JPS63201149A - ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−ヘキサフルオルプロパンの反応生成物の製造方法並びにそれの新規誘導体 - Google Patents

２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−ヘキサフルオルプロパンの反応生成物の製造方法並びにそれの新規誘導体

Info

Publication number
JPS63201149A
JPS63201149A JP63026738A JP2673888A JPS63201149A JP S63201149 A JPS63201149 A JP S63201149A JP 63026738 A JP63026738 A JP 63026738A JP 2673888 A JP2673888 A JP 2673888A JP S63201149 A JPS63201149 A JP S63201149A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bis
hexafluoropropane
group
formula
nitrophenyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63026738A
Other languages
English (en)
Inventor
クラウス−アルベルト・シユナイデル
ギユンテル・ジーゲムント
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPS63201149A publication Critical patent/JPS63201149A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C25/18—Polycyclic aromatic halogenated hydrocarbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ２．２−ビス〔３−アミノ−４−（４−フェノキシアニ
リノ）−フェニル〕へキサフルオルプロパン並びに２．
２−ビス（３−アミノ−４−アニリノフェニル）−へキ
サフルオルプロパンが２．２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）へキサフルオルプローパンから製造できること
は公知である（Ｋ、Ｓ、Ｙ、　ＬＵＡ、＾ル。
ＬＡＮＤＩＳ、　Ｗ、Ｊ、ＫＥＬＬＥＧＨＡＮおよびＣ
，Ｄ、ＢＢＡＲＤ、　Ｊ。
Ｐｏ１ｙｓ、　　５ｃｉ−＋　　Ｐｏｌｙｍ、　　Ｃｈ
ｅｓ＋、　　Ｅｄ、２０＋　　Ｘ３ｊＱｓ　　（９）、
第２３８１〜９３頁およびに、Ｓ、Ｙ、　ＬＵＡ、　Ｗ
、Ｊ、ＫＩＥＬＬＥＩＪＡＮ。
Ｒ，Ｈ，ＢＯＳＣ）ＩＡＮおよびＮ、　ＢＩＬＯＷ、　
Ｊ、Ｐｏｌｙｍ、Ｓｅｔ、。
Ｐｏｌｙｍ、　Ｃｈｅ＋ｓ、　Ｅｄ、２１．　■門、（
１０）、第３００９〜１１．１４および２１頁〕、この
場合、原料の２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
へキサフルオルプロパンの両方のフェノール基は取扱が
困難で且つ高価なトリフルオルメタン−スルホン酸無水
物を使用しながらＣＰｓ−Ｓｏｗ−０−（）リフラド（
＝ｔｒｉｆｌａｔｅ））基に転化される。続く方法段階
で、こうして製造されたジー　トリフラドをニトロ化用
酸にて１００℃のもとて２．２−ビス（３−ニトロ−４
−トリフラドフェニル）へキサフルオロプロパンに転化
する。従って、トリフラド基は公知のように非常に容易
にはずれ得る基であるので、求核的攻撃に対して強い活
性の場所が芳香族環に生じる。
次に第三の方法段階において両方のトリフラド基が求核
的置換反応において各二つの４−フェノキシアニリノ−
またはアニリノ基に交換される。
最後の方法段階において両方のニトロ基の接触的還元に
よって相応する芳香族テトラミンが遊離される。
上記の方法の欠点は、特に工業的規模で製造する際に、
トリフルオルメタンスルホン酸無水物との制御困難な反
応並びに１００℃でのニトロ化用酸でのニトロ化反応で
ある。トリフルオルメタンスルホン酸無水物の価格、特
にこの危険な化学薬品を取り扱こと並びに危険を伴う熱
いニトロ化用酸を取り扱ことから、方法を改善すること
が望まれている。
本発明者は驚くべきことに、公知の化合物の２．２−ビ
ス（３−アミノ−４−アニリノフェニル）へキサフルオ
ルプロパンおよび２．２−ビス〔３−アミノ−４−（４
−フェノキシアニリノ）−フェニル〕−へキサフルオル
プロパンおよび他の芳香族テトラミンが上記の欠点が回
避された方法で製造できることを見出した。この新規な
方法の基本的な化合物はＲ３が水素原子またはＮ（ｈで
ありそしてＲ４がＯＭｅｓ　（１）、０Ｔｏｓ　（２）
　　または０Ｂｒｏｓ　（３）である式■（請求項１５
参照）の新規な中間生成物である。この場合、Ｍｅｓは
メタスルホニル残基を意味し、ＴＯ３はトルエンスルホ
ニル残基でそしてＢｒｏｓはブロモフェニルスルホニル
残基を意味する。
Ｒ３がＮＯ□を意味する容易に製造できる式■の化合物
は、少なくとも一つの遊離水素原子を未だ有している求
核部と反応させることができる。
求核部としてはなかでも第一および第二アミン、例えば
アニリン、フェノキシアニリン、核に未だ全部で１〜４
の炭素原子を持つ三つまでの置換基−例えばアルキル基
および／またはアルコキシ基□を持つアニリン誘導体ま
たは他の電子供与性置換基、例えば臭素原子および／ま
たは塩素原子、またはそれの代わりにトリフルオルメチ
ル基の如き電子求引性置換基を含有するアニリン誘導体
並びにメルカプタンが適している。アミン類の内、Ｒ１
が窒素原子に未だ水素原子が結合しているアミン残基で
ある式Ｉ（請求項１参照）の化合物を形成するので、第
一アミンが特に有利である。詳細には以下のものを例示
することができる：種々のトルイジン、キシリジン、エ
チル−、プロピル−およびプチルアニリンまたはシモー
ルのアミノ誘導体、更には種々のメトキシ−、エトキシ
−、プロポキシ−およびブトキシアニリン□何れの場合
もプロピル−およびブチル残基の異性体の形も含まれる
、要するに例えばクモールのアミノ誘導体、要するに核
の所にハロゲンを持つそれの臭素化−および塩素化誘導
体−０特に有利なのは、無置換のまたは一つだけ置換基
を持つ化合物であり、置換基を持つ化合物の内では、４
−メトキシアニリンの如くｐ−位に置換基を持つものが
特に好ましい。適するアミンにはシクロヘキシルアミン
、ベンジルアミンの水素化生成物および炭素原子数１０
までのこれらアミン類のアルキル誘導体であり、その際
アルキル誘導体のアルキル基はメチル基、エチル基、ｎ
−および１ｓｏ−プロピル基あるいは種々のブチル基の
内の一つ以上である。別の適する化合物にはトリフルオ
ルメチルアニリン、特に４−トリフルオルメチルアニリ
ン、ベンジルアミン、チオフェノールおよびベンジルメ
ルカプタンである。何れの場合にも芳香族環の所への求
核攻撃が行われ、その際メジラード−あるいはトシラー
トあるいはプロシラート基が除かれる。
それ故に本発明の対象は、式Ｉ ＣＦ。
〔式中、ＲＩはＮＯ！またはＮＨ，でありそしてＲ”４
よ全部で最高１０個の炭素原子を持つ一要するに、メチ
ル基、エチル基、ｎ−および１ｓｏ−プロピル基あるい
は種々のブチル基の内の一つ以上を含有している一６員
環の脂環式アミンの残基；ベンジルアミン残基；アニリ
ン残基−この残基は置換されていなくともまたはアルキ
ル基、アルコキシ基、塩素原子および臭素原子の群の内
の三個までの置換基（そのうちの最高二つがハロゲン原
子でそして最高一つがアルコキシ基であってもよい）お
よび全部で最高１０個の炭素原子を持っているか、また
はトリフルオルメチル−またはフェノキシ基を含有して
いる□；フェニルメルカプト残基またはベンジルメルカ
プト残基を意味する。〕 で表される化合物を製造するに当たって、ａｔ）２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へキサフルオルプロ
パンをメシル−、トシル−あるいはプロシルハロゲニド
と反応させて中間生成物の２，２−ビス（４−メシルオ
キシフェニル）−へキサフルオルプロパン、２．２−ビ
ス（４−トシルオキシフェニル）−へキサフルオルプロ
パンあるいは２．２−ビス（４−プロシルオキシフェニ
ル）−へキサフルオルプロパン−Ｈｚが水素原子の式■
の化合物−を得、次いでこれを硝酸でニトロ化して中間
段階の２，２−ビス（４−メシルオキシ−３−ニトロ−
フェニル）−へキサフルオルプロパン、２．２−ビス（
３−ニトロ−４−トシルオキシフェニル）−へキサフル
オルプロパンあるいは２，２−ビス（４−プロシルオキ
シ−３−ニトロフェニル）−へキサフルオルプロパン□
Ｒ３がＮＯ，の式■の化合物□を得るかまたは ａｘ）２．２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ニトロフェ
ニル）−へキサフルオルプロパンをメシル−、トシル−
あるいはプロシルハロゲニドと反応させてａｔ）に記載
の中間段階の２．２−ビス（４−メシルオキシ−３−ニ
トロフェニル）−へキサフルオルプロパン、２，２−ビ
ス（３−二トロー４−トシルオキシフェニル）−へキサ
フルオルプロパンあるいは２．２−ビス（４−プロシル
オキシ−３−二トロフェニル）−へキサフルオルプロパ
ン−１３がＮＯ□の式■の化合物−としそしてｂ）　　
次いでこれをＲ２の意味に相当するアミン、チオフェノ
ール、あるいはベンジルメルカプタンと反応させてＲ１
がＮｏｔを意味する式■の化合物とし、 その際、メシル−、トシル−あるいはプロシルハロゲニ
ドのハロゲンが３５〜８０の原子量を持ち一要するに塩
素原子または臭素原子であり□そして ｃ）　　ｂ）に従って得られた化合物を単離するかまた
は接触的に水素化してＲ１がＮＨ２を意味する式Ｉの化
合物とする ことを特徴とする、式Ｉの化合物の製造方法である。
本発明の対象はＲ１がＮＯ！またはＮＨｌでありそして
Ｈｔが上記の意味を有するがアニリノ基およびフェノキ
シアニリノ基と相違する式■の化合物でもある。
更に本発明の対象は、式■ ＣＦ３ ｒ式中、Ｒ１が水素原子またはＮＯ８でありそしてＲ４
が０Ｔｏｓまたは０Ｂｒｏｓ　％殊にＯＭｅｓを意味す
る。〕 で表される化合物並びに、 α）２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−へキサ
フルオルプロパンあるいは２．２−ビス（４−ヒトｏ−
１−シー３−ニトロフェニル）−へキサフルオルプロパ
ンをメシル−、トシル−あるいはプロジルクロライドま
たは一プマイドと反応させるかまたは β）２，２−ビス（４−メシルオキシフェニル）−また
は２．２−ビス（４−トシルオキシフェニル）−または
２．２−ビス（４−プロシルオキシフェニル）へキサフ
ルオルプロパンを硝酸にてニトロ化する ことを特徴とする、ことを特徴とする上記式■の化合物
の製造方法である。　一 本発明の方法によって、容易に入手し得る２゜２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−へキサフルオルプロパン
（ビスフェノール八Ｆ）から種々の方法で新規の２．２
−ビス（４−メシルオキシ−あるいは２．２−ビス（４
−トシルオキシ−あるいは２．２−ビス（４−プロシル
オキシ−３−ニトロフェニル）−へキサフルオルプロパ
ンあるいは、芳香族系置換反応に適した新規の反応性の
中間生成物としての３−位の所で置換されていないそれ
ぞれの類似化合物が得られる。これらは芳香族系ジーお
よびトリアミンを合成する為の特に有利な原料である。
本発明の特別な長所は、式■のニトロ化合物（ｉ、刊お
よび■）を二つだけの方法段階でビスフェノールＡＦを
原料として、しかも硝酸でのニトロ化反応およびメシル
−、トシル−あるいはプロシルハロゲニド、殊に−クロ
ライドとの反応によって−これらの反応は任意の順序で
よい□製造できることである。両方のルートは原理的に
均等である（後記式１参照）、可能なルートの一つの場
合には、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−へ
キサフルオルプロパンを、フェノールの核に唯一つのニ
トロ基を導入する為に慣用されている如き条件のもとて
−特に好ましくは半濃厚硝酸にてｍ；トロ化して２゜２
−ビス（４−ヒドロキシ−３−ニトロフェニル）−へキ
サフルオルプロパンエとし、二番目の方法段階で通例の
方法で塩基、例えば第三アミン−例えばトリエチル−、
トリプロピル−、トリイソプロピル〜および種りのトリ
ブチルアミンの一つ−、殊にピリジンの存在下に相応す
る酸ハロゲニドと反応させて中間生成物且、■および■
を得る。また、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）−へキサフルオルプロパンエを通例の条件下に塩基の
存在下に相応する酸ハロゲニドと反応させ、次いでその
生成物をフェノール類のエステルの核に唯一つのニトロ
基を導入する為に慣用されている如き条件のもとて□特
に好ましくは半濃厚硝酸と一反応させて同じ生成物工、
刊およびＵを得ることもできる。個々の反応段階の軟率
は全て８０〜９５χである。
式■の３−二トロ化合物は、本発明に従って沢山の第一
、および第二アミン類、チオフェノールまたはベンジル
メルカプタン□これらは安価で且つ簡単に取り扱うこと
ができる□との求核性芳香族置換反応によってメシルオ
キシ−、トシルオキシ−あるいはプロシルオキシ基と交
換しながら反応して得られる興味のある一多くは新規の
□沢山の第２式に示した芳香族化合物である０代表例と
して豆を用いる唯一つの反応を示しである。式■の３−
二トロ化合物をアニリンあるいは４−フェノキシアニリ
ンと反応させる場合には、接触的に水素化反応の後に、
別の方法でも製造された既に公知の２．２−ビス（３−
アミノ−４−アニリノフェニル）へキサフルオルプロパ
ンあるいは２．２−ビス〔３−アミノ〜４（４−フェノ
キシ−アニリノ）フェニル〕−へキサフルオルプロパン
が得られる。これら両方の公知の化合物の他に、請求項
１に記載の本発明の方法は沢山の新規の芳香族テトラミ
ン類並びにジアミノジメルカプト化合物をもたらす。
本発明の方法は、メシルクロライドが液体であのでこれ
を用いて実施するのが特に有利であり、式１，２および
３に記載しである。
相応するテトラアミノ−あるいはジアミノジメルカプト
化合物を得る為には、式２に記載したジニトロ化合物を
通例の水素化条件のもとて水素で接触的に、例えば炭素
の如き担体に白金−、パラジウム−またはニッケル触媒
を担持させた担持触媒を用いて還元する（式３参照）。
こうして製造される中間段階および最終生成物、例えば
２．２−ビス（４−メシルオキシフェニル）へキサフル
オルプロパン、２，２−ビス（４−メシルオキシ−３−
ニトロフェニル）へキサフルオルプロパン、相応する式
■のトシル−あるいはプロシル類似化合物（請求項１５
参照）あるいは一般式Ｉの化合物（請求項８参照）は新
規の化合物である。この種の弗素化された芳香族系のジ
ーあるいはテトラアミン類はポリベンズイミドチアゾー
ル類およびポリベンズイミダゾール類の価値ある単量体
である。ヘキサフルオルイソプロピリデン単位を導入す
ることは、か＼る重合体の場合には、熱安定性および誘
電特性の如き種々の物理的あるいは物理化学的性質の極
端な改善をもたらす。
以下で最初に変法ａり用の出発化合物の製造を、その後
に本発明の方法の実施をそして本発明の化合物の製造を
説明する。用いるエタノールは９６χの純度であるａ　
Ｍ、ｐ、は融点を意味する。
・　　ａ　　　の　　　　ム ２．２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ニトロフェニル）
ヘキサフルオルプロパン： ３０２．４ｇ（０，９モル）のビスフェノールＡＰと１
．０００−のクロロホルムとの混合物に１５〜２５℃の
反応温度のもとで強力な攪拌下に、４３９　ｍの９０χ
濃度硝酸と５６１ｄの水とから製造される希硝酸９２４
ｇを滴加する。この温度のもとて反応が完了するまで１
時間後反応させる６次いで有機相を分離し、水性相をジ
クロロメタンで三回抽出処理する。−緒にした有機相を
炭酸水素ナトリウム溶液で中性に成るまで洗浄し、Ｍｇ
５Ｏａで乾燥する。溶剤を除いた後に粗生成物として４
２７ｇの粘性油が得られ、このものからエタノールで再
結晶処理した後に３２２ｇ　（８４χの枚重）の２゜２
−ヒス（４−ヒドロキシ−３−ニトロフェニル）へキサ
フルオルプロパンを単離する。融点は１１６〜１１９°
Ｃである。
ＩＲ（ＫＢｒ）：　　Ｊ／＝　１５４０．１３４０ｃｓ
＋−’（ＮＯｔ）　、１２８０〜１１４０Ｃ１＋−’（
ＣＦ３）　。
’ＩＩ（ＣＤＣＩ＋）：　　δ・１０．７（ｓ、広い；
２Ｈ，ヒドロキシル）　、８．３（ｄ＋　’Ｊｌｌ、Ｈ
＝　２Ｈｚ、２Ｈ＋芳香族）、７．６（ｄ＋ｄ、３ＪＨ
，ｎ　＝　９Ｈ２１’Ｊ１１．Ｈ＝　２Ｈ２，２Ｈ２゜
２Ｈ，芳香族）　、７．３（ｃＬ３Ｊｏ、ｎ　＝　９Ｈ
ｚ、２Ｈ。
芳香族） ｌ″Ｃ（ＣＤＣｈ）：　　　δ＝　　１５５．５　　、
１３Ｂ、１　　、１３３．３　　、１２６．９．１２４
．３．１２０．８（芳香族）、１２３゜４（ｑ、　′Ｊ
Ｃ＋　ｒ　□　２８７ｆｌｚ　、　ＣＦ３）、６３．３
（ｓｅｐｔ。
”ＪＣ，Ｆ　＝　２８Ｈｚ、　Ｃ（Ｃｈ）　ｔｅａ”Ｆ
（ＣＤＣＩ、）：　δ＝　−６４，７（ＣＦ、）。
ル）−へキサフルオルプロパン 幻−２１，３ｇ（０，０５モル）の２，２−ビス（４−
ヒドロキシ−３−ニトロフェニル）へキサフルオルプロ
パンと１００ｍのピリジンとの混合物に０〜５°Ｃの反
応温度のもとで１１．５ｇ（０，１モル）のメタンスル
ホン酸クロライドを滴加する。５°Ｃで１時間、室温で
一晩後攪拌する０次いでこの反応混合物を最初に希塩酸
で、次に半部塩酸で酸性にする。
生じる沈澱物を吸引濾過しそして水で中性に成るまで洗
浄する。次にこの粗生成物（２９，３ｇ）をトルエンで
再結晶処理して、２４．８ｇの分析用純度の２．２−ビ
ス（４−メシルオキシ−３−二トロフェニル）−へキサ
フルオルプロパンを単離することができる。枚重　８５
χ、融点１１９〜１２１″Ｃ０ＩＲ（ＫＢｒ）：　　ｖ
＝　　１５４０、１３４０ｃｍ−’（Ｎｏｔ）　　、　
１３６０．１０９１０９Ｏ’　（−ＳＯｚＯ−）、　１
２８０〜１１４０ｃｍ−’　（ＣＦｓ）’Ｈ（ＣＤＣＩ
ｓ）　：δ＝　８．０＋ｍｓ、　２Ｈ，芳香族）　、７
．６（ｌｌｓ。
４Ｈ，芳香族）、３．４（ｓ、　６Ｈ，Ｃｌｌ５）。
■　別の方法で、６８．９ｇ　（０，１４モル）の２．
２−ビス（４−メシルオキシフェニル）−へキサフルオ
ルプロパンを０〜ＩＯ℃の反応温度ものとで９０１ｄの
９８χ濃度硝酸中に回分的に導入する０次いで一晩室温
で後攪拌する。氷水を用いて加水分解した後に有機相を
分離し、水性相をジクロロメタンで四回抽出処理する。
−緒にした有機相を炭酸水素ナトリウム溶液で中性に成
るまで洗浄し、Ｍｇ５Ｑ、で乾燥する。溶剤の除去およ
び際結晶処理の後に７５ｇ　（９２χの枚重）の２．２
−ビス（４−メシルオキシ−３−二トロフェニル）−へ
キサフルオルプロパンが得られる。
２）　２．２−ビス（４−メシルオキシフェニル）へキ
サフルオルプロパン １００　ｊｄのピリジンに１６．８ｇ（０，０５モル）
のビスフェノールＡＰを溶解した溶液に０〜５℃の反応
温度で１１．８ｇ　（０，１モル）のメタスルホン酸ク
ロライドを滴加する０次いで５°Ｃで１時間、室温で一
晩後攪拌する０次にこの反応混合物を、生成物が沈澱す
る程多量の半部塩酸で酸性にする。
吸引濾過しそして水で洗浄した後に２４ｇの粗生成物が
得られ、これをトルエンで再結晶処理した後に２０．２
ｇ（８２χの枚重）の２，２−ビス（４−メシルオキシ
フェニル）−へキサフルオルプロパンを単離する。融点
１３６〜１３８℃。
ＩＲ（にＢｒ）　：　　ｖ　・１３７０ｃｍ−’　（−
５（ｈｏ−）、１２９０〜１１５０ｃｍ−’（ＣＦり　
。
’Ｈ（ＣＤＣＩｓ）　：δ−７−４（ｓｒｓ　ｒ　８Ｈ
＋芳香族）　、３．２（ｓ。
６１１、　　ＣＨｓ）− 測定値（χ”）　Ｃ４１，４：　Ｈ２，７、Ｐ　２３．
０、Ｓ１３゜３）　２．２−ビス（３−ニトロ−４−ト
シルオキシフェニル）へキサフルオルプロパン ３００　ｍのメチレンクロライドに４２．６ｇ　（０，
１モル）の２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−二トロ
フェニル）へキサフルオルプロパンおよび３９．１ｇ　
（０゜２０５モル）のｐ−）ルエンスルホン酸クロライ
ドを溶解した溶液を１１．５ｇ　（０，２０５モル）の
水酸化カリウムと混合する０次いでこの反応用混合物を
室温で５時間攪拌し、その際に混合物は橙黄色に着色す
る。沈澱する塩化カリウム（１６ｇ）の分離後に濾液を
Ｍｇ５（１４で乾燥する。溶剤の除去およびトルエンで
の再結晶処理の後に４３ｇの２゜２−ビス（３−ニトロ
−４−トシルオキシフェニル）へキサフルオルプロパン
を単離する。枚重５８χ。
融点２０６〜２０８°Ｃ０ ’　＋１　（ＤＭＳＯ）　：　δ・８〜７．３（ｍ、　
１４８．芳香族）　、２．４（ｓ。
６Ｈ，２ＣＨｓ）。
１９Ｐ（ＤＭＳＯ）：δ−−６３，１（ｓ、　　２　Ｃ
Ｆ、）　　。
４１２．２−ビス（４−アニリノ−３−ニトロフェニル
）−へキサフルオルプロパンの製造 Ａ）　４００ａｄのアセトニトリルに６０ｇ　（０，１
０３モル）の２．２−ビス（４−メシルオキシ−３−二
トロフェニル）−へキサフルオルプロパンおよび１２２
．８ｇ（１，３２モル）のアニリンを溶解した溶液を還
流下に４時間加熱する。その際にアニリンのメタンスル
ホン酸塩が沈澱する。これを吸引濾過によって分離除去
する。濾液から減圧下での蒸留によって溶剤および過剰
のアニリンを除く、残渣をエタノールで再結晶処理した
後に４７．３ｇの２．２−ビス（４−アニリノ−３−ニ
トロフェニル）−へキサフルオルプロパン（枚重８０χ
）が得られる。融点１６５〜１６６°Ｃ０ ＩＲ（ＫＢｒ）：　　ｖ＝　３３’ｌＯｃｍ−’Ｃ広い
、Ｎｉ１）　、１５２０、１３４０ｃｍ−’（ＮＯｘ）
　　、１２８０〜１１５０ｃ＋ｓ−’（ＣＰｓ）　　。
’Ｈ（ＣＤＣ１３）：δ＝　９．６（ｓ、広い、　２　
ＩＩ、　ＮＨ）、８．３（ｍｃ。
２Ｎ、芳香族）、’１．３　（ｍｃ＋　１４Ｈｚ芳香族
）。
■　別の方法で、７．３ｇ（０，０１モル）の２．２−
ビス（３−ニトロ−４−トシルオキシフェニル）−へキ
サフルオルプロパン、１１．６ｇ　（０，１２５モル）
のアニリンおよび５０ｄのアセトニトリルを還流下に２
４時間加熱する。赤橙色の懸濁物を冷却した後に固体を
分離除去しそしてアセトニトリルで洗浄する。濾液を溶
剤の除去後にエタノールで二回再結晶処理する０次いで
６．３ｇの２．２−ビス（４−アニリノ−３−ニトロフ
ェニル）−へキサフルオルプロパン（枚重６５χ）が得
られる。
ω−２，２−ビス（３−アミノ−４−アニリノフェニル
）へキサフルオルプロパンの製造 ５００　ｄのクロムニッケル鋼製オートクレーブ中で３
４．６ｇ（０，０６モル）の２．２−ビス（３−アニリ
ノ−３−ニトロフェニル）−へキサフルオルプロパンを
２００ｍのエタノール中で２ｇのＰｄ／Ｃ（５重量％活
性炭）の触媒作用下に水素で還元する。濾過および粗生
成物（３０，７ｇｉ　ＩＩ−ＮＭＲによると純粋）の二
回の再結晶処理の後に１５．１ｇの分析用純度の２．２
−ビス（３−アミノ−４−アニリノフェニル）−へキサ
フルオルプロパン（牧率４９χ）が得られる。
融点は１７７〜１７８°Ｃであり、文献に記載された融
点（１２０°Ｃ）と相違する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：　　ｖ＝　３５５０〜２３５０ｃｔａ
−’Ｃ広い、ＮＨｌＮｉｌ、）、１２８０〜１１２０ｃ
ｍ−’　（Ｃｈ）。
’Ｈ（ＣＤＣ１３）　：δ−７，０（ｎ＋ｃ、　１６８
　、芳香族）　、５．３（ｓ。
広い、’ｌ　Ｈ、ＮＨｚ）。
ｆ１１２．２−ビス（４−ベンジルアミノ−３−ニトロ
フェニル）−ヘキサフルオルプロパン ７００　ｄのアセトニトリルに５８．４ｇ（０，１モル
）の２．２−ビス（４−メシルオキシ−３−ニトロフェ
ニル）−へキサフルオルプロパンを溶解した溶液に２０
〜３０°Ｃの反応温度のもとで、１００　ｄのアセトニ
トリルに１０７．１ｇ（１モル）のベンジルアミンを溶
解した溶液を滴加する。弱い発熱反応が衰退した後に反
応を完結させる為に更に４時間還流下に煮沸する０反応
混合物を冷却した際に生成物が沈澱する。吸引濾過およ
びエタノールでの再結晶処理の後に４０．７ｇ（６７χ
の牧率）の２．２−ビス（４−ベンジルアミノ−３−ニ
トロフェニル）−へキサフルオルプロパンが得られる。
融点１６８〜１７２°Ｃ０この融点は、昇華を避ける為
に、密封された溶融用管中で測定した。
ＩＲ（にＢｒ）：　　！／＝　３６１０〜２２５０ｃｍ
−’（ＮＯ）、１５３５．１３５０ｃｍ−’（Ｎｏｔ）
　、１２９０〜ｌｌｌ０Ｃ１１−’（ＣＦり　。
’ＩＩ（ＤＭＳＯ）：　δ雪？、８（ｄ＋　’Ｊｗ、１
４”　２ｏｚ、２ｏ、芳香族）、７．４（＋ｗｃ、１０
　ＩＩ、芳香族）、？、０（ｄｄ、　’ＪＨ，ｎ”　１
０Ｈ２，’ＪＨ，Ｈ＝　２８２．２Ｈ，芳香族）、６．
６　（ｄ＋　”ＪＨ１Ｈ□１０Ｈｚ、２Ｎ、芳香族）、
４．０　（ｓ、　４　ＨＩ　Ｃｌり　＊”　Ｆ　（ＤＭ
ＳＯ）　、δ・−６３，４（Ｃｈ）。
ＣｔｑＨｚｔＰｂＮａＯａ：高分解モル−イオン−ピー
ク：計算値　６０４．１５３５ 測定値　６０４．１５４５゜ ■２．２−ビス（４−シクロへキシルアミノ−３−ニト
ロフェニル）へキサフルオルプロパンこの製造は実施例
６と同様に行う、融点２０５〜２０８°Ｃ０牧率９０χ
。
ＩＲ（ＫＢｒ）：　　ｖ＝　３４５０ｃＩＩ−’Ｃ広い
、ＮＨ）　、１５３０．１３６０ｃｍ−’（ＮＯ，）　
、１３００〜ｌ１２０ｃｍ−’（Ｃｈ）。
’　Ｈ（ＤＭＳＯ）　：　δ＝　７．８（ｄ＋’ＪＨ，
ｎ　＝　２Ｈ２１２Ｈ１芳香族）、７．４（ｓ、広い、
２　＋１　、ＮＨ）、６．９（ｄｄ、　’ＪＲ，。
−１０８２，’ＪＨＩＨ□　２Ｈｚ、　２１１　、芳香
族）、６．５（ｃＬ’ＪＨ，Ｈ＝１０Ｈｚ＋２Ｈ１芳香
族”）　、１．５（ｓｃ、　２２　Ｈｌ　　脂肪族）。
”　Ｆ　（ＤＭＳＯ）　、δ・−６３，４（ＣＦ、）。
旺２，２−ビス（４−フェニルメルカプト−３−ニトロ
フェニル）へキサフルオルプロパン １０．１ｇ（０，１モル）のトリエチルアミンおよび６
０Ｉｄのジクロロエタン中に２９．１ｇ　（０，０５モ
ル）ノ２．２−ビス（４−メシルオキシ−３−ニトロフ
エニル）ヘキサフルオルプロパンを溶解した溶液に２０
〜３０°Ｃの反応温度のもとで、４（ｌｄのジクロロメ
タンに１１．０ｇ（０，１モル）のチオフェノールを溶
解した溶液を滴加する。−晩後攪拌する０次いで反応混
合物を加水分解し、ジクロロメタンで三回抽出処理する
。精製した有機相を水で洗浄しそしてＭｇ５Ｏ，で乾燥
した後に、溶剤を蒸発によって除く。残渣をエタノール
で再結晶処理する（７４χの枚重）、融点１７６〜１７
８°Ｃ０ＩＲ（にＢｒ）：　　ｖ＝　１５２０．１３４
０ｃｍ＋−’（Ｎｏｔ）　、１３００〜１１１０Ｃ１１
−’（ＣＦ３）　。
’　Ｈ（ＣＤＣ１２）　：δ＝　８．２（ｄ、’ＪＨ，
ｗ　＝　２Ｈｚ、２１１．芳香族）、７．６（ｍｃ、　
１０　Ｈ１芳香族）、７．３（ｄ、広い、３ＪＨ５）ｌ
・８Ｈｚ＋　２Ｈ−、芳香族）　、６．８（ｄ。
’ＪＨ，１１□　８Ｈｚ、　２Ｈ，芳香族）。
”　Ｆ　（ＣＤＣＩ　３）　：　δ・−６４，６（ＣＦ
３）。
ｌ　　２．２−ビス（４−ベンジルメルカプト−３−ニ
トロフェニル）へキサフルオルプロパン １００　ｄのアセトニトリルに１３．６ｇ（０，１１モ
ル）のベンジルメルカプタンおよび１５．２ｇ（０，１
１モル）のに、ＣＯ３を懸濁させた懸濁物に室温で、２
９゜７ｇ　（０，０５１モル）の２．２−ビス（４−メ
シルオキシ−３−ニトロフェニル）−へキサフルオルプ
ロパンを滴加する。反応は弱い発熱反応である０反応混
合物が反応過程で常に粘性であるので、これを更に５０
１１１のアセトニトリルで希釈しなければならない０反
応を完結させる為に一晩後攪拌する０次いでこの反応混
合物を加水分解し、その後に最初にジクロロメタンでそ
して次いでジエチルエーテルで抽出処理する。−緒にし
た有機相をＦｉｇＳＯａで乾燥する。溶剤を留去しそし
て粗生成物をエタノールで再結晶処理した後に２１．５
ｇ（枚重６６χ）の２．２−ビス（４−ベンジルメルカ
プト−３−ニトロフェニル）へキサフルオルプロパンが
得られる。融点１２９〜１３０℃。
ＩＲ（にＢｒ）：　　ｖ＝　　１５２０、１３２５ｃｍ
−’（ＮＯｘ）　　、　１２８０〜１１５０　ｃｍ−’
（Ｃｈ）　。
’Ｈ（ＣＤＣＩｓ）：δ−８，３（ｓ、広い、２Ｈ，芳
香族）、７．５（ｍｓ、　１４　Ｈ，芳香族）、４．３
（ｓ　、４　Ｈ。
ＣＨｓ）　− 測定値（Ｘ）　Ｃ５４，５、Ｈ２，９、Ｆ　１７．５、
Ｎ　４．４　　、Ｓ　　１０．４ １ｔ２，２−ビス（３−アミノ−４−ベンジルメルカプ
トフェニル）へキサフルオルプロパンこの製造は実施例
５に記載のＰｄ／Ｃ使用の接触還元と同様に行う。
ＩＲ（ＫＢｒ）：　　　ｖ＝　　３６００〜２６００ｃ
ｍ−’（Ｎｕｔ）　　、　１３００〜１１２０　ｃａ＋
−’（ＣＦｘ）　。
’Ｈ（ＣＤＣｈ）　：δ＝７．２（＋＋＋ｃ、　１２Ｌ
芳香族）　、６．６（ｍｓ。
４Ｈ，、芳香族）　、４．２　（ｓ、広い、４Ｂ。
Ｎ１１ｔ）　、３．９　（ｓ　、　４　Ｈ、ＣＨｚ）。
”Ｆ（ＣＤＣ１３）　：　δ＝−６３．８（Ｃｈ）。
式ｌ Ｌ　Ｈ２ＷＯ４Ｌ　Ｉ（ＮＯ３ 式２ 式３

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１はＮＯ＿２またはＮＨ＿２でありそして
    Ｒ＾２は全部で最高１０個の炭素原子を持つ６員環の脂
    環式アミンの残基、ベンジルアミン残基、アニリン残基
    −この残基は置換されていな くともまたはアルキル基、アルコキシ基、塩素原子およ
    び臭素原子の群の内の三個までの置換基（そのうちの最
    高二つがハロゲン原子でそして最高一つがアルコキシ基
    であってもよい）および全部で最高１０個の炭素原子を
    持つているか、またはトリフルオルメチル−またはフェ
    ノキシ基を含有している−、フェ ニルメルカプト残基またはベンジルメルカプト残基を意
    味する。〕 で表される化合物を製造するに当たって、 ａ＿１）２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキ
    サフルオルプロパンをメシル−、トシル−あるいはブロ
    シルハロゲニドと反応させて中間生成物の２，２−ビス
    （４−メシルオキシフェニル）ヘキサフルオルプロパン
    、２，２−ビス（４−トシルオキシフェニル）ヘキサフ
    ルオルプロパンあるいは２，２−ビス（４−ブロシルオ
    キシフェニル）ヘキサフルオルプロパンを得、次いでこ
    れを硝酸でニトロ化して中間段階の２，２−ビス（４−
    メシルオキシ−３−ニトロフェニル）ヘキサフルオルプ
    ロパン、２，２−ビス（３−ニトロ−４−トシルオキシ
    フェニル）ヘキサフルオルプロパンあるいは２，２−ビ
    ス（４−ブロシルオキシ−３−ニトロフェニル）ヘキサ
    フルオルプロパンを得るかまたは ａ＿２）２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ニトロフ
    ェニル）ヘキサフルオルプロパンをメシル−、トシル−
    あるいはブロシルハロゲニドと反応させてａ＿１）に記
    載の中間段階の２，２−ビス（４−メシルオキシ−３−
    ニトロフェニル）ヘキサフルオルプロパン、２，２−ビ
    ス（３−ニトロ−４−トシルオキシフェニル）ヘキサフ
    ルオルプロパンあるいは２，２−ビス（４−ブロシルオ
    キシ−３−ニトロフェニル）ヘキサフルオルプロパンと
    しそして ｂ）次いでこれをＲ＾２の意味に相当するアミン、チオ
    フェノール、あるいはベンジルメルカプタンと反応させ
    てＲ＾１がＮＯ＿２を意味する式 I の化合物とし、 その際、メシル−、トシル−あるいはブロシルハロゲニ
    ドのハロゲンが３５〜８０の原子量を持ちそして ｃ）ｂ）に従って得られた化合物を単離するかまたは接
    触的に水素化してＲ＾２がＮＨ＿２を意味する式 I の
    化合物とする ことを特徴とする、上記式 I の化合物の製造方法。 ２）Ｒ＾２がアミン基であり、その際窒素原子に未だ一
    つの水素原子が結合している請求項１に記載の方法。 ３）シクロヘキシル基およびアニリノ基が最高一つの置
    換基を環に有しており、その際一つの置換基が好ましく
    はｐ−位にある請求項１または２に記載の方法。 ４）Ｒ＾２がシクロヘキシルアミノ基、４−メトキシア
    ニリノ基、４−トリフルオルメチルアニリノ基またはベ
    ンジルアミン基である請求項１〜３項の何れか一つに記
    載の方法。 ５）Ｒ＾２がフェニルメルカプト−またはベンジルメル
    カプト残基である請求項１に記載の方法。 ６）メシル−、トシル−またはブロシルクロライドを用
    いる請求項１〜５の何れか一つに記載の方法。 ７）メシルクロライドを用いる請求項６に記載の方法。 ８）Ｒ＾１がＮＯ＿２またはＮＨ＿２を意味しそしてＲ
    ＾２が全部で最高１０個の炭素原子を持つ６員環の脂環
    式アミンの残基、ベンジルアミン残基、アニリン残基−
    この残基はアルキル基、アルコキシ基、塩素原子および
    臭素原子の群の内の少なくとも一つ、但し三個までの置
    換基（そのうちの最高二つがハロゲン原子でそして最高
    一つがアルコキシ基であってもよい）および全部で最高
    １０個の炭素原子を持つているか、またはトリフルオル
    メチル基を含有している−、フェニルメルカプト残基ま
    たはベンジルメルカプト残基を意味する請求項１に記載
    の式 I の化合物。 ９）Ｒ＾２がアミン基であり、その際窒素原子に未だ一
    つの水素原子が結合している請求項８に記載の化合物。 １０）シクロヘキシル基およびアニリノ基が最高一つの
    置換基を環に有しており、その際一つの置換基が好まし
    くはｐ−位にある請求項８または９に記載の化合物。 １１）Ｒ＾２がシクロヘキシルアミノ基、４−メトキシ
    アニリノ基、４−トリフルオルメチルアニリノ基または
    ベンジルアミン基である請求項８〜１０項の何れか一つ
    に記載の化合物。 １２）Ｒ＾２がフェニルメルカプト−またはベンジルメ
    ルカプト残基である請求項８に記載の化合物。 １３）メシル−、トシル−またはブロシルクロライドを
    用いる請求項９〜１２の何れか一つに記載の化合物。 １４）メシルクロライドを用いる請求項１３に記載の化
    合物。 １５）式II ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾３が水素原子またはＮＯ＿２でありそして
    Ｒ＾４がＯＴｏｓまたはＯＢｒｏｓ、殊にＯＭｅｓを意
    味する。〕 で表される化合物。 １６）請求項１５に記載の化合物を製造するに当たって
    、 α）２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフ
    ルオルプロパンあるいは２，２−ビス（４−ヒドロキシ
    −３−ニトロフェニル）ヘキサフルオルプロパンをメシ
    ル−、トシル−あるいはブロシルクロライドまたは−ブ
    マイドと反応させるかまたは β）２，２−ビス（４−メシルオキシフェニル）−また
    は２，２−ビス（４−トシルオキシフェニル）−または
    ２，２−ビス（４−ブロシルオキシフェニル）ヘキサフ
    ルオルプロパンを硝酸にてニトロ化することを特徴とす
    る、上記方法。
JP63026738A 1987-02-10 1988-02-09 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−ヘキサフルオルプロパンの反応生成物の製造方法並びにそれの新規誘導体 Pending JPS63201149A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19873704005 DE3704005A1 (de) 1987-02-10 1987-02-10 Verfahren zur herstellung von derivaten des 2,2-bis (4-hydroxyphenyl)hexafluorpropans sowie solche neuen derivate
DE3704005.7 1987-02-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63201149A true JPS63201149A (ja) 1988-08-19

Family

ID=6320622

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63026738A Pending JPS63201149A (ja) 1987-02-10 1988-02-09 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−ヘキサフルオルプロパンの反応生成物の製造方法並びにそれの新規誘導体

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5028728A (ja)
EP (1) EP0278414B1 (ja)
JP (1) JPS63201149A (ja)
KR (1) KR880009890A (ja)
CA (1) CA1320966C (ja)
DE (2) DE3704005A1 (ja)
ES (1) ES2058150T3 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01301653A (ja) * 1988-05-31 1989-12-05 Central Glass Co Ltd ２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造法
WO2001038290A1 (en) * 1999-11-26 2001-05-31 Daikin Industries, Ltd. Process for producing 2,2-bis(3,4-diaminophenyl)hexafluoropropane
KR20020089486A (ko) * 2000-04-25 2002-11-29 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 비스(4-하이드록시-3-니트로페닐) 화합물의 제조방법
KR100452339B1 (ko) * 2001-12-29 2004-10-08 주식회사 효성 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-1-펜타플루오로페닐-에탄 및그의 제조방법
JP2006516671A (ja) 2003-01-29 2006-07-06 グリーン， ツイード オブ デラウェア， インコーポレイテッド ペルフルオロエラストマー組成物のためのビスアミノフェニルベースの硬化剤および硬化促進剤ならびにアミジンベースの硬化剤および硬化促進剤
US7247749B2 (en) * 2003-01-29 2007-07-24 Greene, Tweed Of Delaware, Inc. Bisaminophenyl-based curatives and amidine-based curatives and cure accelerators for perfluoroelastomeric compositions
US7514506B2 (en) 2004-03-31 2009-04-07 Greene, Tweed Of Delaware, Inc. Fast curing fluoroelastomeric compositions, adhesive fluoroelastomeric compositions and methods for bonding fluoroelastomeric compositions
CN103102272A (zh) * 2013-02-04 2013-05-15 南京理工大学 一种2,2-双[（3-硝基-4-羟基）苯基]-六氟丙烷的制备方法
CN105712885B (zh) * 2014-12-18 2018-09-04 连云港市泰卓新材料有限公司 一种2,2-双(3-硝基-4-羟基苯基)六氟丙烷的精制工艺
KR102357048B1 (ko) * 2017-09-15 2022-02-08 다이킨 고교 가부시키가이샤 폴리벤조이미다졸, 그 전구체 폴리아미드 및 그것들의 제조 방법
CN112624930A (zh) * 2020-12-21 2021-04-09 上海如鲲新材料有限公司 一种2,2-双（4-氨基苯基）六氟丙烷的制备方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2034491A (en) * 1933-05-26 1936-03-17 Goodrich Co B F Antioxidant
US3346612A (en) * 1964-07-02 1967-10-10 Minnesota Mining & Mfg Perfluoroalkane sulfonate esters
JPS61189231A (ja) * 1985-02-15 1986-08-22 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd ４，４′−ジアミノジフエニルエタン誘導体の製造法

Also Published As

Publication number Publication date
DE3704005A1 (de) 1988-08-18
EP0278414B1 (de) 1993-08-11
DE3883020D1 (de) 1993-09-16
EP0278414A2 (de) 1988-08-17
US5028728A (en) 1991-07-02
KR880009890A (ko) 1988-10-05
CA1320966C (en) 1993-08-03
ES2058150T3 (es) 1994-11-01
EP0278414A3 (en) 1990-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63201149A (ja) ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−ヘキサフルオルプロパンの反応生成物の製造方法並びにそれの新規誘導体
CN104591959B (zh) 一种二苯乙烯类化合物的制备方法
US4758380A (en) Substituted 1,1,1-triaryl-2,2,2-trifluoroethanes and processes for their synthesis
JP2684409B2 (ja) シアノ基および／またはハロゲン原子で置換されたアニリン類の製造方法およびその製造のために使用される化合物
US5488163A (en) Process for the production of 4, 4'-(phenylene-diisopropyl)-bis(2, 6-dialkylanilines)
CN107573263B (zh) 一种ω-取代缩二脲类化合物的合成方法
US4987261A (en) Diaminoindane derivatives
JP2003221375A (ja) Ｎ−シアノエチル化されたオルトおよびメタトルエンジアミン組成物およびその製造方法
JPS6144A (ja) ビス（ｐ−アミノクミル）ベンゼン類の製造方法
JPH0140833B2 (ja)
JPS5970671A (ja) アリ−ルカルボスチリル誘導体
US3468896A (en) Method of preparing 2-pyridinealdoxime methochloride
JP2824807B2 (ja) ９，９′―ビス（アミノ―又はイミノフエニル）フルオレンの製法
JP2686947B2 (ja) ２−（フェニルウレイド）アミノフェノール類の製造方法
JP2526413B2 (ja) アルキレンジフェニルジスルホニルフルオライドおよびその合成方法
JPH11189573A (ja) ビスーｏ−アミノ（チオ）フェノールおよびその製造方法
JPS62149650A (ja) 芳香族ビスアニリン類の製造方法
JPS6322062A (ja) ケトン基またはアルデヒド基を含有する芳香族スルホンおよびその製造方法
US4065478A (en) Process for the manufacture of α,α'-aminonitroanthraquinones
JPS6377844A (ja) ｐ−ブロモアニリン類の製造法
JPS5899454A (ja) Ｎ−（１−メチルアルキリデン）アリ−ルアミン類の製造方法
JPS5934712B2 (ja) ７− ヒドロキシ −２− ニトロベンゾフラン ノ セイゾウホウ
JPS6391347A (ja) ヒドロキシアントラキノン誘導体の製造方法
JPS62234050A (ja) ９．１０−ビス（４−アミノフエニル）アントラセン及びその誘導体
JPS63141989A (ja) ホスフイン‐またはホスホン酸クロリドの製法