JPS6335544A - 無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチル〕メタン、その製法及び安定化重合体組成物 - Google Patents
無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチル〕メタン、その製法及び安定化重合体組成物Info
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- JPS6335544A JPS6335544A JP62183804A JP18380487A JPS6335544A JP S6335544 A JPS6335544 A JP S6335544A JP 62183804 A JP62183804 A JP 62183804A JP 18380487 A JP18380487 A JP 18380487A JP S6335544 A JPS6335544 A JP S6335544A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
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- C07C69/732—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids of unsaturated hydroxy carboxylic acids
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
−（３．５一ジ第３級ブチル−４ーヒドロキシフェニル
）一ブロピオニルーオキシメチル〕メタン、その製法及
び特に有機重合体用の安定剤としての使用に係る。
）一ブロピオニルーオキシメチル〕メタン、その製法及
び特に有機重合体用の安定剤としての使用に係る。
テトラキス（３− （３．５−ジ第３級ブチル−４ーヒ
ドロキシフェニル）一プロピオニルーオキンメチル〕メ
タンは、構造式 を有する化合物であり、たとえば米国特許第３。
ドロキシフェニル）一プロピオニルーオキンメチル〕メ
タンは、構造式 を有する化合物であり、たとえば米国特許第３。
６４４ 、 ４２８号に開示されている如く、有機物質
、特に有機重合体用の安定剤として使用される。
、特に有機重合体用の安定剤として使用される。
さらに、このテトラキス（３− （３．５−ジ第３扱ブ
チル−４ーヒドロキシフェニル）一ブロビオニルーオキ
ンメチル〕メタンは、たとえばＣｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社
により ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）ｔｏｔｏとして販
売されているもの及びＢｏｚｚｅｔｔｏ社により 八Ｎ
ＯＸ（登録商標）２０として販売されているものの如く
、すでに市販されている。
チル−４ーヒドロキシフェニル）一ブロビオニルーオキ
ンメチル〕メタンは、たとえばＣｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社
により ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）ｔｏｔｏとして販
売されているもの及びＢｏｚｚｅｔｔｏ社により 八Ｎ
ＯＸ（登録商標）２０として販売されているものの如く
、すでに市販されている。
テトラキスＣ３− （３．５−ジ第３級プチルー４ー
ヒドロキノフェニル）一プロビオニルーオキンメチル〕
メタンの調製にあたり一般的に使用される方法は、上記
米国特許第３，６４４，４２８号に記載の如く、エステ
ル交換触媒の存在下で行なわれ一般式 （式中、Ｒはメチル基またはエチル基である）を有する
３−（３．５一ジ第３級ブチル−４ーヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸メチル又はエチルのペンタエリスリト
ールによるエステル交換反応によるものである。
ヒドロキノフェニル）一プロビオニルーオキンメチル〕
メタンの調製にあたり一般的に使用される方法は、上記
米国特許第３，６４４，４２８号に記載の如く、エステ
ル交換触媒の存在下で行なわれ一般式 （式中、Ｒはメチル基またはエチル基である）を有する
３−（３．５一ジ第３級ブチル−４ーヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸メチル又はエチルのペンタエリスリト
ールによるエステル交換反応によるものである。
このエステル交換反応から得られたテトラキス（３−（
３．５−ジ第３級ブチル−４ーヒドロキシフェニル）一
プロピオニルーオキシメチル〕メタンは、軟化点５０−
６０℃を有するガラス質固体、又は８０−９０℃で溶融
する固状物である。これらの多くは不純な生成物又は着
色した生成物であり、市販するには適さない。
３．５−ジ第３級ブチル−４ーヒドロキシフェニル）一
プロピオニルーオキシメチル〕メタンは、軟化点５０−
６０℃を有するガラス質固体、又は８０−９０℃で溶融
する固状物である。これらの多くは不純な生成物又は着
色した生成物であり、市販するには適さない。
従って、脱色処理を排除するため、又は少なくとも低減
するために、当分野では、有機溶媒からの再結晶等の処
理が通常行なわれているが、この処理では、融点１２０
℃程度の結晶性テトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキ
シメチルコメタンが生成される。この従来例については
、ヨーロッパ特許第３２，４５９号の明細書（特に第２
頁）を参照する。
するために、当分野では、有機溶媒からの再結晶等の処
理が通常行なわれているが、この処理では、融点１２０
℃程度の結晶性テトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキ
シメチルコメタンが生成される。この従来例については
、ヨーロッパ特許第３２，４５９号の明細書（特に第２
頁）を参照する。
実際には、市販のテトラキス（３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ブロピオニルーオ
キンメチル〕メタンは結晶性の固状物であり、各種の同
素体形で存在し、１１０ないし１２５℃の範囲の融点を
示す。
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ブロピオニルーオ
キンメチル〕メタンは結晶性の固状物であり、各種の同
素体形で存在し、１１０ないし１２５℃の範囲の融点を
示す。
最後に、上述のヨーロッパ特許第３２，４５９号には、
Ｘ線回折において特殊な挙動を示し、かつ融点１１１な
いし１１８℃を有する結晶性のテトラキス〔３−（３，
５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
ピオニルーオキンメチル〕メタンが開示されている。
Ｘ線回折において特殊な挙動を示し、かつ融点１１１な
いし１１８℃を有する結晶性のテトラキス〔３−（３，
５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
ピオニルーオキンメチル〕メタンが開示されている。
テトラキスＩ：３− （３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチル
コメタンの融点が高いことは、重合体が比較的低い温度
で加工される応用分野、たとえば高密度ポリエチレンの
ブロー成形の場合、及び天然ゴムの加工の場合には、有
機重合体の安定化に関連する問題点となる。
−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチル
コメタンの融点が高いことは、重合体が比較的低い温度
で加工される応用分野、たとえば高密度ポリエチレンの
ブロー成形の場合、及び天然ゴムの加工の場合には、有
機重合体の安定化に関連する問題点となる。
これらの場合、テトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキ
シメチルコメタンは溶融せず、従って、その安定化作用
を発揮できず、あるいは部分的にのみ溶融して、不均一
な分布に関連する問題を生じ、その結果、偏在する結晶
により、得られた最終製品内にもろい区域が形成される
ことになる。
チル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキ
シメチルコメタンは溶融せず、従って、その安定化作用
を発揮できず、あるいは部分的にのみ溶融して、不均一
な分布に関連する問題を生じ、その結果、偏在する結晶
により、得られた最終製品内にもろい区域が形成される
ことになる。
発明者らは、無定形構造及び低軟化点を有するテトラキ
スＣ３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロピオニル−オキシメチルコメタンを得る
ことができ、これにより、上述の従来技術の欠点を解消
できることを見出し、本発明に至った。
スＣ３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロピオニル−オキシメチルコメタンを得る
ことができ、これにより、上述の従来技術の欠点を解消
できることを見出し、本発明に至った。
従って、１つの態様によれば、本発明は、結晶性のテト
ラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）〜プロピオニル−オキソメチルコメタンを
溶融させ、溶融物を急激に冷却して凝固させることによ
る、無定形構造を有し、安定で、かつ低軟化点を有する
テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチルコメタ
ンの製法に係る。
ラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）〜プロピオニル−オキソメチルコメタンを
溶融させ、溶融物を急激に冷却して凝固させることによ
る、無定形構造を有し、安定で、かつ低軟化点を有する
テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチルコメタ
ンの製法に係る。
他の態様によれば、本発明は、無定形構造を有するテト
ラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−ブロピオニルーオキンメチル〕メタンで
あって、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により分析を行な
う場合、ガラス転移点（Ｔｇ）が４０ないし５０℃であ
り、温度５０℃から２００℃までの範囲に吸熱溶融ピー
クを示さず、ＤＳＣにおいて温度−１００℃ないし ＋
１００℃における少なくとも４回の加熱−冷却サイクル
の間では、上記特性が変化することなく維持されるもの
であることを特徴とする、無定形のテトラキスＣ３−（
３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−
ブロピオニルーオキシメチル〕メタンに係る。
ラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−ブロピオニルーオキンメチル〕メタンで
あって、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により分析を行な
う場合、ガラス転移点（Ｔｇ）が４０ないし５０℃であ
り、温度５０℃から２００℃までの範囲に吸熱溶融ピー
クを示さず、ＤＳＣにおいて温度−１００℃ないし ＋
１００℃における少なくとも４回の加熱−冷却サイクル
の間では、上記特性が変化することなく維持されるもの
であることを特徴とする、無定形のテトラキスＣ３−（
３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−
ブロピオニルーオキシメチル〕メタンに係る。
ここで、「無定形」とは、本発明によるテトラキス［：
３−（３，５−ジ第３扱ブチル−４−ヒドロキソフェニ
ル）−プロピオニル−オキシメチルコメタンがＣｕＫ−
スペクトル線及びニッケルフィルα ターを使用し、Ｐｈ１ｌｉｐｓ粉末ゴニオメータ−によ
って行なったＸ線分析において回折スペクトルを示さな
いことを意味する。
３−（３，５−ジ第３扱ブチル−４−ヒドロキソフェニ
ル）−プロピオニル−オキシメチルコメタンがＣｕＫ−
スペクトル線及びニッケルフィルα ターを使用し、Ｐｈ１ｌｉｐｓ粉末ゴニオメータ−によ
って行なったＸ線分析において回折スペクトルを示さな
いことを意味する。
本発明によるテトラキス（３−（３，５−〕〕第３級ブ
チル−４−ヒドロキンフェニル−プロピオニル−オキシ
メチルコメタンの無定形の安定性は、ＲＯＴＯＶＩＳＣ
Ｏ装置（ＭＶＩＩ４００システム； ７＝５７．６）に
おいて温度範囲８０ないし １２０℃で粘度を測定する
場合、−船釣に、次表に示す値が得られるとの事実によ
って確認される。
チル−４−ヒドロキンフェニル−プロピオニル−オキシ
メチルコメタンの無定形の安定性は、ＲＯＴＯＶＩＳＣ
Ｏ装置（ＭＶＩＩ４００システム； ７＝５７．６）に
おいて温度範囲８０ないし １２０℃で粘度を測定する
場合、−船釣に、次表に示す値が得られるとの事実によ
って確認される。
温度（’Ｃ） 粘度（Ｐａ−８）８０
４０Ｑ、Ｑ９０
５２．０１００ ７．
０１２０ １．０本発明に
よるテトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチルコ
メタンの無定形の安定性を示す以外にも、これらの測定
された粘度の値は、たとえば６０℃よりもわずかに高い
温度で行なわれる天然ゴムの素線りにおけるように、比
較的低温で加工される有機重合体の安定化に該化合物を
使用できることを示す。明らかなように、本発明による
無定形のテトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチ
ルコメタンは、光及び／又は熱により起こる酸化劣化に
対して各種有機重合体（たとえば、ビニル重合体、オレ
フィン系重合体、ジオレフィン系重合体、ポリマーアロ
イ、ＡＢＳ等）を安定化させるために使用される。
４０Ｑ、Ｑ９０
５２．０１００ ７．
０１２０ １．０本発明に
よるテトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチルコ
メタンの無定形の安定性を示す以外にも、これらの測定
された粘度の値は、たとえば６０℃よりもわずかに高い
温度で行なわれる天然ゴムの素線りにおけるように、比
較的低温で加工される有機重合体の安定化に該化合物を
使用できることを示す。明らかなように、本発明による
無定形のテトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチ
ルコメタンは、光及び／又は熱により起こる酸化劣化に
対して各種有機重合体（たとえば、ビニル重合体、オレ
フィン系重合体、ジオレフィン系重合体、ポリマーアロ
イ、ＡＢＳ等）を安定化させるために使用される。
従って、他の態様によれば、本発明は、有機重合体及び
本発明による無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル
−オキシメチルコメタン（安定化剤としての１）でなる
安定化重合体組成物に係る。
本発明による無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル
−オキシメチルコメタン（安定化剤としての１）でなる
安定化重合体組成物に係る。
本発明のさらに他の態様は、結晶性のテトラキス［３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロピオニル−オキシメチルコメタンを融点以上に加
熱し、得られた溶融物を急激に冷却することからなる、
無定形のテトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチ
ルコメタンの調製にある。
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロピオニル−オキシメチルコメタンを融点以上に加
熱し、得られた溶融物を急激に冷却することからなる、
無定形のテトラキス（３−（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチ
ルコメタンの調製にある。
この目的には、約１００℃より高い融点、一般に１０７
ないし１２５℃の融点を有する各種の結晶性テトラキス
（３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロピオニル−オキシメチルコメタンを使用で
きる。
ないし１２５℃の融点を有する各種の結晶性テトラキス
（３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロピオニル−オキシメチルコメタンを使用で
きる。
このような融点を有するテトラキス〔３，５−〕〕第３
級ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニル−オ
キシメチルコメタンは、一般に９５重量％以上の純度を
有する。
級ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニル−オ
キシメチルコメタンは、一般に９５重量％以上の純度を
有する。
溶融物の迅速な凝固を生じさせるための急激な冷却は、
当分野で公知の各種の方法により達成される。
当分野で公知の各種の方法により達成される。
好適な方法としては、溶融物を冷たい金属シート（たと
えば室温以下の温度）に注加する方法、水中、たとえば
室温又はそれ以下に維持した他の非反応性の冷たい液体
中に注加する方法噴射造粒法と類似した手段によりガス
（たとえば窒素ガス）内において溶融物を液滴として冷
却する方法がある。
えば室温以下の温度）に注加する方法、水中、たとえば
室温又はそれ以下に維持した他の非反応性の冷たい液体
中に注加する方法噴射造粒法と類似した手段によりガス
（たとえば窒素ガス）内において溶融物を液滴として冷
却する方法がある。
これら方法によれば、固状体（その後、スケーリング及
び／又は粉砕される）として、又は所望サイズを有する
自由流動性顆粒としてテトラキスＣ３−（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル
−オキシメチルコメタンを得ろことができる。
び／又は粉砕される）として、又は所望サイズを有する
自由流動性顆粒としてテトラキスＣ３−（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル
−オキシメチルコメタンを得ろことができる。
以下の実施例は、本発明を説明するためのらのであり、
限定するものではない。
限定するものではない。
実施例１
Ｂｏｚｚｅｔｔｏ社（イタリー国）から商品名ＡＮＯＸ
（登録商標）２０として市販されているテトラキス〔
３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオニル−オキシメチルコメタンを使用した
。この製品は純度９８．５重量％及び融点１２２．５℃
を有する乙のであり、エステル交換触媒の存在下、３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸メチルをペンタエリスリトールでエステル
交換させ、ついで有機溶媒から粗製反応生成物を結晶化
させることにより生成されたものである。
（登録商標）２０として市販されているテトラキス〔
３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオニル−オキシメチルコメタンを使用した
。この製品は純度９８．５重量％及び融点１２２．５℃
を有する乙のであり、エステル交換触媒の存在下、３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸メチルをペンタエリスリトールでエステル
交換させ、ついで有機溶媒から粗製反応生成物を結晶化
させることにより生成されたものである。
撹拌機及び加熱流体循環用ジャケットを具備するガラス
反応器（容積Ｉ Ｑ、’）ニＡＮＯＸ ２０２５０９を
充填した。
反応器（容積Ｉ Ｑ、’）ニＡＮＯＸ ２０２５０９を
充填した。
ジャケット内に油を導入して、温度を１４０℃に上昇さ
せ、充填物を窒素雰囲気下で撹拌した。充填物が完全に
溶融した後、室温（２０−２５℃）に推持したアルミニ
ウムシート（５０ｘ ５０ｃｍ）上に注加した。
せ、充填物を窒素雰囲気下で撹拌した。充填物が完全に
溶融した後、室温（２０−２５℃）に推持したアルミニ
ウムシート（５０ｘ ５０ｃｍ）上に注加した。
シート上に透明な層が形成され、この層は凝固してガラ
ス質塊状物を形成した。該塊状物を乳鉢内において乳棒
によって粉砕して、平均粒径１００−５００ ミクロン
の粉末を得た。
ス質塊状物を形成した。該塊状物を乳鉢内において乳棒
によって粉砕して、平均粒径１００−５００ ミクロン
の粉末を得た。
このようにして、無定形のテトラキス〔３−（３，５−
ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオ
ニル−オキシメチルコメタンを得た後、下記の各分析に
供した。
ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオ
ニル−オキシメチルコメタンを得た後、下記の各分析に
供した。
ＤＳＣ分析
サンプルをアルミニウムカプセル内に密閉し、装置（Ｍ
ｅｔｔｌｅｒ ＴＣｔｏプロセッサーを包含するＭｅｔ
−ｔｌｅｒ ＴＡ ３０００）のサンプルホルダー内に
導入し、窒素雰囲気下、１０℃／分の速度で１００℃ま
で加熱した。ついで、この温度に１５分間維持し、最後
に一１００℃に冷却させた。加熱の間に、吸熱ピークを
観察した。この吸熱ピークは４８℃を中心とするもので
あった（第１Ａ図）。さらに、冷却の間では、かかる吸
熱ピークが３９．１”Ｃで観察された。
ｅｔｔｌｅｒ ＴＣｔｏプロセッサーを包含するＭｅｔ
−ｔｌｅｒ ＴＡ ３０００）のサンプルホルダー内に
導入し、窒素雰囲気下、１０℃／分の速度で１００℃ま
で加熱した。ついで、この温度に１５分間維持し、最後
に一１００℃に冷却させた。加熱の間に、吸熱ピークを
観察した。この吸熱ピークは４８℃を中心とするもので
あった（第１Ａ図）。さらに、冷却の間では、かかる吸
熱ピークが３９．１”Ｃで観察された。
これら加熱及び冷却の操作をさらに３回繰返して行なう
ことにより、Ｔｇに関してそれぞれ下記の値を得た。
ことにより、Ｔｇに関してそれぞれ下記の値を得た。
４７．６℃ （加熱）
４０．１’Ｃ（冷却）
４６．８℃ （加熱）
４０．０°Ｃ（冷却）
４８．２℃ （加熱）
３９．７℃ （冷却）
最後の冷却操作の後、サンプルを再度２００℃まで加熱
した（２０℃／分）。Ｔｇ＝４７℃が得られ、走査温度
範囲内では、他の熱現象は観察されなかった（第１Ｂ図
）。
した（２０℃／分）。Ｔｇ＝４７℃が得られ、走査温度
範囲内では、他の熱現象は観察されなかった（第１Ｂ図
）。
Ｘ線分析
粉砕したサンプルを、Ｐｈ１ｌｉｐｓ粉末ゴニオメータ
−のサンプルホルダー内に入れ、ＣｕＫ−スペクα トル線を使用して、回折スペクトルを記録した。
−のサンプルホルダー内に入れ、ＣｕＫ−スペクα トル線を使用して、回折スペクトルを記録した。
得られた回折スペクトルを第３図に示す。これに対し、
処理剤の結晶性生成物ＡＮＯＸ ２０の回折スペクトル
を第２図に示している。
処理剤の結晶性生成物ＡＮＯＸ ２０の回折スペクトル
を第２図に示している。
ＩＲ分析
粉砕したサンプルをＫＢｒと共に圧縮して錠剤とし、！
Ｒ吸収スペクトルを記録した。得られたＩＲ吸収スペク
トルを第４図に示す。結晶性生成物ＡＮＯＸ２０のもの
（第５図）と比較して低い分解能のバンドが観察される
。この低い分解能は非組織化系に特有のものであり、３
５００ｃｍ−’にある同じヒドロキシ基のバンドも、よ
り広い（ｂｒｏａｄ）ものとなっている。
Ｒ吸収スペクトルを記録した。得られたＩＲ吸収スペク
トルを第４図に示す。結晶性生成物ＡＮＯＸ２０のもの
（第５図）と比較して低い分解能のバンドが観察される
。この低い分解能は非組織化系に特有のものであり、３
５００ｃｍ−’にある同じヒドロキシ基のバンドも、よ
り広い（ｂｒｏａｄ）ものとなっている。
粘度分析
上述の如く分析を行ない、同様の結果を得た。
１１ＰＬｃ（高圧液体クロマトグラフ −分析サンプル
の滴定量は変化がなく （９８，２％）、存在する不純
物の分布に変化が観察されなかった。結晶性生成物ＡＮ
ＯＸ ２ＧのＩＩＰＬＣ分析の結果を第６図に、相当す
る無定形サンプルについての結果を第７図に報告する。
の滴定量は変化がなく （９８，２％）、存在する不純
物の分布に変化が観察されなかった。結晶性生成物ＡＮ
ＯＸ ２ＧのＩＩＰＬＣ分析の結果を第６図に、相当す
る無定形サンプルについての結果を第７図に報告する。
実施例２
温度１４０℃で溶融させた結晶性ＡＮＯＸ ２０２００
９を、電気的に加熱したキャピラリー（内径１ｍ１１）
を通って、ガラス容器内に収容した室温（２０−２５°
Ｃ）の脱イオン化水 ２Ｑに４加した。
９を、電気的に加熱したキャピラリー（内径１ｍ１１）
を通って、ガラス容器内に収容した室温（２０−２５°
Ｃ）の脱イオン化水 ２Ｑに４加した。
サイズ約５Ｈのビーズとして無定形でトラキスＣ３−（
３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−
プロピオニル−オキシメチルコメタンを得た。
３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−
プロピオニル−オキシメチルコメタンを得た。
この生成物にて実施例１と同じ分析を行なったところ、
全く同じ結果が得られた。
全く同じ結果が得られた。
実施例３
温度１４０℃で溶融させた結晶性ＡＮＯＸ ２０２００
９を、電気的に加熱したキャピラリー（内径１ ｕｉ）
を通って、窒素ガスがｔＭ、量２００Ｃ／時間で底部か
ら供給されるガラス管（長さ２ｘ、直径２ＯＣＲ）の頂
部で４加し ノこ。
９を、電気的に加熱したキャピラリー（内径１ ｕｉ）
を通って、窒素ガスがｔＭ、量２００Ｃ／時間で底部か
ら供給されるガラス管（長さ２ｘ、直径２ＯＣＲ）の頂
部で４加し ノこ。
管の底部で、無定形のテトラキス（３，５−ジ第３＠ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキ
シメチルコメタンでなる直径約３Ｒ１１の透明なビーズ
が得られた。
チル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキ
シメチルコメタンでなる直径約３Ｒ１１の透明なビーズ
が得られた。
この生成物について実施例１と同じ分析を行なったとこ
ろ、全く同じ結果が得られた。
ろ、全く同じ結果が得られた。
実施例４
市販のポリプロピレンＦＬＦ ２０（Ｉｌｉｍｏｎｔ社
［） ４００９を、プラネタリ−ミキサーにおいて、市
販の結晶性酸化防止剤ＡＮＯＸ ２００．４１ｉ＋（０
，１重量％）と混合し、この混合物をブラベンダー押出
機（Ｄ ＝ １９゜Ｌ＝２５Ｄ、 圧縮比−１：４１
回転＝５０ ｒｐＩｌ、温度プロフィール＝ １９０／
２３５／２７０／２７０）で７回押出した。奇数回の押
出操作の間、顆粒の一部を取出し、メルトフローインデ
ックス（ＭＰＩＸ１９０℃、２．１６Ｋｇ）及びＭａｃ
ｂｅｔｈ比色計における黄変インデックス（Ｙｌ）の測
定に使用した。
［） ４００９を、プラネタリ−ミキサーにおいて、市
販の結晶性酸化防止剤ＡＮＯＸ ２００．４１ｉ＋（０
，１重量％）と混合し、この混合物をブラベンダー押出
機（Ｄ ＝ １９゜Ｌ＝２５Ｄ、 圧縮比−１：４１
回転＝５０ ｒｐＩｌ、温度プロフィール＝ １９０／
２３５／２７０／２７０）で７回押出した。奇数回の押
出操作の間、顆粒の一部を取出し、メルトフローインデ
ックス（ＭＰＩＸ１９０℃、２．１６Ｋｇ）及びＭａｃ
ｂｅｔｈ比色計における黄変インデックス（Ｙｌ）の測
定に使用した。
実施例！で得られた無定形化合物０．４９を使用して同
じ操作を行った。
じ操作を行った。
これらテストの結果をそれぞれ第１表及び第２表に示す
。
。
第 １ 表
押出操作
の回数 １ ３ ５ ７
ＭＰ＋ ５．８７ ７．５４ ９．０４ １０．７
８Ｙｌ −０，７５２，６９３，８６７，５９第
２ 表 押出操作 の回数 １ ３ ５ ７ ＭＦ＋ ５．５７ ７．１８ Ｌ６９ １０．２
８Ｙｌ −２，２３１，ｌｌ ４．０９ ７．４
０これら２つのテストでは実験誤差の範囲内で同じ結果
を示すものと考えられる。
８Ｙｌ −０，７５２，６９３，８６７，５９第
２ 表 押出操作 の回数 １ ３ ５ ７ ＭＦ＋ ５．５７ ７．１８ Ｌ６９ １０．２
８Ｙｌ −２，２３１，ｌｌ ４．０９ ７．４
０これら２つのテストでは実験誤差の範囲内で同じ結果
を示すものと考えられる。
これら事実は、無定形の安定剤はその安定剤としての特
性を全く損なわない物であることを表している。
性を全く損なわない物であることを表している。
第１Ａ図及び第１Ｂ図はＤＳＣ分析の結果を表すチャー
ト、第２図及び第３図はそれぞれ本発明の処理の面後に
於けるＸ線分析の結果を表すチャート、第４図及び第５
図は同様のＩＲ分析の結果を表すチャート、及び第６図
及び第７図は同様の１１ＰＬｃ分析の結果を表わすチャ
ートである。
ト、第２図及び第３図はそれぞれ本発明の処理の面後に
於けるＸ線分析の結果を表すチャート、第４図及び第５
図は同様のＩＲ分析の結果を表すチャート、及び第６図
及び第７図は同様の１１ＰＬｃ分析の結果を表わすチャ
ートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 無定形構造を有するテトラキス〔３−（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニ
ル−オキシメチル〕メタンであって、示差走査熱量測定
（ＤＳＣ）により分析を行なう場合、ガラス転移点（Ｔ
ｇ）が４０ないし５０℃であり、温度５０℃から２００
℃までの範囲に吸熱溶融ピークを示さず、ＤＳＣにおい
て温度−１００℃ないし＋１００℃における少なくとも
４回の加熱−冷却サイクルの間では、上記特性が変化す
ることなく維持されるものであることを特徴とする、無
定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチル
〕メタン。 ２ 特許請求の範囲第１項記載のものにおいて、ＣｕＫ
＾−＿αスペクトル線を使用するＸ線分析では第３図の
挙動を示し、ＩＲ分析（ＫＢｒ錠剤）では第４図の挙動
を示す、無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オ
キシメチル〕メタン。 ３ 示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により分析を行なう場
合、ガラス転移点（Ｔｇ）が４０ないし５０℃であり、
温度５０℃から２００℃までの範囲に吸熱溶融ピークを
示さず、ＤＳＣにおいて温度−１００℃ないし＋１００
℃における少なくとも４回の加熱−冷却サイクルの間で
は、上記特性が変化することなく維持されるものである
無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチ
ル〕メタンの製法において、純度９５重量％以上、融点
１００℃以上を有する結晶性のテトラキス〔３−（３，
５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
ピオニル−オキシメチル〕メタンを溶融させ、急激な冷
却により溶融物を凝固させることを特徴とする、無定形
のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチル〕メ
タンの製法。 ４ 特許請求の範囲第３項記載の製法において、前記急
激な冷却を、溶融物を冷たい金属シート上に注加するこ
とによって行なう、無定形のテトラキス〔３−（３，５
−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピ
オニル−オキシメチル〕メタンの製法。 ５ 特許請求の範囲第３項記載の製法において、前記急
激な冷却を、溶融物を水に注加することによって行なう
、無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメ
チル〕メタンの製法。 ６ 特許請求の範囲第３項記載の製法において、前記急
激な冷却を、噴射造粒法と同様の操作によって、溶融物
を滴としてガスと接触させることによって行なう、無定
形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチル〕
メタンの製法。 ７ 有機重合体に、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により
分析を行なう場合、ガラス転移点（Ｔｇ）が４０ないし
５０℃であり、温度５０℃から２００℃までの範囲に吸
熱溶融ピークを示さず、ＤＳＣにおいて温度−１００℃
ないし＋１００℃における少なくとも４回の加熱−冷却
サイクルの間では、上記特性が変化することなく維持さ
れるものである無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニ
ル−オキシメチル〕メタンを安定剤として必要な量で添
加してなる、安定化重合体組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT8621258A IT1213462B (it) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | Quale stablizzante tetrakis[3-(3,5-di-t-butil-4-idrossifenil)propionilossimetil]metano con struttura amorfa,procedimento per la sua preparazione e suo uso |
| IT21258A/86 | 1986-07-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6335544A true JPS6335544A (ja) | 1988-02-16 |
Family
ID=11179149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62183804A Pending JPS6335544A (ja) | 1986-07-25 | 1987-07-24 | 無定形のテトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル−オキシメチル〕メタン、その製法及び安定化重合体組成物 |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4886900A (ja) |
| EP (1) | EP0255743B2 (ja) |
| JP (1) | JPS6335544A (ja) |
| KR (1) | KR900003300B1 (ja) |
| CN (1) | CN1021321C (ja) |
| AT (1) | ATE66460T1 (ja) |
| BR (1) | BR8704156A (ja) |
| CA (1) | CA1282427C (ja) |
| DE (1) | DE3772291D1 (ja) |
| DK (1) | DK380087A (ja) |
| ES (1) | ES2026521T3 (ja) |
| GR (1) | GR3002633T3 (ja) |
| IN (1) | IN170211B (ja) |
| IT (1) | IT1213462B (ja) |
| NO (1) | NO167567C (ja) |
| RU (1) | RU1795964C (ja) |
| ZA (1) | ZA875316B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989009202A1 (fr) * | 1988-03-31 | 1989-10-05 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | PROCEDE DE CRISTALLISATION ET DE PURIFICATION PERMETTANT D'OBTENIR DES beta CRISTAUX STABLES DE TETRAKIS[3-(3,5-DI-BUTYLE TERTIAIRE-4-HYDROXYPHENYL)PROPIONYLOXYMETHYL]METHANE A L'ECHELLE INDUSTRIELLE |
| JPH052614U (ja) * | 1991-06-25 | 1993-01-19 | 三菱農機株式会社 | 植付け機における植付け部のシユーターの取付け構造 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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