JPS632071A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JPS632071A
JPS632071A JP4102286A JP4102286A JPS632071A JP S632071 A JPS632071 A JP S632071A JP 4102286 A JP4102286 A JP 4102286A JP 4102286 A JP4102286 A JP 4102286A JP S632071 A JPS632071 A JP S632071A
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JP
Japan
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layer
photoconductive
org
protective layer
resin
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Pending
Application number
JP4102286A
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English (en)
Inventor
Keiichi Endo
圭一 遠藤
Seiji Miyaoka
清二 宮岡
Yasuo Katsuya
勝谷 康夫
Akira Kageyama
景山 晃
Yasuki Mori
森 靖樹
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS632071A publication Critical patent/JPS632071A/ja
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147Cover layers
    • G03G5/14708Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713Macromolecular material
    • G03G5/14717Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/14726Halogenated polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (童業上の利用分野) 本発明は、電子写真特性及び耐久性に優れた電子写真感
光体に関する。
(従来の技術) 従来、光導電性物質を感光材料として利用する電子写真
感光体においてはセレン、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化
カドミウムなどの無機系光導電性物質が主に用いられて
きた。
しかし、これらは−般に毒性が強いものが多く廃棄する
方法にも問題がある。
一方、有機光導電性化合物を使用する感光体は無機系光
導電性物質を使用する場合に比べ一般だ毒性が弱く更に
、透明性、可とう性、軽量性、我f平滑性1価格などの
点において有利であることから最近、広く研究されてき
ている。その中でも。
電荷の発生機能と輸送機能を分離した複合型感光体は、
従来有機光導電性化合物を使用した感光体の、大きな欠
点であった感度を大幅に向上させることができるため、
近年、急速な進歩を遂げつつある。
しかしながらこれらの有機光導電性化合物を使用した感
光体を例えば、カールソン法による電子写真装置に適用
するなどして帯電露光を繰シ返して使用する際1通常、
感光体表面にわずかに付着残存しているトナーをブレー
ドやブラシ等を用いてクリーニング(除去)する必要が
ある。このクリーニングの工程を繰り返すことにより、
感光体の表面は摩耗し、損傷を受け、その結果、転写画
像が不鮮明になり、場合によっては電荷輸送層や電荷発
生層の剥離を起こし、感光体の寿命が著しく短くなる。
このような問題点から感光体には。
強固な耐久性が要求されている。
耐久性を向上させるため、特開昭52−76928号公
報、特開昭54−17732号公報などで開示されてい
るように表面に保護層を設けることが提案されている。
(発明が解決しようとする問題点) 上記の公報に開示されるような従来の保護層では、耐摩
耗性の効果も十分でなく、また、電子写真特性における
残留電位の増加や感度の低下を招きやすいという欠点が
あり、電子写真特性を損わない耐摩耗性の高い保護層の
開発が望まれている。
従って0本発明は、有機光導電性化合物を使用する場合
にも、電子写真特性及び耐久性に優れた電子写真感光体
を提供するものである。
C問題点を解決するための手段) 本発明は1表面に保護層を有する電子写真感光体におい
て、該保護層が。
(a)  水酸基含有フッ素重合体 並びに (b)  数平均分子量が1,500以下で、メラミン
核1個当りに結合ホルムアルデヒド数が2〜4個及ヒメ
チロール基数が1〜2個であるブチルエーテル化メラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂の硬化皮膜を含有してなる電
子写真感光体に関する。
本発明に係る電子写真感光体は、導電層、光導電層及び
保護層を順次積層して得ることができる。
本発明において、光導電層は、有機光導電性化合物を含
む層であり、有機光導電性化合物の皮膜。
有機光導電性化合物と結合剤を含む皮膜、電荷発生層及
び電荷輸送層からなる複合型皮膜等がある。
上記有機光導電性化合物としては公知のものが使用でき
る。また、有機光導電性化合物としては電荷を発生する
有機顔料と電荷輸送性物質を併用するのが好ましい。な
お、上記電荷発生層には電荷を発生する有機顔料が含ま
れ、電荷輸送層には電荷輸送性物質が含まれる。
電荷を発生する有機顔料としては、アゾキシベンゼン系
、ジスアゾ系、トリスアゾ系、ベンズイミダゾール系、
多環キノン系、インジゴイド系。
キナクリドン系、ペリレン系、メチン系、α型。
β型、γ型、δ型、ε型、χ型等の各種結晶構造を有す
る無金属タイプ又は金属タイプのフタロシアニン系など
の電荷を発生することが知られている顔料が使用できる
。これらの顔料は1例えば。
特開昭47−37453号公報、特開昭47−3754
4号公報、特開昭47−18543号公報、特開昭47
−18544号公報、特開昭48−43942号公報、
特開昭48−70538号公報、特開昭49−1231
号公報、特開昭49−105536号公報1%開昭50
−75214号公報、特開昭53−44028号公報、
特開昭54−17732号公報などに開示されている。
特に、長波長(800nm付近)にまで感度を有する点
で特開昭58−182640号公報及びヨーロッパ特許
公開筒92.255号公報などに開示されているτ、τ
′、η及びη′型型金金属フタロシアニン好適である。
このようなもののほか、光照射により電荷担体を発生す
る有機顔料はいずれも使用可能である。
電荷輸送性物質としては高分子化合物のものではポ17
  N−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール、ポリビニルピレン。
ポリビニルインドロキノキサリン、ポリビニルベンゾチ
オフェン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリ
ジン、ポリビニルピラゾリン等が。
低分子化合物のものではフルオレノン、フルオレン、z
7−シニトロー9−フルオレノン、4H−インデノ(1
,2,6)チオフェン−4−オン、3.7−シニトロー
ジペンゾチオフエンー5−オキサイド、1−ブロムピレ
ン、2−フェニルピレン、カルバゾール、3−フェニル
カルバゾール、2−フェニルインドール、2−フェニル
ナフタレン、オキサジアゾール、1−フェニル−3−(
4−ジエチルアミノスチリル)−5−14−ジエチルア
ミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)
ピラゾリン、2−(p−ジメチルアミノフェニル)4−
(p−ジエチルアミノフェニル)−5−(o−クロルフ
ェニル)−1,3−オキナゾール、イミダゾール、クリ
セン、テトラフェン、アクリデン、トリフェニルアミン
、これらの誘導体等がある。
電荷を発生する有機顔料と電荷輸送性物質を混合して使
用する場合は、後者/前者が重量比で10/1〜2/1
の割合で配合するのが好ましい。
このとき、1!荷輸送性物質が高分子化合物のものであ
れば、結合剤を使用しなくてもよいが、この場合でも又
は電荷輸送性物質が低分子化合物の場合でも、結合剤を
これらの化合物全量に対し−C500重量%以下で使用
するのが好ましい。また。
電荷輸送性物質として低分子化合物を夏用する場合は、
結合剤を30重量壬以上使用するのが好ましい。結合剤
を使用する場合、さらに、可塑剤。
流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添加剤を必要に応
じて添加することができる。
結合剤としては、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド
樹脂等が挙げられる。
また、熱及び/又は光によって架橋される熱硬化型樹脂
及び光硬化型樹脂も使用できる。
いずれにしても絶縁性で通常の状態で皮膜を形成しうる
樹脂、並びに熱及び/又は光によって硬化し、皮膜を形
成する樹脂であれば特に制限はない。可塑剤としては、
ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタリン、ジブチル
フタレート等が挙げられる。流動性付与剤としては、モ
ダフロー(モンサンドケミカル社製)、アクロナール4
 F (パスフ社製)等が挙げられ、ピンホール抑制剤
としては、ベンゾイン、ジメチルフタレート等が挙げら
れる。これらは適宜2択して使用され、その量も適宜決
定されればよい。
電荷発生層及び電荷輸送層からなる複合型の光導電層を
形成する場合、電荷発生層中には、前記しまた電荷を発
生する有機顔料が含有させられ、前記結合剤を該有機顔
料に対して500重量%以下の量で含有させてもよく、
また、前記した添加剤を該有機顔料に対して、5重量%
以下で添加してもよい。また、11!荷輸送層には、前
記した電荷輸送性物質が含有させられ、前記結合剤を該
電荷輸送性物質に対して500重量%以下で含有させて
もよい。電荷輸送性・物質が低分子量化合物の場合は、
結合剤を該化合物に対して50重量%以上含有させるの
が好ましい。電荷輸送層には、前記した添加剤を電荷輸
送性物質に対して5重量%以下で含有させてもよい。
保護層の材料として用いられる水酸基含有フッ素重合体
とは9分子中に水酸基及びフッ素を有する重合体であっ
て、水酸基は9重合体の水酸基価が5〜100になるよ
うに分子中に存在するのが好ましく、特に水酸基価が8
〜70になるようにするのが好ましい。水酸基価が小さ
すぎるとブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド
樹脂トの架橋密度が上がらず、保護層の耐摩耗性が向上
しに<<、大きすぎるとブチルエーテル化メラミン・ホ
ルムアルデヒド樹脂との相溶性が劣る。
上記水酸基含有フッ素重合体は、クロロトリフルオロエ
チレン、トリフルオロエチレン、fドラフルオロエチレ
ン等のフルオロエチレンとエチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシル
ビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル(これはフ
ッ素置換されていてもよい)若しくはシクロヘキシルビ
ニルエーテル等のシクロアルキルビニルエーテル(これ
はフッ素置換されていてもよい)及びヒドロキシエチル
ビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、
ヒドロキシブチルビニルエーテル等のヒドロキシアルキ
ルビニルエーテルを共重合させること罠よって得ること
ができ、他にカルボキシエチルビニルエーテル等のカル
ボキシアルキルビニルエーテル、エチレン、フロピレン
、インブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビ
ニル、n−酪酸ビニル、メチルメタクリレート、メタク
リル酸、アクリル酸等を共重合成分として含んでいても
よい。
フルオロオレフィンは、前記成分の総量中。
30〜70モルチ含むのが好ましい。
また、前記アルキルビニルエーテル及びシクロアルキル
ビニルエーテルは、前記成分の総量中。
あわせて5〜60モル係になるように使用するのが好ま
しい。これらが少なすぎると有機溶剤に溶解しにくくな
り9層の形成が行ないにくくなる。
他の共重合成分は、前記成分のit中30モル係以下で
使用するのが好ましい。
本発明のフッ素重合体夕は1重分平均分子量が5.00
0〜150,000(液体クロマトグラフィーにおける
標準ポリスチレン換算)であるのが好ましい。分子量が
小さすぎると皮膜が弱くなり。
大きすぎると溶剤に溶解したときに粘度が高くなり9層
の形成が行ないにくくなる。
本発明の水酸基含有フッ素重合体は0次のものも包含さ
れる。
すなわち1反応性の炭素−炭素二重結合を樹脂るグラフ
ト共重合体であって、水酸基を有するものも1本発明の
水酸基含有フッ素重合体に包含される。
該フッ素含有樹脂は、該樹脂1oog当り9反応性の炭
素−炭素二重結合を0.001〜0.025モル、好ま
しくは0.003〜0.015モル有する。
0.001モル未満では、(B)成分と共に重合させる
際、グラフト重合が困難になり、0.025モルを越え
ると重合の際、ゲル化が起こり易くなる。また、該フッ
素含有樹脂は、アルコキシ基またはシクロアルキルオキ
シ基を有する。これによプ、キシレン、トルエン、酢酸
ブチル、メチルイソブチルケトン等の有機溶剤に可溶と
することができる。
さらに、フッ素を含有することにより1本発明により得
られるグラフト共重合体を使用した保護層の耐久性が向
上する。
上記フッ素含有樹脂としては0分子量が約1.000〜
200,000であるものが好ましく。
特に約10,000〜100.000のものが好ましい
。分子量が低過ぎると耐久性が低下する傾向にあり、高
過ぎるとフッ素含有樹脂の存在下にエチレン性不飽和単
量体を重合させる際、ゲル化しやすくなる傾向がある。
囚成分であるフッ素含有樹脂は、水酸基を有する下記共
重合体ta+に無水マレイン酸、アクリル酸。
メタクリル酸、無水アクリル酸、無水メタクリル酸、こ
れらの酸クロライド等のα、β−不飽和カルボン酸また
はその水酸基と反応性の誘導体を反応させて得ることが
できる。
この場合、α、β−不飽和カルボン酸またはその水酸基
と反応性の誘導体は9水酸基を有する共重合体(a)i
oogに対して0.001〜0.025%ル反応させら
れる。
共重合体(alは、前記した水酸基含有フッ素重合体と
同様のものであり1分子中に水酸基及びフッ素を有する
重合体であって、水酸基は9重合体の水酸基が0.57
〜100になるように分子中に存在するのが好ましく、
特に水酸基価が3〜70になるようにするのが好ましい
。水酸基価が小さすぎると二重結合を充分に導入できな
い。また、水酸基価が大きすぎると有機溶剤への溶解性
が限られやすくなる。
共重合体+8)は、具体的には、前記した水酸基含有フ
ッ素重合体と同様に、フルオロオレフィン。
アルキルビニルエーテル若L<はシクロアルキルビニル
エーテル及ヒヒドロキシアルキルビニルエーテルを共重
合させて得ることができ、他に共重合成分を含有してい
てもよい。これらの成分及び使用量は、@記した場合と
同様であるが、ヒドロキシアルキルビニルエーテルは、
 共X 合体(a)ノ水酸基価が0.57〜100Kな
るように使用されるのが好ましく、特に3〜70になる
ように使用されるのが好ましい。
前記エチレン性不飽和単量体としては、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、イソ
プロピルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレー
ト等のアル≧ルアクリレート、同様のアルキルメタクリ
レート、スチレン若シくハビニルトルエン、α−メチル
スチレン、りロロスチレン等ノ置換スチレン、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、マレイン酸ジアルキルエステルを使用することがで
き、さらに、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート。
2−ヒドロキシブチルアクリノート等のヒドロキシアル
キルアクリンート、同様のヒドロキシアルキルメタクリ
レート、グリセリン、トリメチロールプロパン等の多価
アルコールのモノアクリレートまたはモノメタクリレー
ト、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミドなどの水酸基を有するエチレン性不飽和
単量体を用いることができる。また、必要に応じアクリ
ルアミド、メタクリルアミド等の不飽和アミド、グリシ
ジルメタクリレート、グリシジルアクリレート等のオキ
シラン基を有する不飽和単量体、アクリル酸、メタクリ
ル酸、マレイン酸モノアルキルエステル等のα、β−不
飽和カルボン酸を用いることができる。不飽和アミドお
よびオキシラン基を含有する不飽和単量体は多すぎると
塗膜の耐水性が低下したり0反応溶媒が限定されたりす
る傾向が生じるため、前記フッ素含有樹脂及びエチレン
性不飽和単量体の総量に対して30重量%以下で使用す
るのが好ましく、α、β−不飽和カルボン酸は多すぎる
と塗膜の耐水性が低下する傾向があるため、10重量%
以下で使用するのが好ましい。
また、水酸基を有するエチレン性不飽和単量体は、得ら
れるグラフト共重合体の水酸基価が5〜100になるよ
うに、特に、8〜70になるように、適宜使用される。
前記フッ素含有樹脂とエチレン性不飽和単量体は、前者
/後者が9重量比で、50150〜99,510.5の
範囲で使用されるのが好ましい。この比が50150以
上であることにより、耐久性、特に長期使用時の耐久性
に優れる。また、有機溶剤の溶解性の点から、上記重量
比が99.510.5以下が好ましい。上記重量比は、
特に60/40〜9515が好ましい。
前記フッ素含有樹脂の存在下でのエチレン性不飽和単量
体の重合は、必要に応じてトルエン、キシレン、メチル
イノブチルケトン、酢酸ブチル。
酢酸エチル、酢酸上ロソルブ、ブチルセロソルブ。
1−ブタノール、2−ブタノール、1−プロパノール。
2−プロパツール等の有機溶剤を反応溶媒とし9重合触
媒として、過酸化ぺ/ジイル。ジターシャリーブチルパ
ーオキサイド、クメンハイドロパーオキナイド等の過酸
化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾビス系化合
物を用い、50〜200°Cで1〜10時間加熱反応さ
せることにより行なうことができる。反応は、窒素ガス
等の不活性ガスの雰囲気または気流下知行なうのが好ま
しく1重合触媒としてはグラフト化率をよくする点で過
酸化物が好ましく、残存モノマーを少なくするためには
、過酸化物とアゾビス系化合物を併用するのが好ましい
。重合は、このように塊状重合および溶液重合だけでな
く、必要に応じ懇濁重谷、乳化重合等により行なうこと
ができる。
本発明において用いられるブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂の数平均分子量は1.500以下
であり、数平均分子量が1.500を越えると反応性が
低下する。また該樹脂はメラミン核1個当り結合ホルム
アルデヒドを2〜4個有する。4個を越えると反応性が
低下し、2個未満では該樹脂の貯蔵安定性が悪くなり、
硬化塗膜がもろくなる。更に該樹脂はメラミン核1個あ
たりメチロール基を1〜2個有するものである。メチロ
ール基の数が2個を越えると該樹脂の貯蔵安定性が劣り
、硬化塗膜がもろくなる。また、1個未満では反応性が
劣る。
このようなブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂は、メラミンをブタノールに溶解し、これてホル
ムアルデヒドを滴下することによって付加反応及びブチ
ルエーテル化反応を行なう方法、或いはメラミン及びホ
ルムアルデヒドをブタノールに溶解させ、この溶液を加
熱して付加反応及びブチルエーテル化反応を行なう方法
によって製造できる。これらの方法において反応は硝酸
塩酸、硫酸、燐酸、p−)ルエンスルホン酸等の酸性触
媒を添加し、酸性下、好ましくはpH3〜6で行なうの
が好ましく9反応源度はブタノールの還流温度、好まし
くは約90〜100℃であるのが好ましい。本発明にお
いては、メラミン1モルに対してブタノール4〜5モル
及びホルムアルデヒド3〜7モルを使用して、前記の反
応を実施するのが好ましい。
本発明における保護層は、前記水酸基含有フッ素重合体
及び前記ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド
樹脂の硬化皮膜からなるが、前記水酸基含有フッ素重合
体と前記ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド
樹脂は、前者/後者が重量比で1/7〜1/15になる
ように配合し。
加熱硬化させて得るのが好ましい。この場合、加熱温度
は、90〜140°Cが好ましい。また、f化に際し、
触媒として、塩酸、 p−1−ルエンスルホン酸等を存
在させてもよい。この触媒は、上記重合体及び樹脂の総
量に対して1重量幅以下で使用するのが好ましい。
本発明の保護層には、シリコーン樹脂、ポリメタクリル
酸メチル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂等を結合剤として
併用することができるが。
これらは、結合剤総量に対して50重量%以下が好まし
い。これらの使用量が多くなるとフッ素含有共重合体を
使用することによる効果が低下する。
保護層には、光導電層に用いられる前記の各種添加剤を
適宜選択して含有させることができ、その添加量も適宜
決定することができる。
本発明において導電層とは、導電処理した紙又はプラス
チックフィルム、アルミニウムのような金属箔を積層し
たプラスチックフィルム、金属板等の導電体である。
本発明の電子写真感光体は、導電層の上に有機光導電層
を形成し、その上に保護層を形成したものである。光導
電層の厚さは5〜50μが好ましい。光導電層として電
荷発生層及び電荷輸送層の複合型を使用する場合、電荷
発生層は好ましくは0.001〜10 μm 、特に好
ましくは0.2〜5μmの厚さにする。O,OO1μm
未満では、′1!荷発生層を均一に形成するのが困難に
なり、10μmを越えると、電子写真特性が低下する傾
向にある。
電荷輸送層の厚さは好ましくは5〜50μm、特に好ま
しくは8〜20μmである。5μm未満の厚さでは、初
期電位が低くなり、50μmを越えると、感度が低下す
る傾向がある。
保護層の厚さは好ましくは0.01〜10μm。
特に好ましくは0.1〜5μmである。0,01μm朱
満ては、保護層としての効果が少なく、耐久性が劣り、
5μmを越えると、感度が劣り、残留電位が増大する傾
向にある。
導電層上に、光導電層を形成するには、有機光導電性化
合物を導電層に蒸着する方法、有機光導電性化合物及び
その他の成分をアセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、ト
ルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、塩化メチレン、四
塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶剤、メタノール、
エタノール、グロパノール等のアルコール系溶剤に均一
に溶解又は分散させて導電層上に塗布シ2.乾燥する方
法などがある。電荷発生層及び電荷輸送層を形成する場
合も同様に行なうことができるが、この場合、電荷発生
層と電荷輸送層は、どちらを上層としてもよく、電荷発
生層を二層の電荷輸送層ではさむようにしてもよい。
保護層の形成は、光導電層の形成における塗布・乾燥す
る方法と同様にすればよい。
本発明に係る電子写真感光体は、更に、導電層のすぐ上
に薄い接着層又はバリア層を有していてもよい。
(実施例) 以下の例中に用いる各材料を次に列記する。
()内は略称及び〔〕は商品名会社を示す。
(1)電荷を発生する有機顔料 フタロシアニン系二τ型無金属フタロシアニン(H2P
C) (2)電荷輸送性物質 オキサゾール誘導体:2−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)−4−(p −ジメチルアミノフェニ ル) −5−(o−クロル フェニル)−1,3−オキ サゾール(OXZ’) (3)結合剤 0ポリエステル樹脂:ハイロン200 (V−200) 〔東洋紡績■〕 Oシリコーンフェス: KR−255 (KR255) 〔信越化学工業■〕 Oフッ素含有共重合体:ルミフロンLP−100(LF
loo) 〔旭硝子■〕 これは0重量平均分子量20,000〜25,000゜
水酸基価52.酸価Oでクロロ) IJフルオロエチレ
ン、ヒドロキシアルキルビニルエーテル及びアルキルビ
ニルエーテルの共重合体であり、クロロトリフルオロエ
チレンを約50モルチ含み、キシ→ ロンとメチルイソブチルケトンの混合溶剤に固拒分50
重量係で溶解されている。
oルミフ0:/LF−400 (LF400) 〔旭硝子■〕 これは、LFlooと同様であるが1重量平均分子量が
so、ooo〜70,000.水酸基価47及び酸価5
である。
Oブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂:
(BMF) (BMFの合成) 攪拌機、還流冷却器、温度計を装導したフラスコ中にメ
ラミン126g、n−ブタノール4449、及び61チ
硝酸水溶液0.29を入れ、100’CK昇温した後、
パラホルムアルデヒド169gを30分間に6回に分け
て等間隔で添加し、その後還流温度で30分間反応させ
、水分を除去し。
加熱残分が50チてなるように脱溶剤を行なった。
得、られた樹脂の粘度は、ガードナー(25℃)でBで
あった。B M Fのメラミン樹脂1佃当たりの結合ホ
ルムアルデヒド数、ブチルエーテル基数及びメチロール
基数並びだ数平均分子量を下記の表1に示す。
但し、結合ホルムアルデヒド数は、仕込み量と亜硫酸ソ
ーダ法による未反応ホルムアルデヒド量の測定により求
め、ブチルエーテル基数はブタノールの仕込み量と内部
標準液として5ec−ブチルアルコールを使用したガス
クロマトグラフィーによる未反応ブタノールの測定によ
シ求め、メチロール基は、上記ブチルエーテル基数とN
 M Rスペクトルから求めた。また、数平均分子量は
、ゲルパーミェーションクロマトグラフィーによシ標準
ポリスチレンの検量線を利用して行なった。
表1 比較例 HzPc 2−Og、 KR2552,、Og及びメタ
ノール809の混合液をボールミル(日本化学陶業製3
寸ボットミル)を用いて8時間混練した。
この分散液をアルミニウム板(導電層)の上にアプリケ
ータで塗工し、100℃で1時間乾燥して厚さ約1μm
の電荷発生層を形成した。次に。
oxzxog及びバイロン200 1ogをテトラヒド
ロフランsog*完全に溶解させた。
この溶液をアプリケータにより前記の電荷発生層の上に
塗工し、90°Cで20分乾燥して厚さ15μmの電荷
輸送層を形成し、保護層のない電子写真感光体を作成し
た。
実施例1〜4 前記の比較例と同様に、導電層上に電荷発生層及び電荷
輸送層を形成した。次にLF−100とBMFの混合割
合が、前者/後者の固形分重量比で1/7又は1/15
.LP−400とB M Fの混合割合が前者/後者の
固形分重量比で1/7又は1/15で固形分が5〜20
重量%になるように、t−ブタノールで希釈し、得られ
た溶液をアプリケータによりにI記の電荷輸送層上テ孕
工し。
120°Cで1時間加熱して硬化させ1表2に示す厚さ
の保護層を有する電子写真感光体を得た。得られた電子
写真感光体の電子写真特性を静電記録試験装置(川口電
機製5P−428)を用いて測定した。結果を表2に示
す。
なお9表中の初期電位’¥o(V’)は、ダイナミック
測定で一5KVのコロナを10秒間放電したときの帯電
電位を示し、暗減衰(Vk)は、その後暗所において3
0秒間放置したときの電位(V2O)から電位が半分に
なるまでの光量値を示す。まだ。
800 nmの分光感度(S800)は、ハロゲンラン
プを光源とし、モノクロメータ−をAして800 nm
の単色光に分光した光を照射し、照射後の電位が半分に
なるまでに要した時間t(s)を求め、こnに照射光の
エネルギー(mW/m’) を乗じ、逆数をとって求め
たものである。
更に摩擦試験機(スガ試験機製)を用いて電子写真感光
体の表面をガーゼで摺動し、ガーゼの繊維跡が感光体表
面に目視で確認できた回数を耐摩耗性として表1に示す
(発明の効果) 本発明に係る電子写真感光体は優れた電子写真特性を示
し、暗減衰も良好で高感度である。特に。
場合により800 nmの分光感度が高いことから。
近赤外領域に発振波長を持つダイオードレーザ−を搭載
したLBPKも適用可能である。また1本発明の電子写
真感光体の耐摩耗性は著しく高い。
このように9本発明になる電子写真感光体は、電子写真
特性及び耐久性の高い電子写真感光体である。
・11.::j、’ 手続補正書(方式) 昭和 62年7 月14  日 昭和61年特許願第41022号 λ発明の名称 電子写真感光体 3、補正をする者 4、代 理 人 昭和62年6月30日(発送臼) 6、補正の対象 ゛  明細書の発明の詳細な説明の欄 7、補正の内容

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、表面に保護層を有する電子写真感光体において、該
    保護層が、 (a)水酸基含有フッ素重合体 及び (b)数平均分子量が1,500以下で、メラミン核1
    個当りに結合ホルムアルデヒド数が2〜4個及びメチロ
    ール基数が1〜2個であるブチルエーテル化メラミン・
    ホルムアルデヒド樹脂 の硬化皮膜を含有してなる電子写真感光体。
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