JPS63224321A - 分子線エピタキシ−装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｃ産業上の利用分野〕 この発明は、ウェハに分子線にて所望の薄膜を成長させ
る為の分子線エピタキシー装置（以下ＭＢＥ装置と略記
する）に関する。

（発明の概要〕 チェンバー内に、筒状のシュラウドと、ウェハを支持す
る為の支持具と、前記シュラウドの内面の延長面によっ
て取り囲まれる空間の内部に開口部が（る様に複数の蒸
発源を設置し、更に該蒸発源の開口部を隔てる隔壁を前
記シュラウドに設置する。

〔従来の技術〕

従来、第３図に示すように、ＭＢＥ装置には蒸発源から
の熱輻射対策および真空度の向上の目的からＬＮ、を冷
媒とするシュラウド８を設置することが知られていた。

（発明が解決しようとする問題点〕 しかし、従来のＭＢＥ装置は、蒸発′ａ３ａからの蒸発
物質が蒸発Ｂ３ｂの開口部の鉛直上方の点Ｐに付着し、
酸点Ｐから付着物の落下がある場合前記蒸発７１！３ｂ
に前記蒸発＃３ａの蒸発物質が混入する欠点があった。

そこで、この発明は蒸発源へ他の蒸発物質が混入するこ
とが無いＭＢＥ装置を得ることを目的としている。

〔問題点を解決するための手段〕

上記問題点を解決するために、この発明は、ＭＢＥ装置
において、チェンバーと、該チェンバー内に設置された
筒状のシュラウドと、ウェハを支持する為の支持具と、
前記シュラウドの内面の延長面によって取り囲まれる空
間の内部に開口部がくる様に設置された蒸発源と、更に
該蒸発源の開口部を隔てる為の隔壁から構成する。

〔作用〕

上記のように構成されたＭＢＥ装置のシュラウドおよび
チェンバー内壁および隔壁に付着した蒸発物質が蒸発源
に落下しても、該蒸発源中の蒸発物質には他の蒸発物質
の混入は無く、蒸発源物質への不純物の混入を防止でき
るのである。

〔実施例〕

以下に、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図において、チェンバー１内に支持具２．シュラウ
ド５を設置し、該シュラウド５の内面円筒の延長面の内
部に開口部がくるように蒸発源３を設置し、更に該蒸発
源の開口部を隔てる隔壁６を設置する。第２図に横断面
図を示す。

以上のような実施例において、蒸発源３ａがらの分子線
は前記隔壁６ａ、６ｂによって遮られ、蒸発源３ｃ＋　
　３ｄ、３ｅ、３ｆの開口部の上方には前記隔壁６ａ、
６ｂの影７が生じ、前記蒸発源３ａの蒸発物質は付着せ
ず、前記蒸発源３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆへの前記蒸発１
ｆｉ３ａからの蒸発物質の混入を防止できる。

〔発明の効果〕

この発明は、以上説明したように、チェンバー内に、筒
状のシュラウドと、ウェハを支持する為の支持具を設置
し、前記シュラウドの内面の延長面によって取り囲まれ
る空間の内部に開口部がくる様に蒸発源を設置し、更に
該蒸発源の開口部を隔てる隔壁を設置することによって
、蒸発源への他の蒸発物質の混入を無くす効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明にかかるＭＢＥ装置の縦断面図、第
２図は、この発明にかかるＭＢＥ装置の横断面図、第３
図は、従来のＭＢＥ装置に用いられているシュラウドの
縦断面図である。 １・・・チェンバー ２・・・支持具 ３・・・蒸発源 ５・・・シュラウド ６・・・隔壁 以上 出願人　セイコー電子工業株式会社 従来のＭＢＥＫ！／′ｌｊ遷灯［Ｔ］図第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. チェンバーと、該チェンバー内に設置された筒状のシュ
   ラウドと、前記シェラウドの内面の延長面によって取り
   囲まれる空間の内部に開口部がくる様に設置された複数
   の蒸発源と、ウェハを支持する為の支持具とから成り、
   更に前記シュラウドは前記蒸発源の開口部をそれぞれ隔
   てる為の隔壁を有することを特徴とする分子線エピタキ
   シー装置。