JPS63246374A - ピリド〔1,2−a〕ピリミジン化合物の製造法 - Google Patents
ピリド〔1,2−a〕ピリミジン化合物の製造法Info
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- JPS63246374A JPS63246374A JP62079688A JP7968887A JPS63246374A JP S63246374 A JPS63246374 A JP S63246374A JP 62079688 A JP62079688 A JP 62079688A JP 7968887 A JP7968887 A JP 7968887A JP S63246374 A JPS63246374 A JP S63246374A
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- pyrido
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
LiよL五里匁!
本発明は優れた抗アレルギー作用を有するピット[1,
2−a]ピリミジン化合物の製造法に関する。更に詳し
くは下記一般式[工]:(式中、R1は水素原子又は水
駿基を表わし、R2は水素原子又は炭素数1〜4個のフ
ルカッイル基を表わし、R3は水素原子、炭素数1〜4
個のアルキル基又はアリル基を表わす。)で示されるピ
リド[1,2−alピリミジン化合物(以下単に[ピリ
ドピリミジン化合物[工]」と略す)の製造法に関する
。
2−a]ピリミジン化合物の製造法に関する。更に詳し
くは下記一般式[工]:(式中、R1は水素原子又は水
駿基を表わし、R2は水素原子又は炭素数1〜4個のフ
ルカッイル基を表わし、R3は水素原子、炭素数1〜4
個のアルキル基又はアリル基を表わす。)で示されるピ
リド[1,2−alピリミジン化合物(以下単に[ピリ
ドピリミジン化合物[工]」と略す)の製造法に関する
。
炙米辺盈迷
上述のピリドピリミジン化合物[工]は、公知文献未記
載の新規な化合物で必り、従って、かかる化合物の製造
を目的とする方法は未だ知られていない。
載の新規な化合物で必り、従って、かかる化合物の製造
を目的とする方法は未だ知られていない。
日が解決しようとする間1点
本発明者らほかは、特願昭60−219126号におい
て、9− [(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2−n
−プロピルフェノキシ)メチル]−3−(1H−テトラ
ゾール−5−イル)−4H−ピリド[1,2−a]ピリ
ミジン−4−オン(以下「化合物a」と仮称する)の製
造法として、9−[(4−7セチルー3−ヒドロキシ−
2−n−プロピルフェノキシ)メチルコー3−シアノー
4日−ピリド[1,2−a]ピリミジン−4−オンと適
当なアジ化水素酸塩とを反応させ、テトラゾール環を形
成させて得る方法をすでに呈示している。
て、9− [(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2−n
−プロピルフェノキシ)メチル]−3−(1H−テトラ
ゾール−5−イル)−4H−ピリド[1,2−a]ピリ
ミジン−4−オン(以下「化合物a」と仮称する)の製
造法として、9−[(4−7セチルー3−ヒドロキシ−
2−n−プロピルフェノキシ)メチルコー3−シアノー
4日−ピリド[1,2−a]ピリミジン−4−オンと適
当なアジ化水素酸塩とを反応させ、テトラゾール環を形
成させて得る方法をすでに呈示している。
本発明は化合物aの別途製造法に拘わるとともに、化合
物aの周辺化合物をも含めた新規な製造法を提供せんと
するものである。
物aの周辺化合物をも含めた新規な製造法を提供せんと
するものである。
問題点を解決するための手段
本発明の要旨は、3− [3−(無置換乃至三置換フェ
ノキシメチル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアノア
クリル酸エステルとアジ化水素酸塩とを反応させ、ピリ
ド[1,2−a]ピリミジン環縮合と同時にテトラゾー
ル環形成をも図ることにおる。
ノキシメチル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアノア
クリル酸エステルとアジ化水素酸塩とを反応させ、ピリ
ド[1,2−a]ピリミジン環縮合と同時にテトラゾー
ル環形成をも図ることにおる。
本発明を具体的に説明する。本発明方法によれば、下記
一般式[■コニ (以下余白) (式中、R1は水素原子又は水V基を表わし、R2は水
素原子又は炭素数1〜4個のアルカノイル基を表わし、
R3は水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基又はアリ
ル基を表わし、R4はメチル基又はエチル基を表わす。
一般式[■コニ (以下余白) (式中、R1は水素原子又は水V基を表わし、R2は水
素原子又は炭素数1〜4個のアルカノイル基を表わし、
R3は水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基又はアリ
ル基を表わし、R4はメチル基又はエチル基を表わす。
)
で示されるアクリル酸エステル化合物を、アジ化水素酸
塩と反応させることにより、ピリドピリミジン化合物[
工]を製造することができる。
塩と反応させることにより、ピリドピリミジン化合物[
工]を製造することができる。
R2で表わされるアルカノイル基としては、アセチル基
、プロピオニル基又はブチリル基が、R3で表わされる
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル’L n−ブチル基が夫々挙げられ
る。R2及びR3は、ベンゼン環の2.4.5又は6位
のいずれの位置に置換してもよいか、Rは4位に、R3
は2位・ 2 に夫々置換するのが最も望ましい。
、プロピオニル基又はブチリル基が、R3で表わされる
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル’L n−ブチル基が夫々挙げられ
る。R2及びR3は、ベンゼン環の2.4.5又は6位
のいずれの位置に置換してもよいか、Rは4位に、R3
は2位・ 2 に夫々置換するのが最も望ましい。
使用するアジ化水素酸塩としては、アジ化アルミニウム
、アジ化スズもしくはアジ化チタン、又はアジ化ナトリ
ウムもしくはアジ化カリウムなどのアジ化アルカリ金属
と塩化アルミニウムもしくは塩化スズなどのルイス酸と
の組合せが挙げられる。水切l1Il書において、アジ
化水素酸塩という意味には、ここでいうアジ化アルカリ
金属とルイス酸との組合せも包含する。アジ化水素酸塩
の使用量は、アクリル酸エステル化合物[II]に対し
、1〜30倍モル量、望ましくは1〜10倍モル辺とす
る。ただし、アジ化アルカリ金属とルイス酸との組合せ
を用いる場合には、ルイス酸はアクリル酸エステル化合
物[I[]に対し、1〜16倍モル量、望ましくは1〜
10倍モル量とし、アジ化アルカリ金属はルイス酸の使
用量に対し、1〜12倍モル量、望ましくは1〜4倍モ
ル最とする。
、アジ化スズもしくはアジ化チタン、又はアジ化ナトリ
ウムもしくはアジ化カリウムなどのアジ化アルカリ金属
と塩化アルミニウムもしくは塩化スズなどのルイス酸と
の組合せが挙げられる。水切l1Il書において、アジ
化水素酸塩という意味には、ここでいうアジ化アルカリ
金属とルイス酸との組合せも包含する。アジ化水素酸塩
の使用量は、アクリル酸エステル化合物[II]に対し
、1〜30倍モル量、望ましくは1〜10倍モル辺とす
る。ただし、アジ化アルカリ金属とルイス酸との組合せ
を用いる場合には、ルイス酸はアクリル酸エステル化合
物[I[]に対し、1〜16倍モル量、望ましくは1〜
10倍モル量とし、アジ化アルカリ金属はルイス酸の使
用量に対し、1〜12倍モル量、望ましくは1〜4倍モ
ル最とする。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン又はテトラヒド
ロフランとジオキサンとの混合液が挙げられる。反応は
0〜100℃、望ましくは30〜70’Cで1〜24時
間、加熱することにより行なう。
ロフランとジオキサンとの混合液が挙げられる。反応は
0〜100℃、望ましくは30〜70’Cで1〜24時
間、加熱することにより行なう。
反応液からのピリドピリミジン化合物[I]の分離は、
Mk理、カラムクロマトグラフィー又は適当な溶媒によ
る再結晶などを適宜組合ぜて行なう。
Mk理、カラムクロマトグラフィー又は適当な溶媒によ
る再結晶などを適宜組合ぜて行なう。
原料となるアクリル酸エステル化合物[n]は、下記一
般式[■]: (式中、R、R及びR3は前記と同意義である。) で示されるアミノピリジン化合物を、メトキシメチレン
シアノ酢酸メチル又はエトキシメチレンシアノ酢酸エチ
ルなどのアルコキシメチレンシアノ酢酸エステルと反応
させることにより製造することができる。
般式[■]: (式中、R、R及びR3は前記と同意義である。) で示されるアミノピリジン化合物を、メトキシメチレン
シアノ酢酸メチル又はエトキシメチレンシアノ酢酸エチ
ルなどのアルコキシメチレンシアノ酢酸エステルと反応
させることにより製造することができる。
アルコキシメチレンシアノ酢酸エステルの使用間は、ア
ミノピリジン化合物[I11]に対し、1〜10倍モル
量、望ましくは1〜5倍モル量とする。
ミノピリジン化合物[I11]に対し、1〜10倍モル
量、望ましくは1〜5倍モル量とする。
反応は無溶媒又は反応溶媒中、80〜150℃、望まし
くは100〜120℃で1〜24時間、加熱することに
より行なう。反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン又
はキシレンが挙げられる。
くは100〜120℃で1〜24時間、加熱することに
より行なう。反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン又
はキシレンが挙げられる。
反応液からのアクリル酸エステル化合物[n]の分離は
、上述のピリドピリミジン化合物[I]の分離方法とほ
ぼ同様に操作して行なう。
、上述のピリドピリミジン化合物[I]の分離方法とほ
ぼ同様に操作して行なう。
作里及髪B皿五A月
本発明方法による化合物aの製造は、ピリド[1,2−
a]ピリミジン環縮合とテトラゾール環形成を同時に達
成できることから、特願昭60−219126号に記載
された方法に比べ、9−[(4−アセチル−3−ヒドロ
キシ−2−n−プロピルフェノキシ)メチル]−3−シ
アノー4日−ピリドN、2−a]ピリミジン−4−オン
を得る工程を結果的に省略することができ、化合物aの
製造工程の相対的短縮が可能となる。また、化合物aを
含め、本発明方法により製造されるピリドピリミジン化
合物[工3は、ロイコトリエンD4に代表されるアナフ
ィラキシ−遅反応性物質(Slow reacting
5ubstance of anaphylaxis
)に対して良好な拮抗作用を有し、この物質に起因する
丁型アレルギー疾患の治療薬として利用できるものでお
る。
a]ピリミジン環縮合とテトラゾール環形成を同時に達
成できることから、特願昭60−219126号に記載
された方法に比べ、9−[(4−アセチル−3−ヒドロ
キシ−2−n−プロピルフェノキシ)メチル]−3−シ
アノー4日−ピリドN、2−a]ピリミジン−4−オン
を得る工程を結果的に省略することができ、化合物aの
製造工程の相対的短縮が可能となる。また、化合物aを
含め、本発明方法により製造されるピリドピリミジン化
合物[工3は、ロイコトリエンD4に代表されるアナフ
ィラキシ−遅反応性物質(Slow reacting
5ubstance of anaphylaxis
)に対して良好な拮抗作用を有し、この物質に起因する
丁型アレルギー疾患の治療薬として利用できるものでお
る。
本発明方法を実施例をもって更に説明する。
衷亙盟ユ
(a工程)
4−[3−(2−アミノ)ピリジルメトキシコー2−ヒ
ドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン3.30
C1(10,99ミリモル)、エトキシメチレンシアノ
酢酸エチル1.869 (10,99ミリモル)及びト
ルエンi ooiの混合物を10時間加熱還流した。冷
接、反応溶媒を減圧留去し、得られた残漬をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒はクロロホルム)
に付して精製した。目的物を含む分画液を採取し、これ
を減圧乾固したのち残渣をエタノールより再結晶し、3
− [3−(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2−n−
プロピルフェノキシメチル〉−2−ピリジルアミノコ−
2−シアノアクリル酸エチルを白色結晶として3.35
9(収率72%)得た。この結晶の融点は144〜14
6℃であった。
ドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン3.30
C1(10,99ミリモル)、エトキシメチレンシアノ
酢酸エチル1.869 (10,99ミリモル)及びト
ルエンi ooiの混合物を10時間加熱還流した。冷
接、反応溶媒を減圧留去し、得られた残漬をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒はクロロホルム)
に付して精製した。目的物を含む分画液を採取し、これ
を減圧乾固したのち残渣をエタノールより再結晶し、3
− [3−(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2−n−
プロピルフェノキシメチル〉−2−ピリジルアミノコ−
2−シアノアクリル酸エチルを白色結晶として3.35
9(収率72%)得た。この結晶の融点は144〜14
6℃であった。
赤外線吸収スペクトル(KBr、Cm’):2200、
1700.1630 元素分析値(C23H25N3 o5として):理論値
(%) : C,65,24)1.5.95 N、 9
.92実測値(%) : C,65,10tl、 5.
89 N、 9.85(b工程) テトラヒドロフラン1001r11に無水塩化アルミニ
ウム4.70 !?(35,25ミリモル)、アジ化ナ
トリウム4.55 g(69,99ミリモル)を加え、
これに3−[3−(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2
−n−プロピルフェノキシメチル)−2−ピリジルアミ
ノコ−2−シアノアクリル酸エチル2.109(4゜9
6ミリモル)を添加し5時間還流した。冷接、反応液を
水にて希釈したのち希塩酸にて酸性とし、析出した沈澱
を濾過、水洗、乾燥し、ついでジメチルホルムアミドで
再結晶し、9− [(4−アセチル−3−ヒドロキシ−
2−n−プロピルフェノキシ)メチル]−3−(IH−
テトラゾール−5−イル)−4H−ピリド[’i、2a
]ピリミジンー4−オンを白色結晶として1.169(
収率56%)1!!た。この結晶の融点269〜271
℃(分解〉でおった。
1700.1630 元素分析値(C23H25N3 o5として):理論値
(%) : C,65,24)1.5.95 N、 9
.92実測値(%) : C,65,10tl、 5.
89 N、 9.85(b工程) テトラヒドロフラン1001r11に無水塩化アルミニ
ウム4.70 !?(35,25ミリモル)、アジ化ナ
トリウム4.55 g(69,99ミリモル)を加え、
これに3−[3−(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2
−n−プロピルフェノキシメチル)−2−ピリジルアミ
ノコ−2−シアノアクリル酸エチル2.109(4゜9
6ミリモル)を添加し5時間還流した。冷接、反応液を
水にて希釈したのち希塩酸にて酸性とし、析出した沈澱
を濾過、水洗、乾燥し、ついでジメチルホルムアミドで
再結晶し、9− [(4−アセチル−3−ヒドロキシ−
2−n−プロピルフェノキシ)メチル]−3−(IH−
テトラゾール−5−イル)−4H−ピリド[’i、2a
]ピリミジンー4−オンを白色結晶として1.169(
収率56%)1!!た。この結晶の融点269〜271
℃(分解〉でおった。
赤外線吸収スペクトル(KBr、cm−1):3240
.1680,11325.1270元素分析値(C21
H2ON6 o4として)二理論値(%) ; C,5
9,99H,4,80N、19.99実測ill! (
%) : C,59,83?I、 4.75 N、19
.88実施例2 (a工程) 4− [3−(2−7ミノ)ピリジルメトキシ]−2−
ヒドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン(10,
99ミリモル)を、3−アリル−4−[3−(2−アミ
ノ)ピリジルメトキシ]−2−ヒドロキシアセトフェノ
ン(10,99ミリモル)に変更した以外は実施例1の
a工程とほぼ同様に操作し、3− [3−(4−アセチ
ル−2−アリル−3−ビトロキシフェノキシメチル)−
2−ピリジルアミノコ−2−シアンアクリル酸エチルを
白色粉末として3.01 cJ(収率65%)1i!た
。
.1680,11325.1270元素分析値(C21
H2ON6 o4として)二理論値(%) ; C,5
9,99H,4,80N、19.99実測ill! (
%) : C,59,83?I、 4.75 N、19
.88実施例2 (a工程) 4− [3−(2−7ミノ)ピリジルメトキシ]−2−
ヒドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン(10,
99ミリモル)を、3−アリル−4−[3−(2−アミ
ノ)ピリジルメトキシ]−2−ヒドロキシアセトフェノ
ン(10,99ミリモル)に変更した以外は実施例1の
a工程とほぼ同様に操作し、3− [3−(4−アセチ
ル−2−アリル−3−ビトロキシフェノキシメチル)−
2−ピリジルアミノコ−2−シアンアクリル酸エチルを
白色粉末として3.01 cJ(収率65%)1i!た
。
赤外線吸収スペクトル(KBr、cm−1):2200
、1700.1625 (b工程) 実施例1のb工程において、3− [3−(4−アセチ
ル−3−ヒドロキシ−2−n−プロピルフェノキシメチ
ル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアンアクリル酸エ
チル(4,96ミリモル)を、3−43−(4−アセチ
ル−2−7ツルー3−ヒドロキシフェノキシメチル)−
2−ピリジルアミノコ−2−シアンアクリル酸エチル(
4,96ミリモル)に変更した以外はほぼ同様に操作し
、9−[(4−アセチル−2−アリル−3−ヒドロキシ
フェノキシ)メチル]−3−(1H−テトラゾール−5
−イル)−4H−ピリド[1,2−a]ピリミジン−4
−オンを白色結晶として1.10 !7(収率53%)
得た。
、1700.1625 (b工程) 実施例1のb工程において、3− [3−(4−アセチ
ル−3−ヒドロキシ−2−n−プロピルフェノキシメチ
ル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアンアクリル酸エ
チル(4,96ミリモル)を、3−43−(4−アセチ
ル−2−7ツルー3−ヒドロキシフェノキシメチル)−
2−ピリジルアミノコ−2−シアンアクリル酸エチル(
4,96ミリモル)に変更した以外はほぼ同様に操作し
、9−[(4−アセチル−2−アリル−3−ヒドロキシ
フェノキシ)メチル]−3−(1H−テトラゾール−5
−イル)−4H−ピリド[1,2−a]ピリミジン−4
−オンを白色結晶として1.10 !7(収率53%)
得た。
融点:267〜270℃(分解;ジメチルホルムアミド
−エタノール混合液より再結晶) 赤外線吸収スペクトル(KBr、cm”):3270、
1690.1635.1270元素分析値(C21H1
8N6 o4として)二理論値(%) : C,60,
28H,4゜34 N、20.09実測値(%) ;
C,60,41H,4,23N、20.21実施例3 (a工程) 4− [3−(2−7ミノ)ピリジルメトキシ]−2−
ヒドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン(10,
99ミリモル〉を、4−[3−(2−アミノ)ピリジル
メトキシ]−2−ヒドロキシアセトフェノン(10,9
9ミリモル)に変更した以外は実施例1のa工程とほぼ
同様に操作し、3− [3−(4−アセチル−3−ヒド
ロキシフェノキシメチル)−2−ピリジルアミノコ−2
−シアンアクリル酸エチルを白色粉末として3.209
(収率76%)得た。
−エタノール混合液より再結晶) 赤外線吸収スペクトル(KBr、cm”):3270、
1690.1635.1270元素分析値(C21H1
8N6 o4として)二理論値(%) : C,60,
28H,4゜34 N、20.09実測値(%) ;
C,60,41H,4,23N、20.21実施例3 (a工程) 4− [3−(2−7ミノ)ピリジルメトキシ]−2−
ヒドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン(10,
99ミリモル〉を、4−[3−(2−アミノ)ピリジル
メトキシ]−2−ヒドロキシアセトフェノン(10,9
9ミリモル)に変更した以外は実施例1のa工程とほぼ
同様に操作し、3− [3−(4−アセチル−3−ヒド
ロキシフェノキシメチル)−2−ピリジルアミノコ−2
−シアンアクリル酸エチルを白色粉末として3.209
(収率76%)得た。
赤外線吸収スペクトル(KBr、cm’):2200、
1705 、1625 (b工程) 実施例1のb工程において、3− [3−(4−アセチ
ル−3−ヒドロキシ−2−n−プロピルフェノキシメチ
ル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸エ
チル(4,96ミリモル)を、3− [3−(4−アセ
チル−3−ヒドロキシフェノキシメチル)−2−ピリジ
ルアミン]−2−シアノアクリル酸エチル(4,96ミ
リモル)に変更した以外はほぼ同様に操作し、9−[(
4−アセチル−3−ヒドロキシフェノキシ)メチル]−
3−(1日−テトラゾール−5−イル)−4日−ビリド
M、2−a]ピリミジン−4−オンを白色結晶として1
.17 cJ(収率62%)得た。
1705 、1625 (b工程) 実施例1のb工程において、3− [3−(4−アセチ
ル−3−ヒドロキシ−2−n−プロピルフェノキシメチ
ル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸エ
チル(4,96ミリモル)を、3− [3−(4−アセ
チル−3−ヒドロキシフェノキシメチル)−2−ピリジ
ルアミン]−2−シアノアクリル酸エチル(4,96ミ
リモル)に変更した以外はほぼ同様に操作し、9−[(
4−アセチル−3−ヒドロキシフェノキシ)メチル]−
3−(1日−テトラゾール−5−イル)−4日−ビリド
M、2−a]ピリミジン−4−オンを白色結晶として1
.17 cJ(収率62%)得た。
融点:290〜295°C(分解ニジメチルホルムアミ
ドより再結晶) 赤外線吸収スペクトル(KBr、Cm”):3230、
1680.1625.1270元素分析値(C18H1
4N6 o4として):理論値(%) : C,57,
14H,3,73N、22.21実測値(%) : C
,56,95H,3,95N、22.09実施例4 (a工程) 4− [3−(2−アミノ)ごリジルメトキシ]−2−
ヒドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン(10,
99ミリモル)を、2−アミノ−3−(4−n−プロピ
ルフェノキシメチル)ピリジン(10,99ミリモル)
に変更した以外は実施例1のa工程とほぼ同様に操作し
、2−シアノ−3−[3−(4−n−プロピルフェノキ
シメチル)−2−ピリジルアミノコアクリル酸エチルを
白色粉末として2.349 (収率58%)得た。
ドより再結晶) 赤外線吸収スペクトル(KBr、Cm”):3230、
1680.1625.1270元素分析値(C18H1
4N6 o4として):理論値(%) : C,57,
14H,3,73N、22.21実測値(%) : C
,56,95H,3,95N、22.09実施例4 (a工程) 4− [3−(2−アミノ)ごリジルメトキシ]−2−
ヒドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン(10,
99ミリモル)を、2−アミノ−3−(4−n−プロピ
ルフェノキシメチル)ピリジン(10,99ミリモル)
に変更した以外は実施例1のa工程とほぼ同様に操作し
、2−シアノ−3−[3−(4−n−プロピルフェノキ
シメチル)−2−ピリジルアミノコアクリル酸エチルを
白色粉末として2.349 (収率58%)得た。
赤外線吸収スペクトル(KBr、cm−1):2200
、1705 (b工程) 実施例1のb工程において、3−’[3−(4−アセチ
ル−3−ヒドロキシ−2−n−プロピルフェノキシメチ
ル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアンアクリル酸エ
チル(4,96ミリモル)を、2−シアノ−3−[3’
−(4−n−プロピルフェノキシメチル)−2−ピリ
ジルアミノコアクリル醒エチル(4,96ミリモル〉に
変更した以外はほぼ同様に操作し、9− [(4−n−
プロピルフェノキシ)メチル]−3−(IH−テトラゾ
ール−5−イル)−4日−ピリド[1,2−aコピリミ
ジン−4−オンを白色結晶として0.589(収率32
%)得た。
、1705 (b工程) 実施例1のb工程において、3−’[3−(4−アセチ
ル−3−ヒドロキシ−2−n−プロピルフェノキシメチ
ル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアンアクリル酸エ
チル(4,96ミリモル)を、2−シアノ−3−[3’
−(4−n−プロピルフェノキシメチル)−2−ピリ
ジルアミノコアクリル醒エチル(4,96ミリモル〉に
変更した以外はほぼ同様に操作し、9− [(4−n−
プロピルフェノキシ)メチル]−3−(IH−テトラゾ
ール−5−イル)−4日−ピリド[1,2−aコピリミ
ジン−4−オンを白色結晶として0.589(収率32
%)得た。
融点:270〜273℃(分解;酢酸より再結晶)赤外
線吸収スペクトル(KBr、cm”):3220、16
75.1585.1270元素分析値(C19”18N
6 o2として):理論値(%) ; C,62,97
1(、5,01N、23.19実測値(%) : C,
63,10H,4,95N、23.30釆里辺二 (a工程) 4−[3−(2−アミノ)ピ1ノジルメトキシ]−2−
ヒドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン(10,
99ミリモル)及びエトキシメチレンジ7ノ酢酸エチル
(10,99ミリモル)を、2−アミノ−3−(2−n
−プロピルフェノキシメチル〉ピリジン(10,99ミ
リモル)及びメトキシメチレンシアノ酢酸メチル(32
,97ミリモル)に変更した以外は実施例1のa工程と
ほぼ同様に操作し、2−シアノ−3−[3−(2−n−
プロピルフェノキシメチル)−2−ピリジルアミノコア
クリル駿メチルを白色粉末として2.899 (収率7
5%)得た。
線吸収スペクトル(KBr、cm”):3220、16
75.1585.1270元素分析値(C19”18N
6 o2として):理論値(%) ; C,62,97
1(、5,01N、23.19実測値(%) : C,
63,10H,4,95N、23.30釆里辺二 (a工程) 4−[3−(2−アミノ)ピ1ノジルメトキシ]−2−
ヒドロキシ−3−n−プロピルアセトフェノン(10,
99ミリモル)及びエトキシメチレンジ7ノ酢酸エチル
(10,99ミリモル)を、2−アミノ−3−(2−n
−プロピルフェノキシメチル〉ピリジン(10,99ミ
リモル)及びメトキシメチレンシアノ酢酸メチル(32
,97ミリモル)に変更した以外は実施例1のa工程と
ほぼ同様に操作し、2−シアノ−3−[3−(2−n−
プロピルフェノキシメチル)−2−ピリジルアミノコア
クリル駿メチルを白色粉末として2.899 (収率7
5%)得た。
赤外’IQ吸収スヘ’y トル(KB r 、 cm−
1) :2200、1705 (b工程) 実施例1のb工程において、3− [3−(4−アセチ
ル−3−ヒドロキシ−2−n−プロピルフェノキシメチ
ル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸エ
チル(4,98ミリモル)を、2−シアノ−3−[3−
(2−n−プロピルフェノキシメチル)−2−ピリジル
アミノコアクリル酸メチル(4゜96ミリモル)に変更
した以外はほぼ同様に操作し、9− [(2−n−プロ
ピルフェノキシ)メチル]−3−(IH−テトラゾール
−5−イル)−4日−ピット[1,2−ミコピリミジン
−4−オンを白色結晶として1.319 (収率73%
)得た。
1) :2200、1705 (b工程) 実施例1のb工程において、3− [3−(4−アセチ
ル−3−ヒドロキシ−2−n−プロピルフェノキシメチ
ル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸エ
チル(4,98ミリモル)を、2−シアノ−3−[3−
(2−n−プロピルフェノキシメチル)−2−ピリジル
アミノコアクリル酸メチル(4゜96ミリモル)に変更
した以外はほぼ同様に操作し、9− [(2−n−プロ
ピルフェノキシ)メチル]−3−(IH−テトラゾール
−5−イル)−4日−ピット[1,2−ミコピリミジン
−4−オンを白色結晶として1.319 (収率73%
)得た。
融点:255〜260℃(分解;ジメチルホルムアミド
より再結晶) 赤外線吸収スペクトル(KBr、cm”) 二3250
、1670.1585.1270元素分析値(019日
1&N602として):理論11 (%) : C,8
2,97H,5,01N、23.19実測値(%) :
C,62,89H,5,09N、23.23そのほか
上述の実施例1のa及びb工程に夫々準じて以下に列記
する化合物も製造した。
より再結晶) 赤外線吸収スペクトル(KBr、cm”) 二3250
、1670.1585.1270元素分析値(019日
1&N602として):理論11 (%) : C,8
2,97H,5,01N、23.19実測値(%) :
C,62,89H,5,09N、23.23そのほか
上述の実施例1のa及びb工程に夫々準じて以下に列記
する化合物も製造した。
◎3− [3−(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2−
メチルフェノキシメチル)−2−ピリジルアミノコ−2
−シアンアクリル酸エチル。
メチルフェノキシメチル)−2−ピリジルアミノコ−2
−シアンアクリル酸エチル。
9− [(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2−メチル
フェノキシ)メチル]−3−(IH−テトラゾール−5
−イル)−4日−ピット[1,2−ミコピリミジン−4
−オン。
フェノキシ)メチル]−3−(IH−テトラゾール−5
−イル)−4日−ピット[1,2−ミコピリミジン−4
−オン。
◎2−シアノー3− [3−(3−ヒドロキシフェノキ
シメチル)−2−ピリジルアミノコアクリル酸エチル。
シメチル)−2−ピリジルアミノコアクリル酸エチル。
9−[(3−ヒドロキシフェノキシ)メチル]−3−(
1H−テトラゾール−5−イル)−4日−ピット[1,
2−a]ピリミジン−4−オン。
1H−テトラゾール−5−イル)−4日−ピット[1,
2−a]ピリミジン−4−オン。
◎3− [3−(4−アセチルフェノキシメチル)−2
−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル駿エチル。
−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル駿エチル。
9−[(4−アセチルフェノキシ)メチル]−3−(1
H−テトラゾール−5−イル)−4H−ピリド[1,2
−alピリミジン−4−オン。
H−テトラゾール−5−イル)−4H−ピリド[1,2
−alピリミジン−4−オン。
◎3− [3−(4−ブチリルフェノキシメチル)−2
−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸エチル。
−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸エチル。
9− [(4−ブチリルフェノキシ)メチル]−3−(
1H−テトラゾール−5−イル)−4H−ピリドN、2
−a]ピリミジン−4−オン。
1H−テトラゾール−5−イル)−4H−ピリドN、2
−a]ピリミジン−4−オン。
◎3− [3−(4−アリルフェノキシメチル)−2−
ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸エチル。
ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸エチル。
9− [(4−アリルフェノキシ)メチル]−3−(1
H−テトラゾール−5−イル)−4日−ピリド[’l、
2−a]ピリミジンー4−オン。
H−テトラゾール−5−イル)−4日−ピリド[’l、
2−a]ピリミジンー4−オン。
◎3−[3−(2−n−ブチルフェノキシメチル)−2
−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸メチル。
−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリル酸メチル。
9− [(2−n−ブチルフェノキシ)メチル]−3−
(1H−テトラゾール−5−イル)−4H−ピリド[1
,2−a]ピリミジン−4−オン。
(1H−テトラゾール−5−イル)−4H−ピリド[1
,2−a]ピリミジン−4−オン。
◎3− [3−(2−アリル−3−ヒドロキシフェノキ
シメチル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリ
ル酸エチル。
シメチル)−2−ピリジルアミノコ−2−シアノアクリ
ル酸エチル。
9− [(2−アリル−3−ヒドロキシフェノキシ)メ
チル]−3−(1H−テトラゾール−5−イル)−4日
−ピリド[1,2−a]ピリミジン−4−オン。
チル]−3−(1H−テトラゾール−5−イル)−4日
−ピリド[1,2−a]ピリミジン−4−オン。
◎2−シアノー3−(3−フェノキシメチル−2−ピリ
ジル7ミノ)アクリル酸エチル。
ジル7ミノ)アクリル酸エチル。
9−フェノキシメチル−3−(1H−テトラゾール−5
−イル)−4日−ピット[1,2−a]ピリミジン−4
−オン。
−イル)−4日−ピット[1,2−a]ピリミジン−4
−オン。
Claims (1)
- (1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子又は水酸基を表わし、R^2
は水素原子又は炭素数1〜4個のアルカノイル基を表わ
し、R^3は水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基又
はアリル基を表わし、R^4はメチル基又はエチル基を
表わす。) で示されるアクリル酸エステル化合物を、アジ化水素酸
塩と反応させることを特徴とする一般式:▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2及びR^3は前記と同意義であ
る。) で示されるピリド[1,2−a]ピリミジン化合物の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62079688A JPS63246374A (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | ピリド〔1,2−a〕ピリミジン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62079688A JPS63246374A (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | ピリド〔1,2−a〕ピリミジン化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63246374A true JPS63246374A (ja) | 1988-10-13 |
| JPH0374672B2 JPH0374672B2 (ja) | 1991-11-27 |
Family
ID=13697142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62079688A Granted JPS63246374A (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | ピリド〔1,2−a〕ピリミジン化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63246374A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5254688A (en) * | 1990-06-21 | 1993-10-19 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Process for producing pyrido[1,2-a]pyrimidine derivative |
-
1987
- 1987-04-02 JP JP62079688A patent/JPS63246374A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5254688A (en) * | 1990-06-21 | 1993-10-19 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Process for producing pyrido[1,2-a]pyrimidine derivative |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0374672B2 (ja) | 1991-11-27 |
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