JPS63251932A - 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は真空蒸着法を用いて磁性膜を形成する形式の薄
膜形磁気記録媒体の製造装置に関する。

し従来の技術］ 薄膜形磁気記録媒体は高密度磁気記録媒体としてその実
用化が図られている。

従来におけるこの種の磁気記録媒体で、磁気特性が最も
優れている薄膜形磁気記録媒体は、強磁性材料であるコ
バルト、またはコバルト合金を高分子フィルム等の基材
上に真空蒸着することにより製造されている。

この磁気記録媒体の製造装置の従来例を第２図に示す。

基材１は巻出しロール３から繰り出され、円筒キャン２
に添えられた後、巻取りロール４に巻き取られる。円筒
キャン２に添えられた基材１の表面に向けてコバルト等
の強磁性材料からなる蒸発源６が配置され、これに向け
て電子ビームｂを照射するための電子銃７が配置されて
いる。

この種の磁気記録媒体の一般的な磁性膜形成手段では、
いわゆる斜め蒸着方式が採用され、かつ反応性蒸着法が
適用される。このため、上記蒸発源６は、そこから発生
する蒸気ａのす、ｑ躬経路が上記円筒キャン２の中心軸
０からずれるよう配置されると共に、基材１の蒸気ａが
入射する部分に活性化された反応性ガスを照射するため
の活性化ガス発生源８が該基材１へ向けて配置される。

これら各要素は、真空ポンプ１０で減圧される真空槽１
１の中に収納され、ｔｏ−’　〜ｉｏ〜６Ｔｏｒｒの高
真空中で真空蒸着による成膜が行われる。

［発明が解決しようとする問題点］ 上記従来の装置では、電子銃７が円筒キャン２の側方に
あって、蒸発源６が配置された側に配置されている。そ
して、活性化ガス発生源８の位置がこの制約を受け、円
筒キャン２の成膜箇所から成る程度ずらして配置されて
いる。

しかし、こうした制約は適切なレイアウトの障害となり
、特に、蒸発源６からの蒸発量を増大させ、磁性膜の蒸
着速度を高めたとき、これに見合う反応性ガスを基材１
に照射できるような活性化ガス発生源８の配置がとりに
くい。

さらに、上記の配置では、反応性ガスの照射経路と交差
するように電子ビームｂが発射されるため、イオンの持
つ電荷等の影響を受けて異牢放電が生じやすく、安定な
磁性膜を形成できない。

本発明は従来の磁気記録媒体製造装置における上記の問
題を解消するためになされたもので、その目的は効率的
で安定した成膜が可能な薄膜形磁気記録媒体の製造装置
を提供することにある。

［問題を解決するための手段］ 第１図の符号を引用しながら、本発明の構成について説
明すると、この薄膜形磁気記録媒体の製造装置は真空槽
２１の中に、非磁性の基材１１を添える円筒キャン１２
と、該円筒キャン１２の中心軸０から蒸気ａの照射経路
をずらして配置した強磁性体からなる蒸発源１６と、該
蒸発源１６に電子ビームｂを照射する電子銃１７と、基
材１１の蒸気ａが畷躬される部分に活性化反応ガスを照
射する活性化ガス発生′ａ１日とを備える。そして、電
子銃１７は蒸発源１６から基材１１に至る蒸気ａの蒸発
経路からずれた蒸発源１６の側方に配置され、該電子銃
１７と蒸発源１６との間に、電子ビームｂを蒸発源１６
に導く誘導手段１９が配置されている。

［作　　　用コ 上記装置に於て、電子銃１７から発射された電子ビーム
ｂが誘導手段１９に導かれて蒸発源１６に照射され、該
蒸発源」６から発射された強磁性体の蒸気ａが円筒キャ
ン１２に添えられた基材１１の表面に入射する。また、
活性化ガス発生源１８からは、活性化された反応性ガス
が照身」される。

上記製造装置においては、成膜が行われる円筒キャン１
２の側方に電子銃１７が置かれているため、活性化ガス
発生源１日を任意の位置に置くことが出来、例えば第１
図のように、基材１１の成膜部分に正対させて、そこか
ら最も適切な距離に置くことが出来る。

また、電子銃１７から発射される電子ビームｂは、基材
１１に照射される活性化反応ガスや蒸気ａと交差しない
。従って、電子ビームｂ、活性化反応ガス、蒸気ａの何
れもが相互に干渉されず、安定した状態で照射される。

［実　施　例コ 次に、第１図を参照しながら本発明の実施例について説
明する。

第１図において、高分子フィルム等からなる非磁性の基
材１１は巻出しロール１３から円筒キャン１２を経て巻
取りロール１４側に巻取られる。これらは排気ポンプ２
０によって１Ｏ−６Ｔ。

ｒｒ以下の真空状態に調整された真空槽２１内におかれ
る。

上記真空槽２１内に設けられた蒸発？ｆ！ｊ、１６は、
コバルトやコバルト合金或は鉄等の強磁性体からなり、
これが電子銃１７から電子ビームｂを照射することによ
って加熱、蒸発される。この発生した強磁性体の蒸気ａ
は上記基材１に放羽状に照射され、基材１１の表面に蒸
着される。

基材１１の表面に入射される蒸気ａの入射角は、一定の
角度の範囲に制限され、特に、最小入射角側はマスク１
５の位置によって制限される。

円筒キャン１２の側方に活性化ガス発生ａ１８が設けら
れ、ここから基材１１上の磁性膜が蒸着される箇所に活
性化された反応性ガスが照射される。

一方、上記電子銃１７は蒸発源」６の側方にあって、上
記マスク２５の下側に置かれ、これから発射された電子
ビームｂは、電磁偏向手段等の誘導手段で蒸発源１６に
導かれ、す、？利される。

［発明の効果コ 以上説明した通り、本発明の装置によれば、適切な活性
化ガス発生源１８の配置により、効率的な蒸着が可能に
なると共に、安定した電子ビーム上５蒸気ａ、活性化ガ
スの照射が可能となる。これによって、高い生産性と安
定した品質の薄膜形磁気記録媒体が製造できるようにな
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す磁気記録媒体製造装置の
概念図、第２図は磁気記録媒体製造装置の従来例を示す
概念図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空槽２１の中に、非磁性の基材１１を添える円筒キャ
   ン１２と、該円筒キャン１２の中心軸Ｏから蒸気ａの照
   射経路をずらして配置した強磁性体からなる蒸発源１６
   と、該蒸発源１６に電子ビームｂを照射する電子銃１７
   と、基材１１の蒸気ａが照射される部分に活性化反応ガ
   スを照射する活性化ガス発生源１８とを備えた薄膜形磁
   気記録媒体の製造装置に於て、蒸発源１６から基材１１
   に至る蒸気ａの蒸発経路からずれた蒸発源１６の側方に
   電子銃１７を配置し、該電子銃１７と蒸発源１６との間
   に、電子ビームｂを蒸発源１６に導く誘導手段１９を配
   置したことを特徴とする薄膜型磁気記録媒体の製造装置
   。