JPS63236322A - Ｘ線露光用マスク - Google Patents
Ｘ線露光用マスクInfo
- Publication number
- JPS63236322A JPS63236322A JP62068836A JP6883687A JPS63236322A JP S63236322 A JPS63236322 A JP S63236322A JP 62068836 A JP62068836 A JP 62068836A JP 6883687 A JP6883687 A JP 6883687A JP S63236322 A JPS63236322 A JP S63236322A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- adhesive
- support frame
- fixing ring
- ray exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、軟Ｘ線を用いて微細パターンを転写するＸ線
露光用マスクにかかわり、特に、熱歪の影響が少なく、
マスク基板の平坦性の高精度維持が可能なＸ線露光用マ
スクに関する。
露光用マスクにかかわり、特に、熱歪の影響が少なく、
マスク基板の平坦性の高精度維持が可能なＸ線露光用マ
スクに関する。
従来のＸ線露光用マスクは、特公昭５４−８０６８号公
報に記載のように、マスク支持枠と固定リングとの間に
一定の厚みの接着剤を充填して接着していた。また、接
着剤としては、接着力が強力で充填が可能なエポキシ系
接着剤が一般的に用いられていた。
報に記載のように、マスク支持枠と固定リングとの間に
一定の厚みの接着剤を充填して接着していた。また、接
着剤としては、接着力が強力で充填が可能なエポキシ系
接着剤が一般的に用いられていた。
上記従来技術は、接着剤の熱膨張に起因するマスク基板
の変形について配慮されておらず、露光転写時マスク基
板の平坦性が維持できず、マスクとウェハ間のギャップ
精度およびアラインメント精度が低下するという問題が
あった。
の変形について配慮されておらず、露光転写時マスク基
板の平坦性が維持できず、マスクとウェハ間のギャップ
精度およびアラインメント精度が低下するという問題が
あった。
すなわち、エポキシ系接着剤等の硬化後は弾力性をほと
んど有しない接着剤を用いてマスク支持枠を固定リング
に接着した場合、接着剤の剛性が高いため、マスク支持
枠、接着剤および固定リングの熱膨張差によって、剛性
の低いマスク支持枠が変形する。また、一般に接着剤の
熱膨張係数は金属に比べて１桁ないし２桁大きく、従来
例のようにマスク支持枠と固定リングとの間に一定の厚
みの接着剤を充填したような構造では、接着剤の厚さ方
向の熱膨張も無視できなくなる。例えば、接着剤の厚み
が１瓢、温度変動が２℃で、エポキシ系接着剤使用の場
合、接着剤の厚さ方向の寸法変化は０．１〜α２μｍと
なる。
んど有しない接着剤を用いてマスク支持枠を固定リング
に接着した場合、接着剤の剛性が高いため、マスク支持
枠、接着剤および固定リングの熱膨張差によって、剛性
の低いマスク支持枠が変形する。また、一般に接着剤の
熱膨張係数は金属に比べて１桁ないし２桁大きく、従来
例のようにマスク支持枠と固定リングとの間に一定の厚
みの接着剤を充填したような構造では、接着剤の厚さ方
向の熱膨張も無視できなくなる。例えば、接着剤の厚み
が１瓢、温度変動が２℃で、エポキシ系接着剤使用の場
合、接着剤の厚さ方向の寸法変化は０．１〜α２μｍと
なる。
本発明の目的は、接着剤の種類、接着方法に起因するマ
スク基板の熱変°形の問題を取り除き、露光転写中、マ
スク平坦性の高精度維持が可能なＸ線露光用マスクを提
供することにある。
スク基板の熱変°形の問題を取り除き、露光転写中、マ
スク平坦性の高精度維持が可能なＸ線露光用マスクを提
供することにある。
上記目的は、固定リングの一方の基準面に接着剤を充填
するための凹みを設け、該凹みに硬化後も弾力性を有す
る接着剤を充填して、マスク支持枠のパターン形成側と
は反対側の面と、固定リングの上記凹みを設けた基準面
とを密着させて接着することにより、達成される。
するための凹みを設け、該凹みに硬化後も弾力性を有す
る接着剤を充填して、マスク支持枠のパターン形成側と
は反対側の面と、固定リングの上記凹みを設けた基準面
とを密着させて接着することにより、達成される。
さらに、接着を露光転写時の温度よ）数度〜数十度高い
温度で行うか、あるいは、接着剤として、硬化時収縮性
を有しかつ硬化後も弾力性を有する接着剤を用いること
により、一層の効果を挙げることができる。
温度で行うか、あるいは、接着剤として、硬化時収縮性
を有しかつ硬化後も弾力性を有する接着剤を用いること
により、一層の効果を挙げることができる。
上記のように、硬化後も弾力性を有する接着剤を用いて
マスク支持枠と固定リングとを接着することによう、露
光転写中に温度変動が生じても、マスク支持枠、接着剤
および固定リングの熱膨張の差による変形の要因を上記
接着剤の弾性変形によって吸収させることが可能となる
ので、マスク基板のそυ等の熱変形を防止することがで
き、高精度の平坦性の維持が可能となる。
マスク支持枠と固定リングとを接着することによう、露
光転写中に温度変動が生じても、マスク支持枠、接着剤
および固定リングの熱膨張の差による変形の要因を上記
接着剤の弾性変形によって吸収させることが可能となる
ので、マスク基板のそυ等の熱変形を防止することがで
き、高精度の平坦性の維持が可能となる。
また、固定リングの接着側の基準面と、マスク支持枠の
パターン形成側とは反対側の面とを密着させ、固定リン
グの接着側の基準面に設けた凹みに接着剤を充填し、露
光転写時の温度より数度〜数十度高い温度で接着を行う
か、あるいは硬化時収縮性を有し硬化後も弾力性を有す
る接着剤を用いることによシ、露光転写時には、接着剤
の収縮によって発生する力がマスク支持枠を固定リング
に密着させる力として作用し、接着剤に起因するマスク
の厚さ方向の変化を除去することができる。
パターン形成側とは反対側の面とを密着させ、固定リン
グの接着側の基準面に設けた凹みに接着剤を充填し、露
光転写時の温度より数度〜数十度高い温度で接着を行う
か、あるいは硬化時収縮性を有し硬化後も弾力性を有す
る接着剤を用いることによシ、露光転写時には、接着剤
の収縮によって発生する力がマスク支持枠を固定リング
に密着させる力として作用し、接着剤に起因するマスク
の厚さ方向の変化を除去することができる。
このときマスク支持枠を固定リングに密着させる力は、
接着剤が硬化後も弾力性を有しているため、マスク基板
の変形等の悪影響はほとんど生じない。
接着剤が硬化後も弾力性を有しているため、マスク基板
の変形等の悪影響はほとんど生じない。
以下、本発明の一実施例を第１図、第２図により説明す
る。
る。
第１図は、該実施例のＸ線露光用マスクの断面図−ｔ’
ｓす、マスクパターン１、マスク基板２、マスク支持枠
３、固定リング４、接着剤５からなっている。固定リン
グ４の両面は高精度で平坦な基準面を有し、一方の基準
面には接着剤５を充填するための凹み６を設けである。
ｓす、マスクパターン１、マスク基板２、マスク支持枠
３、固定リング４、接着剤５からなっている。固定リン
グ４の両面は高精度で平坦な基準面を有し、一方の基準
面には接着剤５を充填するための凹み６を設けである。
凹み乙の形状は、マスク支持枠３と固定リング４との間
で気密性を必要とする場合は連続した溝状とし、そうで
ない場合は連続しない凹み、例えばそれぞれ独立した複
数の凹みでもよい。凹み６への接着剤５の充填量は、凹
み６内に少しすき壕ができる程度がよい。
で気密性を必要とする場合は連続した溝状とし、そうで
ない場合は連続しない凹み、例えばそれぞれ独立した複
数の凹みでもよい。凹み６への接着剤５の充填量は、凹
み６内に少しすき壕ができる程度がよい。
マスク支持枠３と固定リング４との接着は、接着剤５を
凹み６内に充填した後、固定リング４の凹み６のある側
の基準面と、マスク支持枠３のマスクパターン形成側と
は反対側の面とを密着させ、露光転写時の温度より数度
〜数十度高い温度で接着を行うか、あるいは硬化時収縮
性を有しかつ硬化後も弾力性を有する接着剤を用いて接
着を行う。
凹み６内に充填した後、固定リング４の凹み６のある側
の基準面と、マスク支持枠３のマスクパターン形成側と
は反対側の面とを密着させ、露光転写時の温度より数度
〜数十度高い温度で接着を行うか、あるいは硬化時収縮
性を有しかつ硬化後も弾力性を有する接着剤を用いて接
着を行う。
なお、固定リング４に設けた連通穴７は、接着時にマス
ク支持枠３と固定リング４とを真空吸着によシ密着させ
るためのものである。接着剤５には、硬化後も弾力性を
有するシリコーンゴム等のゴム系の接着剤を用いる。
ク支持枠３と固定リング４とを真空吸着によシ密着させ
るためのものである。接着剤５には、硬化後も弾力性を
有するシリコーンゴム等のゴム系の接着剤を用いる。
第２図は、第１図のマスクの接着方法を示したものであ
る。固定リング４に設けた凹み６内に接着剤５を充填し
、マスク支持枠３のマスクパターン１が形成された側と
反対側の面と、固定リング４の凹み６の設けられた基糸
面とを密着させる。
る。固定リング４に設けた凹み６内に接着剤５を充填し
、マスク支持枠３のマスクパターン１が形成された側と
反対側の面と、固定リング４の凹み６の設けられた基糸
面とを密着させる。
次に、固定リング４に設けた連通穴７を、ペース８に設
けた溝９の位置に合わせ、真空吸引路１０を用いて真空
吸引し、マスク支持枠３と固定リング４とを完全に密着
させる。この状態で、加熱手段１１によりマスク体１２
を、露光転写時の温度より数度〜数十度高い温度に加熱
し、接着剤５を硬化させる。
けた溝９の位置に合わせ、真空吸引路１０を用いて真空
吸引し、マスク支持枠３と固定リング４とを完全に密着
させる。この状態で、加熱手段１１によりマスク体１２
を、露光転写時の温度より数度〜数十度高い温度に加熱
し、接着剤５を硬化させる。
本実施例によれば、マスク支持枠６と固定リング４を、
密着状態で、硬化後に弾力性を有する接着剤を用いて、
露光転写時の温度より数度〜数十度高い温度で接着する
か、あるいは硬化時収縮性の接着剤を用いて接着するた
め、接着剤に起因するマスクの熱変形を防止できるよう
になる。
密着状態で、硬化後に弾力性を有する接着剤を用いて、
露光転写時の温度より数度〜数十度高い温度で接着する
か、あるいは硬化時収縮性の接着剤を用いて接着するた
め、接着剤に起因するマスクの熱変形を防止できるよう
になる。
本発明によれば、マスクの熱変形が防止できるので、露
光転写中においてマスク基板の平坦性が高精度で維持で
きるようにな９．Ｘ線露光に際しマスクとウェハ間のギ
ャップ精度、アラインメント精度を向上することができ
る。
光転写中においてマスク基板の平坦性が高精度で維持で
きるようにな９．Ｘ線露光に際しマスクとウェハ間のギ
ャップ精度、アラインメント精度を向上することができ
る。
第１図は本発明の一実施例のＸ線露光用マスクの断面図
、第２図は第１図のマスクの接着方法を説明するための
図である。 １・・・マスクパターン ２・・・マスク基板 ３・・・マスク支持枠 ４・・・固定リング ５・・・接着剤 ６・・・凹み。
、第２図は第１図のマスクの接着方法を説明するための
図である。 １・・・マスクパターン ２・・・マスク基板 ３・・・マスク支持枠 ４・・・固定リング ５・・・接着剤 ６・・・凹み。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、軟Ｘ線を吸収しやすい材質からなるマスクパターン
と、該マスクパターンをその面上に形成する軟Ｘ線を透
過しやすい材質からなる薄いマスク基板と、該マスク基
板を支えるマスク支持枠と、該マスク支持枠を接着によ
り固定する固定リングとで構成されるＸ線露光用マスク
において、上記固定リングは両面に高精度で平坦な基準
面を有するとともに、その一方の基準面には凹みを有し
、該凹みに硬化後も弾力性を有する接着剤を充填して、
上記マスク支持枠のパターン形成側とは反対側の面と、
固定リングの上記凹みが設けられた基準面とを密着させ
、該接着剤を硬化させてマスク支持枠と固定リングとを
接着したことを特徴とするＸ線露光用マスク。 ２、特許請求の範囲第１項に記載のＸ線露光用マスクに
おいて、露光転写時の温度より数度〜数十度高い温度で
接着を行ったことを特徴とするＸ線露光用マスク。 ３、特許請求の範囲第１項に記載のＸ線露光用マスクに
おいて、接着剤として、硬化時収縮性を有する接着剤を
用いたことを特徴とするＸ線露光用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62068836A JPS63236322A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | Ｘ線露光用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62068836A JPS63236322A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | Ｘ線露光用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63236322A true JPS63236322A (ja) | 1988-10-03 |
Family
ID=13385179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62068836A Pending JPS63236322A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | Ｘ線露光用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63236322A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0677743A3 (en) * | 1994-03-15 | 1997-05-07 | Minimed Inc | Method of manufacturing thin film detectors. |
-
1987
- 1987-03-25 JP JP62068836A patent/JPS63236322A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0677743A3 (en) * | 1994-03-15 | 1997-05-07 | Minimed Inc | Method of manufacturing thin film detectors. |
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