JPS63277785A - メツキ方法及びその装置 - Google Patents
メツキ方法及びその装置Info
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- JPS63277785A JPS63277785A JP11337887A JP11337887A JPS63277785A JP S63277785 A JPS63277785 A JP S63277785A JP 11337887 A JP11337887 A JP 11337887A JP 11337887 A JP11337887 A JP 11337887A JP S63277785 A JPS63277785 A JP S63277785A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 4
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、適宜ワークの必要な部分にのみ金属被膜を
形成することができるようにしたメッキ方法及びその装
置に関するものである。
形成することができるようにしたメッキ方法及びその装
置に関するものである。
第３図に示すように、円筒形シェル１０の両端に一対の
フランジ１１を内向きに形成し、各フランジ１１の内径
縁に環状の折曲片１２を設け、上記シェル１０の内側に
おいて、一対のフランジ１１間に多数のとがり形針状こ
ろ１３を組み込んだ針状ころ軸受は従来から存在する。
フランジ１１を内向きに形成し、各フランジ１１の内径
縁に環状の折曲片１２を設け、上記シェル１０の内側に
おいて、一対のフランジ１１間に多数のとがり形針状こ
ろ１３を組み込んだ針状ころ軸受は従来から存在する。
上記針状ころ軸受においては、一対の折曲片１２間の間
隔が針状ころ１３の長さより小さい場合には、シェル１
０の内側に針状ころ１３を組み込むことができないため
、通常、一対の折曲片１２の間隔を針状ころ１３の長さ
より大きくし、上記針状ころ１３の組み込み後に、シェ
ル１０をプレス加工して一対の折曲片１２の間隔を針状
ころ１３の長さより短くし、針状ころ１３の抜は止めを
図るようにしている。
隔が針状ころ１３の長さより小さい場合には、シェル１
０の内側に針状ころ１３を組み込むことができないため
、通常、一対の折曲片１２の間隔を針状ころ１３の長さ
より大きくし、上記針状ころ１３の組み込み後に、シェ
ル１０をプレス加工して一対の折曲片１２の間隔を針状
ころ１３の長さより短くし、針状ころ１３の抜は止めを
図るようにしている。
また、針状ころ軸受においては、シェル１０の寿命の向
上を図るため、浸炭焼入れを施してシェル１０の硬度を
高めるようにしている。このような浸炭焼入れは、通常
、針状ころ１３の組み込み前に行うため、シェル１０の
全体を浸炭焼入れすると、針状ころ１３の組み込み後の
プレス加工時に、シェル１ｏの端部外周面に亀裂が生じ
、不良品の発生が多くなる。
上を図るため、浸炭焼入れを施してシェル１０の硬度を
高めるようにしている。このような浸炭焼入れは、通常
、針状ころ１３の組み込み前に行うため、シェル１０の
全体を浸炭焼入れすると、針状ころ１３の組み込み後の
プレス加工時に、シェル１ｏの端部外周面に亀裂が生じ
、不良品の発生が多くなる。
そこで、シェル１０の浸炭焼入れに際し、プレス加工さ
れるシェル１０の一方の端部外周面をメッキ処理して第
４図の鎖線で示すように、金属被膜１４を形成し、その
被膜１４により浸炭の防止を図るようにしている。
れるシェル１０の一方の端部外周面をメッキ処理して第
４図の鎖線で示すように、金属被膜１４を形成し、その
被膜１４により浸炭の防止を図るようにしている。
ところで、上記のような金属被膜１４は、シェル１０の
一部分にのみ形成するため、例えば、第５図に示すよう
に、シェル１０をマスキングし、金属被膜が不必要な部
分にマスク１５を設けてメッキ処理する必要がある。こ
のため、メッキ処理に非常に手間がかかり、コストが高
くつくという不都合がある。
一部分にのみ形成するため、例えば、第５図に示すよう
に、シェル１０をマスキングし、金属被膜が不必要な部
分にマスク１５を設けてメッキ処理する必要がある。こ
のため、メッキ処理に非常に手間がかかり、コストが高
くつくという不都合がある。
そこで、この発明は上記の不都合を解消し、ワークの必
要な部分にのみ正確に、精緻な金属被膜を形成すること
ができるようにしたメッキ方法およびその装置を提供す
ることを目的としている。
要な部分にのみ正確に、精緻な金属被膜を形成すること
ができるようにしたメッキ方法およびその装置を提供す
ることを目的としている。
上記の目的を達成するために、第１の発明は、メッキ液
を含浸させたスポンジ等の弾力性を有する媒体に、ワー
クのメッキ処理を必要とする部分を押し付け、上記媒体
に接触させた電極とワーク間に通電して媒体とワークの
少なくとも一方を回転させるようにしたのである。
を含浸させたスポンジ等の弾力性を有する媒体に、ワー
クのメッキ処理を必要とする部分を押し付け、上記媒体
に接触させた電極とワーク間に通電して媒体とワークの
少なくとも一方を回転させるようにしたのである。
また、第２の発明は電極にメッキ液を含浸させたスポン
ジ等の弾力性を有する媒体を接触し、その媒体にワーク
を保持するワーク保持具を対向し、このワーク保持具と
媒体の少なくとも一方を回転可能に、かつ軸方向に移動
可能に支持した構成としたのである。
ジ等の弾力性を有する媒体を接触し、その媒体にワーク
を保持するワーク保持具を対向し、このワーク保持具と
媒体の少なくとも一方を回転可能に、かつ軸方向に移動
可能に支持した構成としたのである。
上記のように構成すれば、ワーク保持具で保持したワー
クの、メッキ処理を必要とする部分を媒体に押し付ける
ことにより、上記媒体が窪み、その窪みの内面がメッキ
処理を必要とする部分と接触する。
クの、メッキ処理を必要とする部分を媒体に押し付ける
ことにより、上記媒体が窪み、その窪みの内面がメッキ
処理を必要とする部分と接触する。
そこで、ワーク保持具と媒体の一方を回転し、ワーク保
持具と電極間に通電することにより、媒体と接触する部
分に金属被膜を形成することができる。
持具と電極間に通電することにより、媒体と接触する部
分に金属被膜を形成することができる。
以下、この発明の実施例を第１図および第２図に基づい
て説明する。
て説明する。
第１図に示すように、陽極として使用される電極１には
、媒体２が取付けられている。この媒体２は、スポンジ
やフェルト等の弾力性を有し、しかも通電性を妨げない
材料から成り、全体にメッキ液が含浸されている。
、媒体２が取付けられている。この媒体２は、スポンジ
やフェルト等の弾力性を有し、しかも通電性を妨げない
材料から成り、全体にメッキ液が含浸されている。
上記媒体２に対向配置したワーク保持具３は、媒体２に
対して移動可能に、かつ回転可能に支持されている。
対して移動可能に、かつ回転可能に支持されている。
ワーク保持具３は、メッキ処理を施すワークＷに対応し
てそのワークＷを安定よく保持することができるように
したものを用い、実施例の場合は、媒体２と対向する面
に嵌合孔４を設け、その嵌合孔４で第３図に示すシェル
１０を保持し得るようになっている。
てそのワークＷを安定よく保持することができるように
したものを用い、実施例の場合は、媒体２と対向する面
に嵌合孔４を設け、その嵌合孔４で第３図に示すシェル
１０を保持し得るようになっている。
実施例で示すメッキ装置は上記の構造から成り、ワーク
のメッキ処理に際しては、ワーク保持具３でワークＷを
保持し、そのワークＷのメッキを必要とする部分を媒体
２に押し込み、ワーク保持具３を回転し、同時にワーク
保持具３と電極１間に通電する。
のメッキ処理に際しては、ワーク保持具３でワークＷを
保持し、そのワークＷのメッキを必要とする部分を媒体
２に押し込み、ワーク保持具３を回転し、同時にワーク
保持具３と電極１間に通電する。
いま、第３図に示すシェル１０をワーク保持具３で支持
し、ワーク保持具３の下降によってワークＷの下端部を
媒体２に押し付けると、媒体２が窪み、その窪み２′の
内面がワークＷの下部外周面に密着する。
し、ワーク保持具３の下降によってワークＷの下端部を
媒体２に押し付けると、媒体２が窪み、その窪み２′の
内面がワークＷの下部外周面に密着する。
そこで、媒体２の内部にメッキを施したい部分だけワー
クＷを押し込んだのち、電極１とワーク保持具３間に通
電することにより、媒体２と接触する部分に金属被膜を
形成することができる。
クＷを押し込んだのち、電極１とワーク保持具３間に通
電することにより、媒体２と接触する部分に金属被膜を
形成することができる。
この場合、ワークＷと媒体２が相対的に固定であると、
毛細管現象により、不必要な部分にメッキ液が付着し、
あるいは金属被膜の膜厚が不均一になり易い。
毛細管現象により、不必要な部分にメッキ液が付着し、
あるいは金属被膜の膜厚が不均一になり易い。
そこで、メッキ処理時に、ワークＷを回転させることに
より、媒体２と接触する部分にのみ、均一厚みの金属被
膜１４を形成することができる。
より、媒体２と接触する部分にのみ、均一厚みの金属被
膜１４を形成することができる。
第１図に示す実施例においては、ワーク保持具３を回転
させるようにしたが、第２図に示すように、電極１およ
び媒体２をホルダー５で支持し、そのホルダー５を回転
させるようにしてもよい。
させるようにしたが、第２図に示すように、電極１およ
び媒体２をホルダー５で支持し、そのホルダー５を回転
させるようにしてもよい。
また、実施例は、浸炭防止を目的としてワークＷに金属
被膜１４を設けるようにしたが、装飾および耐摩耗性等
を目的とするメッキにも適用することができる。メッキ
をする目的に応じてメッキ液を適宜に決定し、浸炭防止
を目的とする場合は、シアン化銅メッキ、ピロリン酸銅
メッキ、硫酸銅メッキ等の銅メッキ液を用いるようにす
る。
被膜１４を設けるようにしたが、装飾および耐摩耗性等
を目的とするメッキにも適用することができる。メッキ
をする目的に応じてメッキ液を適宜に決定し、浸炭防止
を目的とする場合は、シアン化銅メッキ、ピロリン酸銅
メッキ、硫酸銅メッキ等の銅メッキ液を用いるようにす
る。
以上のように、この発明によれば、弾性を有するスポン
ジ等の媒体にメッキ液を含浸し、その媒体にワークを押
し付け、上記ワークを保持するワーク保持具と媒体に接
触する電極とを通電するようにしたもので、媒体と接触
する部分にのみ金属被膜を形成することができる。
ジ等の媒体にメッキ液を含浸し、その媒体にワークを押
し付け、上記ワークを保持するワーク保持具と媒体に接
触する電極とを通電するようにしたもので、媒体と接触
する部分にのみ金属被膜を形成することができる。
また、媒体は弾性を有するため、その媒体にワークを押
し付けることにより、上記媒体が窪み、その富みの内面
全体がワークと接触するため、ワークの必要な部分にの
み金属被膜を形成することができる。
し付けることにより、上記媒体が窪み、その富みの内面
全体がワークと接触するため、ワークの必要な部分にの
み金属被膜を形成することができる。
さらに、媒体とワークの少なくとも一方を回転させるよ
うにしたので、膜厚の均一な精緻な金属被膜をきわめて
短時間に形成することができる。
うにしたので、膜厚の均一な精緻な金属被膜をきわめて
短時間に形成することができる。
第１図は、この発明に係るメッキ装置の一実施例を示す
断面図、第２図は同上の他の実施例を示す断面図、第３
図は針状ころ軸受の一部切欠斜視図、第４図は同上の一
部拡大断面図、第５図は同上軸受のシェルをマスキング
した状態の断面図である。 １・・・・・・電極、２・・・・・・媒体、３・・・・
・・ワーク保持具。 第１図 、：〉 ？ｆＪ２図
断面図、第２図は同上の他の実施例を示す断面図、第３
図は針状ころ軸受の一部切欠斜視図、第４図は同上の一
部拡大断面図、第５図は同上軸受のシェルをマスキング
した状態の断面図である。 １・・・・・・電極、２・・・・・・媒体、３・・・・
・・ワーク保持具。 第１図 、：〉 ？ｆＪ２図
Claims (2)
- （１）メッキ液を含浸させたスポンジ等の弾力性を有す
る媒体に、ワークのメッキ処理を必要とする部分を押し
付け、上記媒体に接触させた電極とワーク間に通電して
媒体とワークの少なくとも一方を回転させるようにした
メッキ方法。 - （２）電極にメッキ液を含浸させたスポンジ等の弾力性
を有する媒体を接触し、その媒体にワークを保持するワ
ーク保持具を対向し、このワーク保持具と媒体の少なく
とも一方を回転可能に、かつ軸方向に移動可能に支持し
たメッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62113378A JP2548723B2 (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | メツキ方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62113378A JP2548723B2 (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | メツキ方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63277785A true JPS63277785A (ja) | 1988-11-15 |
| JP2548723B2 JP2548723B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=14610775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62113378A Expired - Lifetime JP2548723B2 (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | メツキ方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2548723B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104294341A (zh) * | 2014-01-10 | 2015-01-21 | 河南航天精工制造有限公司 | 用于对套筒类零件局部电镀的工装 |
| WO2018168129A1 (ja) * | 2017-03-13 | 2018-09-20 | オムロン株式会社 | めっきの形成方法 |
| JPWO2019107339A1 (ja) * | 2017-11-30 | 2020-04-16 | 三菱電機株式会社 | めっき装置およびめっき方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102011159B (zh) * | 2010-12-15 | 2012-08-08 | 安徽华东光电技术研究所 | 一种可实现零件局部电镀的装置及其方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5541963A (en) * | 1978-09-21 | 1980-03-25 | Toshiba Corp | Plating method for covering tube |
| JPS59129875U (ja) * | 1983-02-21 | 1984-08-31 | トヨタ自動車株式会社 | 局部めつき装置 |
-
1987
- 1987-05-07 JP JP62113378A patent/JP2548723B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5541963A (en) * | 1978-09-21 | 1980-03-25 | Toshiba Corp | Plating method for covering tube |
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| CN111373078A (zh) * | 2017-11-30 | 2020-07-03 | 三菱电机株式会社 | 镀敷装置及镀敷方法 |
| EP3719179A4 (en) * | 2017-11-30 | 2021-01-27 | Mitsubishi Electric Corporation | PLATING DEVICE AND PLATING METHOD |
| US11629427B2 (en) | 2017-11-30 | 2023-04-18 | Mitsubishi Electric Corporation | Plating apparatus and plating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2548723B2 (ja) | 1996-10-30 |
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Legal Events
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