヒト由来子宮頚部癌細胞
（１Ｉｅｌａｓ　−３）を培養した。培養液は、ｌＯ％
牛脂児血清を含むイーグルＭＥＭ培地で、培養液１１当
たり２　Ｘ　１０４個の培養細胞を播種し、５％炭酸ガ
ス、９５％空気雰囲気の温度３７℃の環境下、３日間の
培養を行なったところ、培養液１　ｍｌ当たり２．２Ｘ
１０５個の細胞数となり、良好な増殖が観察された。

一方、ポリスルホンフィルムをそのまま用いたほかは、
上記実施例と同様に試験を行った比較例では培養液１　
ｍｌ当たり平均１．２　ｘｌＱｓ個の細胞数となった。

実施例２ ポリエーテルイミド（エンジニアリングプラスチック社
販売、　ＵＬＴＥＭ　）をＮ−メチル−２−ピロリドン
に溶解し、１８重量％溶液を調整した。この溶液をガラ
ス板上にドクターナイフで厚さ３００μ量に流延し、一
定時間放置後、ガラス板ごと温度１５℃に保たれたＮ−
メチル−２−ピロリドン５％水溶液中に浸漬し凝固させ
、多孔質フィルムを得た。

この多孔質フィルムを５０　ｍｍφの円形に打抜き、低
圧水銀灯を使用して５ｃ１１の距離から１時間紫外線を
照射した。一方、ポリ（γ−ベンジルーし一グルタメー
ト）（分子量１５．０００−３０．０００）の酢酸アン
モニウム溶液（濃度０．０１ｖｔ％）を清浄な水面に滴
下し、表面圧を０．２ｄｙｎｅ／ｃｍに保って単分子膜
を形成した。

この単分子膜を上述の処理フィルム面上に水平付管法に
よって移し取り、この操作を１０回繰り返すことで、そ
の累積膜を積層した複合膜を得た。この時、累積膜は、
ポリエーテルイミド多孔質フィルムに強固に密着してい
た。この複合膜を添付図面に示す細胞培養器（内径４７
ｍｍφ）に装着し、全体を高圧蒸気滅菌後、孔（４）か
らハムスター仔腎由来細胞（Ｂ　ＨＫ−２１）のイーグ
ルＭＥＭ（１０％牛脂児血清添加）懸濁液（細胞数２．
ｌＸ１θ４個／　ｍｌ　）を満した。孔（４）には細菌
をカットするフィルター付きの蓋（７）をし、管（５）
を通して新鮮なイーグルＭＥＭ培地を潅流し、３７℃で
１週間培養を行なった。

培養終了後、フィルムに付着している細胞をトリプシン
−ＥＤＴＡ溶液で分離し、細胞数を計算したところ１．
４Ｘ１０５個／　ｍｌであった。

〈発明の効果〉 以上のように、この発明の細胞培養用基材によれば、高
分子基材が表面処理されているので、高分子基材表面に
累積膜との接着性に寄与する多くの官能基が導入されて
おり、上記高分子基材と、単分子膜の累積膜との接着性
に優れるだけでなく、上記累積膜を細胞の接着に適した
構造に制御できる。また、高分子基材と強固に接着し、
構造が制御された上記累積膜は配向性を有するので、細
胞との接着性並びに細胞の伸展性および増殖性に優れ、
高密度かつ長期間の細胞培養が可能になるという特有の
効果を奏する。従って、この発明の細胞培養用基材は、
動物細胞の培養によるホルモン等の有用物の生産システ
ムに利用できる他、例えばインスリン産生細胞を基材表
面に接着、培養することにより人工膵臓が形成できるよ
うに人工臓器の構築に利用できる。

【図面の簡単な説明】

添付図面は本発明の細胞培養用基材を用いた細胞培養器
の一例を示す断面図である。 （１）・・・細胞培養用基材、（２）・・・サポートス
クリーン、［３）・・・ハウジング、（４）・・・孔、
（５）・・・管。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、表面処理された高分子基材の表面に、 単分子膜の累積膜が被覆されていること を特徴とする細胞培養用基材。 ２、高分子基材が、プラズマ、スパッタリ ング、紫外線、電子線、γ線、イオン、 オゾンおよび化学処理のいずれかにより 表面処理されている上記特許請求の範囲 第１項記載の細胞培養用基材。 ３、高分子基材が多孔性である上記特許請 求の範囲第１項記載の細胞培養用基材。 ４、高分子基材が中空糸である上記特許請 求の範囲第１項記載の細胞培養用基材。 ５、単分子膜の累積膜が、ポリペプチドか らなる上記特許請求の範囲第１項記載の 細胞培養用基材。 ６、単分子膜の累積膜が、紫外線、電子線 またはイオン照射により部分的に処理さ れている上記特許請求の範囲第１項また は第５項のいずれかに記載の細胞培養用 基材。 ７、単分子膜の累積膜が、格子模様状に処 理されている上記特許請求の範囲第６項 記載の細胞培養用基材。 ８、単分子膜の累積膜が、縞模様状に処理 されている上記特許請求の範囲第６項記 載の細胞培養用基材。 ９、単分子膜の累積膜が、水玉模様状に処 理されている上記特許請求の範囲第６項 記載の細胞培養用基材。