JPS632960B2 - - Google Patents
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- JPS632960B2 JPS632960B2 JP59005853A JP585384A JPS632960B2 JP S632960 B2 JPS632960 B2 JP S632960B2 JP 59005853 A JP59005853 A JP 59005853A JP 585384 A JP585384 A JP 585384A JP S632960 B2 JPS632960 B2 JP S632960B2
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- mixture
- ribofuranoside
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H15/00—Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H15/02—Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures
- C07H15/04—Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures attached to an oxygen atom of the saccharide radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H19/00—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof
- C07H19/02—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof sharing nitrogen
- C07H19/04—Heterocyclic radicals containing only nitrogen atoms as ring hetero atom
- C07H19/06—Pyrimidine radicals
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- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
5′−デオキシ−5−フルオロウリジン(I)
は、5−フルオロウリジンから多段階合成におい
て、5′−ヒドロキシ基の除去を対応する5′−ヨー
ド化合物を経て行うことによつて得られる極めて
良好な細胞増殖抑制(cytostatic)活性を有する
公知の化合物である(例えば米国特許第4071680
号参照)。
は、5−フルオロウリジンから多段階合成におい
て、5′−ヒドロキシ基の除去を対応する5′−ヨー
ド化合物を経て行うことによつて得られる極めて
良好な細胞増殖抑制(cytostatic)活性を有する
公知の化合物である(例えば米国特許第4071680
号参照)。
本発明は、5−デオキシ−1,2,3−トリ−
O−アシル−D−リボフラノシド()及び2,
4−ビス−O−(トリメチルシリル)−5−フルオ
ロウラシル()から、次いで得られる1−(5
−デオキシ−2,3−ジ−O−アシル−β−D−
リボフラノシル)−5−フルオロウラシル()
から2個のアシル基を離脱することによつて、極
めて良好な収率及び簡単な方法で、5′−デオキシ
−5−フルオロウリジンを製造するための新規な
方法に関する。式()の出発物質はD−リボー
スから、または公知であり且つD−リボースから
容易に得られるメチル2,3−O−イソプロピリ
デン−D−リボフラノシド()から容易に得ら
れる。
O−アシル−D−リボフラノシド()及び2,
4−ビス−O−(トリメチルシリル)−5−フルオ
ロウラシル()から、次いで得られる1−(5
−デオキシ−2,3−ジ−O−アシル−β−D−
リボフラノシル)−5−フルオロウラシル()
から2個のアシル基を離脱することによつて、極
めて良好な収率及び簡単な方法で、5′−デオキシ
−5−フルオロウリジンを製造するための新規な
方法に関する。式()の出発物質はD−リボー
スから、または公知であり且つD−リボースから
容易に得られるメチル2,3−O−イソプロピリ
デン−D−リボフラノシド()から容易に得ら
れる。
本発明によつて提供される方法は、1−(5−
デオキシ−2,3−ジ−O−アシル−β−D−リ
ボフラノシル)−5−フルオロウラシル()か
らアシル基を離脱することからなる。このアシル
基は糖化学における保護基として公知の脂肪族及
び芳香族酸の通常の残基であることができ、ベン
ゾイル及びアセチル基が好ましい。この離脱はそ
れ自体公知の方法で行われ、ほとんど定量的に進
行する。該離脱は酸またはアルカリ性加水分解に
よつて、例えば無機酸または強有機酸を用いて水
性またはアルコール性媒質中で行うことができ
る。この加水分解は好ましくはナトリウムメチレ
ートの如きアルカリ金属アルコレートで処理する
ことにより、メタノールの如きアルコール性の無
水媒質中で行われる(Zemplenの方法)。定量的
に離脱させるために、生ずる酢酸メチルを連続的
に除去するか、または繰り返し真空蒸留によつて
除去しなければならない。しかしながらまた、ア
シル基の離脱は、有機溶媒好ましくはメタノール
中の強有機塩基(例えばトリエチルアミンの如き
トリアルキルアミン)で処理して、または強塩基
性イオン交換樹脂(OH-型)を用いて行うこと
もできる。
デオキシ−2,3−ジ−O−アシル−β−D−リ
ボフラノシル)−5−フルオロウラシル()か
らアシル基を離脱することからなる。このアシル
基は糖化学における保護基として公知の脂肪族及
び芳香族酸の通常の残基であることができ、ベン
ゾイル及びアセチル基が好ましい。この離脱はそ
れ自体公知の方法で行われ、ほとんど定量的に進
行する。該離脱は酸またはアルカリ性加水分解に
よつて、例えば無機酸または強有機酸を用いて水
性またはアルコール性媒質中で行うことができ
る。この加水分解は好ましくはナトリウムメチレ
ートの如きアルカリ金属アルコレートで処理する
ことにより、メタノールの如きアルコール性の無
水媒質中で行われる(Zemplenの方法)。定量的
に離脱させるために、生ずる酢酸メチルを連続的
に除去するか、または繰り返し真空蒸留によつて
除去しなければならない。しかしながらまた、ア
シル基の離脱は、有機溶媒好ましくはメタノール
中の強有機塩基(例えばトリエチルアミンの如き
トリアルキルアミン)で処理して、または強塩基
性イオン交換樹脂(OH-型)を用いて行うこと
もできる。
反応混合物の処理は普通の方法で行うことがで
きる。混合物の中和はカチオン交換樹脂(H+型)
で処理して有利に行うことができる;5′−デオキ
シ−5−フルオロウラジンが、イオン交換樹脂の
除去後の濃縮によつて溶液から高収率且つ高純度
で得ることができる。
きる。混合物の中和はカチオン交換樹脂(H+型)
で処理して有利に行うことができる;5′−デオキ
シ−5−フルオロウラジンが、イオン交換樹脂の
除去後の濃縮によつて溶液から高収率且つ高純度
で得ることができる。
新規な化合物であり且つ本発明の一部を構成す
る式の出発物質は、アノマー混合物の形の5−
デオキシ−1,2,3−トリ−O−アシル−D−
リボフラノシド(a)または5−デオキシ−
2,3−ジ−O−アシル−1−O−メチル−D−
リボフラノシド(b)を適当な触媒、好ましく
はトリメチルシリル−トリフルオロメタンスルホ
ネートまたは四塩化スズの存在下において、好ま
しくは氷で冷却しながら、不活性有機溶媒中にて
室温または室温以下で2,4−ビス(トリメチル
シリル)−5−フルオロウラシル()と反応さ
せ、そして反応混合物から所望のβ−アノマーを
単離することによつて製造することができる。こ
の分離方法は2,3−ジ−O−アセチル化合物
()の場合には特に簡単であり且つほぼ定量的
である。その理由はβ−アノマー自体が熱酢酸エ
チルに極めて難溶性のためである。
る式の出発物質は、アノマー混合物の形の5−
デオキシ−1,2,3−トリ−O−アシル−D−
リボフラノシド(a)または5−デオキシ−
2,3−ジ−O−アシル−1−O−メチル−D−
リボフラノシド(b)を適当な触媒、好ましく
はトリメチルシリル−トリフルオロメタンスルホ
ネートまたは四塩化スズの存在下において、好ま
しくは氷で冷却しながら、不活性有機溶媒中にて
室温または室温以下で2,4−ビス(トリメチル
シリル)−5−フルオロウラシル()と反応さ
せ、そして反応混合物から所望のβ−アノマーを
単離することによつて製造することができる。こ
の分離方法は2,3−ジ−O−アセチル化合物
()の場合には特に簡単であり且つほぼ定量的
である。その理由はβ−アノマー自体が熱酢酸エ
チルに極めて難溶性のためである。
式aの化合物は公知の方法で、メチル(5−
デオキシ−2,3−O−イソプロピリデン)−D
−リボフラノシド(V)を水性無機酸で加水分解
して5−デオキシ−D−リボースを生成させ、そ
してこのものをまた公知の方法でアシル化するこ
とによつて得ることができる。精製は蒸留または
好ましくは酸化アルミニウムもしくはシリカゲル
上でのクロマトグラフイーのいずれかによつて行
うことができる。好ましくは5−デオキシ−D−
リボースをアシル化するが、このアシル化は例え
ばピリジン中で酢酸無水物を用いて行うことがで
きる。また式bの化合物は式Vの化合物からイ
ソプロピリデン基の選択的離脱によつて、例えば
希酸(0.01N塩酸)で10分間処理し、次いでアシ
ル化(例えば酢酸無水物/ピリジンを用いて)に
よつて得ることができる。
デオキシ−2,3−O−イソプロピリデン)−D
−リボフラノシド(V)を水性無機酸で加水分解
して5−デオキシ−D−リボースを生成させ、そ
してこのものをまた公知の方法でアシル化するこ
とによつて得ることができる。精製は蒸留または
好ましくは酸化アルミニウムもしくはシリカゲル
上でのクロマトグラフイーのいずれかによつて行
うことができる。好ましくは5−デオキシ−D−
リボースをアシル化するが、このアシル化は例え
ばピリジン中で酢酸無水物を用いて行うことがで
きる。また式bの化合物は式Vの化合物からイ
ソプロピリデン基の選択的離脱によつて、例えば
希酸(0.01N塩酸)で10分間処理し、次いでアシ
ル化(例えば酢酸無水物/ピリジンを用いて)に
よつて得ることができる。
しかしながら、また一方、式の化合物は式V
の化合物から、このものをそれ自体公知の方法
で、該イソプロピリデン基を選択的に離脱させ、
次いでメチル(5−ジオキシ−2,2−ジ−O−
アシル)−D−リボフラノシドにアシル化し、次
にこのものを前記の方法で2,4−ビス(トリメ
チルシリル)−5−フルオロウラシルと反応させ
ることによつて製造することができる。しかしな
がら、この方法は比較的低収率で式の化合物を
生じる。
の化合物から、このものをそれ自体公知の方法
で、該イソプロピリデン基を選択的に離脱させ、
次いでメチル(5−ジオキシ−2,2−ジ−O−
アシル)−D−リボフラノシドにアシル化し、次
にこのものを前記の方法で2,4−ビス(トリメ
チルシリル)−5−フルオロウラシルと反応させ
ることによつて製造することができる。しかしな
がら、この方法は比較的低収率で式の化合物を
生じる。
式Vの化合物の製造はそれ自体公知の方法にお
いて、公知のメチル2,3−O−イソプロピリデ
ン−D−リボフラノシド()から、5−ヒドロ
キシ基を臭素原子で置換(化合物)し、次いで
還元的に臭素原子を除去して得ることができる。
いて、公知のメチル2,3−O−イソプロピリデ
ン−D−リボフラノシド()から、5−ヒドロ
キシ基を臭素原子で置換(化合物)し、次いで
還元的に臭素原子を除去して得ることができる。
上記の5−ヒドロキシ基の臭素原子による置換
または本発明の一部を構成し、且つメチル2,3
−O−イソプロピリデン−D−リボフラノシドを
塩化メチレン中にてトリフエニルホスフインの存
在下において室温にて臭素で処理することからな
る新規の方法を用いて行われる。この反応は簡単
な工程であり、この反応を完全に水を除去して行
うならば、極めて純粋な生成物が高収率で得られ
る。
または本発明の一部を構成し、且つメチル2,3
−O−イソプロピリデン−D−リボフラノシドを
塩化メチレン中にてトリフエニルホスフインの存
在下において室温にて臭素で処理することからな
る新規の方法を用いて行われる。この反応は簡単
な工程であり、この反応を完全に水を除去して行
うならば、極めて純粋な生成物が高収率で得られ
る。
また本発明の一部を構成する新規な得られるメ
チル(5−デオキシ−5−ブロモ−2,3−O−
イソプロピリデン)−D−リボフラノシド()
は、貴金属触媒例えば炭素もしくは硫酸バリウム
の如き不活性担体物質に随時担持させたパラジウ
ムの存在下において、或いはラネーニツケルの存
在下において、プロトン性溶媒例えばアルコー
ル、好ましくはメタノール中で接触水素添加によ
つて対応する5−デオキシ化合物(V)に容易に
転化することができる。この水素添加は水酸化カ
リウムまたはトリエチルアミンの如き無機または
有機塩基の存在下において、1〜5気圧、好まし
くは常圧で0℃乃至60℃間、好ましくは室温で行
うことができる。
チル(5−デオキシ−5−ブロモ−2,3−O−
イソプロピリデン)−D−リボフラノシド()
は、貴金属触媒例えば炭素もしくは硫酸バリウム
の如き不活性担体物質に随時担持させたパラジウ
ムの存在下において、或いはラネーニツケルの存
在下において、プロトン性溶媒例えばアルコー
ル、好ましくはメタノール中で接触水素添加によ
つて対応する5−デオキシ化合物(V)に容易に
転化することができる。この水素添加は水酸化カ
リウムまたはトリエチルアミンの如き無機または
有機塩基の存在下において、1〜5気圧、好まし
くは常圧で0℃乃至60℃間、好ましくは室温で行
うことができる。
一方また、式Vの化合物は、式の化合物か
ら、アシル化、好ましくは5−位置で化合物を
アセチル化し、次いで少量の水(約5%)の存在
下において且つ保護ガス(例えばアルゴン)下
で、ヘキサメチルリン酸中にて、好ましくは高圧
水銀ランプで数時間照射することによつて、約90
%の収率で得ることができる。
ら、アシル化、好ましくは5−位置で化合物を
アセチル化し、次いで少量の水(約5%)の存在
下において且つ保護ガス(例えばアルゴン)下
で、ヘキサメチルリン酸中にて、好ましくは高圧
水銀ランプで数時間照射することによつて、約90
%の収率で得ることができる。
次の反応式は後記の実施例によつても説明する
既に述べた本発明の概要を示すものである。
既に述べた本発明の概要を示すものである。
実施例 1
A 出発物質の製造
塩化メチレン7000ml中のメチル2,3−O−
イソプロピリデン−D−リボフラノシド
204.22g及びトリフエニルホスフイン52.4gの溶
液を5゜〜8℃に冷却し、撹拌しながら60分以内
で臭素102mlで処理した。この混合物を還流で
4時間加熱し、次に室温で14撹拌した。メタノ
ール50mlの添加後、この混合物を水各2000mlで
4回、3%炭酸水素ナトリウム水溶液2000mlそ
して再び水2000mlで洗浄した。有機相を無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、やや加温しながら減
圧下で約1000mlに濃縮した。この濃縮した溶液
をヘキサン1000mlで処理し、生じた結晶を吸引
別し、ヘキサン各300mlで2回洗浄した。合
液した溶液の蒸発残渣をヘキサン各1000mlで2
回抽出し、最後にヘキサン1500mlを用いてシリ
カゲルカラム(6×80cm)上で溶離した。合液
したヘキサン溶液から、真空下で濃縮し、次に
真空蒸留した後、メチル(5−デオキシ−5−
ブロモ−2,3−O−イソプロピリデン)−D
−リボフラノシド226g(85%)を得た;沸点0.6
=72゜〜75℃;n24 D=1.4712;〔α〕364 D=−237.6゜
(1%、クロロホルム中)。
イソプロピリデン−D−リボフラノシド
204.22g及びトリフエニルホスフイン52.4gの溶
液を5゜〜8℃に冷却し、撹拌しながら60分以内
で臭素102mlで処理した。この混合物を還流で
4時間加熱し、次に室温で14撹拌した。メタノ
ール50mlの添加後、この混合物を水各2000mlで
4回、3%炭酸水素ナトリウム水溶液2000mlそ
して再び水2000mlで洗浄した。有機相を無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、やや加温しながら減
圧下で約1000mlに濃縮した。この濃縮した溶液
をヘキサン1000mlで処理し、生じた結晶を吸引
別し、ヘキサン各300mlで2回洗浄した。合
液した溶液の蒸発残渣をヘキサン各1000mlで2
回抽出し、最後にヘキサン1500mlを用いてシリ
カゲルカラム(6×80cm)上で溶離した。合液
したヘキサン溶液から、真空下で濃縮し、次に
真空蒸留した後、メチル(5−デオキシ−5−
ブロモ−2,3−O−イソプロピリデン)−D
−リボフラノシド226g(85%)を得た;沸点0.6
=72゜〜75℃;n24 D=1.4712;〔α〕364 D=−237.6゜
(1%、クロロホルム中)。
メタノール7500ml中のメチル(5−デオキシ
−5−ブロモ−2,3−O−イソプロピリデ
ン)−D−リボフラノシド802gをメタノール性
水酸化カリウム(メタノール3000ml中185g)
及び5%パラジウム/炭素50gの存在下におい
て15時間室温で水素添加した。この混合物を
過し、液を減圧下にて35℃で濃縮し、残渣を
ヘキサン2000mlで希釈し、シリカゲル(5×80
cm)に加え、このものをヘキサン4000mlで溶離
した。溶離液を蒸発させそして真空蒸留した
後、メチル(5−デオキソ−2,3−O−イソ
プロピリデン)−D−リボフラノシド510g(90
%)を得た;沸点10〜1272゜〜75℃;n20 D=
1.4340;〔α〕25 D=−96.6゜(C=0.34、クロロホル
ム中)。
−5−ブロモ−2,3−O−イソプロピリデ
ン)−D−リボフラノシド802gをメタノール性
水酸化カリウム(メタノール3000ml中185g)
及び5%パラジウム/炭素50gの存在下におい
て15時間室温で水素添加した。この混合物を
過し、液を減圧下にて35℃で濃縮し、残渣を
ヘキサン2000mlで希釈し、シリカゲル(5×80
cm)に加え、このものをヘキサン4000mlで溶離
した。溶離液を蒸発させそして真空蒸留した
後、メチル(5−デオキソ−2,3−O−イソ
プロピリデン)−D−リボフラノシド510g(90
%)を得た;沸点10〜1272゜〜75℃;n20 D=
1.4340;〔α〕25 D=−96.6゜(C=0.34、クロロホル
ム中)。
メチル(5−デオキソ−2,3−O−イソプ
ロピリデン)−D−リボフラノシド282g、1N塩
酸162ml及び水3860mlの混合物を撹拌しながら
110℃に2時間加熱した。この溶液を氷/水に
注いで16゜〜20℃に冷却し、アニオン交換樹脂
アンバーライト(Amberlite)(商標)TR−45
(OH-型)1000mlの添加によつて中和した。30
分撹拌した後、混合物のPH値126であつた。イ
オン交換樹脂を別し、水2000mlで洗浄した。
水溶液を減圧下にて40゜〜45℃で濃縮し、油状
の残渣をピリジン3000mlの存在下において蒸発
させた。得られた粗製の5−デオキソ−D−リ
ボース(202g)をピリジン3000mlに溶解し、
酢酸無水物720gで処理してアセチル化した。
この混合物を室温で20時間放置し、減圧下で
400〜500mlの容量に濃縮し、撹拌しながら飽和
炭酸水素ナトリウム溶液2000ml中に注いだ。こ
の水溶液を塩化メチレン各1000mlで2回抽出
し、抽出液を水各1000mlで2回洗浄し、無水水
酸化ナトリウム上で乾燥し、減圧下で濃縮し
た。シロツプ状の残渣を、各々トルエン2000ml
の添加後に2回蒸発させ、エーテル1000mlに採
り入れ、活性炭10gと共に15分間撹拌した。
過しそして残渣をエーテル500mlで洗浄した後、
エーテル相を蒸発させ、真空蒸留によつて精製
した(沸点0.1〜0.3=96゜〜102℃)。アノマー混
合物として5−デオキシ−1,2,3−トリ−
O−アセチル−D−リボフラノシド210g(75
%)が得られた。このものから単離した結晶性
のβ−アノマーは66゜〜67℃の融点をもつてい
た。
ロピリデン)−D−リボフラノシド282g、1N塩
酸162ml及び水3860mlの混合物を撹拌しながら
110℃に2時間加熱した。この溶液を氷/水に
注いで16゜〜20℃に冷却し、アニオン交換樹脂
アンバーライト(Amberlite)(商標)TR−45
(OH-型)1000mlの添加によつて中和した。30
分撹拌した後、混合物のPH値126であつた。イ
オン交換樹脂を別し、水2000mlで洗浄した。
水溶液を減圧下にて40゜〜45℃で濃縮し、油状
の残渣をピリジン3000mlの存在下において蒸発
させた。得られた粗製の5−デオキソ−D−リ
ボース(202g)をピリジン3000mlに溶解し、
酢酸無水物720gで処理してアセチル化した。
この混合物を室温で20時間放置し、減圧下で
400〜500mlの容量に濃縮し、撹拌しながら飽和
炭酸水素ナトリウム溶液2000ml中に注いだ。こ
の水溶液を塩化メチレン各1000mlで2回抽出
し、抽出液を水各1000mlで2回洗浄し、無水水
酸化ナトリウム上で乾燥し、減圧下で濃縮し
た。シロツプ状の残渣を、各々トルエン2000ml
の添加後に2回蒸発させ、エーテル1000mlに採
り入れ、活性炭10gと共に15分間撹拌した。
過しそして残渣をエーテル500mlで洗浄した後、
エーテル相を蒸発させ、真空蒸留によつて精製
した(沸点0.1〜0.3=96゜〜102℃)。アノマー混
合物として5−デオキシ−1,2,3−トリ−
O−アセチル−D−リボフラノシド210g(75
%)が得られた。このものから単離した結晶性
のβ−アノマーは66゜〜67℃の融点をもつてい
た。
塩化メチレン3000ml中の新たに蒸留した5−
デオソ−1,2,3−トリ−O−アセチル−D
−リボフラノシド(アノマー混合物)305gを、
5−フルオロウラシル165g及びヘキサメチル
ジシラザン620mlから新たに製造した塩化メチ
レン1000ml中の2,4−ビス(トリメチルシリ
ル)−5−フルオロウラシルで処理した。この
反応を塩化メチレン250ml中のトリメチルシリ
ルートリフルオロメタンスルホネート230mlの
存在下において、氷冷し且つはげしく撹拌しな
がら行つた。混合物を室温で20時間放置し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液3000mlに注ぎ、30
分間撹拌し、塩化メチレン各800mlで3回抽出
した。抽出液を水各300mlで洗浄し、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、減圧下で容量500〜600
mlに濃縮した。濃縮物をヘキサン500mlで処理
し、この溶液を室温で2時間以内に蒸発させ
た。得られた結晶性生成物を酢酸エチル900ml
及びヘキサン900mlの0℃に冷却した混合物で
処理し、酢酸エチル500mlと共に10分間環流下
に加熱した。この溶液を冷却し、冷蔵庫中に12
時間放置した。融点176゜〜177℃の純粋な1−
(5−デオキシ−2,3−ジ−O−アセチル−
β−D−リボフラノシル)−5−フルオロウラ
シル250gが得られた。
デオソ−1,2,3−トリ−O−アセチル−D
−リボフラノシド(アノマー混合物)305gを、
5−フルオロウラシル165g及びヘキサメチル
ジシラザン620mlから新たに製造した塩化メチ
レン1000ml中の2,4−ビス(トリメチルシリ
ル)−5−フルオロウラシルで処理した。この
反応を塩化メチレン250ml中のトリメチルシリ
ルートリフルオロメタンスルホネート230mlの
存在下において、氷冷し且つはげしく撹拌しな
がら行つた。混合物を室温で20時間放置し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液3000mlに注ぎ、30
分間撹拌し、塩化メチレン各800mlで3回抽出
した。抽出液を水各300mlで洗浄し、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、減圧下で容量500〜600
mlに濃縮した。濃縮物をヘキサン500mlで処理
し、この溶液を室温で2時間以内に蒸発させ
た。得られた結晶性生成物を酢酸エチル900ml
及びヘキサン900mlの0℃に冷却した混合物で
処理し、酢酸エチル500mlと共に10分間環流下
に加熱した。この溶液を冷却し、冷蔵庫中に12
時間放置した。融点176゜〜177℃の純粋な1−
(5−デオキシ−2,3−ジ−O−アセチル−
β−D−リボフラノシル)−5−フルオロウラ
シル250gが得られた。
B 1−(5−デオキシ−2,3−ジ−O−アセ
チル−β−D−リボフラノシル)−5−フルオ
ロウラシルから5′−デオキソ−5−フルオロウ
リジンの製造 メタノール16の1−(5−デオキシ−2,3
−ジ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)
−5−フルオロウラシル860gの溶液を、ナトリ
ウム42g及びメタノール2000mlから新たに製造し
たナトリウムメチレートに加えた。反応中に生じ
た酢酸メチルを混合物の繰り返し濃縮によつて除
去した。この混合物をメタノールで新たに洗浄し
たカチオン交換樹脂アンバーライトIRC−120
(H+型)1000mlの添加によつて中和した。イオン
交換樹脂を除去した後、メタノール性溶液を減圧
下で濃縮し、結晶状で分離した生成物をメタノー
ル1000ml及び酢酸エチル1000mlの0℃に冷却した
混合物で洗浄した。母液を処理し、合計680g(収
率97%)の純粋な5′−デオキシ−5−フルオロウ
リジンが得られた;融点192゜〜193℃;〔α〕25 D=
+139゜(C=0.9、メタノール中)。
チル−β−D−リボフラノシル)−5−フルオ
ロウラシルから5′−デオキソ−5−フルオロウ
リジンの製造 メタノール16の1−(5−デオキシ−2,3
−ジ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)
−5−フルオロウラシル860gの溶液を、ナトリ
ウム42g及びメタノール2000mlから新たに製造し
たナトリウムメチレートに加えた。反応中に生じ
た酢酸メチルを混合物の繰り返し濃縮によつて除
去した。この混合物をメタノールで新たに洗浄し
たカチオン交換樹脂アンバーライトIRC−120
(H+型)1000mlの添加によつて中和した。イオン
交換樹脂を除去した後、メタノール性溶液を減圧
下で濃縮し、結晶状で分離した生成物をメタノー
ル1000ml及び酢酸エチル1000mlの0℃に冷却した
混合物で洗浄した。母液を処理し、合計680g(収
率97%)の純粋な5′−デオキシ−5−フルオロウ
リジンが得られた;融点192゜〜193℃;〔α〕25 D=
+139゜(C=0.9、メタノール中)。
実施例 2
メタノール500ml中のメチル(5−デオキシ−
2,3−O−イソプロピリデン)−D−リボフラ
ノシド100gの溶液を0.1N硫酸500mlで処理し、こ
の混合物を、薄層クロマトグラフによつてもはや
出発物質が検出されなくなるまで水浴上で還流下
で加熱した。次にこの混合物を撹拌しながら炭酸
バリウムの添加によつて中和し(PH値6〜7)、
ガラス・フリツト上で吸引過し、液を減圧下
で濃縮乾固させた。残渣をメタノール150ml及び
ベンゼン100mlの混合物に2回採り入れ、再濃縮
し、最後に乾燥ピリジン500ml及び酢酸無水物400
mlに採り入れた。20゜〜22℃で24時間放置した後、
混合物を減圧下で濃縮し、トルエン各200mlに2
回採り入れ、次に濃縮した。残渣を塩化メチレン
300mlに溶解した。この溶液を1N硫酸各150mlで
2回そして2%炭酸水素ナトリウム溶液100mlで
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で濃
縮した。帯黄色の油状物質として粗製のメチル
(5−デオキシ−2,3−ジ−O−アセチル)−D
−リボフラノシド130gが得られ、このものを減
圧下で蒸留した;沸点0.3=78゜〜79℃;n20 D=
1.4371〜1.4380。
2,3−O−イソプロピリデン)−D−リボフラ
ノシド100gの溶液を0.1N硫酸500mlで処理し、こ
の混合物を、薄層クロマトグラフによつてもはや
出発物質が検出されなくなるまで水浴上で還流下
で加熱した。次にこの混合物を撹拌しながら炭酸
バリウムの添加によつて中和し(PH値6〜7)、
ガラス・フリツト上で吸引過し、液を減圧下
で濃縮乾固させた。残渣をメタノール150ml及び
ベンゼン100mlの混合物に2回採り入れ、再濃縮
し、最後に乾燥ピリジン500ml及び酢酸無水物400
mlに採り入れた。20゜〜22℃で24時間放置した後、
混合物を減圧下で濃縮し、トルエン各200mlに2
回採り入れ、次に濃縮した。残渣を塩化メチレン
300mlに溶解した。この溶液を1N硫酸各150mlで
2回そして2%炭酸水素ナトリウム溶液100mlで
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で濃
縮した。帯黄色の油状物質として粗製のメチル
(5−デオキシ−2,3−ジ−O−アセチル)−D
−リボフラノシド130gが得られ、このものを減
圧下で蒸留した;沸点0.3=78゜〜79℃;n20 D=
1.4371〜1.4380。
塩化メチレン中の2,4−ビス(トリメチルシ
リル)−5−フルオロウラシル(フルオロウラシ
ル5.2g及びヘキサメチルジシラジン20mlから製造
したもの)の溶液30mlを塩化メチレン81ml中の新
たに蒸留したメチル(5−デオキシ−2,3−ジ
−O−アセチル)−D−リボフラノシド8.1gの溶
液に加えた。この混合物を氷で冷却し、撹拌しな
がら塩化メチレン8ml中のトリメチルシリル−ト
リフルオロメタンスルホネート7mlの溶液で処理
した。この混合物を室温で20時間放置し、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液200mlに注ぎこの混合物
を30分間撹拌し、次に塩化メチレン各100mlで3
回抽出した。合液した抽出液を水各50mlで2回洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、加熱せず
に減圧下で60mlに濃縮し、ヘキサン60mlの添加
後、同一条件下で濃縮した。残渣を冷蔵庫中で4
時間放置し、結晶を別し、酢酸エチル及びヘキ
サンの1:1冷混合物で、そして最後に酢酸エチ
ルで洗浄した。純粋な1−(5−デオキシ−2,
3−ジ−O−アセチル−β−D−リボフラノシ
ル)−5−フルオロウラシル7gが得られた;沸点
179゜〜181℃;〔α〕20 D=+34.6゜(c=1.0、メタノ
ー
ル中)。
リル)−5−フルオロウラシル(フルオロウラシ
ル5.2g及びヘキサメチルジシラジン20mlから製造
したもの)の溶液30mlを塩化メチレン81ml中の新
たに蒸留したメチル(5−デオキシ−2,3−ジ
−O−アセチル)−D−リボフラノシド8.1gの溶
液に加えた。この混合物を氷で冷却し、撹拌しな
がら塩化メチレン8ml中のトリメチルシリル−ト
リフルオロメタンスルホネート7mlの溶液で処理
した。この混合物を室温で20時間放置し、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液200mlに注ぎこの混合物
を30分間撹拌し、次に塩化メチレン各100mlで3
回抽出した。合液した抽出液を水各50mlで2回洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、加熱せず
に減圧下で60mlに濃縮し、ヘキサン60mlの添加
後、同一条件下で濃縮した。残渣を冷蔵庫中で4
時間放置し、結晶を別し、酢酸エチル及びヘキ
サンの1:1冷混合物で、そして最後に酢酸エチ
ルで洗浄した。純粋な1−(5−デオキシ−2,
3−ジ−O−アセチル−β−D−リボフラノシ
ル)−5−フルオロウラシル7gが得られた;沸点
179゜〜181℃;〔α〕20 D=+34.6゜(c=1.0、メタノ
ー
ル中)。
1−(5−デオキシ−2,3−ジ−O−アセチ
ル−β−D−リボフラノシル)−5−フルオロウ
ラシル25gを、薄層クロマトグラフイーによつて
もはや出発物質が検出されなくなるまで、トリエ
チルアミン0.3mlの存在下においてメタノール60
ml中で還流下に加熱した。この無色透明な溶液を
減圧下で濃縮し、得られた白色結晶性物質を水か
ら再結晶した。融点192゜〜193℃の純粋な5′−デ
オキシ−5−フルオロウリジンが98%の収率で得
られた。
ル−β−D−リボフラノシル)−5−フルオロウ
ラシル25gを、薄層クロマトグラフイーによつて
もはや出発物質が検出されなくなるまで、トリエ
チルアミン0.3mlの存在下においてメタノール60
ml中で還流下に加熱した。この無色透明な溶液を
減圧下で濃縮し、得られた白色結晶性物質を水か
ら再結晶した。融点192゜〜193℃の純粋な5′−デ
オキシ−5−フルオロウリジンが98%の収率で得
られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 アシル基が糖化学における保護基として普通
の脂肪族または芳香族酸の残基である1−(5−
デオキシ−2,3−ジ−O−アシル−β−D−リ
ボフラノシル)−5−フルオロウラシル。 2 1−(5−デオキシ−2,3−ジ−O−アセ
チル−β−D−リボフラノシル)−5−フルオロ
ウラシルである特許請求の範囲第1項記載の化合
物。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH562579 | 1979-06-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59144798A JPS59144798A (ja) | 1984-08-18 |
| JPS632960B2 true JPS632960B2 (ja) | 1988-01-21 |
Family
ID=4296736
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7727680A Granted JPS565497A (en) | 1979-06-15 | 1980-06-10 | Novel manufacture of 5**deoxyy55fluorouridine |
| JP59005853A Granted JPS59144798A (ja) | 1979-06-15 | 1984-01-18 | 5−フルオロウラシル誘導体 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7727680A Granted JPS565497A (en) | 1979-06-15 | 1980-06-10 | Novel manufacture of 5**deoxyy55fluorouridine |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4340729A (ja) |
| EP (1) | EP0021231B1 (ja) |
| JP (2) | JPS565497A (ja) |
| KR (1) | KR830001842B1 (ja) |
| AT (1) | ATE4904T1 (ja) |
| CA (1) | CA1135258A (ja) |
| DE (1) | DE3065146D1 (ja) |
| DK (1) | DK148060C (ja) |
| ES (1) | ES492456A0 (ja) |
| FI (1) | FI71566C (ja) |
| GR (1) | GR68760B (ja) |
| HU (1) | HU181712B (ja) |
| NO (1) | NO148109C (ja) |
| PT (1) | PT71382B (ja) |
| YU (1) | YU42664B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU671491B2 (en) * | 1992-12-18 | 1996-08-29 | F. Hoffmann-La Roche Ag | N-oxycarbonyl substituted 5'-deoxy-5-fluorcytidines |
| WO1996012728A1 (en) * | 1994-10-24 | 1996-05-02 | Genencor International, Inc. | L-pyranosyl nucleosides |
| US5559101A (en) * | 1994-10-24 | 1996-09-24 | Genencor International, Inc. | L-ribofuranosyl nucleosides |
| IT1291983B1 (it) * | 1997-05-23 | 1999-01-25 | Pro Bio Sint Srl | Prodcedimento per la preparazione di un derivato della desossiuridina |
| US6593467B2 (en) | 1997-05-23 | 2003-07-15 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Process for the preparation of a deoxyuridine derivative |
| JPH1192386A (ja) * | 1997-09-17 | 1999-04-06 | Nikken Chem Co Ltd | 5−フルオロウリジン誘導体を有効成分とする抗癌剤 |
| ITMI20032059A1 (it) * | 2003-10-22 | 2005-04-23 | Clariant Lsm Italia Spa | Processo per la preparazione di doxifluridina. |
| KR100908363B1 (ko) * | 2007-02-28 | 2009-07-20 | 한미약품 주식회사 | 트라이-O-아세틸-5-데옥시-β-D-라이보퓨라노즈의입체선택적 제조방법 및 이의 분리방법 |
| US20100298550A1 (en) * | 2007-10-05 | 2010-11-25 | Api Corporation | Process for production of ribofuranose derivatives |
| KR101013312B1 (ko) * | 2007-11-19 | 2011-02-09 | 한미홀딩스 주식회사 | 카페시타빈의 제조방법 및 이에 사용되는 β-아노머가강화된 트리알킬카보네이트 화합물의 제조방법 |
| AR064165A1 (es) | 2007-12-06 | 2009-03-18 | Richmond Sa Com Ind Y Financie | Un procedimiento para la preparacion de capecitabina e intermediarios utilizables en dicho procedimiento |
| EP2210895A1 (en) * | 2009-01-27 | 2010-07-28 | F. Hoffmann-La Roche AG | Process for the recovery of beta-Acetylfuranoside |
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| CN103772450A (zh) * | 2012-10-18 | 2014-05-07 | 黑龙江福和华星制药集团股份有限公司 | 一种1,2,3-三乙酰基-5-脱氧-d-核糖的制法 |
| CN102993254A (zh) * | 2012-12-28 | 2013-03-27 | 山东铂源药业有限公司 | 卡培他滨的中间体5′-脱氧-2′,3′-o-异亚丙基-5-氟胞苷的制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1812268U (de) | 1959-07-03 | 1960-06-02 | Telefunken Gmbh | Faraday-isolator. |
| FR1489919A (fr) | 1965-07-22 | 1967-07-28 | Hoffmann La Roche | Procédé pour la préparation de nucléosides |
| DE1812268A1 (de) * | 1968-12-03 | 1970-06-25 | Technochemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von isomerenfreien hoehermolekularen,sekundaeren Alkylbromiden |
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| US4071680A (en) * | 1976-12-20 | 1978-01-31 | Hoffmann-La Roche Inc. | 5'-Deoxy-5-fluoropyrimidine nucleosides |
-
1980
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- 1980-04-10 YU YU972/80A patent/YU42664B/xx unknown
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- 1980-06-10 DE DE8080103219T patent/DE3065146D1/de not_active Expired
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- 1980-06-10 EP EP80103219A patent/EP0021231B1/de not_active Expired
- 1980-06-10 AT AT80103219T patent/ATE4904T1/de not_active IP Right Cessation
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- 1980-06-12 PT PT71382A patent/PT71382B/pt unknown
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- 1980-06-14 ES ES492456A patent/ES492456A0/es active Granted
-
1984
- 1984-01-18 JP JP59005853A patent/JPS59144798A/ja active Granted
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