JPS63279407A - 磁気ヘッドのギャップ形成方法 - Google Patents

磁気ヘッドのギャップ形成方法

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Publication number
JPS63279407A
JPS63279407A JP62115057A JP11505787A JPS63279407A JP S63279407 A JPS63279407 A JP S63279407A JP 62115057 A JP62115057 A JP 62115057A JP 11505787 A JP11505787 A JP 11505787A JP S63279407 A JPS63279407 A JP S63279407A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gap
magnetic
amolphous
core half
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62115057A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsutoshi Suenaga
辰敏 末永
Yasuhiro Ogawa
靖弘 小川
Yasuhiro Nakaya
安広 仲谷
Tadataka Yonemoto
米本 忠孝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP62115057A priority Critical patent/JPS63279407A/ja
Publication of JPS63279407A publication Critical patent/JPS63279407A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ディジタルオーディオやVTR等に用いられ
る磁気ヘッドのギャップ形成方法に関するものである。
従来の技術 近年、磁気記録の動向は、ビデオヘッドなど高周波領域
での特性が要求されるに従いサブミクロンの記録波長に
も充分対応できる磁気ヘッドおよび記録媒体が要望され
ている。このような現状の中で磁気ヘッド材料は、保持
力Heの高い記録媒体(例えばメタルテープ)に充分な
書き込みを行なうためフェライトなどの非金属磁性材料
と比べ、より飽和磁束密度Bsの高い磁性合金(例えば
非晶質材料、センダスト)の開発がおこなわれている。
また、その製造方法も高密度化で記録トラック幅が狭く
なるにつれてアモルファス薄膜およびアモルファス薄帯
を用いたメタルヘッドの実用化がなされているが、ヘッ
ド製造法として量産性が課題であり、その解決策として
例えばム研61−50に示されているようにヘンドコア
を2次元的に配設させたコア半体としギャップ形成する
ことで一度に多くのへラドテープを作ることが試みられ
ている。
以下、図面を参照しながら従来の磁気ヘッドのギャップ
形成方法について説明する。
第4図は、主磁路となる磁性合金がアモルファス薄膜か
ら成るヘッドの製造工程におけるコア半体9a、9bを
示すものである。
非磁性基板10上にヘッドの主磁路となるアモルファス
膜11をスパッタリング法などにより形成し、接着層と
なるガラス膜12にて積層接着したものを図に示すよう
にアジマス20°のコア半体9a、9bとして加工した
ものである。コア半体9aには巻線溝13が施され、ま
た、コア半体9bにはギャップ面溝14が加工されてい
る。このコア半体9a、9bのギャップ突き合せ面には
ギャップ材となるS + O2,ガラスなどの非磁性膜
(図では省略)をスパッタリング法で形成しである。
第5図は、コア半体のギャップ形成図である。
第4図に示す非磁性膜を着膜したコア半体9a。
9bをギャップ形成治具15にて加圧しつつ、両コアの
密着性を高めるため巻線/?i13のアペックス部16
にガラス捧17を挿入する。これを電気炉に投入し夫々
のコア半体を接着させ、ギャップ形成が完了となる。
8曹嘗用ビデオテープレコーダーやディジタルオーディ
オでは、目的とするギャソ長が0.3μm前後と非常に
小さく、かつ、その許容幅も例えば±0.03μmとい
うように厳しい精度が求められている。
ギャップ長精度を確保するには、コア半体の厚み方向の
平行度、ギャップ突き合せ面の平面度。
ギャップ材となる非磁性膜の膜厚分布など、コア半体そ
のものにおける非常に高精度な加工技術が要求されるが
、さらにはギャップ形成時に、コア半体どうしを突き合
せた面全体において適切かつ均等な圧力を加える必要が
ある。しかるに第4図に示すコア半体9a、9bのよう
に、ヘッドコアを2次元的に配設した場合には、ギャッ
プ突き合せ面が大面積(25X7fl>になるがゆえに
、コア半体そのものが加工精度が悪くなることと、ギャ
ップ形成時においても均等な加圧力を与えることが難し
くなるという欠点を有する。
発明が解決しようとする問題点 従来の2次元的に配設しアジマス20°で加工したコア
半体のギャップ形成における問題は20゜の傾斜を持っ
たコア半体であるがゆえに面加圧を行なった時、コア半
体にかかる加圧力は、加圧面に対し直角方向に働く力と
、高温下で接着ガラスがゆるむことによりアジマス方向
に働く回転モーメントが発生し、結果として多段に積層
接着した接着層に多大なストレスを与え、接着層におけ
る基板剥離、さらにはコアが微動することによりギャッ
プ長分布が要求精度以上に大きいという問題点を有して
いた。
問題点を解決するための手段 本発明では、上記問題点を解決するため、従来ギャップ
突き合せ面積を最少にし、ギャップ長精度を向上させる
目的で加工していたギャップ面溝を廃止し、両コア半体
の背面にアモルファス薄膜を着膜する基板のみを加圧す
る背面溝を設け、アジマス方向に発生する回転モーメン
トを制御するとともに、従来と同様の加工工数で適切な
ギャップ長を得るものである。
作用 本発明は、上記した手段によりヘッドコアが2次元的に
配設された大面積のコア半体のギャップ形成においても
、ポイントとなるギャップ部に均等かつ回転モーメント
のない荷重を加えることがえきるため、ギャップ長分布
を小さくすることができ、良品率の高い磁気ヘッドを製
造することができる。
実施例 以下、本発明の一実施例を図面にもとづいて説明する。
第1図は、本発明の背面溝加工を行なったコア半体であ
る。
la、lbはギャップ形成をしようとするコア半体、2
はアモルファス薄膜、3は接着層となるガラス層、4は
コア半体1aに加工する巻線溝、5a、5bは本発明の
背面図である。
また、第2図は、加圧時の模式拡大図である。
6a、6bはアモルファス着膜基板、?a、7bは接着
層となるガラス着膜基板、2はアモルファス薄膜、3は
ガラス接着層、5a、5bは本発明の背面溝、8は加圧
治具である。
背面溝加工により生じた突出部を加圧する形になり、ア
ジマスにより発生する回転モーメントを除去できるとと
もに、接着層で微動したとしても、アモルファス着膜基
板のみを加圧しているためギャップ長に対する影響を軽
減でき、加圧治具に対して直角方向の加圧力でギャップ
形成が行える。
また、背面溝加工により従来のギャップ面溝を加工する
ことなく、たとえ突き合せ面積が増大したとしても、ア
モルファス着膜基板のみを加圧しているため、適切な加
圧力がギャップ突き合せ面に加わる。
第3図は本発明の背面溝加工を行ない、第1図に示した
アモルファスヘッドのコア半体のギャップ形成をした時
のギャップ長精度の分布を示したものである。
ギャップ長の平均値は、ギャップ突き合せ面に形成した
ギャップ材膜厚にふされしい値に仕上がっており、分布
もほぼ要求精度を満たしている。
発明の効果 以上のように本発明は、対で磁気ヘッドとなるコア半体
のギャップ面溝を加工することなく、両背面に溝加工を
行ない、生した突出部のみを加圧することにより、アジ
マスコアに発生する回転モーメントを除去するとともに
、加圧治具に対して直角方向の加圧が得られ、ヘッドコ
アを2次元的に配設した大面積のコア半体のギャップ形
成においても、ギャップ長分布の小さい高精度のギャッ
プ形成ができる。
また、接着層の微動に対しても、アモルファス着膜基板
を加圧しているため、ギャップ長への影響を軽減でき同
様の効果が得られる。
なお、本実施例では、アモルファス合金と非磁性基板と
しているが限定するものではなく、センダスト合金や磁
性基板など種々の組み合せで得られる磁気ヘッドの製造
方法に適用できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における背面溝加工を施した
コア半体の斜視図、第2財は本発明のコア半体による加
圧時の模式拡大図、第3図は本発明のギャップ形成によ
るギャップ長分布を従来法と比較したグラフ、第4図は
2次元的に配設し加工した従来のコア半体の斜視図、第
5図は従来のギャップ形成図である。 la、lb・・・・・・コア半体、2・・・・・・アモ
ルファス薄膜、3・・・・・・ガラス層、4・・・・・
・巻線溝、5a、5b・・・・・・背面溝。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名3−−一刀
°ラス眉 4−一巷謀★ 6(L、Sl −−一嘴面溝 アシ゛マス20″ g−yru江泊具 第3図 湾1%−コア子株 lθ−非滋柱差板 13−一一呑珠溝 14−ヤ、−77fOゑ 15−−ヘマア形夙治具 tb−−アX・7クス部

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)主磁路となる磁性合金と非金属非磁性材料基板を
    圧着接合した複合基板で、対で磁気ヘッドとなる一方の
    コア半体のギャップ突き合せ面には巻線溝を、また両コ
    ア半体の背面には溝加工を行ない圧着接合することを特
    徴とする磁気ヘッドのギャップ形成方法。
  2. (2)磁性合金として非晶質材料を用いた特許請求の範
    囲第(1)項記載の磁気ヘッドのギャップ形成方法。
  3. (3)磁性合金としてセンダストを用いた特許請求の範
    囲第(1)項記載の磁気ヘッドのギャップ形成方法。
  4. (4)基板として非金属磁性材料を用いた特許請求の範
    囲第(1)項記載の磁気ヘッドのギャップ形成方法。
JP62115057A 1987-05-12 1987-05-12 磁気ヘッドのギャップ形成方法 Pending JPS63279407A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60140504A (ja) * 1983-12-28 1985-07-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気ヘツドの作製法
JPS6233309A (ja) * 1985-08-06 1987-02-13 Nippon Mining Co Ltd アジマス付積層ヘツドピ−スの製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60140504A (ja) * 1983-12-28 1985-07-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気ヘツドの作製法
JPS6233309A (ja) * 1985-08-06 1987-02-13 Nippon Mining Co Ltd アジマス付積層ヘツドピ−スの製造方法

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