JPS63204503A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS63204503A JPS63204503A JP3617487A JP3617487A JPS63204503A JP S63204503 A JPS63204503 A JP S63204503A JP 3617487 A JP3617487 A JP 3617487A JP 3617487 A JP3617487 A JP 3617487A JP S63204503 A JPS63204503 A JP S63204503A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ピノ 顔朶上の利用分野
本発明１ＶＴｌ（（ビデオテープレコーダ］等に用いら
ｎる磁気ヘッドに関し、時にメタルテープ等の高抗磁力
ｔイする磁気記録媒体に用いて好適な複合型の磁気ヘッ
ドの製造方法に関する。
ｎる磁気ヘッドに関し、時にメタルテープ等の高抗磁力
ｔイする磁気記録媒体に用いて好適な複合型の磁気ヘッ
ドの製造方法に関する。
（ロ）従来のｆｊＬ術
現在、ぼ施用Ｖ ’ｒ Ｉ（に用いらｎている一録媒捧
（磁気テープ）は磁性粉末の主成分として、ＣＯ−γＦ
ｅｚｅｓから成るものが主に使用されているが、８ｉリ
ビデオｌＣ框抗磁力の高い（Ｈｃ＝１４００〜１．５０
００＋３ ）メタルテープが用いられている。そして把
録再生表減金小型化するためにに把録田嵐を尚のる心安
注がゐり、そのたりにｒｒＬ佃号の配録波長を坦かくす
ることが出来るｄｄ録媒体が心安でるる。
（磁気テープ）は磁性粉末の主成分として、ＣＯ−γＦ
ｅｚｅｓから成るものが主に使用されているが、８ｉリ
ビデオｌＣ框抗磁力の高い（Ｈｃ＝１４００〜１．５０
００＋３ ）メタルテープが用いられている。そして把
録再生表減金小型化するためにに把録田嵐を尚のる心安
注がゐり、そのたりにｒｒＬ佃号の配録波長を坦かくす
ることが出来るｄｄ録媒体が心安でるる。
一刀、このメタルテープに配録する磁気ヘッドとして従
来の７エライトヘツドを用いた揚台ｉＣは、フェライト
Ｉ／）飽和磁束耐酸が尚々５５００ガウス程度でめるこ
とから磁気層、ｔｌｌ現象が発生するためメタルテープ
（Ｄ狂態Ｃ十分に生かアことが出来ない。七こで、例え
ば椅開Ｉ４８５８−１７５１２２号公報（ＩＰＣ：Ｇ１
ｌＢ５／２２）に開示されているよりに、磁気瑚和現象
の最も土じ易い作動ギイッグ近傍部分ｔフエライトエク
も２Ｉ２！昶磁化の大きな磁性材料（Ｖすえばパーマロ
イ、センダスト、アモルファス磁性庫）で侮成した複曾
型の磁気ヘッドが実用１じさｔＬでいる。
来の７エライトヘツドを用いた揚台ｉＣは、フェライト
Ｉ／）飽和磁束耐酸が尚々５５００ガウス程度でめるこ
とから磁気層、ｔｌｌ現象が発生するためメタルテープ
（Ｄ狂態Ｃ十分に生かアことが出来ない。七こで、例え
ば椅開Ｉ４８５８−１７５１２２号公報（ＩＰＣ：Ｇ１
ｌＢ５／２２）に開示されているよりに、磁気瑚和現象
の最も土じ易い作動ギイッグ近傍部分ｔフエライトエク
も２Ｉ２！昶磁化の大きな磁性材料（Ｖすえばパーマロ
イ、センダスト、アモルファス磁性庫）で侮成した複曾
型の磁気ヘッドが実用１じさｔＬでいる。
この：り々追Ａヘッドの促米の製造方法では、フェライ
トの基板のギャップ形成面となる接合面を腕曲研磨し、
該接合面に溝加工を行い、その上にセンダスト等の強磁
性金属材料よりなる薄膜ｔスパッタリング等に工９杉成
していた。
トの基板のギャップ形成面となる接合面を腕曲研磨し、
該接合面に溝加工を行い、その上にセンダスト等の強磁
性金属材料よりなる薄膜ｔスパッタリング等に工９杉成
していた。
し刀為し乍ら、上記促米万１ｆ（Ｑ吻合、スパッタリン
グ後に扱禰が剥ｎたり、剥社か（アた９することがるる
。セして、このエラな基板を久の工程で一１珀ＪＪＤ工
ｒへ丁と、被膜がざらに剥７したり、被膜と一緒に基板
Ｖ表面部分が収９去れ／ＣりＴる。このｆｃ ｔｙ）、
破膜若しくば基板のか（すらがラップ盤上でころがり、
接合面ｔｊ付（すてしより。また、基板のガラス接置に
Ｉける高温の熱処理に１りても破膜が剥ｎる。
グ後に扱禰が剥ｎたり、剥社か（アた９することがるる
。セして、このエラな基板を久の工程で一１珀ＪＪＤ工
ｒへ丁と、被膜がざらに剥７したり、被膜と一緒に基板
Ｖ表面部分が収９去れ／ＣりＴる。このｆｃ ｔｙ）、
破膜若しくば基板のか（すらがラップ盤上でころがり、
接合面ｔｊ付（すてしより。また、基板のガラス接置に
Ｉける高温の熱処理に１りても破膜が剥ｎる。
尚、スパッタリング後に換剥れが生じるのは、破膜はス
パッタリング中に？ｊ！Ｊ温に保たｎるが、スパッタリ
ングを止めるとその温度が下がり、その時の熱Ｑ□力等
によ？）被層゛部分に剥離力が作用するたので必る。で
して、被膜が厚いほど膜剥れが生じ易い。
パッタリング中に？ｊ！Ｊ温に保たｎるが、スパッタリ
ングを止めるとその温度が下がり、その時の熱Ｑ□力等
によ？）被層゛部分に剥離力が作用するたので必る。で
して、被膜が厚いほど膜剥れが生じ易い。
（ハ）発明が解決しエラとする問題点
本発明はよ−Ｃ促米例の入点に鑑みなされたもので８９
、基板に剥ｎにくい強ｄ＆注金属１１膜τ形成すること
が出来る磁性ヘッドの製遺万云勿提供することτ目的と
するものである。
、基板に剥ｎにくい強ｄ＆注金属１１膜τ形成すること
が出来る磁性ヘッドの製遺万云勿提供することτ目的と
するものである。
に）問題点’ｘ： ｆｔｓ決するたのの手段強磁性酸化
物拐料工Ｖなる基板の接侍面にその表面が租くな０工う
に表面加工’ｋＩＭＬ７？１．後、七ＱＪ接は叩上にシ
虫磁性蛍属薄良を形成する。
物拐料工Ｖなる基板の接侍面にその表面が租くな０工う
に表面加工’ｋＩＭＬ７？１．後、七ＱＪ接は叩上にシ
虫磁性蛍属薄良を形成する。
（ホ）作 用
上ａＣ方法に依ｎば、基板■接合聞の表面積が大さくな
るたりその表面エネルギーが増大し、前ｄａ基板と強に
性蛍ム薄族との結合力が大さくなり繭ｇｅ薄膜が剥ｎに
くくなる。
るたりその表面エネルギーが増大し、前ｄａ基板と強に
性蛍ム薄族との結合力が大さくなり繭ｇｅ薄膜が剥ｎに
くくなる。
（へ）夾厖例
以下、図面Ｃ＃照しつつ本発明の磁気ヘッドのＪＡ通方
法についてｄ四する。
法についてｄ四する。
先ず、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性金属材料Ｌ９
なる＆仮＋１）τ用意し、その上面（１８）、埋ち磁気
コア半坏爾させわセ時の接曾面金平均粒子径６μのシリ
コ／カーバイトのは粒でラップ加工で行い、表面粗さＲ
Ｚ’！（８５００Ａにする。そして、前ｄＣ上面（１ａ
）に第１図（ａＪに示すエラに回転砥石ＶＣ工つて深さ
１００μｍの傾斜溝（２）忙ピッ；Ｆｊ’ｊＯμｍでで
鴨に亘って複数本平行に形成する。次に、第１１（ｔｌ
Ｊにホ丁エクに削ｔｉｒｅ基椴（１７の上面Ｌｌａ）に
センダスト等のプ璽＆ｉ性金属材料ｔスパッタリングＶ
ｃエク破庸する。次に、この基板山の上面（Ｉａ）ｆ半
面研削することに工９平面就艮く面出しｔ行い弔１図（
ｃＪに示す工うに前把煩糾隣（２〕の；ｊｉ＋而（２ａ
〕上に被層された強磁性金属４ノ模［３１をＡ出ざセる
。仄に、第１図（Ｃ１ｌに示すエラに削−４板（ＩＪの
上面（ｌａ）に府記傾斜溝＋２Ｊと平行にトランク幅ｆ
ｊＬ制溝ｔ４１ｔ”加工してギャップ形成面（０）で形
成すると共ＶＣ前＝ｄ鵠糾４（２Ｊと証文するよプに巷
蔵溝（６）とガラス棒挿入溝（７１ｔ−形成する。そし
て択に、第１図（ｄＪに示した基板（１］と、第１図（
ｄＪに図示の如き基板であって１１１Ｉ記巻ｉｇ（ｂｌ
とカラス棒挿入音（７１とが形成式ｔ′していない基板
１１１とｔ２枚用意し、第１図（ｅＪに示アＬつに両者
のギャップ形成面（５功；５ｉＯ２（因示セず］を介し
て対問する工つｖｃ備さ合わせる。その後、前記ガラス
５俸弾入＋４（７１にガラス棒を押入し加熱昇温するこ
とに−ＣＤガラス（８）を創記基板山ｔｌＪ間に流し込
み、前記基板ｔｌＪ（ＩＪ忙ポ盾しコアブロック（９）
を形成する。そして、第１図（２）Ｖこ示す工うに別記
コアブロック（９）のチーブづ６動面ｕｔｉ＋ｒ内浦研
削機によりＲ付は加ニレ、このコアブロック（９）’ｌ
：）’ＸＸ周角度け頑けてスライスすることＩＣ工ｔ）
Ａ４１図（ｈＪに示すエフに複数個のへッドｔッグｕｎ
”形成する〇 一般ｌ（、フェライトは面心立方結晶と体心立方結晶と
が混って２り、その平面部分の結晶面は（１００）面で
るる。そして、フェライトの揚台、上述の製造方法の二
つにラング加工等ＶＣ、Ｃ９表面を粗くすると（１１０
）面がへき開して多くなる。
なる＆仮＋１）τ用意し、その上面（１８）、埋ち磁気
コア半坏爾させわセ時の接曾面金平均粒子径６μのシリ
コ／カーバイトのは粒でラップ加工で行い、表面粗さＲ
Ｚ’！（８５００Ａにする。そして、前ｄＣ上面（１ａ
）に第１図（ａＪに示すエラに回転砥石ＶＣ工つて深さ
１００μｍの傾斜溝（２）忙ピッ；Ｆｊ’ｊＯμｍでで
鴨に亘って複数本平行に形成する。次に、第１１（ｔｌ
Ｊにホ丁エクに削ｔｉｒｅ基椴（１７の上面Ｌｌａ）に
センダスト等のプ璽＆ｉ性金属材料ｔスパッタリングＶ
ｃエク破庸する。次に、この基板山の上面（Ｉａ）ｆ半
面研削することに工９平面就艮く面出しｔ行い弔１図（
ｃＪに示す工うに前把煩糾隣（２〕の；ｊｉ＋而（２ａ
〕上に被層された強磁性金属４ノ模［３１をＡ出ざセる
。仄に、第１図（Ｃ１ｌに示すエラに削−４板（ＩＪの
上面（ｌａ）に府記傾斜溝＋２Ｊと平行にトランク幅ｆ
ｊＬ制溝ｔ４１ｔ”加工してギャップ形成面（０）で形
成すると共ＶＣ前＝ｄ鵠糾４（２Ｊと証文するよプに巷
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て択に、第１図（ｄＪに示した基板（１］と、第１図（
ｄＪに図示の如き基板であって１１１Ｉ記巻ｉｇ（ｂｌ
とカラス棒挿入音（７１とが形成式ｔ′していない基板
１１１とｔ２枚用意し、第１図（ｅＪに示アＬつに両者
のギャップ形成面（５功；５ｉＯ２（因示セず］を介し
て対問する工つｖｃ備さ合わせる。その後、前記ガラス
５俸弾入＋４（７１にガラス棒を押入し加熱昇温するこ
とに−ＣＤガラス（８）を創記基板山ｔｌＪ間に流し込
み、前記基板ｔｌＪ（ＩＪ忙ポ盾しコアブロック（９）
を形成する。そして、第１図（２）Ｖこ示す工うに別記
コアブロック（９）のチーブづ６動面ｕｔｉ＋ｒ内浦研
削機によりＲ付は加ニレ、このコアブロック（９）’ｌ
：）’ＸＸ周角度け頑けてスライスすることＩＣ工ｔ）
Ａ４１図（ｈＪに示すエフに複数個のへッドｔッグｕｎ
”形成する〇 一般ｌ（、フェライトは面心立方結晶と体心立方結晶と
が混って２り、その平面部分の結晶面は（１００）面で
るる。そして、フェライトの揚台、上述の製造方法の二
つにラング加工等ＶＣ、Ｃ９表面を粗くすると（１１０
）面がへき開して多くなる。
易１表に面心立万紹晶１／Ｃ＆ける結晶面と結合の指度
と表口二不ルキーとの関係を示し、第２表に体心立方結
晶に２ける結晶面と結合の′＃ｉ度との関係を示す◎
第 １ 表 （共立出版（株２「表面の物理」纂１１９頁表５．２参
照」 第２表 面心立方結晶Ｖ場盆、第１表から判るように表面エネル
ギーは（ｉｔ）Ｏ）面より（１１Ｏ）而の刀が太さい。
と表口二不ルキーとの関係を示し、第２表に体心立方結
晶に２ける結晶面と結合の′＃ｉ度との関係を示す◎
第 １ 表 （共立出版（株２「表面の物理」纂１１９頁表５．２参
照」 第２表 面心立方結晶Ｖ場盆、第１表から判るように表面エネル
ギーは（ｉｔ）Ｏ）面より（１１Ｏ）而の刀が太さい。
よた、体／ｂ立方結晶の場合、ｉＡｚ辰から刊る工′）
ｒｃ面心立方結晶と同様に紬甘り密就は（１００７面よ
り（１１０）面の刀が大きく、表面エネルギーも（１（
ＪＯＪ圓より （１１０）面の万が大きいＯ このため、上述θ′！Ａ造力法の工うにフェライトＬり
なる基板山の上面（ｌｌ’にラップ加工にエフ祖（して
（１１０）面ｔへさ開させると前記上面（１１の表面エ
ネルギーが太さくなり、 ｒｑＥ１把上１１１１（１ａ
）と会憾性笠属碑涙（３）との付ノｉ力が増大する。尚
、フェライト以外強磁性酸化物の基板にνいても表［ｆ
ｌｋ粗くして表面槓七大き（Ｔると、表面エネルギーが
大さくなり前記基板と換との付涜力は増大する。
ｒｃ面心立方結晶と同様に紬甘り密就は（１００７面よ
り（１１０）面の刀が大きく、表面エネルギーも（１（
ＪＯＪ圓より （１１０）面の万が大きいＯ このため、上述θ′！Ａ造力法の工うにフェライトＬり
なる基板山の上面（ｌｌ’にラップ加工にエフ祖（して
（１１０）面ｔへさ開させると前記上面（１１の表面エ
ネルギーが太さくなり、 ｒｑＥ１把上１１１１（１ａ
）と会憾性笠属碑涙（３）との付ノｉ力が増大する。尚
、フェライト以外強磁性酸化物の基板にνいても表［ｆ
ｌｋ粗くして表面槓七大き（Ｔると、表面エネルギーが
大さくなり前記基板と換との付涜力は増大する。
第２図に上述Ｑ犬施例のエリにＭｎ−Ｚｎｎ系フェライ
トエフる基板の表面にその棋さＲｚが５ｓｏｏＸになる
ようにラップ加工を施した後、七の基板表面上ｌζセン
ダストの膜を被層し、真空中で７００℃の熱処理を行り
た時の換の状態を示す２００倍の顯徴鏡写真で６る。第
３図は比較例としてＭｎ−Ｚｎｎ系フェライトエフる基
板の表面にその粗さＲｚがＩＩＱＯＡになるように平均
粒子径３μへのダイヤモンドの砥粒にエフラップ加工ｒ
鬼した後、その基板表面上にセンダストの膜を被層し、
ＪＫ空中で３００℃の熱処理を行りた時の換の状態勿示
す４００陪の顕微林写真でるる。
トエフる基板の表面にその棋さＲｚが５ｓｏｏＸになる
ようにラップ加工を施した後、七の基板表面上ｌζセン
ダストの膜を被層し、真空中で７００℃の熱処理を行り
た時の換の状態を示す２００倍の顯徴鏡写真で６る。第
３図は比較例としてＭｎ−Ｚｎｎ系フェライトエフる基
板の表面にその粗さＲｚがＩＩＱＯＡになるように平均
粒子径３μへのダイヤモンドの砥粒にエフラップ加工ｒ
鬼した後、その基板表面上にセンダストの膜を被層し、
ＪＫ空中で３００℃の熱処理を行りた時の換の状態勿示
す４００陪の顕微林写真でるる。
この両方の４具から判るＬつに、基板の表面の粗さＲｚ
が８５０ＯＡの場合、７０００の高温の熱処理を行って
も換に剥れないが、表面の祖さＲｚがｌ１００Ａの葡合
、３００℃の低温の熱処理でも表面のν４に市りて膜が
、Ｊｉ−１！れる。尚、基板表面の粗さは表面粗さ計で
測足し、ｍ４図は表面粗δＨｚが８５００１の時、第５
図は表面粗さＲｚが１１０ＯＡの時の表面粗さ計の測定
結果である。
が８５０ＯＡの場合、７０００の高温の熱処理を行って
も換に剥れないが、表面の祖さＲｚがｌ１００Ａの葡合
、３００℃の低温の熱処理でも表面のν４に市りて膜が
、Ｊｉ−１！れる。尚、基板表面の粗さは表面粗さ計で
測足し、ｍ４図は表面粗δＨｚが８５００１の時、第５
図は表面粗さＲｚが１１０ＯＡの時の表面粗さ計の測定
結果である。
また、他の別として、ロｎ−Ｚｎ糸フェライトＬ ’）
・′ｌｉ：６ 基鈑の表面の徂５＜ Ｈｚ ｋ ２３
００ Ａにしてセンタストのｆ＋’ｔ 祖治し、真空中
で５００℃の熱処理を行った一合、膜は剥れた。ｆ、た
晶叛の表面の祖さＲ：１ｋ３１００λにしてセンダスト
の腹を被層し、真空中で７００℃の熱処理全行った場合
、Ｍ；＆剥れは生じなかつ友。
・′ｌｉ：６ 基鈑の表面の徂５＜ Ｈｚ ｋ ２３
００ Ａにしてセンタストのｆ＋’ｔ 祖治し、真空中
で５００℃の熱処理を行った一合、膜は剥れた。ｆ、た
晶叛の表面の祖さＲ：１ｋ３１００λにしてセンダスト
の腹を被層し、真空中で７００℃の熱処理全行った場合
、Ｍ；＆剥れは生じなかつ友。
褐６凶はＭｎ−Ｚｎ系フェライトよりなる基板の表面の
各粗さＲｚＶＣｅいて真空熱処理７行った場合の熱几理
温式に２（する膜の状態を示す図で、上述の実験より得
たものでめる。この図から判るエリｖＣ基孜表面の粗さ
Ｒｚが３１ＱＯＡ以上の時は熱処理温度が７００℃と高
温であってもセンダストの良は剥ｎなかった。
各粗さＲｚＶＣｅいて真空熱処理７行った場合の熱几理
温式に２（する膜の状態を示す図で、上述の実験より得
たものでめる。この図から判るエリｖＣ基孜表面の粗さ
Ｒｚが３１ＱＯＡ以上の時は熱処理温度が７００℃と高
温であってもセンダストの良は剥ｎなかった。
以上のエリに、上述のよりなｊＢ気ヘッドの製造方法で
に、基板（ＩＪの上面Ｃ１ａ）ｋその表面粗さＲ３が８
５０ＯＡとなるようにラップ／ｉｌ工を施した後、前６
Ｃ上面Ｃ１＆）に強磁性金属薄膜（３１七被層するので
、前記上面（１ａＪにその表面エネルギーが大きくなり
強磁性金属薄膜（３）との結合力は増大する。このため
、第１図（ｆＪにおける基板（ｌバＩＪのガラス接合の
工程に２いて前記基板（１）（１３を加熱弁ムしても前
把強磁性蛍属薄膜（３）に膜剥れが生じることはない。
に、基板（ＩＪの上面Ｃ１ａ）ｋその表面粗さＲ３が８
５０ＯＡとなるようにラップ／ｉｌ工を施した後、前６
Ｃ上面Ｃ１＆）に強磁性金属薄膜（３１七被層するので
、前記上面（１ａＪにその表面エネルギーが大きくなり
強磁性金属薄膜（３）との結合力は増大する。このため
、第１図（ｆＪにおける基板（ｌバＩＪのガラス接合の
工程に２いて前記基板（１）（１３を加熱弁ムしても前
把強磁性蛍属薄膜（３）に膜剥れが生じることはない。
また、第１図ＣＣ）に２ける鏡面加工ｆ第１図（ｄ、Ｉ
に一゛す”るトラック幅規制荷（４）υロエによりτも
内σ配備磁性釡属Ｍ腺（３）は剥れに＜＜、前記基板（
１）紮傷付けること耐防止出来る。
に一゛す”るトラック幅規制荷（４）υロエによりτも
内σ配備磁性釡属Ｍ腺（３）は剥れに＜＜、前記基板（
１）紮傷付けること耐防止出来る。
（トＪ 発 りり の ヌカ 来
不発明に依）１−は、基板と強磁ｆ’ｌＥ金Ｍ＃Ｍ／二
〇結合力が１１人するので、磁気ヘッドの製造工程に２
（′ｊ′る回配強磁性金属洩候の剥れ？防止し、特に１
槌仇磁ツノのメタルチーブに通した磁気ヘッドの製造方
法ｒ提供し優る。
〇結合力が１１人するので、磁気ヘッドの製造工程に２
（′ｊ′る回配強磁性金属洩候の剥れ？防止し、特に１
槌仇磁ツノのメタルチーブに通した磁気ヘッドの製造方
法ｒ提供し優る。
第１図は本帖例の４ｆ１気−・ラドの製造万人？示す図
、第２図及び４３凶は夫々基板に仮着さｎた強磁性金桐
博腺の顧債鏡４戎、４４図及び第５図り二夫々表面粗さ
計り側足結！１１．を小丁図、第６図は基似の容置面相
９さ＆ｔ９ける熱処理温度に対する膜の状態Ｃ示ア図で
るる。 （１１・・・基板、（１’）・・・上面（接合面）、（
淘・・・強磁性佐属薄ａ。
、第２図及び４３凶は夫々基板に仮着さｎた強磁性金桐
博腺の顧債鏡４戎、４４図及び第５図り二夫々表面粗さ
計り側足結！１１．を小丁図、第６図は基似の容置面相
９さ＆ｔ９ける熱処理温度に対する膜の状態Ｃ示ア図で
るる。 （１１・・・基板、（１’）・・・上面（接合面）、（
淘・・・強磁性佐属薄ａ。
Claims (3)
- （１）強磁性酸化物材料よりなる一対の磁気コア半体の
接合面に強磁性金属薄膜を形成した磁気ヘッドの製造方
法において、強磁性酸化物基板の接合面にその表面が粗
くなるように表面加工を施した後、前記接合面上に強磁
性金属薄膜を形成することを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。 - （２）前記強磁性酸化物をフェライトとしたことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方
法。 - （３）前記フェライト基板の接合面をその表面粗さが３
１００Å以上になるように表面加工を施したことを特徴
とする特許請求の範囲第２項記載の磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3617487A JPS63204503A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3617487A JPS63204503A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63204503A true JPS63204503A (ja) | 1988-08-24 |
Family
ID=12462379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3617487A Pending JPS63204503A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63204503A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58175122A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPS6159610A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-27 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-02-19 JP JP3617487A patent/JPS63204503A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58175122A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPS6159610A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-27 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
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