JPH0418373B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0418373B2 JPH0418373B2 JP58183688A JP18368883A JPH0418373B2 JP H0418373 B2 JPH0418373 B2 JP H0418373B2 JP 58183688 A JP58183688 A JP 58183688A JP 18368883 A JP18368883 A JP 18368883A JP H0418373 B2 JPH0418373 B2 JP H0418373B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- base material
- opening
- substrate
- vertical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属と金属酸化物との２相が混ざつ
た垂直磁化膜を有する垂直磁気記録体の製造装置
に関する。
た垂直磁化膜を有する垂直磁気記録体の製造装置
に関する。
従来のこの種製造装置は、第１図示のように、
基材ａを矢印方向に走行させ、その下方にこれに
対面して設けた蒸発源ｂへ電子ビーム発生装置よ
り電子ビームｃをスイープさせて当て、該蒸発源
ｂを加熱溶解蒸発させ、その蒸発物を該基材ａと
該蒸発源ｂとの間に介在させた斜め入射蒸着を防
ぐ防着板ｄの垂直蒸着用開口部ｅを介して、走行
する基板ａに殆ど垂直に入射蒸着せしめるように
したものが公知であるが、一般に、その蒸発源ｂ
の基材の走行方向の長さl0は、該開口部ｅの基材
の走行方向の長さｌより小さい。従つて、特に走
行基材ａがその開口部ｅに現れ始める該開口部ｅ
の上流端の箇所では、図に矢印で示した如く、斜
めに蒸発物が基材ａに入射する傾向となる。
基材ａを矢印方向に走行させ、その下方にこれに
対面して設けた蒸発源ｂへ電子ビーム発生装置よ
り電子ビームｃをスイープさせて当て、該蒸発源
ｂを加熱溶解蒸発させ、その蒸発物を該基材ａと
該蒸発源ｂとの間に介在させた斜め入射蒸着を防
ぐ防着板ｄの垂直蒸着用開口部ｅを介して、走行
する基板ａに殆ど垂直に入射蒸着せしめるように
したものが公知であるが、一般に、その蒸発源ｂ
の基材の走行方向の長さl0は、該開口部ｅの基材
の走行方向の長さｌより小さい。従つて、特に走
行基材ａがその開口部ｅに現れ始める該開口部ｅ
の上流端の箇所では、図に矢印で示した如く、斜
めに蒸発物が基材ａに入射する傾向となる。
然るに、一般にその蒸発原子の析出成長は、基
材面に最初に蒸着する蒸発原子が核となり、その
核の方向に成長するから、かかる上記の装置で
は、その基材面に最初に蒸着する蒸発原子は基材
面に対し斜めに付着し、これが核となるので、そ
の核の方向に従つてそれ以後斜めに成長する傾向
があり、従つて良好な垂直磁化膜が得られない不
都合を有する。
材面に最初に蒸着する蒸発原子が核となり、その
核の方向に成長するから、かかる上記の装置で
は、その基材面に最初に蒸着する蒸発原子は基材
面に対し斜めに付着し、これが核となるので、そ
の核の方向に従つてそれ以後斜めに成長する傾向
があり、従つて良好な垂直磁化膜が得られない不
都合を有する。
本発明は、この欠点を解消し、基材面に垂直磁
気特性の優れた垂直磁化膜を形成できる垂直磁気
記録体の製造装置を提供することを目的とするも
ので、一方へ走行する基材と、該基材の下方にこ
れに対面して設けた蒸発源と、蒸発源の蒸発面を
基材の走行方向へスイープする電子ビームと、該
基材の該蒸発源との間にその基材の近傍に斜め入
射蒸着を防ぐ防着板の垂直蒸着用開口部と、該垂
直蒸着用開口部に向けて酸素ガスを噴出する酸素
導入管を備えた垂直磁気記録体の製造装置におい
て、該蒸発源に、走行する基材の上流側の該垂直
蒸着用開口部の開口端縁をまたいで拡がる上流側
蒸発面と走行する基材の下流側の該垂直蒸着用開
口部の開口端縁をまたいで拡がる下流側蒸発面と
を設けたことを特徴とする。
気特性の優れた垂直磁化膜を形成できる垂直磁気
記録体の製造装置を提供することを目的とするも
ので、一方へ走行する基材と、該基材の下方にこ
れに対面して設けた蒸発源と、蒸発源の蒸発面を
基材の走行方向へスイープする電子ビームと、該
基材の該蒸発源との間にその基材の近傍に斜め入
射蒸着を防ぐ防着板の垂直蒸着用開口部と、該垂
直蒸着用開口部に向けて酸素ガスを噴出する酸素
導入管を備えた垂直磁気記録体の製造装置におい
て、該蒸発源に、走行する基材の上流側の該垂直
蒸着用開口部の開口端縁をまたいで拡がる上流側
蒸発面と走行する基材の下流側の該垂直蒸着用開
口部の開口端縁をまたいで拡がる下流側蒸発面と
を設けたことを特徴とする。
本発明の実施例を第２図及び第３図示の原理図
に基づき説明する。同図に於いて、符号１は矢印
方向へ走行する基材、２はその下方に設けた蒸発
源、３は該基材１と該蒸発源２との間に介在され
且つ該基材１の近傍に設けられた斜め入射蒸着を
防ぐ防着板、４は該防着板３に設けた垂直蒸着用
開口部を示す。
に基づき説明する。同図に於いて、符号１は矢印
方向へ走行する基材、２はその下方に設けた蒸発
源、３は該基材１と該蒸発源２との間に介在され
且つ該基材１の近傍に設けられた斜め入射蒸着を
防ぐ防着板、４は該防着板３に設けた垂直蒸着用
開口部を示す。
こうした構成は従来の装置も備えるところであ
り、該開口部４に向けて酸素ガスを噴出するため
の酸素導入管９も従来の装置が備えるところであ
るが、本発明に於いては、該蒸発源２に、垂直蒸
着用開口部４に基材１が現れ始める該開口部４の
上流側の開口端縁４ａを跨いで上流側へと拡がる
上流側蒸発面２ａを設けると共に下流側の開口端
縁４ｂを跨いで下流側へと拡がる下流側蒸発面２
ｂを設けるようにした。図面でL0は蒸発源２の
基材の走行方向の長さで、その長さは、開口部４
の基材の走行方向の長さＬよりも大きくなつてい
る。そして、該蒸発源２に電子ビーム発生装置か
らの電子ビームＢをその上流側蒸発面２ａにスイ
ープして当てると、矢印のように、該上流側の開
口端縁４ａの近傍では垂直に蒸発すると共にその
両側からは斜めに蒸発した蒸発物が垂直の蒸発物
と合流し、その結果、何れか一方へ斜めに傾いた
蒸着はなくなる傾向となり、殆ど垂直に蒸着し、
その後の基材１の走行で開口部４から入射する蒸
発物はこの核に付着して垂直に成長する。そして
蒸発源２には下流側の開口端縁４ｂを跨いで更に
下流側へ拡がる下流側蒸発面２ｂを設けたことに
より斜めの成長がより一層抑制され、垂直方向へ
成長した垂直磁化膜が得られる。
り、該開口部４に向けて酸素ガスを噴出するため
の酸素導入管９も従来の装置が備えるところであ
るが、本発明に於いては、該蒸発源２に、垂直蒸
着用開口部４に基材１が現れ始める該開口部４の
上流側の開口端縁４ａを跨いで上流側へと拡がる
上流側蒸発面２ａを設けると共に下流側の開口端
縁４ｂを跨いで下流側へと拡がる下流側蒸発面２
ｂを設けるようにした。図面でL0は蒸発源２の
基材の走行方向の長さで、その長さは、開口部４
の基材の走行方向の長さＬよりも大きくなつてい
る。そして、該蒸発源２に電子ビーム発生装置か
らの電子ビームＢをその上流側蒸発面２ａにスイ
ープして当てると、矢印のように、該上流側の開
口端縁４ａの近傍では垂直に蒸発すると共にその
両側からは斜めに蒸発した蒸発物が垂直の蒸発物
と合流し、その結果、何れか一方へ斜めに傾いた
蒸着はなくなる傾向となり、殆ど垂直に蒸着し、
その後の基材１の走行で開口部４から入射する蒸
発物はこの核に付着して垂直に成長する。そして
蒸発源２には下流側の開口端縁４ｂを跨いで更に
下流側へ拡がる下流側蒸発面２ｂを設けたことに
より斜めの成長がより一層抑制され、垂直方向へ
成長した垂直磁化膜が得られる。
第３図に於いて、符号５は真空排気される密閉
容器、６はテープ状基材１を一方へ移行させる送
出しロール６ａと巻取ロール６ｂから成る移行装
置、７はテープ基材１に移動と冷却を与える冷却
キヤン、８は電子ビーム発生装置、１０は蒸発源
２を収容したるつぼを示す。
容器、６はテープ状基材１を一方へ移行させる送
出しロール６ａと巻取ロール６ｂから成る移行装
置、７はテープ基材１に移動と冷却を与える冷却
キヤン、８は電子ビーム発生装置、１０は蒸発源
２を収容したるつぼを示す。
該蒸発源２にFe，Co，Niやその合金等の金属
を収め、基材１に向けての蒸発源２からの蒸発と
同時に酸素導入管９から酸素ガスを開口部４に向
けて噴出させると、上記したように上流側蒸発面
２ａから基材１に垂直に入射する蒸着物の一部が
酸化され、金属と金属酸化物との２相が所定割合
で混ざつたCo−Ｏ，Co−Ni−Ｏ，Fe−Co−Ni
−Ｏなどの垂直磁化膜がテープ基材面に形成さ
れ、金属と金属酸化物の２相が垂直に成長した形
の垂直磁気記録体が製造される。この垂直磁化膜
は強磁性柱状粒子と非強磁性酸化物の２相構造の
膜であり、飽和磁化が減少し且つ形状磁気異方性
や結晶磁気異方性による垂直磁気異方性が増大
し、垂直磁気特性の優れた膜が得られる。
を収め、基材１に向けての蒸発源２からの蒸発と
同時に酸素導入管９から酸素ガスを開口部４に向
けて噴出させると、上記したように上流側蒸発面
２ａから基材１に垂直に入射する蒸着物の一部が
酸化され、金属と金属酸化物との２相が所定割合
で混ざつたCo−Ｏ，Co−Ni−Ｏ，Fe−Co−Ni
−Ｏなどの垂直磁化膜がテープ基材面に形成さ
れ、金属と金属酸化物の２相が垂直に成長した形
の垂直磁気記録体が製造される。この垂直磁化膜
は強磁性柱状粒子と非強磁性酸化物の２相構造の
膜であり、飽和磁化が減少し且つ形状磁気異方性
や結晶磁気異方性による垂直磁気異方性が増大
し、垂直磁気特性の優れた膜が得られる。
第４図は、第３図示の冷却キヤン７に代えて、
無端金属ベルト１１を張設した１対の冷却ローラ
ー１２，１２によりテープ状基材１を走行させる
ようにしたものである。この例では、酸素導入管
９を左右対称に設けるようにした。
無端金属ベルト１１を張設した１対の冷却ローラ
ー１２，１２によりテープ状基材１を走行させる
ようにしたものである。この例では、酸素導入管
９を左右対称に設けるようにした。
第３図及び第４図の場合、その蒸発源２の長さ
L0を防着板３の開口部４の長さＬよりは著しく
長手とし、その両側の蒸発面２ａ，２ｂは開口端
縁４ａ，４ｂより夫々等しい長さだけ延長するよ
うにした。第３図示の装置により酸素ガスを開口
部４に向けて噴出しながら垂直磁化膜を形成した
場合、そのL0／Ｌの比が１を越えればHc⊥Hc
は２以上、Br⊥／Brは1.5以上を有する垂直
磁化膜が得られるに対し、L0／Ｌの比が0.5では、
Hc⊥／Hcは1.2程度、Br⊥／Brは１程度に
すぎなかつた。
L0を防着板３の開口部４の長さＬよりは著しく
長手とし、その両側の蒸発面２ａ，２ｂは開口端
縁４ａ，４ｂより夫々等しい長さだけ延長するよ
うにした。第３図示の装置により酸素ガスを開口
部４に向けて噴出しながら垂直磁化膜を形成した
場合、そのL0／Ｌの比が１を越えればHc⊥Hc
は２以上、Br⊥／Brは1.5以上を有する垂直
磁化膜が得られるに対し、L0／Ｌの比が0.5では、
Hc⊥／Hcは1.2程度、Br⊥／Brは１程度に
すぎなかつた。
このように本発明によるときは、一方へ走行す
る基材の近傍に防着板の垂直蒸着用開口部を備え
ると共に、該垂直蒸着用開口部に向けて酸素ガス
を噴出する酸素導入管を備え、蒸発源の蒸発面が
電子ビームで基材の走行方向へスイープされる垂
直磁気記録体の製造装置において、該蒸発源に、
走行する基材の上流側の該垂直蒸着用開口部の開
口端縁を跨いで拡がる上流側蒸発面と走行する基
材の下流側の該垂直蒸着用開口部の開口端縁を跨
いで拡がる下流側蒸発面とを設けたので、走行す
る基材面に垂直方向へ成長するための核となる垂
直方向の蒸着物であつて金属と金属酸化物とが混
じつた蒸着物を蒸着することが出来、斜めの成長
が抑制されるので基材の走行でその後に付着する
蒸発物の成長を垂直方向となし得られ、金属と金
属酸化物の混じつた垂直磁気特性の優れた垂直磁
化膜を有する磁気記録体を製造できる等の効果が
ある。
る基材の近傍に防着板の垂直蒸着用開口部を備え
ると共に、該垂直蒸着用開口部に向けて酸素ガス
を噴出する酸素導入管を備え、蒸発源の蒸発面が
電子ビームで基材の走行方向へスイープされる垂
直磁気記録体の製造装置において、該蒸発源に、
走行する基材の上流側の該垂直蒸着用開口部の開
口端縁を跨いで拡がる上流側蒸発面と走行する基
材の下流側の該垂直蒸着用開口部の開口端縁を跨
いで拡がる下流側蒸発面とを設けたので、走行す
る基材面に垂直方向へ成長するための核となる垂
直方向の蒸着物であつて金属と金属酸化物とが混
じつた蒸着物を蒸着することが出来、斜めの成長
が抑制されるので基材の走行でその後に付着する
蒸発物の成長を垂直方向となし得られ、金属と金
属酸化物の混じつた垂直磁気特性の優れた垂直磁
化膜を有する磁気記録体を製造できる等の効果が
ある。
第１図は従来装置の側面線図、第２図は本発明
の要部の側面図、第３図は本発明の実施例の全体
側面図、第４図は本発明の変形例の側面図であ
る。 １……基材、２……蒸発源、２ａ……上流側蒸
発面、３……防着板、４……垂直蒸着用開口部、
４ａ……上流側開口端縁、９……酸素導入管。
の要部の側面図、第３図は本発明の実施例の全体
側面図、第４図は本発明の変形例の側面図であ
る。 １……基材、２……蒸発源、２ａ……上流側蒸
発面、３……防着板、４……垂直蒸着用開口部、
４ａ……上流側開口端縁、９……酸素導入管。
Claims (1)
- １ 一方へ走行する基材と、該基材の下方にこれ
に対面して設けた蒸発源と、蒸発源の蒸発面を基
材の走行方向へスイープする電子ビームと、該基
材の該蒸発源との間にその基材の近傍に斜め入射
蒸着を防ぐ防着板の垂直蒸着用開口部と、該垂直
蒸着用開口部に向けて酸素ガスを噴出する酸素導
入管を備えた垂直磁気記録体の製造装置におい
て、該蒸発源に、走行する基材の上流側の該垂直
蒸着用開口部の開口端縁をまたいで拡がる上流側
蒸発面と走行する基材の下流側の該垂直蒸着用開
口部の開口端縁をまたいで拡がる下流側蒸発面と
を設けたことを特徴とする垂直磁気記録体の製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18368883A JPS6076024A (ja) | 1983-10-01 | 1983-10-01 | 垂直磁気記録体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18368883A JPS6076024A (ja) | 1983-10-01 | 1983-10-01 | 垂直磁気記録体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6076024A JPS6076024A (ja) | 1985-04-30 |
| JPH0418373B2 true JPH0418373B2 (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=16140189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18368883A Granted JPS6076024A (ja) | 1983-10-01 | 1983-10-01 | 垂直磁気記録体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6076024A (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0239019B2 (ja) * | 1981-07-16 | 1990-09-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Jikikirokubaitainoseizohoho |
| JPS5896868A (ja) * | 1981-12-02 | 1983-06-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反応蒸着装置 |
| JPS58105433A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPS59175036A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-10-01 JP JP18368883A patent/JPS6076024A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6076024A (ja) | 1985-04-30 |
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