JPS6320910B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6320910B2 JPS6320910B2 JP59122418A JP12241884A JPS6320910B2 JP S6320910 B2 JPS6320910 B2 JP S6320910B2 JP 59122418 A JP59122418 A JP 59122418A JP 12241884 A JP12241884 A JP 12241884A JP S6320910 B2 JPS6320910 B2 JP S6320910B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- taper
- side wall
- evaporation
- evaporation source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子ビーム加熱式の蒸発源用容器に
関し、耐火物から成る大型容器の実用性能の改良
を目的とするものである。
関し、耐火物から成る大型容器の実用性能の改良
を目的とするものである。
近年、真空蒸着技術の進歩は著しく、短波長記
録に適した蒸着テープも開発され、一部実用に供
されるに至つている。一方磁気テープの消費量の
増大は極めて急で、大量生産技術としての蒸着技
術の改良が強く望まれている。
録に適した蒸着テープも開発され、一部実用に供
されるに至つている。一方磁気テープの消費量の
増大は極めて急で、大量生産技術としての蒸着技
術の改良が強く望まれている。
従来の容器を第１図ａ，ｂに示す。図に示すよ
うに、容器１は、溶融金属を保持できるようなプ
ール２を有しているが、この断面形状は、図ｂに
示すように側壁３がテーパａを有し、底面４が水
平であつた。ところでかかる容器を用い、蒸発材
としてCoを選びCoを15Kg溶解して蒸着に供しよ
うとすると、耐火物容器が大型化するので分割し
たものをつきあわせることがよく行われるが、水
平を完全に保持することは困難である。とりわ
け、くり返し使用を試みた場合、熱変形するのを
始めとし水平性がくずれてくる。
うに、容器１は、溶融金属を保持できるようなプ
ール２を有しているが、この断面形状は、図ｂに
示すように側壁３がテーパａを有し、底面４が水
平であつた。ところでかかる容器を用い、蒸発材
としてCoを選びCoを15Kg溶解して蒸着に供しよ
うとすると、耐火物容器が大型化するので分割し
たものをつきあわせることがよく行われるが、水
平を完全に保持することは困難である。とりわ
け、くり返し使用を試みた場合、熱変形するのを
始めとし水平性がくずれてくる。
このとき、溶融金属と容器を構成する耐火物
（酸化物、窒化物等）との高温での濡れ性により、
溶融金属が少なくなるに従つて、プールの底部に
不均一に溶融金属が局所化し、耐火物底部表面が
露出する不都合が生じていた。
（酸化物、窒化物等）との高温での濡れ性により、
溶融金属が少なくなるに従つて、プールの底部に
不均一に溶融金属が局所化し、耐火物底部表面が
露出する不都合が生じていた。
本発明は従来におけるこのような問題を解消し
ようとするもので以下に図面を用いその実施例を
説明する。
ようとするもので以下に図面を用いその実施例を
説明する。
第２図に本発明の一実施例を示すように底面
４′が曲面で構成されている。その曲率Ｒがひと
つであるか、複数の曲率であるかは本発明の決定
的要素ではなく、テーパ部の終端からほぼ滑らか
な曲面でつながれるのが好ましい。なお、側壁面
３′におけるテーパの角度βとγは等しくてもよ
いが、同軸タイプの電子銃による加速電子を用い
る場合はむしろ非対称の方が好ましい。
４′が曲面で構成されている。その曲率Ｒがひと
つであるか、複数の曲率であるかは本発明の決定
的要素ではなく、テーパ部の終端からほぼ滑らか
な曲面でつながれるのが好ましい。なお、側壁面
３′におけるテーパの角度βとγは等しくてもよ
いが、同軸タイプの電子銃による加速電子を用い
る場合はむしろ非対称の方が好ましい。
これは、蒸発原子の角度分布、いわゆる蒸気分
布とも関係して、蒸着効率のみならず蒸着による
磁気テープの製造の場合には、磁気特性にも関係
して、重要な役割を果すためである。第３図に示
すように、テープ基材５が回転キヤン６の周面に
沿つて捲き取られる状態で蒸着する時には、容器
の側壁面３′におけるテーパの角度βとγが互い
に異なる非対称なものが好ましい。
布とも関係して、蒸着効率のみならず蒸着による
磁気テープの製造の場合には、磁気特性にも関係
して、重要な役割を果すためである。第３図に示
すように、テープ基材５が回転キヤン６の周面に
沿つて捲き取られる状態で蒸着する時には、容器
の側壁面３′におけるテーパの角度βとγが互い
に異なる非対称なものが好ましい。
即ち、回転キヤン６が矢印Ａの方向に回転し
て、基材５が送り出し軸７から捲き取り軸８へ移
動し、マスク９で制限した蒸気で蒸着を行う時、
加速電子９により加熱される溶融金属１０を保持
する容器１１の側壁面３′におけるテーパβとγ
との関係がこの場合でいうとβ＞γであるような
非対称が好ましい。
て、基材５が送り出し軸７から捲き取り軸８へ移
動し、マスク９で制限した蒸気で蒸着を行う時、
加速電子９により加熱される溶融金属１０を保持
する容器１１の側壁面３′におけるテーパβとγ
との関係がこの場合でいうとβ＞γであるような
非対称が好ましい。
第４図に実験例を示したように、γ＝10゜，
15゜，20゜にして、β／γをパラメータにして、厚
さ14μのポリエチレンテレフタレート上に、３×
10-5（Torr）の酸素中で、最小入射角36度でCo−
Ni（Ni20wt％）を同軸電子ビームで（30KV，
100KW）加熱蒸発させ蒸着した0.1μmの膜の保
磁力をβ＝γの時の保磁力で規格化した値は、β
＞γで１より大きくなつている。これは、斜めに
溶湯に入射する電子ビームでできる凹みが、テー
パの差により温度分布に非対称性がでて、電子ビ
ームが垂直側に立ち上つたような凹みとなるた
め、蒸気流分布が真上に大量蒸発部が移動するた
め、結晶性がよくなり保磁力が増大するものと推
察される。
15゜，20゜にして、β／γをパラメータにして、厚
さ14μのポリエチレンテレフタレート上に、３×
10-5（Torr）の酸素中で、最小入射角36度でCo−
Ni（Ni20wt％）を同軸電子ビームで（30KV，
100KW）加熱蒸発させ蒸着した0.1μmの膜の保
磁力をβ＝γの時の保磁力で規格化した値は、β
＞γで１より大きくなつている。これは、斜めに
溶湯に入射する電子ビームでできる凹みが、テー
パの差により温度分布に非対称性がでて、電子ビ
ームが垂直側に立ち上つたような凹みとなるた
め、蒸気流分布が真上に大量蒸発部が移動するた
め、結晶性がよくなり保磁力が増大するものと推
察される。
以上のような構造の容器を蒸発源用容器として
用い、Co，Co−Ni等の金属を８Kg〜22Kg溶融保
持せしめたところ、金属の使用率が85〜88％まで
高められ、くり返し寿命も従来の５倍〜10倍にま
で延びた。なお従来の容器における金属の使用率
は60％〜70％であつた。
用い、Co，Co−Ni等の金属を８Kg〜22Kg溶融保
持せしめたところ、金属の使用率が85〜88％まで
高められ、くり返し寿命も従来の５倍〜10倍にま
で延びた。なお従来の容器における金属の使用率
は60％〜70％であつた。
本発明によると以上のように溶融物の使用率が
高くかつ耐久性にきわめてすぐれたものとするこ
とができる。
高くかつ耐久性にきわめてすぐれたものとするこ
とができる。
第１図ａ，ｂはそれぞれ従来の蒸発源用容器の
斜視図および断面図、第２図は本発明の一実施例
である蒸発源用容器の断面図、第３図は上記蒸発
源用容器を磁気テープの製造に用いた場合を示す
一部断面図、第４図はテーパの角度比に対する規
格化保持力の特性図である。 ３，３′……側壁面、４，４′……底面。
斜視図および断面図、第２図は本発明の一実施例
である蒸発源用容器の断面図、第３図は上記蒸発
源用容器を磁気テープの製造に用いた場合を示す
一部断面図、第４図はテーパの角度比に対する規
格化保持力の特性図である。 ３，３′……側壁面、４，４′……底面。
Claims (1)
- １ 収納部側壁面が開口部側に向つて開くテーパ
を有するとともに同収納部底面が下に凸の曲面か
らなり、かつ同軸電子ビームが斜めに入射する側
のテーパ角度が反対側のテーパ角度より大きいこ
とを特徴とする蒸発源用容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59122418A JPS6017071A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | 蒸発源用容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59122418A JPS6017071A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | 蒸発源用容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6017071A JPS6017071A (ja) | 1985-01-28 |
| JPS6320910B2 true JPS6320910B2 (ja) | 1988-05-02 |
Family
ID=14835332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59122418A Granted JPS6017071A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | 蒸発源用容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017071A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN209619438U (zh) * | 2019-01-17 | 2019-11-12 | 云谷（固安）科技有限公司 | 一种点蒸发源以及蒸镀设备 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5333873B2 (ja) * | 1973-03-16 | 1978-09-18 | ||
| JPS51151684A (en) * | 1975-06-23 | 1976-12-27 | Fuji Xerox Co Ltd | Evaporating source for vacuum evaporation |
-
1984
- 1984-06-14 JP JP59122418A patent/JPS6017071A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6017071A (ja) | 1985-01-28 |
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