JPS63282925A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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Publication number
JPS63282925A
JPS63282925A JP62119431A JP11943187A JPS63282925A JP S63282925 A JPS63282925 A JP S63282925A JP 62119431 A JP62119431 A JP 62119431A JP 11943187 A JP11943187 A JP 11943187A JP S63282925 A JPS63282925 A JP S63282925A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic recording
recording medium
ferromagnetic metals
thin film
polymeric film
Prior art date
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Pending
Application number
JP62119431A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Shinohara
紘一 篠原
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP62119431A priority Critical patent/JPS63282925A/ja
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する磁気記録媒体の製造方
法に関するものである。
従来の技術 強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体は、短
波長出力が大きいことから、今後の高密度化の進展には
不可欠である〔外国論文誌:アイイーイーイー トラン
ザクションズ オン マグネテ、(り、z、 (IEE
E TRANSACTIONS ONMAGNET I
 C3) vo 71−MAG−21、p、 p、 1
217〜2 へ−/ 1220(1985)参照〕と位置づけされ実用化が強
く望まれている。
一般に、かかる構成の磁気記録媒体は、高分子フィルム
を円筒キャンに沿わせて巻き取りながら、スパッタリン
グ法、電界蒸着法、イオンブレーティング法、電子ビー
ム蒸着法などで、強磁性金属薄膜を磁気記録層として形
成することで製造される〔特開昭53−42010号公
報、電子通信学会、磁気記録研究会資料MR81−2、
特開昭51−186475号公報等参照〕。なかでも、
生産性の面から電子ビーム蒸着法が優れており、Co−
Niの斜め蒸着やCo−Cr垂直蒸着等が検討されてい
る。
第2図は、従来から用いられている蒸着装置の一例の構
成を示したもので、第2図において、1は高分子フィル
ム、2は回転支持体、3は送り出し軸、4は巻取り軸、
5は蒸発源、6は加速電子ビーム、了は蒸気流の入射角
を限定するためのマスク、8は最小入射角θを示し、9
はガス導入ポート、10は真空槽、11は真空排気系で
ある。
3べ−7 第2図の装置で、蒸発させる強磁性金属がCo −N 
i合金の場合については、長尺のテープを製造しても組
成上の変化は無視できるがCo−Cr合金等のようにそ
れぞれの蒸気圧が大幅に異なる場合、Crの供給法を工
夫することで改善が試みられている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記従来の構成では、三元系合金や、二元
系合金でも磁気特性や耐久性が組成比に大きく左右され
るものについては、長尺テープを再現よく得ることがで
きないことから、蒸発源を二つ用意するいわゆる二元蒸
着法で組成の安定化を更に改善することが行われている
が、磁気特性。
耐久性の面で、単一の蒸発源で短尺のテープを得たとき
の水準に及ばないことから改善が望まれている。
本発明は上記問題点に鑑み、磁気特性、耐久性に優れた
磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とするも
のである。
問題点を解決するだめの手段 上記目的を達成するため本発明の磁気記録媒体の製造方
法は、回転支持体に沿って移動する高分子フィルムに向
けて二つの蒸発源より異種の強磁性金属の蒸気流を発生
させて強磁性金属薄膜を形成し、かつ最大蒸気流部分は
高分子フィルム上で一致させるようにしたものである。
作  用 上記製造方法により、それぞれ蒸発する強磁性金属の発
生条件を容易に制御でき、最大蒸気流部分が高分子フィ
ルム上で一致することから、形成される強磁性金属薄膜
の厚み方向で、均一組成で構成され、磁気特性そして薄
膜の機械強度特性も均一になり、磁気記録層として好ま
しい特性が得られるものである。
実施例 以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について説
明する。第1図は本発明の製造方法を実施するために用
いた蒸着装置の要部構成図である。
第1図において、12は回転支持体、13は蒸発源で二
槽式であり、第1の槽14と第2の槽155へ−7 は隣接し配設され、それぞれ異なる蒸着材料を蒸発させ
るのに用いられる。16は第1の電子ビーム加熱源、1
7は第2の電子ビーム加熱源、18゜19はそれぞれ電
子ビーム軌道を模式的に示したものである。20.21
はそれぞれ槽14.15から発生する蒸気流の最大蒸気
流を模式的に示したもので、最大蒸気流20.21は、
回転支持体12上を移動する高分子フィルム22のP点
に位置するところで交わる。23は最小入射角を決める
マスク、24はガス導入ポート、25は巻出し軸、26
は巻取り軸、27は真空槽、28は排気系である。
直径1mの回転支持体1またとえば円筒キャンの真下へ
円筒キャンの端部から32cm、そしてその位置から高
分子フィルム22の移動方向と反対側(図で右側)へ3
2cm離れた位置に二種の蒸発源13のうち第1の槽1
4の中心を、また24CrrTの位置に第2の槽16の
中心を配置させ、25 KVの電子ビームを偏向磁界に
より調整し、1Q=30”の位置で蒸気流がそれぞれ最
大となるようにして6 ベーン 磁気記録媒体を製造した。
また本発明の実施例に対して比較例として従来好ましい
条件とされていた、被蒸着面に垂直に電子ビーム照射す
る方法によって磁気記録媒体を形成した。
上述の条件の下でそれぞれ厚さ10.611mのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に直径1oO人の31
02微粒子を1.2 X 1 o9/crlの密度で塗
布した上で、Co−Ni−Prを酸素中〔酸素分圧7 
X 10 ”’(Torr) ]で0.157zm蒸着
した。実施例。
比較例ともCo−Ni−Prのwt比率は79.5 :
 19 : 1.5となるようにした。そしてそれぞれ
幅50cy++で長さ2600mずつ蒸着して、8ミリ
幅の磁気テープに最終的に加工した。なお、潤滑剤層と
してパーフロロアラキン酸70人を塗布した。
実施例、比較例ともそれぞれ任意の90m長を一巻とし
、25巻のテープについて市販の8ミリビデオ[VX−
801,机下電器製〕を用いて高周波出力特性を測定し
た。実施例においては、テ7 ベーア ープの長手方向の出力レベル差がo、7(dB)以内で
あったのに対して、比較例においては、3.2(dB)
とばらつきの範囲が大きかった。
また任意の10点について、20℃、12%RH条件下
でステル特性を測定したところ、出力が3 (dB)低
下する時間は、実施例が31〜34分であったのに対し
て比較例は2分〜14分とその差がはっきりと見られた
以上のように本実施例によれば優れた高周波出力特性と
メチル特性を均一に得ることができるのである。
なお上記実施例では、高分子フィルムをポリエチレンテ
レフタレートとしたが、他にポリフェニレンサルファイ
ド、ポリエチレンナフタレート。
ポリイミド等でもよい。
壕だ強磁性金属薄膜は、垂直磁化膜、斜め蒸着膜のいず
れでもよ(、Go−Cr 、Co−Ti 、Co−W。
Co −Mo 、Co−N1−B、Co−N1−P、C
o−Ni−La。
Co −Cr −Nb 、 Co −Cr −Ru等及
びそれらの部分酸化膜等が用いられる。
発明の効果 本発明によれば、二つの蒸発源から強磁性金属を蒸発さ
せて、その最大蒸気流を高分子フィルム上で一致させる
こととしたために、それぞれの蒸気流の調整が容易に行
われ、組成比を安定に保ち、耐久性と磁気特性が均一な
磁気記録媒体を量産できるといったすぐれた実用効果を
奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を実施するのに用いた磁気記録媒体の製
造装置の要部構成図、第2図は従来用いている磁気記録
媒体の製造装置の要部構成図である。 12・・・・・回転支持体、13・・・・・蒸発源、1
4・・・・・・第1の槽、15・・・・・第2の槽、2
0,21・・・・・・最大蒸気流、22・・・・高分子
フィルム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名/2
−一一回転曳祷4本 73−−一蒸発源 υ2I−−−最X焦気う凭 弔1凶 22−−−窩祢譚フィ〕レム

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 回転支持体に沿って移動する高分子フィルムに向けて二
    つの蒸発源より異種の強磁性金属の蒸気流を発生させて
    強磁性金属薄膜を形成し、かつ最大蒸気流部分は高分子
    フィルム上で一致させることを特徴とする磁気記録媒体
    の製造方法。
JP62119431A 1987-05-15 1987-05-15 磁気記録媒体の製造方法 Pending JPS63282925A (ja)

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JP62119431A JPS63282925A (ja) 1987-05-15 1987-05-15 磁気記録媒体の製造方法

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JPS63282925A true JPS63282925A (ja) 1988-11-18

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