JPS6335558A - ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 - Google Patents
ヒドロペルオキシド混合物の処理方法Info
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- JPS6335558A JPS6335558A JP61179652A JP17965286A JPS6335558A JP S6335558 A JPS6335558 A JP S6335558A JP 61179652 A JP61179652 A JP 61179652A JP 17965286 A JP17965286 A JP 17965286A JP S6335558 A JPS6335558 A JP S6335558A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C407/00—Preparation of peroxy compounds
- C07C407/003—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C407/00—Preparation of peroxy compounds
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- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、芳香族一級ヒドロペルオキシドと芳香族三級
ヒドロペルオキシドとを含有するヒドロペルオキシド混
合物を処理して、芳香７６一級ヒドロペルオキシド含有
率を選択的に減少せしめる方法に関するものである。
ヒドロペルオキシドとを含有するヒドロペルオキシド混
合物を処理して、芳香７６一級ヒドロペルオキシド含有
率を選択的に減少せしめる方法に関するものである。
アルキル芳香族化合物の液相酸化によって得られるヒド
ロペルオキシドを酸分解してフェノール類を製造する方
法は、フェノール、クレゾール、ヒドロキノン、レゾル
シンなどの製法として工業的に有用である。該ヒドロペ
ルオキシドはまたペルオキシドや芳香族アルコールの製
造原料としても有用である。
ロペルオキシドを酸分解してフェノール類を製造する方
法は、フェノール、クレゾール、ヒドロキノン、レゾル
シンなどの製法として工業的に有用である。該ヒドロペ
ルオキシドはまたペルオキシドや芳香族アルコールの製
造原料としても有用である。
芳香族化合物の液相酸化においてアルキル芳香族化合物
として２種以上のアルキル基を有するものを用いるとき
には、各アルキル基がそれぞれヒドロペルオキシド化さ
れた２種以上のヒドロペルオキシド混合物として得られ
ることが多く、これらをそのまま前記の如きフェノール
類等の製造原料として用いるときには希望しない化合物
が生成したり、あるいは反応に悪影響を及ぼすなどの不
利益を被ることがある。
として２種以上のアルキル基を有するものを用いるとき
には、各アルキル基がそれぞれヒドロペルオキシド化さ
れた２種以上のヒドロペルオキシド混合物として得られ
ることが多く、これらをそのまま前記の如きフェノール
類等の製造原料として用いるときには希望しない化合物
が生成したり、あるいは反応に悪影響を及ぼすなどの不
利益を被ることがある。
例えば、シメンの液相酸化においては、メチル基の酸化
された一級ヒドロペルオキシドと、イソプロピル基の酸
化された三級ヒドロペルオキシドの混合物が生成する。
された一級ヒドロペルオキシドと、イソプロピル基の酸
化された三級ヒドロペルオキシドの混合物が生成する。
この混合物を酸分解させると、三級ヒドロペルオキシド
からはクレゾールとアセトンが、また一級ヒドロペルオ
キシドからはイソプロピルフェノールとホルムアルデヒ
ドが生成する。
からはクレゾールとアセトンが、また一級ヒドロペルオ
キシドからはイソプロピルフェノールとホルムアルデヒ
ドが生成する。
ところが一級ヒドロペルオキシドから生成するホルムア
ルデヒドは、酸分解条件下でクレゾールと反応して樹脂
状物質を形成し、三級ヒドロペルオキシドからのクレゾ
ール収率を著しく低下せしめる。したがって、酸分解に
先立って一級ヒドロペルオキシドを分離、除去するか、
あるいはクレゾールと反応しえない物質に転化せしめる
ことが望まれているが、未だ工業的に有利な方法が見出
されていないのが現状である。
ルデヒドは、酸分解条件下でクレゾールと反応して樹脂
状物質を形成し、三級ヒドロペルオキシドからのクレゾ
ール収率を著しく低下せしめる。したがって、酸分解に
先立って一級ヒドロペルオキシドを分離、除去するか、
あるいはクレゾールと反応しえない物質に転化せしめる
ことが望まれているが、未だ工業的に有利な方法が見出
されていないのが現状である。
例えば、前記ヒドロペルオキシド混合物に直接塩基性化
合物を作用させて一級ヒドロペルオキシドを選択的に分
解する方法が米国特許第２７２８７９７号や特公昭５２
−１２１８３号などに提案されている。しかしながら塩
基性化合物としてアルカリ金属の化合物を用いるときに
は、一級ヒドロペルオキシド化合物を高度に分解した場
合、三級ヒドロペルオキシドの分解が充分に抑制できず
、また分解速度がおそいという問題がある。またアルカ
リをアルコールなどの溶液に溶かして添加する方法は、
後処理工程においてアルカリの除去の他にアルコールを
除去しなければならず操作が煩雑である。
合物を作用させて一級ヒドロペルオキシドを選択的に分
解する方法が米国特許第２７２８７９７号や特公昭５２
−１２１８３号などに提案されている。しかしながら塩
基性化合物としてアルカリ金属の化合物を用いるときに
は、一級ヒドロペルオキシド化合物を高度に分解した場
合、三級ヒドロペルオキシドの分解が充分に抑制できず
、また分解速度がおそいという問題がある。またアルカ
リをアルコールなどの溶液に溶かして添加する方法は、
後処理工程においてアルカリの除去の他にアルコールを
除去しなければならず操作が煩雑である。
一方、特公昭５２−１２１８３号には、高温でヒドロペ
ルオキシド混合物とアルカリ水溶液を接触させる方法が
開示されているが、高速処理ができる利点はあるものの
、芳香族一級ヒドロペルオキシドの分解率向上に改善の
余地が残されていた。
ルオキシド混合物とアルカリ水溶液を接触させる方法が
開示されているが、高速処理ができる利点はあるものの
、芳香族一級ヒドロペルオキシドの分解率向上に改善の
余地が残されていた。
本発明者らは、このような従来技術における操作上、収
率上の欠点を改善するため鋭意研究を行った結果、本発
明の方法に到達したものである。
率上の欠点を改善するため鋭意研究を行った結果、本発
明の方法に到達したものである。
すなわち、本発明は芳香族一級ヒドロペルオキシ、ドと
芳香族三級ヒドロペルオキシドとを含有するヒドロペル
オキシド混合物を、アルカリおよび有機第四級アンモニ
ウム塩の共存下に処理することを特徴とするヒドロペル
オキシド混合物の処理方法である。
芳香族三級ヒドロペルオキシドとを含有するヒドロペル
オキシド混合物を、アルカリおよび有機第四級アンモニ
ウム塩の共存下に処理することを特徴とするヒドロペル
オキシド混合物の処理方法である。
本発明の目的は、前記ヒドロペルオキシドに混合物中の
芳香族一級ヒドロペルオキシド含有率を選択的に減少さ
せることにあり、これは本発明に従って、アルカリおよ
び触媒としての有機第四級アンモニウム塩の共存下に処
理させる事により達成される。
芳香族一級ヒドロペルオキシド含有率を選択的に減少さ
せることにあり、これは本発明に従って、アルカリおよ
び触媒としての有機第四級アンモニウム塩の共存下に処
理させる事により達成される。
以下、本発明の詳細な説明する。
〈ヒドロペルオキシド混合物〉
本発明における芳香族一級ヒドロペルオキシドは一般式
％式％
（式中Ａｒは、置換又は非置換の芳香族の基を表す。）
で示される化合物で、具体的にはなどを例示することが
できる。
で示される化合物で、具体的にはなどを例示することが
できる。
また芳香族三級ヒドロペルオキシドは、−最大 Ａ’
ｒＣ（ＣＩｌｓ） ２００＋１（式中Ａ’ｒは置換又は
非置換の芳香族の基を表す。）で示される化合物で、具
体的になどを例示することができる。
ｒＣ（ＣＩｌｓ） ２００＋１（式中Ａ’ｒは置換又は
非置換の芳香族の基を表す。）で示される化合物で、具
体的になどを例示することができる。
芳香族一級ヒドロペルオキシドと芳香族三級ヒドロペル
オキシドの混合割合は任意であるが、通常芳香族一級ヒ
ドロペルオキシド３ないし３０重量部、特に５ないし２
５重量部に対し、芳香族三級ヒドロペルオキシド９７な
いし７０重量部、特に９５ないし７５重全部（両者を合
計して１００重１部）となる割合の混合物に適用するの
が好ましい。上記混合物の典型的なものは、芳香族にメ
チル基及びイソプロピル基を有する芳香族化合物を液相
において酸素または酸素含有ガスにより酸化して得た反
応生成物あるいはこれらの濃縮物である。例えば、ｍ−
シメン、ｐ−シメン、ｍ”ｐ−混合シメン、２，４−ジ
メチルイソプロピルベンゼン、３，５−ジメチルイソプ
ロピルベンゼン、１−メチル−７−イツブロビルナフタ
リンなどの酸化生成物やその濃縮物を例示することがで
きる。
オキシドの混合割合は任意であるが、通常芳香族一級ヒ
ドロペルオキシド３ないし３０重量部、特に５ないし２
５重量部に対し、芳香族三級ヒドロペルオキシド９７な
いし７０重量部、特に９５ないし７５重全部（両者を合
計して１００重１部）となる割合の混合物に適用するの
が好ましい。上記混合物の典型的なものは、芳香族にメ
チル基及びイソプロピル基を有する芳香族化合物を液相
において酸素または酸素含有ガスにより酸化して得た反
応生成物あるいはこれらの濃縮物である。例えば、ｍ−
シメン、ｐ−シメン、ｍ”ｐ−混合シメン、２，４−ジ
メチルイソプロピルベンゼン、３，５−ジメチルイソプ
ロピルベンゼン、１−メチル−７−イツブロビルナフタ
リンなどの酸化生成物やその濃縮物を例示することがで
きる。
芳香族一級ヒドロペルオキシドおよび芳香族三級ヒドロ
ペルオキシドの混合物は、ベンゼン、トルエン、エチル
ベンゼン、クメン、キシレン、シメン、ジイソプロピル
ベンゼンなどの炭化水素類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンのようなケトン頚で希釈
することができる。その場合にはヒドロペルオキシド濃
度が１ないし９５重全部、特に好ましくは５ないし９０
重１％に調整されていることが望ましい。
ペルオキシドの混合物は、ベンゼン、トルエン、エチル
ベンゼン、クメン、キシレン、シメン、ジイソプロピル
ベンゼンなどの炭化水素類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンのようなケトン頚で希釈
することができる。その場合にはヒドロペルオキシド濃
度が１ないし９５重全部、特に好ましくは５ないし９０
重１％に調整されていることが望ましい。
前記したメチル基およびイソプロピル基を有する芳香族
炭化水素の酸化生成物あるいはその濃縮物は、通常原料
の芳香族炭化水素で希釈された状態にある。該酸化生成
物は、非水状態で酸化されたものであってもよく、また
アルカリ水溶液の共存下で酸化されたものであってもよ
い。
炭化水素の酸化生成物あるいはその濃縮物は、通常原料
の芳香族炭化水素で希釈された状態にある。該酸化生成
物は、非水状態で酸化されたものであってもよく、また
アルカリ水溶液の共存下で酸化されたものであってもよ
い。
〈アリカリ〉
本発明において用いられるアルカリは通常水溶液の状態
で加えられる。ただし、酸化生成物が水溶液共存下のも
のであれば、所定量のアルカリを粉体あるいは高濃度液
の状態で加えられる。
で加えられる。ただし、酸化生成物が水溶液共存下のも
のであれば、所定量のアルカリを粉体あるいは高濃度液
の状態で加えられる。
使用されるアルカリとしては水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化
バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム
などのアルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸
化物が挙げられる。これらの内で、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウムなどの水易溶性水酸化
物がとくに好ましい。
カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化
バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム
などのアルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸
化物が挙げられる。これらの内で、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウムなどの水易溶性水酸化
物がとくに好ましい。
これらは各単独で用いることもできるし、二種以上の混
合物として用いることもできる。
合物として用いることもできる。
又、前記アルカリのほかに、これらと炭酸ナトリウムあ
るいは炭酸水素ナトリウムなどとの緩衝液も使用できる
。
るいは炭酸水素ナトリウムなどとの緩衝液も使用できる
。
該ヒドロペルオキシド混合物の好ましい希釈剤として前
記した炭化水素を用いるとこれらのアルカリ水溶液は接
触処理後に静置などによって処理液を容易に分離するこ
とができる。分離後濃度を調節して再使用することもで
きる。又、この分離によりアルカリ土類金属への残留量
も少ないので、有機層の洗浄に必要な水や酸水溶液も極
少量で済む。
記した炭化水素を用いるとこれらのアルカリ水溶液は接
触処理後に静置などによって処理液を容易に分離するこ
とができる。分離後濃度を調節して再使用することもで
きる。又、この分離によりアルカリ土類金属への残留量
も少ないので、有機層の洗浄に必要な水や酸水溶液も極
少量で済む。
該ヒドロペルオキシド混合物を含む油層とアルカリ水溶
液との比率は、装置の形式、撹拌の形式等による混合状
態によって異なるが、通常油ＦＪＩに対して水層０．０
５ないし５（重量比）の範囲が用いられる。
液との比率は、装置の形式、撹拌の形式等による混合状
態によって異なるが、通常油ＦＪＩに対して水層０．０
５ないし５（重量比）の範囲が用いられる。
本発明におけるアルカリの使用量は、芳香族一級ヒドロ
ペルオキシドに対し、通常０．１ないし１０モル％であ
り、好ましくは０．３ないし５モル％である。
ペルオキシドに対し、通常０．１ないし１０モル％であ
り、好ましくは０．３ないし５モル％である。
該アルカリを溶液で添加する場合は通常０゜０５ないし
５０重重量の水溶液とする。
５０重重量の水溶液とする。
〈有機第四級アンモニウム塩〉
本発明で用いられる有機第四級アンモニウム塩としては
、−最大（Ｉ）または（ＩＩ）（式中、Ｒ，、Ｒ２は炭
素数１−２４のアルキル基または任意に置換されていて
もよいベンジル基、Ｒ，、Ｒ４は炭素数１−１０のアル
キル基、Ｘはアニオン残基を示す。） （式中、Ｒ３は炭素数１−２４のアルキル基、Ｒ６は水
素原子またはメチル基、Ｘは前記の意味を有する。） で示される第四級アンモニウム化合物が挙げられる。−
最大中アニオンの残基としては、塩素、臭素、ヨウ素の
他、硫酸、リン酸塩、酢酸塩、メチル硫酸塩、エチル硫
酸塩、過塩素酸塩、硫酸水素塩の残基があげられる。
、−最大（Ｉ）または（ＩＩ）（式中、Ｒ，、Ｒ２は炭
素数１−２４のアルキル基または任意に置換されていて
もよいベンジル基、Ｒ，、Ｒ４は炭素数１−１０のアル
キル基、Ｘはアニオン残基を示す。） （式中、Ｒ３は炭素数１−２４のアルキル基、Ｒ６は水
素原子またはメチル基、Ｘは前記の意味を有する。） で示される第四級アンモニウム化合物が挙げられる。−
最大中アニオンの残基としては、塩素、臭素、ヨウ素の
他、硫酸、リン酸塩、酢酸塩、メチル硫酸塩、エチル硫
酸塩、過塩素酸塩、硫酸水素塩の残基があげられる。
第四級アンモニウム化合物の具体例としては例えば次の
化合物があげられる。
化合物があげられる。
テトラ−ｎブチルアンモニウムクロリド、テトラ−ｎ−
プロピルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニ
ウムクロリド、テトラメチルアンモニウムクロリド、ス
テアリルトリメチルアンモニウムクロリド、トリメチル
オクタデシルアンモニウムクロリド、ラウリルトリメチ
ルナンモニウムクロリド、トリメチルヘキサデシルアン
モニウムクロリド、ジステアリルジメチルアンモニウム
クロリド、ジセチルジメチルアンモニウムクロリド、ト
リカプリルメチルアンモニウムクロリド、ｏ。
プロピルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニ
ウムクロリド、テトラメチルアンモニウムクロリド、ス
テアリルトリメチルアンモニウムクロリド、トリメチル
オクタデシルアンモニウムクロリド、ラウリルトリメチ
ルナンモニウムクロリド、トリメチルヘキサデシルアン
モニウムクロリド、ジステアリルジメチルアンモニウム
クロリド、ジセチルジメチルアンモニウムクロリド、ト
リカプリルメチルアンモニウムクロリド、ｏ。
ｍまたはｐ−メトキシベンジルトリエチルアンモニウム
クロリド、ｏ、ｍまたはｐ−フェノキシベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド、トリメチルドデシルアンモ
ニウムクロリド、トリメチルデシルアンモニウムクロリ
ド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ステア
リルアマイドメチルピリジンニウムクロリド、Ｎ−ブチ
ルピリジウムクロリド、ラウリルピリジウムクロリド、
ラウリルピコリニウムクロリド、トリエチルプロピルア
ンモニウムクロリド、ジエチルプロピルベンジルアンモ
ニウムクロリド、トリメチルベンジルアンモニウムクロ
リド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、ｏ、
ｍまたはｐ−クロロベンジルトリエチルアンモニウムク
ロリド、メチルエチルプロピルベンジルアンモニウムク
ロリド、ジエチルブチルベンジルアンモニウムクロリド
、メチルジエチルベンジルアンモニウムクロリド、ジメ
チルエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリプロピ
ルベンジルアンモニウムクロリド、エチルジプロピルベ
ンジルアンモニウムクロリド、ジエチルジベンジルアン
モニウムクロリド、ジメチルラウリルベンジルアンモニ
ウムクロリド、ステアリルベンジルジメチルアンモニウ
ムクロリド、オクチルベンジルジメチルアンモニウムク
ロリド、ミリスチルベンジルジメチルアンモニウムクロ
リド、およびこれらクロリドに対応するプロミド、アイ
オダイド、硫酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩、硫酸水素塩
、酢酸塩、メチル硫酸塩、エチル硫酸塩である。
クロリド、ｏ、ｍまたはｐ−フェノキシベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド、トリメチルドデシルアンモ
ニウムクロリド、トリメチルデシルアンモニウムクロリ
ド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ステア
リルアマイドメチルピリジンニウムクロリド、Ｎ−ブチ
ルピリジウムクロリド、ラウリルピリジウムクロリド、
ラウリルピコリニウムクロリド、トリエチルプロピルア
ンモニウムクロリド、ジエチルプロピルベンジルアンモ
ニウムクロリド、トリメチルベンジルアンモニウムクロ
リド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、ｏ、
ｍまたはｐ−クロロベンジルトリエチルアンモニウムク
ロリド、メチルエチルプロピルベンジルアンモニウムク
ロリド、ジエチルブチルベンジルアンモニウムクロリド
、メチルジエチルベンジルアンモニウムクロリド、ジメ
チルエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリプロピ
ルベンジルアンモニウムクロリド、エチルジプロピルベ
ンジルアンモニウムクロリド、ジエチルジベンジルアン
モニウムクロリド、ジメチルラウリルベンジルアンモニ
ウムクロリド、ステアリルベンジルジメチルアンモニウ
ムクロリド、オクチルベンジルジメチルアンモニウムク
ロリド、ミリスチルベンジルジメチルアンモニウムクロ
リド、およびこれらクロリドに対応するプロミド、アイ
オダイド、硫酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩、硫酸水素塩
、酢酸塩、メチル硫酸塩、エチル硫酸塩である。
もちろん本発明においてはこれら有機第四級アンモニウ
ム塩は必ずしも単独である必要はなく、これらの混合物
でも良い。
ム塩は必ずしも単独である必要はなく、これらの混合物
でも良い。
これらの有機第四球アンモニウム塩の使用量は、該ヒド
ロペルオキシド混合物を含む油層に対して通常０．０１
ないし２０重量％、好ましくは０．１ないし１０重量％
、より好ましくは０．２ないし５重量％である。
ロペルオキシド混合物を含む油層に対して通常０．０１
ないし２０重量％、好ましくは０．１ないし１０重量％
、より好ましくは０．２ないし５重量％である。
く処理条件〉
本発明の方法における処理は、できるだけ芳香族三級ヒ
ドロペルオキシドの変化を起こさず芳香族一級ヒドロペ
ルオキシドのみを分解反応させることが望ましい。その
ためには、芳香族一級ヒドロペルオキシドの反応率８０
％以上、好ましくは９０％以上で、芳香族三級ヒドロペ
ルオキシドの回収率が９０％以上、とくに９５％以上と
なるように、前記アルカリ、有機第四級アンモニウム塩
の使用量、処理時間、処理温度を定めることが望ましい
。
ドロペルオキシドの変化を起こさず芳香族一級ヒドロペ
ルオキシドのみを分解反応させることが望ましい。その
ためには、芳香族一級ヒドロペルオキシドの反応率８０
％以上、好ましくは９０％以上で、芳香族三級ヒドロペ
ルオキシドの回収率が９０％以上、とくに９５％以上と
なるように、前記アルカリ、有機第四級アンモニウム塩
の使用量、処理時間、処理温度を定めることが望ましい
。
処理時間は、他の条件にもよるが通常０．１分ないし１
０時間、好ましくは０．１分ないし５時間接触させる。
０時間、好ましくは０．１分ないし５時間接触させる。
また処理温度は通常３０℃ないし１５０℃、好ましくは
５０℃ないし１２０℃、より好ましくは７０℃ないし１
１０℃である。
５０℃ないし１２０℃、より好ましくは７０℃ないし１
１０℃である。
なお、接触処理効率を高めるために、撹拌下に行うこが
好ましい。反応の終了時間は、反応混合物中の芳香族一
級ヒドロペルオキシドおよび芳香族三級ヒドロペルオキ
シドの含有量を液体クロマトグラフィーで分析して決め
ることができる。
好ましい。反応の終了時間は、反応混合物中の芳香族一
級ヒドロペルオキシドおよび芳香族三級ヒドロペルオキ
シドの含有量を液体クロマトグラフィーで分析して決め
ることができる。
ヒドロペルオキシド混合物へのアルカリおよび有機第四
級アンモニウム塩の添加順序はいずれが先でもよい。ま
た処理方法は回分反応方式のほかに流通性完全混合反応
方式や前型反応方式でもよい。
級アンモニウム塩の添加順序はいずれが先でもよい。ま
た処理方法は回分反応方式のほかに流通性完全混合反応
方式や前型反応方式でもよい。
本発明の反応処理様式は、実施例に記載のものだけに限
定されるものではない。
定されるものではない。
〈後処理〉
処理後、撹拌を止め、処理液の下層に沈降するアルカリ
性水溶液を分離したのち、有機色を水又は酸水溶液で洗
えばよい。
性水溶液を分離したのち、有機色を水又は酸水溶液で洗
えばよい。
このようにして処理された反応混合物は、原料に比して
芳香族一級ヒドロペルオキシド／芳香族三級ヒドロペル
オキシドの比率が著しく濾じられているので、これに酸
分解を行ってフェノール類を製造しても副反応生成物が
少なく、収率が高い。又、ペルオキシドの製造原料とし
て用いても、副反応生成物が少なく純度の高いものが得
やすい。
芳香族一級ヒドロペルオキシド／芳香族三級ヒドロペル
オキシドの比率が著しく濾じられているので、これに酸
分解を行ってフェノール類を製造しても副反応生成物が
少なく、収率が高い。又、ペルオキシドの製造原料とし
て用いても、副反応生成物が少なく純度の高いものが得
やすい。
本発明の如く、アルカリおよび触媒としての有機第四級
アンモニウム塩の共存下で、ヒドロペルオキシドの混合
物を処理すると、短時間でかつ選択的に芳香族一級ヒド
ロベルオキシドを分解することができるという著しい利
点を有する。
アンモニウム塩の共存下で、ヒドロペルオキシドの混合
物を処理すると、短時間でかつ選択的に芳香族一級ヒド
ロベルオキシドを分解することができるという著しい利
点を有する。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
尚、実施例中にも部および％はそれぞれ重１部又は重量
％を意味する。
％を意味する。
実施例 １
温度計と還流コンデンサーをそなえた撹拌棒付きの４つ
ロフラスコに、シメン酸化生成物（未反応シメンを溶媒
とする全ヒドロペルオキシド濃度１２．９％、一級ヒド
ロペルオキシド／全ヒドロペルオキシド＝１０．６％）
２００部とトリオクチルアンモニウムクロリド２，０部
及び０．５％水酸化ナトリウム水溶液１００部を加え、
８０℃で撹拌を行った。３０分後、液体クロマトグラフ
ィー分析で一級ヒドロペルオキシド、三級ヒドロペルオ
キシド及び主な成分の分析を行ったところ一級ヒドロペ
ルオキシドが１００％分解し、（一級分解率）、三級ヒ
ドロペルオキシドの回収率（三級回収率）は９８．０％
に達した。
ロフラスコに、シメン酸化生成物（未反応シメンを溶媒
とする全ヒドロペルオキシド濃度１２．９％、一級ヒド
ロペルオキシド／全ヒドロペルオキシド＝１０．６％）
２００部とトリオクチルアンモニウムクロリド２，０部
及び０．５％水酸化ナトリウム水溶液１００部を加え、
８０℃で撹拌を行った。３０分後、液体クロマトグラフ
ィー分析で一級ヒドロペルオキシド、三級ヒドロペルオ
キシド及び主な成分の分析を行ったところ一級ヒドロペ
ルオキシドが１００％分解し、（一級分解率）、三級ヒ
ドロペルオキシドの回収率（三級回収率）は９８．０％
に達した。
実施例 ２〜５ ・ 比較例 １〜２
温度、トリオクチルメチルアンモニウムクロリドの添加
量、水酸化す） ＩＪウムの添加量、油居／水居比を表
１に示した値としたほかは実施例１と同じ操作を行った
。結果を表１に示す。
量、水酸化す） ＩＪウムの添加量、油居／水居比を表
１に示した値としたほかは実施例１と同じ操作を行った
。結果を表１に示す。
（以下同じ） トリオクチルメチルアンモニウムクロリ
ド又はアルカリのいずれか一方を使用しない場合は、比
較例１および２に示すように一級ヒドロペルオキシドの
分解に長時間を要するかあるいは三級ヒドロペルオキシ
ドの回収率が低い。
ド又はアルカリのいずれか一方を使用しない場合は、比
較例１および２に示すように一級ヒドロペルオキシドの
分解に長時間を要するかあるいは三級ヒドロペルオキシ
ドの回収率が低い。
実施例 ６〜７ ・ 比較例 ３
水酸化ナトリウム１１の代わりに水酸化リチウムを用い
、表１に示す水酸化リチウムの添加量のほかは、実施例
１と同じ操作を行った。この場合も比較例３に示すよう
にトリオクチルメチルアンモニウムクロリドを添加しな
い場合は、三級ヒドロペルオキシドの回収率が低く、又
一級ヒドロペルオキシドの分解に長時間要する。
、表１に示す水酸化リチウムの添加量のほかは、実施例
１と同じ操作を行った。この場合も比較例３に示すよう
にトリオクチルメチルアンモニウムクロリドを添加しな
い場合は、三級ヒドロペルオキシドの回収率が低く、又
一級ヒドロペルオキシドの分解に長時間要する。
実施例 ８〜９
水酸化ナトリウムの代わりに 水酸化カリウムを用い、
表１に示す水酸化カリウム添加量のほかは、実施例１と
同じ操作を行った。
表１に示す水酸化カリウム添加量のほかは、実施例１と
同じ操作を行った。
実施例 １０〜１３
実施例１のトリオクチルメチルアンモニウムクロリドの
代わりに表２に記載の有機第四級アンモニウム塩を使用
した。実施例１と同様の結果が得られた。
代わりに表２に記載の有機第四級アンモニウム塩を使用
した。実施例１と同様の結果が得られた。
実施例 １４
ｍ、ｐ−シメン混合物８４０部に１０％炭酸ナトリウム
水溶液１２０部と反応開始剤として、シメン酸化生成物
（未反応シメンを溶媒とする全ヒドロペルオキシド濃度
１１．５％、一級ヒドロペルオキシド／全ヒドロペルオ
キシド＝１２．５％） ８０部を仕込み、１１５℃で８
時間空気酸化し、全ヒドロペルオキシド１度１２．０％
の酸化生成物を得た。
水溶液１２０部と反応開始剤として、シメン酸化生成物
（未反応シメンを溶媒とする全ヒドロペルオキシド濃度
１１．５％、一級ヒドロペルオキシド／全ヒドロペルオ
キシド＝１２．５％） ８０部を仕込み、１１５℃で８
時間空気酸化し、全ヒドロペルオキシド１度１２．０％
の酸化生成物を得た。
８０℃に冷却後、２８％水酸化ナトリウム６部と、トリ
オクチルメチルアンモニウムクロリド４．５部を加え、
同温度で３０分間撹拌を行った。静置して、下目の水居
を除いた後、オイル層を液体クロマトグラフィーで分析
したところ一級ヒドロペルオキシドがほとんど検出され
ず、三級ヒドロペルオキシドが酸化生成物中の存在最に
対して９．７％の回収率で得られた。
オクチルメチルアンモニウムクロリド４．５部を加え、
同温度で３０分間撹拌を行った。静置して、下目の水居
を除いた後、オイル層を液体クロマトグラフィーで分析
したところ一級ヒドロペルオキシドがほとんど検出され
ず、三級ヒドロペルオキシドが酸化生成物中の存在最に
対して９．７％の回収率で得られた。
実施例 １５
１−メチル−７−イツナフタレンの酸化生成物（全ヒド
ロペルオキシド濃度ｌ０８０％、一級ヒドロペルオキシ
ド／三級ヒドロペルオキシド＝１５．０％）２００部と
テトラブチルアンモニウムクロリド２部及び０．５％水
酸化ナトリウム水溶液１００部を加え、８０℃で撹拌を
行った。３０分後、液体クロマトグラフィー分析で一級
ヒドロペルオキシド、三級ヒドロペルオキシド及び主な
成分の分析を行ったところ、一級ヒドロペルオキシドが
１００％分解し、三級ヒドロベル才キシドの回収率９６
％に達した。
ロペルオキシド濃度ｌ０８０％、一級ヒドロペルオキシ
ド／三級ヒドロペルオキシド＝１５．０％）２００部と
テトラブチルアンモニウムクロリド２部及び０．５％水
酸化ナトリウム水溶液１００部を加え、８０℃で撹拌を
行った。３０分後、液体クロマトグラフィー分析で一級
ヒドロペルオキシド、三級ヒドロペルオキシド及び主な
成分の分析を行ったところ、一級ヒドロペルオキシドが
１００％分解し、三級ヒドロベル才キシドの回収率９６
％に達した。
実施例 １６
３．５−ジイソプロピルトルエンの酸化生成物（全ヒド
ロペルオキシド濃度９．５％、一級ヒドロペルオキシド
／三級ヒドロペルオキシド＝１２゜０％）２００部と、
トリメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド２部及び
０．５％水酸化ナトリウム水溶液１００部を加え、９０
℃で撹拌を行った。
ロペルオキシド濃度９．５％、一級ヒドロペルオキシド
／三級ヒドロペルオキシド＝１２゜０％）２００部と、
トリメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド２部及び
０．５％水酸化ナトリウム水溶液１００部を加え、９０
℃で撹拌を行った。
３０分後、液体クロマトグラフィー分析で、一級ヒドロ
ペルオキシド、三級ヒドロペルオキシド及び主な成分の
分析を行ったところ、一級ヒドロペルオキシドが９８％
分解し、三級ヒドロペルオキシドの回収率は９５％に達
した。
ペルオキシド、三級ヒドロペルオキシド及び主な成分の
分析を行ったところ、一級ヒドロペルオキシドが９８％
分解し、三級ヒドロペルオキシドの回収率は９５％に達
した。
Claims (4)
- （１）芳香族一級ヒドロペルオキシドと芳香族三級ヒド
ロペルオキシドとを含有するヒドロペルオキシド混合物
を、アルカリおよび有機第四級アンモニウム塩の共存下
に処理することを特徴とするヒドロペルオキシド混合物
の処理方法。 - （２）該ヒドロペルオキシド混合物中の一級ヒドロペル
オキシドと三級ヒドロペルオキシドとの混合割合が、芳
香族一級ヒドロペルオキシド３ないし３０重量部に対し
、芳香族三級ヒドロペルオキシド９７ないし７０重量部
（両者を合計して１００重量部）である特許請求の範囲
第１項に記載の方法。 - （３）該処理をアルキル芳香族炭化水素の共存下に行う
特許請求の範囲第１項または第２項に記載の方法。 - （４）ヒドロペルオキシド混合物が、ｍ−シメン、ｐ−
シメンあるいは混合シメンを液相において酸素または酸
素含有ガスにより酸化して得られた反応生成物あるいは
これらの濃縮物である特許請求の範囲第１項乃至第３項
に記載の方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61179652A JPH0768209B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
| DE19873721785 DE3721785A1 (de) | 1986-07-30 | 1987-07-01 | Verfahren zur behandlung einer hydroperoxidmischung |
| CN87105264.4A CN1009927B (zh) | 1986-07-30 | 1987-07-29 | 氢过氧化物混合物的处理 |
| US07/737,237 US5166451A (en) | 1986-07-30 | 1991-07-29 | Treatment of hydroperoxide mixture |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61179652A JPH0768209B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6335558A true JPS6335558A (ja) | 1988-02-16 |
| JPH0768209B2 JPH0768209B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=16069519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61179652A Expired - Fee Related JPH0768209B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5166451A (ja) |
| JP (1) | JPH0768209B2 (ja) |
| CN (1) | CN1009927B (ja) |
| DE (1) | DE3721785A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994001387A1 (fr) * | 1992-07-01 | 1994-01-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Procede de production de cresols |
| US5600026A (en) * | 1992-05-27 | 1997-02-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for production of cresols |
| US5639922A (en) * | 1994-07-14 | 1997-06-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for treatment of hydroperoxide mixture |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4891101A (en) * | 1988-11-23 | 1990-01-02 | Arco Chemical Technology, Inc. | Purification of tertiary hydroperoxides containing primary and secondary hydroperoxide contaminants |
| CN114105845B (zh) * | 2021-11-16 | 2023-09-01 | 浙江新和成股份有限公司 | 一种伞花烃氧化产物的选择性分解方法及其应用 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2728797A (en) * | 1954-06-10 | 1955-12-27 | Hercules Powder Co Ltd | Production of cresol |
| NL164027C (nl) * | 1967-10-24 | 1980-11-17 | Halcon International Inc | Werkwijze voor het stabiliseren van t-butylhydro- peroxyde. |
| JPS5738735A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-03 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Method for treating hydroperoxide mixture |
| US4584413A (en) * | 1983-09-14 | 1986-04-22 | Atlantic Richfield Company | Purification of tertiary butyl hydroperoxide containing primary and secondary alkyl hydroperoxide contaminants |
| US4891101A (en) * | 1988-11-23 | 1990-01-02 | Arco Chemical Technology, Inc. | Purification of tertiary hydroperoxides containing primary and secondary hydroperoxide contaminants |
-
1986
- 1986-07-30 JP JP61179652A patent/JPH0768209B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-07-01 DE DE19873721785 patent/DE3721785A1/de active Granted
- 1987-07-29 CN CN87105264.4A patent/CN1009927B/zh not_active Expired
-
1991
- 1991-07-29 US US07/737,237 patent/US5166451A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5600026A (en) * | 1992-05-27 | 1997-02-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for production of cresols |
| WO1994001387A1 (fr) * | 1992-07-01 | 1994-01-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Procede de production de cresols |
| US5639922A (en) * | 1994-07-14 | 1997-06-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for treatment of hydroperoxide mixture |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3721785C2 (ja) | 1993-03-11 |
| DE3721785A1 (de) | 1988-02-11 |
| US5166451A (en) | 1992-11-24 |
| JPH0768209B2 (ja) | 1995-07-26 |
| CN1009927B (zh) | 1990-10-10 |
| CN87105264A (zh) | 1988-05-18 |
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