JPS6326821Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6326821Y2 JPS6326821Y2 JP1984174259U JP17425984U JPS6326821Y2 JP S6326821 Y2 JPS6326821 Y2 JP S6326821Y2 JP 1984174259 U JP1984174259 U JP 1984174259U JP 17425984 U JP17425984 U JP 17425984U JP S6326821 Y2 JPS6326821 Y2 JP S6326821Y2
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- Japan
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- pellicle
- reticle
- film
- dust
- fixed frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は、半導体装置製造に使用するホトリソ
グラフイ装置（露光装置）のレチクルのペリクル
防塵膜に関するものである。
グラフイ装置（露光装置）のレチクルのペリクル
防塵膜に関するものである。
従来の技術
半導体装置（IC，LSIなど）の製造でのホトリ
ソグラフイ、特に、レジストの露光においてホト
マスクであるレチクルにゴミなどの異物が付着す
ると、レジストパターンに転写されるのでレチク
ルを清浄に保つ必要がある。このために、レチク
ル洗浄が行なわれる（例えば、今村和則：レチク
ル洗浄機NRW−503、電子材料、1984年３月号、
Vol.23、No.３、〔工業調査会〕、pp.94−97参照）。
さらに、このレチクル洗浄作業を大幅に減らすか
不要にすることができるペリクル防塵膜の使用が
採用されてきている。このペリクル膜はレチクル
に直接ゴミが付着することを防ぎ、かつレチクル
から数mmの間隔を保つているのでペリクル膜上に
付着したゴミは転写されない（例えば、佐藤他：
縮小投影露光装置キヤノンFPA1500、電子材料、
1984年３月号、〔工業調査会〕、pp26−31での図
４および図５参照）。
ソグラフイ、特に、レジストの露光においてホト
マスクであるレチクルにゴミなどの異物が付着す
ると、レジストパターンに転写されるのでレチク
ルを清浄に保つ必要がある。このために、レチク
ル洗浄が行なわれる（例えば、今村和則：レチク
ル洗浄機NRW−503、電子材料、1984年３月号、
Vol.23、No.３、〔工業調査会〕、pp.94−97参照）。
さらに、このレチクル洗浄作業を大幅に減らすか
不要にすることができるペリクル防塵膜の使用が
採用されてきている。このペリクル膜はレチクル
に直接ゴミが付着することを防ぎ、かつレチクル
から数mmの間隔を保つているのでペリクル膜上に
付着したゴミは転写されない（例えば、佐藤他：
縮小投影露光装置キヤノンFPA1500、電子材料、
1984年３月号、〔工業調査会〕、pp26−31での図
４および図５参照）。
考案が解決しようとする問題点
ペリクル膜をレチクルのパターン面から４mm離
れた位置に設定すれば、約70μm以下のゴミであ
れば転写されない。このサイズ以上のゴミがペリ
クル膜に付着して除去不能になつたならば、レジ
ストパターンに転写されるのでペリクル防塵膜を
取り外して新しいものと交換しなければならな
い。この交換は、ペリクル防塵膜の固定フレーム
をレチクルに取り付けるために接着剤を使用して
いるので交換作業は薬液を使用し破壊しなければ
ならなく非常に手間がかかる。
れた位置に設定すれば、約70μm以下のゴミであ
れば転写されない。このサイズ以上のゴミがペリ
クル膜に付着して除去不能になつたならば、レジ
ストパターンに転写されるのでペリクル防塵膜を
取り外して新しいものと交換しなければならな
い。この交換は、ペリクル防塵膜の固定フレーム
をレチクルに取り付けるために接着剤を使用して
いるので交換作業は薬液を使用し破壊しなければ
ならなく非常に手間がかかる。
問題点を解決するための手段
ペリクル膜に転写されるような大きなゴミが付
着したときに、ペリクル防塵膜の固定フレームを
レチクルから取り外すことなくペリクル膜を新し
いものとするために、本考案によると、ペリクル
膜をはり付けた金属フレームを複数個用意してこ
れらを固定フレーム上に着脱可能に積み重ねたペ
リクル防塵膜を提供する。
着したときに、ペリクル防塵膜の固定フレームを
レチクルから取り外すことなくペリクル膜を新し
いものとするために、本考案によると、ペリクル
膜をはり付けた金属フレームを複数個用意してこ
れらを固定フレーム上に着脱可能に積み重ねたペ
リクル防塵膜を提供する。
実施例
以下、添付図面に関連した本考案の好ましい実
施態様例によつて本考案を詳しく説明する。
施態様例によつて本考案を詳しく説明する。
第１図は本発明に係るペリクル防塵膜をレチク
ルの両側に取り付けた状態での断面図であり、第
２図は第１図中のＡ部分の拡大断面図である。
ルの両側に取り付けた状態での断面図であり、第
２図は第１図中のＡ部分の拡大断面図である。
本考案のペリクル防塵膜は、従来のペリクル膜
付き固定フレーム１の上にペリクル膜はり付け金
属フレーム２および３を順次積み重ねたものであ
る。フレーム１，２，３のそれぞれにペリクル膜
４，５，６がはり付けられている。ペリクル膜は
ニトロセルローズの超薄膜（例えば、膜厚
2.85μm）であり、フレームはアルミニウムなど
の金属で作られている。固定フレーム１の高さは
３ないし６mm程度であり、また金属フレーム２お
よび３の高さは１ないし２mm程度であるのが好ま
しい。
付き固定フレーム１の上にペリクル膜はり付け金
属フレーム２および３を順次積み重ねたものであ
る。フレーム１，２，３のそれぞれにペリクル膜
４，５，６がはり付けられている。ペリクル膜は
ニトロセルローズの超薄膜（例えば、膜厚
2.85μm）であり、フレームはアルミニウムなど
の金属で作られている。固定フレーム１の高さは
３ないし６mm程度であり、また金属フレーム２お
よび３の高さは１ないし２mm程度であるのが好ま
しい。
ペリクル膜はり付け金属フレーム２，３を複数
個用意しておき、これらをレチクル７への取り付
け前に固定フレーム１上に搭載し、図示していな
い把持具によつて固定フレームと締結する。把持
具には弾性体を利用したものあるいはねじ作用を
利用したものなどを用いることができる。このよ
うにペリクル膜が複数枚（図面では３枚）となつ
た本考案に係るペリクル防塵膜をレチクル表裏面
に従来通り接着剤を用いて第１図のように取り付
ける。露光装置での作業中に大きなゴミがペリク
ル膜６表面に付着しN2パージ等で除去下能にな
つたならば、金属フレーム３のみを把持具から外
して取り外すことでペリクル膜６を除去して新し
いペリクル膜５を防塵膜として使用する。次に
は、金属フレーム２のみを把持具から外して取り
外すことになり、そして最終的には第３枚目のペ
リクル膜４にゴミが付着したときには固定フレー
ム１をレチクル７から取り外すことになる。
個用意しておき、これらをレチクル７への取り付
け前に固定フレーム１上に搭載し、図示していな
い把持具によつて固定フレームと締結する。把持
具には弾性体を利用したものあるいはねじ作用を
利用したものなどを用いることができる。このよ
うにペリクル膜が複数枚（図面では３枚）となつ
た本考案に係るペリクル防塵膜をレチクル表裏面
に従来通り接着剤を用いて第１図のように取り付
ける。露光装置での作業中に大きなゴミがペリク
ル膜６表面に付着しN2パージ等で除去下能にな
つたならば、金属フレーム３のみを把持具から外
して取り外すことでペリクル膜６を除去して新し
いペリクル膜５を防塵膜として使用する。次に
は、金属フレーム２のみを把持具から外して取り
外すことになり、そして最終的には第３枚目のペ
リクル膜４にゴミが付着したときには固定フレー
ム１をレチクル７から取り外すことになる。
ペリクル膜の重ね枚数は膜自体の透過率、吸収
および散乱を考慮して５枚以下にするのが良い。
および散乱を考慮して５枚以下にするのが良い。
考案の効果
本考案に係るペリクル防塵膜では積み重ねるペ
リクル膜はり付け金属フレームの数だけレチクル
からの取り外しなしでのペリクル膜の防塵作用時
間が数倍伸びることになる。
リクル膜はり付け金属フレームの数だけレチクル
からの取り外しなしでのペリクル膜の防塵作用時
間が数倍伸びることになる。
第１図は本発明に係るペリクル防塵膜およびレ
チクルの概略断面図であり、第２図は第１図中Ａ
部分の拡大断面図である。 １……固定フレーム、２，３……金属フレー
ム、４，５，６……ペリクル膜、７……レチク
ル。
チクルの概略断面図であり、第２図は第１図中Ａ
部分の拡大断面図である。 １……固定フレーム、２，３……金属フレー
ム、４，５，６……ペリクル膜、７……レチク
ル。
Claims (1)
- 金属固定フレームとそれにはり付けられたペリ
クル膜とからなるペリクル防塵膜において、ペリ
クル膜をはり付けた金属フレームの複数個が前記
金属固定フレーム上に着脱可能に積み重ねられて
いることを特徴とするペリクル防塵膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984174259U JPS6326821Y2 (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984174259U JPS6326821Y2 (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6189852U JPS6189852U (ja) | 1986-06-11 |
| JPS6326821Y2 true JPS6326821Y2 (ja) | 1988-07-20 |
Family
ID=30731885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984174259U Expired JPS6326821Y2 (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6326821Y2 (ja) |
-
1984
- 1984-11-19 JP JP1984174259U patent/JPS6326821Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6189852U (ja) | 1986-06-11 |
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