JPS63264732A - エレクトロクロミツク表示素子 - Google Patents
エレクトロクロミツク表示素子Info
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- JPS63264732A JPS63264732A JP62097602A JP9760287A JPS63264732A JP S63264732 A JPS63264732 A JP S63264732A JP 62097602 A JP62097602 A JP 62097602A JP 9760287 A JP9760287 A JP 9760287A JP S63264732 A JPS63264732 A JP S63264732A
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- electrolyte
- electrochromic
- electrochromic material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明はエレクトロクロミック表示素子（ｆＩＣＤ）
の耐久性向上および原価低減に関するものである。
の耐久性向上および原価低減に関するものである。
（従来の技術）
本出願人は、先に耐久性を向上せしめたＥＣＵとして第
１図に示すＥＣＤを提案した（特願昭６１−１７０７４
３号）。第１図に示すＥＣＤにおいて、１−１および１
−２は透明基板、２−１および２−２は透明電極、３は
第１のエレクトロクロミック物質層、４はシール材、５
は第２のエレクトロクロミック物質層、６は電解質、７
はスペーサであり、このＥＣＤは第１のエレクトロクロ
ミック物質として吸着水を含む還元状態で着色する遷移
金属酸化物を用い、且つ電解質の水分濃度がＯ〜０．３
重量％であることを特徴とするものである。このＥＣＤ
の製造方法を例示すると次の通りである。
１図に示すＥＣＤを提案した（特願昭６１−１７０７４
３号）。第１図に示すＥＣＤにおいて、１−１および１
−２は透明基板、２−１および２−２は透明電極、３は
第１のエレクトロクロミック物質層、４はシール材、５
は第２のエレクトロクロミック物質層、６は電解質、７
はスペーサであり、このＥＣＤは第１のエレクトロクロ
ミック物質として吸着水を含む還元状態で着色する遷移
金属酸化物を用い、且つ電解質の水分濃度がＯ〜０．３
重量％であることを特徴とするものである。このＥＣＤ
の製造方法を例示すると次の通りである。
（＾）（イ）第１のエレクトロクロミック物質層３とし
て透明電極ＩＴＯ付ガラス基板１−１のＩｒＯ２−１上
に膜厚３０００人の一〇、を蒸着（５Ｘ１０−’トル（
Ｔｏｒｒ）、基板温度８０°Ｃ１蒸着速度約ｌＯ人／５
ｅｃ）により成膜し、Ｗ（ｈ Ｈ（ｋ １ ）を得、 （ロ）３容量％のＨＪを含む１モルフ’１． Ｌｉ（
Ｆ！Ｏａのプロピレンカーボネート（ＰＣ）溶液に２時
間浸漬し、 （ハ＞ ｐｃで基板をすすぎ、 （＝）エタノールで基板をすすぎ、 （ネ）エアープロする。
て透明電極ＩＴＯ付ガラス基板１−１のＩｒＯ２−１上
に膜厚３０００人の一〇、を蒸着（５Ｘ１０−’トル（
Ｔｏｒｒ）、基板温度８０°Ｃ１蒸着速度約ｌＯ人／５
ｅｃ）により成膜し、Ｗ（ｈ Ｈ（ｋ １ ）を得、 （ロ）３容量％のＨＪを含む１モルフ’１． Ｌｉ（
Ｆ！Ｏａのプロピレンカーボネート（ＰＣ）溶液に２時
間浸漬し、 （ハ＞ ｐｃで基板をすすぎ、 （＝）エタノールで基板をすすぎ、 （ネ）エアープロする。
（Ｂ）第２のエレクトロクロミック物質層５として例え
ば４，４′ −ジクロロトリフェニルアミンからグリニ
ャル反応を用いて重合することにより得られた平均分子
量が約２０００のポリマー（合成法は特開昭６１−２８
５２４号公報）を１．５ ｇ ／ ｆの濃度でクロロホ
ルムに溶解させた溶液５ｍｌを透明電極２−２の表面に
スピンコード（１０００ｒｐｍ、 ３０秒）し、その後
脱気し、次いでＩｔ蒸気で満たした容器の中に入れて１
００ ’Ｃで２時間加熱することにより架橋した厚さ１
０００人の薄膜を得る。
ば４，４′ −ジクロロトリフェニルアミンからグリニ
ャル反応を用いて重合することにより得られた平均分子
量が約２０００のポリマー（合成法は特開昭６１−２８
５２４号公報）を１．５ ｇ ／ ｆの濃度でクロロホ
ルムに溶解させた溶液５ｍｌを透明電極２−２の表面に
スピンコード（１０００ｒｐｍ、 ３０秒）し、その後
脱気し、次いでＩｔ蒸気で満たした容器の中に入れて１
００ ’Ｃで２時間加熱することにより架橋した厚さ１
０００人の薄膜を得る。
（Ｃ） （Ｂ）の基板の透明電極側に直径４０ｕｍの
ガラス玉をスペーサ７として約１５個／Ｃ１１”の割合
で散布する。
ガラス玉をスペーサ７として約１５個／Ｃ１１”の割合
で散布する。
（Ｄ） （Ａ）の基板の透明電極側の周辺に、電解質
溶液の注入口の部分を除いて、エポキシ系接着剤をスク
リーン印刷によりシール材４として塗布する。
溶液の注入口の部分を除いて、エポキシ系接着剤をスク
リーン印刷によりシール材４として塗布する。
（Ｅ） （Ｃ）およびＣＤ）の基）反をエレクトロク
ロミック物質層が向かい合うように重ね合わせて、加圧
しながら接着剤を硬化させる。
ロミック物質層が向かい合うように重ね合わせて、加圧
しながら接着剤を硬化させる。
（Ｆ） （Ｅ）で作製したセルの注入口（図示せず）
より電解質として１モル／Ｉ！ ＬｉＣｊ２０４のＰ
Ｃ溶液を注入した後、注入口をエポキシ系接着剤にて封
止し、電解質層６を形成し、ＥＣＤを得る。
より電解質として１モル／Ｉ！ ＬｉＣｊ２０４のＰ
Ｃ溶液を注入した後、注入口をエポキシ系接着剤にて封
止し、電解質層６を形成し、ＥＣＤを得る。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、このような従来０ＥＣＤにあっては、エ
レクトロクロミック物質膜、例えば讐０３膜を０．３重
量％以上のＨ２Ｏを含む非水溶媒に浸漬し、膜の吸着水
を増大させることによって応答性の向上を図り、なおか
つＥＣＤの電解液のＨｔｏ Ｎ度を０．３重量％以下に
することによって膜の溶解を防止し耐久性を向上させる
ため、一般のＥＣＤの作製法（たとえば特願昭６０−９
６０２３号）と比べて、＾（υ）〜（ネ）の工程が必要
となり、コストが上昇するという問題点があった。
レクトロクロミック物質膜、例えば讐０３膜を０．３重
量％以上のＨ２Ｏを含む非水溶媒に浸漬し、膜の吸着水
を増大させることによって応答性の向上を図り、なおか
つＥＣＤの電解液のＨｔｏ Ｎ度を０．３重量％以下に
することによって膜の溶解を防止し耐久性を向上させる
ため、一般のＥＣＤの作製法（たとえば特願昭６０−９
６０２３号）と比べて、＾（υ）〜（ネ）の工程が必要
となり、コストが上昇するという問題点があった。
（問題点を解決するための手段）
発明者は、第１のエレクトロクロミック物質膜として高
い結晶性を保ちながら膜表面に亀裂を、好ましくは多数
有する遷移金属酸化物の膜を用い且つ電解質の水分濃度
を０〜０．３重量％とすることにより前記問題点が解決
することを確かめこの発明を達成するに至った。
い結晶性を保ちながら膜表面に亀裂を、好ましくは多数
有する遷移金属酸化物の膜を用い且つ電解質の水分濃度
を０〜０．３重量％とすることにより前記問題点が解決
することを確かめこの発明を達成するに至った。
従ってこの発明のエレクトロクロミック表示素子は少な
くとも一方の電極が透明である一対の電極付き基板の第
１の電橋上に第１のエレクトロクロミック層を備え、第
２の電極上に第２のエレクトロクロミック物質層を備え
、それぞれのエレクトロクロミック物質層が対向するよ
うにスペーサを介して重ね合わせ、周辺を接着剤により
固定した電極間に電解質を封入して成るエレクトロクロ
ミック素子において、第１のエレクトロクロミック物質
として高い結晶性を保ちながら、膜表面に亀裂を有する
遷移金属酸化物を用い、且つ電解質の水分濃度がＯ〜０
．３重量％であることを特徴とする。
くとも一方の電極が透明である一対の電極付き基板の第
１の電橋上に第１のエレクトロクロミック層を備え、第
２の電極上に第２のエレクトロクロミック物質層を備え
、それぞれのエレクトロクロミック物質層が対向するよ
うにスペーサを介して重ね合わせ、周辺を接着剤により
固定した電極間に電解質を封入して成るエレクトロクロ
ミック素子において、第１のエレクトロクロミック物質
として高い結晶性を保ちながら、膜表面に亀裂を有する
遷移金属酸化物を用い、且つ電解質の水分濃度がＯ〜０
．３重量％であることを特徴とする。
この発明のＥＣＤにおいては、先ず第１のエレクトロク
ロミック物質として高い結晶性を保ちながら、膜表面に
亀裂を、好ましくは多数有する遷移金属酸化物を用いる
。膜表面に亀裂を有することにより表面積が増大し、応
答性が改善される。このように膜表面に亀裂を設ける方
法としては、電解液中で熱処理する方法があり、ＥＣＤ
を組立てた後、ＢＣＤを高温で保持し、亀裂を生ぜしめ
る方法が好ましく用いられる。このため好適例の遷移金
属酸化物の膜としては、９．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ以上
で蒸着した後、７０〜１２０°Ｃの電解液に浸漬処理を
行ったＷ（ｈ膜が用いられる。
ロミック物質として高い結晶性を保ちながら、膜表面に
亀裂を、好ましくは多数有する遷移金属酸化物を用いる
。膜表面に亀裂を有することにより表面積が増大し、応
答性が改善される。このように膜表面に亀裂を設ける方
法としては、電解液中で熱処理する方法があり、ＥＣＤ
を組立てた後、ＢＣＤを高温で保持し、亀裂を生ぜしめ
る方法が好ましく用いられる。このため好適例の遷移金
属酸化物の膜としては、９．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ以上
で蒸着した後、７０〜１２０°Ｃの電解液に浸漬処理を
行ったＷ（ｈ膜が用いられる。
次に遷移金属酸化物、例えば−０，は水（１１□０）を
添加した電解液中で徐々に溶解し、その反応電荷量が減
少する。従って罰、から成るエレクトロクロミック層を
用いたＥＣＤにおいては、水を無添加の電解液を使用す
るのが好ましいことは明らかである。そして電解質とし
ては最初水を無添加の電解質を用いるが、次の熱処理等
の処理により、通常電解質の水分濃度は０〜０．３重量
％である。
添加した電解液中で徐々に溶解し、その反応電荷量が減
少する。従って罰、から成るエレクトロクロミック層を
用いたＥＣＤにおいては、水を無添加の電解液を使用す
るのが好ましいことは明らかである。そして電解質とし
ては最初水を無添加の電解質を用いるが、次の熱処理等
の処理により、通常電解質の水分濃度は０〜０．３重量
％である。
（実施例）
以下この発明を実施例により説明する。
淵五例」−
第１図に示すタイプの実施例のＥＣＤを次に示す方法に
より作製した。
より作製した。
（八）（イ）第１のエレクトロクロミック物質Ｎ３とし
て透明電極ＩＴＯ付ガタガラス基板１のＩｒＯ２−１上
に膜厚３０００人の一〇、を蒸着（１，５Ｘ１０−’
トル、基板温度８０°Ｃ１蒸着速度約１０人／５ｅｃ）
により成膜し、−〇、膜（ｈｋｌｌ）を得、 （Ｂ）第２のエレクトロクロミック物質Ｎ５として４．
４′ −ジクロロトリフェニルアミンからグリニャル反
応を用いて重合することにより得られた平均分子量が約
２０００のポリマー（合成法は特開昭６１−２８５２４
号公報）を１５ ｇ ／ ｆｆｉの濃度でクロロホルム
に溶解させた溶液５ｍｌを透明電極２−２の表面にスピ
ンコード（１０００ｒｐｍ、 ３０秒）し、その後脱気
し、次いでＩ２蒸気で満たした容器の中に入れて１００
°Ｃで２時間加熱することにより架橋した厚さ１０００
人の薄膜を得。
て透明電極ＩＴＯ付ガタガラス基板１のＩｒＯ２−１上
に膜厚３０００人の一〇、を蒸着（１，５Ｘ１０−’
トル、基板温度８０°Ｃ１蒸着速度約１０人／５ｅｃ）
により成膜し、−〇、膜（ｈｋｌｌ）を得、 （Ｂ）第２のエレクトロクロミック物質Ｎ５として４．
４′ −ジクロロトリフェニルアミンからグリニャル反
応を用いて重合することにより得られた平均分子量が約
２０００のポリマー（合成法は特開昭６１−２８５２４
号公報）を１５ ｇ ／ ｆｆｉの濃度でクロロホルム
に溶解させた溶液５ｍｌを透明電極２−２の表面にスピ
ンコード（１０００ｒｐｍ、 ３０秒）し、その後脱気
し、次いでＩ２蒸気で満たした容器の中に入れて１００
°Ｃで２時間加熱することにより架橋した厚さ１０００
人の薄膜を得。
（Ｃ） （Ｂ）の基板の透明電極側に直径４０μｍの
ガラス玉をスペーサ７として約１５個／Ｃ１１２の割合
で散布した。
ガラス玉をスペーサ７として約１５個／Ｃ１１２の割合
で散布した。
（Ｄ） （Ａ）の基板の透明電極側の周辺に、電解質
溶液の注入口の部分を除いて、エポキシ系接着剤をスク
リーン印刷によりシール材４として塗布した。
溶液の注入口の部分を除いて、エポキシ系接着剤をスク
リーン印刷によりシール材４として塗布した。
（Ｅ） （Ｃ）および（Ｄ）の基板をエレクトロクロ
ミック物質層が向かい合うように重ね合わせて、加圧し
ながら接着剤を硬化させた。
ミック物質層が向かい合うように重ね合わせて、加圧し
ながら接着剤を硬化させた。
（Ｆ） （Ｅ）で作製したセルの注入口（図示せず）
より電解質として１モル／Ｉ ＬｉＣｊ！ＯｎのＰＣ
溶液を注入した後、注入口をエポキシ系接着剤にて封止
し、電解質層６を形成し、ＥＣＤを得た。
より電解質として１モル／Ｉ ＬｉＣｊ！ＯｎのＰＣ
溶液を注入した後、注入口をエポキシ系接着剤にて封止
し、電解質層６を形成し、ＥＣＤを得た。
（Ｇ） （Ｆ）ＯＥＣＤを１００°Ｃにおいて２０時
間保存した。
間保存した。
上記の方法で作製したＥＣＤの耐久性を測定し、第２図
（ａ）にＥＣＤの駆動耐久性、第２（ｂ）に高温保存性
の測定結果をそれぞれ示す。これ等の結果より、１０’
回駆動後および１００ ’Ｃにおいて２００時間保存後
、初期の８０％以上の表示特性が得られたので、実用上
、耐久性は十分であると考える。
（ａ）にＥＣＤの駆動耐久性、第２（ｂ）に高温保存性
の測定結果をそれぞれ示す。これ等の結果より、１０’
回駆動後および１００ ’Ｃにおいて２００時間保存後
、初期の８０％以上の表示特性が得られたので、実用上
、耐久性は十分であると考える。
次に前記（Ａ）工程の一〇、の蒸着に関して、−〇３を
真空度９．ＯＸ １０− ’Ｔｏｒｒ以上で蒸着すると
、１０４〜１０−’Ｔｏｒｒにおいて蒸着した膜と比べ
て耐久性は向上するが、第３図に示す例かられかるよう
に応答性が低下する。即ち第３図は、１．５Ｘ１０−’
Ｔｏｒｒで蒸着した一〇、膜と１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒ
ｒで蒸着した一０３膜の電気化学的反応挙動を次の測定
条件下で評価したサイクリックボルタモダラムで、前者
を破線（イ）で、後者を実線（ロ）で示す。
真空度９．ＯＸ １０− ’Ｔｏｒｒ以上で蒸着すると
、１０４〜１０−’Ｔｏｒｒにおいて蒸着した膜と比べ
て耐久性は向上するが、第３図に示す例かられかるよう
に応答性が低下する。即ち第３図は、１．５Ｘ１０−’
Ｔｏｒｒで蒸着した一〇、膜と１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒ
ｒで蒸着した一０３膜の電気化学的反応挙動を次の測定
条件下で評価したサイクリックボルタモダラムで、前者
を破線（イ）で、後者を実線（ロ）で示す。
前足条件
作用電極 −〇、／ＩＴＯ（約３．３ｃｍ”、約３０
００人）対向電極 ｐｔｖＡ 電解液 Ｉ Ｍ／ ｌ ＬｉＣ２０ａ＋ＰＣ雰囲気 Ｎ
２ 掃引速度 １０ｍＶ／秒 同−電位に対する電流値を比較すると（（） ＞ （０
）であり、１０− ’Ｔｏｒｒにおいて蒸着したー０３
は１０−’Ｔｏｒｒにおける一〇、より反応が遅い。こ
の応答性の低下の原因として、以下の２つが考えられる
。（イ）膜中の）１１０含を量が少ない、 （ＴＩ）第
４図（ａ）、 （ｂ）かられかるように表面が緻密であ
る。第４図（ａ）は１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで蒸着し
た罰、膜の表面の結晶構造、第４図（ｂ）は１．５Ｘ１
０−’Ｔｏｒｒで蒸着したＷＯ，膜の表面の結晶構造を
示す倍率２００００倍の顕微鏡写真である。
００人）対向電極 ｐｔｖＡ 電解液 Ｉ Ｍ／ ｌ ＬｉＣ２０ａ＋ＰＣ雰囲気 Ｎ
２ 掃引速度 １０ｍＶ／秒 同−電位に対する電流値を比較すると（（） ＞ （０
）であり、１０− ’Ｔｏｒｒにおいて蒸着したー０３
は１０−’Ｔｏｒｒにおける一〇、より反応が遅い。こ
の応答性の低下の原因として、以下の２つが考えられる
。（イ）膜中の）１１０含を量が少ない、 （ＴＩ）第
４図（ａ）、 （ｂ）かられかるように表面が緻密であ
る。第４図（ａ）は１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで蒸着し
た罰、膜の表面の結晶構造、第４図（ｂ）は１．５Ｘ１
０−’Ｔｏｒｒで蒸着したＷＯ，膜の表面の結晶構造を
示す倍率２００００倍の顕微鏡写真である。
この発明は表面の緻密による応答性の低下を、高い結晶
性を保ちながら膜表面に亀裂を設けることにより解決し
たものである。
性を保ちながら膜表面に亀裂を設けることにより解決し
たものである。
第５図に５×１０−％Ｔｏｒｒ （基板温度１００°Ｃ
）で真空蒸着した後、電解液（１００°Ｃ）に１０時間
浸漬した−０．膜と、５ Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ （基板
温度１００℃）で真空蒸着した一〇３膜の第４図の場合
と同様に電気化学的反応挙動を示すサイクリックポルタ
モグラムで、図中実線は前者の本発明に従って製膜した
一〇、膜の結果、破線は後者の一〇、膜の結果を示す。
）で真空蒸着した後、電解液（１００°Ｃ）に１０時間
浸漬した−０．膜と、５ Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ （基板
温度１００℃）で真空蒸着した一〇３膜の第４図の場合
と同様に電気化学的反応挙動を示すサイクリックポルタ
モグラムで、図中実線は前者の本発明に従って製膜した
一〇、膜の結果、破線は後者の一〇、膜の結果を示す。
この結果より一〇、の応答性がほぼ同等であることがわ
かる。これは第６図（ａ）、 （ｂ）に示すように浸漬
処理によって膜表面に亀裂が入り、表面積が増大するた
めと考えられる。第６図（ａ）は１．５Ｘ１０−５Ｔｏ
ｒｒで真空蒸着した後、浸漬処理する前のＷＯ，膜表面
の結晶構造を、第６図（ｂ）は高温保存（１０時間浸漬
）した後の結晶構造を示す倍率２００００倍の顕微鏡写
真である。
かる。これは第６図（ａ）、 （ｂ）に示すように浸漬
処理によって膜表面に亀裂が入り、表面積が増大するた
めと考えられる。第６図（ａ）は１．５Ｘ１０−５Ｔｏ
ｒｒで真空蒸着した後、浸漬処理する前のＷＯ，膜表面
の結晶構造を、第６図（ｂ）は高温保存（１０時間浸漬
）した後の結晶構造を示す倍率２００００倍の顕微鏡写
真である。
次に前記実施例の（八）〜（Ｇ）工程で得たＥＣＤのＷ
Ｏ３膜と比較のための５ Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ （基板
温度１００”Ｃ）で製膜した−０３膜を備えたＥＣＵの
同腹につき、耐久性を測定し、第７図（ａ）に駆動耐久
性、第７図（ｂ）に高温保存性の測定結果をそれぞれ示
す。これ等の結果より実施例の一０！膜の耐久性は比較
例のＷＯ３Ｈの耐久性より優れていることがわかる。
Ｏ３膜と比較のための５ Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ （基板
温度１００”Ｃ）で製膜した−０３膜を備えたＥＣＵの
同腹につき、耐久性を測定し、第７図（ａ）に駆動耐久
性、第７図（ｂ）に高温保存性の測定結果をそれぞれ示
す。これ等の結果より実施例の一０！膜の耐久性は比較
例のＷＯ３Ｈの耐久性より優れていることがわかる。
更に１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで膜厚６．０００人に蒸
着シタ讐０．膜と、１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで膜厚６
０００人に蒸着したＷＯ，膜の赤外吸収スペクトルを第
８図に示す。
着シタ讐０．膜と、１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで膜厚６
０００人に蒸着したＷＯ，膜の赤外吸収スペクトルを第
８図に示す。
第８図より１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで蒸着した膜は１
．５×１０” ’Ｔｏｒｒで蒸着した膜と比べてＷ−Ｏ
−Ｗ結合が相対的に多く結晶性であることが言える。従
って本発明の方法によって表面状態を変化させても膜の
結晶性が高いため耐久性がよいと考えられる。
．５×１０” ’Ｔｏｒｒで蒸着した膜と比べてＷ−Ｏ
−Ｗ結合が相対的に多く結晶性であることが言える。従
って本発明の方法によって表面状態を変化させても膜の
結晶性が高いため耐久性がよいと考えられる。
実Ｊｔ１
表１に示す蒸着条件および浸漬条件を除いては実施例１
の（Ａ）〜（Ｇ）工程に従って６種類のＥＣＵを作製し
た。これらのＥＣＤの耐久性を測定し、駆動耐久性を第
９図（ａ）に、高温保存性を第９図（ｂ）に示す。この
結果耐久性は実施例１のＥＣＤの耐久性（第２図（ａ）
、 （ｂ）に示す）とほぼ同じであった。尚図面中曲線
の番号は表工の随に対応するＷＯｉ膜を用いたものの結
果を示す。
の（Ａ）〜（Ｇ）工程に従って６種類のＥＣＵを作製し
た。これらのＥＣＤの耐久性を測定し、駆動耐久性を第
９図（ａ）に、高温保存性を第９図（ｂ）に示す。この
結果耐久性は実施例１のＥＣＤの耐久性（第２図（ａ）
、 （ｂ）に示す）とほぼ同じであった。尚図面中曲線
の番号は表工の随に対応するＷＯｉ膜を用いたものの結
果を示す。
表１
蒸着条件と浸漬時間の関係
（発明の効果）
以上説明してきたように、この発明０ＥＣＤにおいては
、第１のエレクトロクロミック物質として高い結晶性を
保ちながら膜表面に亀裂を好ましくは多数有する遷移金
属酸化物を用い且つ電解質の水分濃度がＯ〜０．３重量
％であることにより、耐久性が向上するとともに、価格
の低減が可能になったという効果が得られる。
、第１のエレクトロクロミック物質として高い結晶性を
保ちながら膜表面に亀裂を好ましくは多数有する遷移金
属酸化物を用い且つ電解質の水分濃度がＯ〜０．３重量
％であることにより、耐久性が向上するとともに、価格
の低減が可能になったという効果が得られる。
第１図は一例のエレクトロクロミック表示素子（ＥＣＤ
）の断面図、 第２図（ａ）およびら）はそれぞれ実施例１のＲｃＤの
駆動耐久性試験結果および高温保存性試験結果を示す曲
線図、 第３図は１ 、５ Ｘ １０− ’Ｔｏｒｒで蒸着した
同３膜および１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで蒸着したり０
３膜のサイクリックポルタモグラム線図、 第４図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ１．５Ｘ１０−’
Ｔｏｒｒおよび１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで蒸着した同
、の表面の結晶構造を示す倍率２０，０００倍の顕微鏡
写真、第５図は５ Ｘ １０− ’Ｔｏｒｒで真空蒸着
した後、１００°Ｃの電解液に１０時間浸漬したＷＯ３
膜と、５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで真空蒸着した−０３膜の
サイクリックポルタモグラム線図、 第６図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ１．５ Ｘ １０
−’Ｔｏｒｒで真空蒸着した一０３膜の高温保存前およ
び保存後のＷＯ３膜の表面の結晶構造を示す倍率２０，
０００倍の顕微鏡写真、 第７図（ａ）および（ｂ）は実施例１のＥＣＤと５Ｘ１
０−’Ｔｏｒｒで真空蒸着したＷＯ，膜を備えたＥＣＤ
の−０３の駆動耐久性および高温保存性の試験結果を示
す曲線図、 第８図は１．５ＸＩＯ−’Ｔｏｒｒおよび１．５ Ｘ
１０− ’Ｔｏｒｒで真空蒸着した一〇、膜の赤外吸収
スペクトル線図、第９図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ
実施例２の阻１〜６のＥＣＤの駆動耐久試験結果および
高温保存性試験結果を示す曲線図である。 １−１．１−２・・・透明基板 ２−１．２−２・・
・透明電極３・・・第１のエレクトロクロミック物質層
４・・・シール材 ５・・・第２のエレクトロクロミック物質層６・・・電
解液 ７・・・スペーサ第１図 第２図 （ａ） （ｂ） 僅春時間 第３図 二 ｒゝ＼ −り一 第５図 ；＼ 第７図 （ａ） （ｂ） ど） ４フ
）の断面図、 第２図（ａ）およびら）はそれぞれ実施例１のＲｃＤの
駆動耐久性試験結果および高温保存性試験結果を示す曲
線図、 第３図は１ 、５ Ｘ １０− ’Ｔｏｒｒで蒸着した
同３膜および１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで蒸着したり０
３膜のサイクリックポルタモグラム線図、 第４図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ１．５Ｘ１０−’
Ｔｏｒｒおよび１．５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで蒸着した同
、の表面の結晶構造を示す倍率２０，０００倍の顕微鏡
写真、第５図は５ Ｘ １０− ’Ｔｏｒｒで真空蒸着
した後、１００°Ｃの電解液に１０時間浸漬したＷＯ３
膜と、５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで真空蒸着した−０３膜の
サイクリックポルタモグラム線図、 第６図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ１．５ Ｘ １０
−’Ｔｏｒｒで真空蒸着した一０３膜の高温保存前およ
び保存後のＷＯ３膜の表面の結晶構造を示す倍率２０，
０００倍の顕微鏡写真、 第７図（ａ）および（ｂ）は実施例１のＥＣＤと５Ｘ１
０−’Ｔｏｒｒで真空蒸着したＷＯ，膜を備えたＥＣＤ
の−０３の駆動耐久性および高温保存性の試験結果を示
す曲線図、 第８図は１．５ＸＩＯ−’Ｔｏｒｒおよび１．５ Ｘ
１０− ’Ｔｏｒｒで真空蒸着した一〇、膜の赤外吸収
スペクトル線図、第９図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ
実施例２の阻１〜６のＥＣＤの駆動耐久試験結果および
高温保存性試験結果を示す曲線図である。 １−１．１−２・・・透明基板 ２−１．２−２・・
・透明電極３・・・第１のエレクトロクロミック物質層
４・・・シール材 ５・・・第２のエレクトロクロミック物質層６・・・電
解液 ７・・・スペーサ第１図 第２図 （ａ） （ｂ） 僅春時間 第３図 二 ｒゝ＼ −り一 第５図 ；＼ 第７図 （ａ） （ｂ） ど） ４フ
Claims (1)
- １、少なくとも一方の電極が透明である一対の電極付き
基板の第１の電極上に第１のエレクトロクロミック層を
備え、第２の電極上に第２のエレクトロクロミック物質
層を備え、それぞれのエレクトロクロミック物質層が対
向するようにスペーサを介して重ね合わせ、周辺を接着
剤により固定した電極間に電解質を封入して成るエレク
トロクロミック素子において、第１のエレクトロクロミ
ック物質として高い結晶性を保ちながら、膜表面に亀裂
を有する遷移金属酸化物を用い、且つ電解質の水分濃度
が０〜０．３重量％であることを特徴とするエレクトロ
クロミック表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097602A JPS63264732A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | エレクトロクロミツク表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097602A JPS63264732A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | エレクトロクロミツク表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63264732A true JPS63264732A (ja) | 1988-11-01 |
Family
ID=14196782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62097602A Pending JPS63264732A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | エレクトロクロミツク表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63264732A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017111207A (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック装置及びその製造方法 |
| CN109416474A (zh) * | 2016-07-12 | 2019-03-01 | 索尼公司 | 调光装置、图像显示装置和显示装置 |
-
1987
- 1987-04-22 JP JP62097602A patent/JPS63264732A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017111207A (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック装置及びその製造方法 |
| CN109416474A (zh) * | 2016-07-12 | 2019-03-01 | 索尼公司 | 调光装置、图像显示装置和显示装置 |
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