JPS6336840A - クロロシラン不均化反応触媒の製造方法 - Google Patents
クロロシラン不均化反応触媒の製造方法Info
- Publication number
- JPS6336840A JPS6336840A JP61175530A JP17553086A JPS6336840A JP S6336840 A JPS6336840 A JP S6336840A JP 61175530 A JP61175530 A JP 61175530A JP 17553086 A JP17553086 A JP 17553086A JP S6336840 A JPS6336840 A JP S6336840A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- beads
- omega
- org
- aromatic nucleus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術的分野
本発明は、クロロ水素化シランの不均化および／又は再
分配反応によるシランの製造に関し、特に該反応に有用
な触媒の製造方法に関する。
分配反応によるシランの製造に関し、特に該反応に有用
な触媒の製造方法に関する。
従来の技術
従来、有機高分子に結合したタイプの第４級ホスホニウ
ム塩としては、りん原子が直接芳香核に結合したタイプ
（フェニルタイプ）又ハリん原子が１つのメチレン省を
介して芳香核に結合したタイプ（ベンジルタイプ）が−
殻内であった。しかしながらこれらの結合タイプのホス
ホニウム塩はクロロシラン不均化反応条件下で不安定で
あり従って活性維持能に問題があった。
ム塩としては、りん原子が直接芳香核に結合したタイプ
（フェニルタイプ）又ハリん原子が１つのメチレン省を
介して芳香核に結合したタイプ（ベンジルタイプ）が−
殻内であった。しかしながらこれらの結合タイプのホス
ホニウム塩はクロロシラン不均化反応条件下で不安定で
あり従って活性維持能に問題があった。
一方、りん原子と有機高分子との架橋グループがジメチ
レン’Ｉｓ （−ＣＨｘＣＨｘ−）以上になり、かつり
ん原子の残りの結合基が１級アルキル堪であると、この
ホスホニウム塩は非常に安定であることを見出し、本発
明者等は先に特許出願した（特願昭６０−２１０３２５
号）。
レン’Ｉｓ （−ＣＨｘＣＨｘ−）以上になり、かつり
ん原子の残りの結合基が１級アルキル堪であると、この
ホスホニウム塩は非常に安定であることを見出し、本発
明者等は先に特許出願した（特願昭６０−２１０３２５
号）。
そのような構造を有するホスホニウム塩を合成するには
、従来法ではポリスチレン、テトラメチルエチレンジア
ミン、有機リチウム試薬、ジハロアルカン、及びトリア
ルキルホスフィン、の組合せ、あるいは臭素化ポリスチ
レン、有機リチウム試薬、ジハロアルカン及びトリアル
キルホスフィンを原料として合成したが、これらの方法
では、有機リチウム試薬が高価であり、かつ取扱いが危
険という難点があった。
、従来法ではポリスチレン、テトラメチルエチレンジア
ミン、有機リチウム試薬、ジハロアルカン、及びトリア
ルキルホスフィン、の組合せ、あるいは臭素化ポリスチ
レン、有機リチウム試薬、ジハロアルカン及びトリアル
キルホスフィンを原料として合成したが、これらの方法
では、有機リチウム試薬が高価であり、かつ取扱いが危
険という難点があった。
本発明では取扱いが危険で、かつ高価な有機リチウム試
薬を使用する代りに取扱いが安全で簡単な金属リチウム
を用いた。有機リチウム試薬は反応性が高く、空気と接
触すると容易に分解し、また時として自然着火し火災等
の危険がある。
薬を使用する代りに取扱いが安全で簡単な金属リチウム
を用いた。有機リチウム試薬は反応性が高く、空気と接
触すると容易に分解し、また時として自然着火し火災等
の危険がある。
問題点を解決する為の手段
本発明者等は、上記課題を解決する為に鋭意研究し、有
ｆｉ ＩＪチウムよりも安全で安価な金属リチウムを用
いた合成ルート分見出し本発明を完成した。
ｆｉ ＩＪチウムよりも安全で安価な金属リチウムを用
いた合成ルート分見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は、芳香核に直接ハロゲン原子７つ；結合
している有機高分子化合物を溶媒中で金属リチウム及び
一般式Ｘ←ＣＨｔ ＋Ｘ’ （たソし、ｘ、ｘ’は同じ
か異なるハロゲン原子を表わし、ｎは２〜１０の数を表
わす〕で示されるα、ω−ジハロアルカンと接触せしめ
、芳香核をω−ハロアルキル化した有機高分子化合物を
得る工程（ａ）と該ω−ハロアルキル化した有機高分子
をトリアルキルホスフィンと反応せしめる工程（１））
よりなることを特徴とする有機高分子に−ｆＣＨｔ＋（
ｎ＝２〜１０）のメチレン基を架ａｉ縞として有するテ
トラアルキルホスホニウム塩の結合したクロロシラン不
均化反応触媒の製造方法に関する。
している有機高分子化合物を溶媒中で金属リチウム及び
一般式Ｘ←ＣＨｔ ＋Ｘ’ （たソし、ｘ、ｘ’は同じ
か異なるハロゲン原子を表わし、ｎは２〜１０の数を表
わす〕で示されるα、ω−ジハロアルカンと接触せしめ
、芳香核をω−ハロアルキル化した有機高分子化合物を
得る工程（ａ）と該ω−ハロアルキル化した有機高分子
をトリアルキルホスフィンと反応せしめる工程（１））
よりなることを特徴とする有機高分子に−ｆＣＨｔ＋（
ｎ＝２〜１０）のメチレン基を架ａｉ縞として有するテ
トラアルキルホスホニウム塩の結合したクロロシラン不
均化反応触媒の製造方法に関する。
本発明の方法は、ジハロアルカンが金属リチウムと反応
し、有機リチウム試薬を生じ、これが例えば、臭素化ポ
リスチレンをリチオ化するとともに自分自身α、ω−ジ
・・ロアルカンに戻り、再び金属リチウムと反応し、有
機リチウム試薬を生じ臭素化ポリスチレンをリチオ化す
ることを、金属リチウムを消費し尽すまでくり返す。
し、有機リチウム試薬を生じ、これが例えば、臭素化ポ
リスチレンをリチオ化するとともに自分自身α、ω−ジ
・・ロアルカンに戻り、再び金属リチウムと反応し、有
機リチウム試薬を生じ臭素化ポリスチレンをリチオ化す
ることを、金属リチウムを消費し尽すまでくり返す。
その後はリチオ化された芳香核とこの再生し念ジハロア
ルカンとが反応し、ω−ハロアルキル化を起し、一方リ
チウムハロゲン化物を生じる。
ルカンとが反応し、ω−ハロアルキル化を起し、一方リ
チウムハロゲン化物を生じる。
このため、本発明ではステップが簡略化され、かつ、有
機リチウム試薬の使用を避けているため、操作上の危険
が回避され、かつ、より経済的なプロセスとなる。
機リチウム試薬の使用を避けているため、操作上の危険
が回避され、かつ、より経済的なプロセスとなる。
上記工程（ａ）に用いる溶媒は通常エーテル系溶媒が好
ましく、特にジエチルエーテルが好ましい。又反応温度
は０〜４０℃が好１し匹。
ましく、特にジエチルエーテルが好ましい。又反応温度
は０〜４０℃が好１し匹。
父上記一般式で示されるα、ω−ジハロアルカンとして
は、１．２−ジブロモエタン、１．３−ジブロモプロパ
ン、１．ａ−ジクロロブタン、１．５＝シフロモベンタ
ン、１．６−ジクロロヘキサン、１．７−ジブロモへブ
タン、１．８−ジブロモオクタン、１，１ｏ−ジブロモ
デカン、１．５−７’ロモクロ口プロパン、１．４−ジ
クロロブタン、１．６−ジクロロヘキサン等が使用でき
る。
は、１．２−ジブロモエタン、１．３−ジブロモプロパ
ン、１．ａ−ジクロロブタン、１．５＝シフロモベンタ
ン、１．６−ジクロロヘキサン、１．７−ジブロモへブ
タン、１．８−ジブロモオクタン、１，１ｏ−ジブロモ
デカン、１．５−７’ロモクロ口プロパン、１．４−ジ
クロロブタン、１．６−ジクロロヘキサン等が使用でき
る。
芳香核に直接ハロゲン原子が結合した有機高分子として
は、ポリスチレンあるいは、スチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体系のポリマーが通常使用されるが、特に臭素
化ポリスチレンが好ましく使用される。
は、ポリスチレンあるいは、スチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体系のポリマーが通常使用されるが、特に臭素
化ポリスチレンが好ましく使用される。
金属リチウム、α、ω−ジハロアルカンはハロゲン化さ
れた有機高分子１モルに対し各々０．１〜２グラム原子
、０．１〜１モルの範囲で供給するのが好ましい。
れた有機高分子１モルに対し各々０．１〜２グラム原子
、０．１〜１モルの範囲で供給するのが好ましい。
又工程（ｂ）において使用するトリアルキルホスフィン
は、一般式Ｐ Ｒ’ Ｒ” Ｒ’ で表わされＲ１、Ｅ
（Ｉ。
は、一般式Ｐ Ｒ’ Ｒ” Ｒ’ で表わされＲ１、Ｅ
（Ｉ。
Ｒ３がメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ
〜オクチル等に代表されるＣ１〜ＣＢ ｎ−アルキル基
又はイソブチル、インペンチル、ネオペンチル等りんに
結合する炭素がただ１つの炭素と結合している０４〜Ｃ
ｓのアルキル基で、Ｒ１゜Ｒ２、Ｒ３は全て同一でも異
なってもよい。具体的には、トリメチルホスフィン、ト
リエチルホスフィン、トリーｎ−プロピルホスフィン、
トリーｎ−ブチルホスフィン、トリーｎ−へキシルホス
フィン、トリーｎ−オクチルホスフィン、ジグロビルブ
チルホスフィン、トリイソブチルホスフィン、トリイソ
ペンチルホスフィン、トリインヘキシルホスフィン、ト
リインオクチルホスフィン、トリネオペンチルホスフィ
ン等が挙げられる。
〜オクチル等に代表されるＣ１〜ＣＢ ｎ−アルキル基
又はイソブチル、インペンチル、ネオペンチル等りんに
結合する炭素がただ１つの炭素と結合している０４〜Ｃ
ｓのアルキル基で、Ｒ１゜Ｒ２、Ｒ３は全て同一でも異
なってもよい。具体的には、トリメチルホスフィン、ト
リエチルホスフィン、トリーｎ−プロピルホスフィン、
トリーｎ−ブチルホスフィン、トリーｎ−へキシルホス
フィン、トリーｎ−オクチルホスフィン、ジグロビルブ
チルホスフィン、トリイソブチルホスフィン、トリイソ
ペンチルホスフィン、トリインヘキシルホスフィン、ト
リインオクチルホスフィン、トリネオペンチルホスフィ
ン等が挙げられる。
上記の反応は、通常５０〜１８０℃、好ましくは１００
〜１５０℃で行なわれ、溶媒としては、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、クロロベンゼ
ン、トルエン、ベンゼン等を用いるが、ホスフィンの沸
点が充分高い場合にはホスフィン自体を溶媒として数１
０分〜数時間加熱して行なう。得られたポリマービーズ
はメタノール等で洗浄、乾燥して触媒として使用する。
〜１５０℃で行なわれ、溶媒としては、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、クロロベンゼ
ン、トルエン、ベンゼン等を用いるが、ホスフィンの沸
点が充分高い場合にはホスフィン自体を溶媒として数１
０分〜数時間加熱して行なう。得られたポリマービーズ
はメタノール等で洗浄、乾燥して触媒として使用する。
上記の方法で得られた触媒はクロロシランの不均化およ
び／または再分配反応に用いられるが、クロロ７ランの
不均化およびまたは再分配反応は液相でも気相でも良く
、又、流通式でも回分式でもよいが気相の方が低圧でお
こなえ、かつ触媒と生成物の分離が容易な気相の方が好
ましく、流通式が好ましい。反応温度は０〜５００℃、
好ましくは２０〜２００℃であり、圧力は常圧〜５０
ｋｇ／ｃ、？ （ゲージ圧）、接触時間は気相流通系で
０．０１〜２０秒、液相系で１秒〜２０分の範囲で行う
ことができる。
び／または再分配反応に用いられるが、クロロ７ランの
不均化およびまたは再分配反応は液相でも気相でも良く
、又、流通式でも回分式でもよいが気相の方が低圧でお
こなえ、かつ触媒と生成物の分離が容易な気相の方が好
ましく、流通式が好ましい。反応温度は０〜５００℃、
好ましくは２０〜２００℃であり、圧力は常圧〜５０
ｋｇ／ｃ、？ （ゲージ圧）、接触時間は気相流通系で
０．０１〜２０秒、液相系で１秒〜２０分の範囲で行う
ことができる。
寸た、原料のクロロシランは５ｉＨｎＣ２４−ｎ（ただ
し１≦ｎ≦３）で表わされるクロロ水素化シランである
。即ちモノクロロシラン、ジクロロシランまたはトリク
ロロシランの中の１種類あるいは２種゛頑以上の任意の
組成の混合物を用いることができ、窒素ガス等の不活性
流体で希釈してもよい。
し１≦ｎ≦３）で表わされるクロロ水素化シランである
。即ちモノクロロシラン、ジクロロシランまたはトリク
ロロシランの中の１種類あるいは２種゛頑以上の任意の
組成の混合物を用いることができ、窒素ガス等の不活性
流体で希釈してもよい。
実施例１
１）芳香核をω−プロモーｎ−ヘキシル化したスチレン
−ジビニルベンゼン共重合体ビーズの調製 公知の方法（特開昭５８−８０３０７号公報の実施例
１）に従って調製した芳香核に臭素原子を有する多孔性
のスチレン−ジビニルベンゼン共重合体ビーズ１α７２
、板状の金ｍ ＩＪチウムα４２？、及び３６−のエチ
ルエーテルをよく窒素置換した２５０−の４つロフラス
コに入れ、窒素雰囲気下、ゆっくり撹拌しながら４１２
ＣＨの１．６−ジブロムヘキサンを１４ＣＨのエーテル
に加えたものを２０分間かけて滴下した。この間フラス
コは氷水で０℃に保ち、滴下終了後も４時間にわたって
この温度を保ち、その後４時間かけてフラスコを常温Ｋ
まで昇温し、続いて、常温で４時間攪拌した。ゆっくり
攪拌しながら、１〇−のメタノールをフラスコに加え反
応をクエンチし、ビーズをろ取し、これをメタノールで
３回洗浄した。風乾後、空気中１００℃で乾燥し芳香核
にω−プロモーｎ−ヘキシル基の結合シたスチレン−ジ
ビニルベンゼン共重合体ビーズを得だ。
−ジビニルベンゼン共重合体ビーズの調製 公知の方法（特開昭５８−８０３０７号公報の実施例
１）に従って調製した芳香核に臭素原子を有する多孔性
のスチレン−ジビニルベンゼン共重合体ビーズ１α７２
、板状の金ｍ ＩＪチウムα４２？、及び３６−のエチ
ルエーテルをよく窒素置換した２５０−の４つロフラス
コに入れ、窒素雰囲気下、ゆっくり撹拌しながら４１２
ＣＨの１．６−ジブロムヘキサンを１４ＣＨのエーテル
に加えたものを２０分間かけて滴下した。この間フラス
コは氷水で０℃に保ち、滴下終了後も４時間にわたって
この温度を保ち、その後４時間かけてフラスコを常温Ｋ
まで昇温し、続いて、常温で４時間攪拌した。ゆっくり
攪拌しながら、１〇−のメタノールをフラスコに加え反
応をクエンチし、ビーズをろ取し、これをメタノールで
３回洗浄した。風乾後、空気中１００℃で乾燥し芳香核
にω−プロモーｎ−ヘキシル基の結合シたスチレン−ジ
ビニルベンゼン共重合体ビーズを得だ。
２）ホスホニウム化反応
上記 １）で得たビーズ７、２９を１．０−のトＩＪ−
ｎ−ブチルホスフィンと５０−〇Ｎ、Ｎ −ジメチルホ
ルムアミドと共に窒素下１３５℃で５時間加熱した。ビ
ーズをろ過した後、メタノールで３回洗い、風乾の後室
温で１時間真空乾燥し、トリーｎ−ブチルホスフィンが
ヘキサメチレン基を介して芳香核に結合したスチレン−
ジビニルベンゼン共重合体ヒース（Ｐ ｓ ｔ （■Ｃ
Ｈｚ ％Ｐ （ｎ −Ｂ ｕ ）ｓ ｍ Ｂ ｒを得た
。りん含量は１９０重量％であった。
ｎ−ブチルホスフィンと５０−〇Ｎ、Ｎ −ジメチルホ
ルムアミドと共に窒素下１３５℃で５時間加熱した。ビ
ーズをろ過した後、メタノールで３回洗い、風乾の後室
温で１時間真空乾燥し、トリーｎ−ブチルホスフィンが
ヘキサメチレン基を介して芳香核に結合したスチレン−
ジビニルベンゼン共重合体ヒース（Ｐ ｓ ｔ （■Ｃ
Ｈｚ ％Ｐ （ｎ −Ｂ ｕ ）ｓ ｍ Ｂ ｒを得た
。りん含量は１９０重量％であった。
３）トリクロロシランの不均化反応
上記 ２）で得た高分子結合型ホスホニウム塩ビーズ１
ｃＬ５ｒＮｉをガラス裏常圧流通式リアクター（内径５
ｍｍ）に充てんし、窒素気流中１２０℃で１時間加熱し
た後反応層を所定温度に保ちながら常圧下Ｓ １Ｈｃｔ
ｓ ／ Ｈｚ （モル比３／７）の混合ガスをフィー
ドとして不均化反応を行なった。反応条件整定後５時間
の生成物をヘリウムをキャリヤガスとしたガスクロマト
グラフ（ＴＣＤ）で分析した。結果を表１に示した。
ｃＬ５ｒＮｉをガラス裏常圧流通式リアクター（内径５
ｍｍ）に充てんし、窒素気流中１２０℃で１時間加熱し
た後反応層を所定温度に保ちながら常圧下Ｓ １Ｈｃｔ
ｓ ／ Ｈｚ （モル比３／７）の混合ガスをフィー
ドとして不均化反応を行なった。反応条件整定後５時間
の生成物をヘリウムをキャリヤガスとしたガスクロマト
グラフ（ＴＣＤ）で分析した。結果を表１に示した。
触媒の活性は下式を用いて触媒活性点当り（Ｋｃ ）及
び容積当り（Ｋｖ ）の値を求めた。
び容積当り（Ｋｖ ）の値を求めた。
Ｃｅｑ −ＣＮ
Ｃｅｑ −Ｃ
（Ｃｅｑ ： トリクロロシランの平衡転化率、Ｃニト
リクロロシランの実温転化率、 Ｓｖ：空間速度、Ｎ：触媒中のりんの濃度：ｍｅｑ／＋
＋＋ｊ） 実施例２ １）芳香核をω−プロモーｎ−ブチル化したスチレン−
ジビニルベンゼン共重合体ビーズの調製 実施例１−１）で用いた臭素化ポリスチレン４９？、板
状の金属リチウム１．０１ ？、２００ｍのエチルエー
テルを窒素置換した１ｔの４つロフラスコに入れ、これ
を氷水で０℃にまで冷却した。臭素化ポリスチレンビー
ズのサスペンションをゆっくり攪拌しながら。
リクロロシランの実温転化率、 Ｓｖ：空間速度、Ｎ：触媒中のりんの濃度：ｍｅｑ／＋
＋＋ｊ） 実施例２ １）芳香核をω−プロモーｎ−ブチル化したスチレン−
ジビニルベンゼン共重合体ビーズの調製 実施例１−１）で用いた臭素化ポリスチレン４９？、板
状の金属リチウム１．０１ ？、２００ｍのエチルエー
テルを窒素置換した１ｔの４つロフラスコに入れ、これ
を氷水で０℃にまで冷却した。臭素化ポリスチレンビー
ズのサスペンションをゆっくり攪拌しながら。
１１、Ｏｄの１．４−ジブロムブタンと２０−のエチル
エーテルとの混合物を３０分かけてゆっくリフラックス
に滴下した。フラスコヲ。
エーテルとの混合物を３０分かけてゆっくリフラックス
に滴下した。フラスコヲ。
℃に冷したまま、−晩攪拌し、１２時間後リチウム金属
が残存しないことを確認した後３時間加熱、リフラック
スした。続いて８０ｍ１のメタノールを滴下して反応を
クエンチし、ビーズをろ取し、メタノールで３回洗浄の
後、風乾、次に空気中１００℃で乾燥した。
が残存しないことを確認した後３時間加熱、リフラック
スした。続いて８０ｍ１のメタノールを滴下して反応を
クエンチし、ビーズをろ取し、メタノールで３回洗浄の
後、風乾、次に空気中１００℃で乾燥した。
２）ホスホニウム化反応
上記 １）で得たビーズのうち１０ｒ’ｉ１．０−のト
リーｎ−ブチルホスフィンと３０４のＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアばドと共に窒素下１３５℃で５時間加熱した。
リーｎ−ブチルホスフィンと３０４のＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアばドと共に窒素下１３５℃で５時間加熱した。
その後の処理は実施例１の２）と同様である。元素分析
によるりん含量はα７５重縫％であった。
によるりん含量はα７５重縫％であった。
３）トリクロロシランの不均化反応
上記 ２）で得たホスホニウム塩結合ビーズを触媒とし
て、実施例１の３）と同様の方法でトリクロロシランの
不均化反応を行なった。
て、実施例１の３）と同様の方法でトリクロロシランの
不均化反応を行なった。
結果を表１に示す。
比較例１． 有機リチウム試薬、アばン化合物を用いる
合成方法 １） 芳香［−ω−ブロモヘキシル化したスチレン−
ジビニルベンゼン共重合体ビーズの調製スチレン−ジビ
ニルベンゼン共重合体ビーズ五〇？（２９ミリ当量）、
ｎ−ブチルリチウム２９ばリモル（石油エーテル溶液）
、テトラメチルエチレンジアミン＆３５Ｆ（２９ミリモ
ル）およびシクロヘキサン２ＣＩＷ＃ｔの混合物を６５
℃に加熱し、２０時間反応させた。
合成方法 １） 芳香［−ω−ブロモヘキシル化したスチレン−
ジビニルベンゼン共重合体ビーズの調製スチレン−ジビ
ニルベンゼン共重合体ビーズ五〇？（２９ミリ当量）、
ｎ−ブチルリチウム２９ばリモル（石油エーテル溶液）
、テトラメチルエチレンジアミン＆３５Ｆ（２９ミリモ
ル）およびシクロヘキサン２ＣＩＷ＃ｔの混合物を６５
℃に加熱し、２０時間反応させた。
得られた反応混合物から溶液部分を注射器で除去し、そ
の後乾燥したシクロヘキサン１０−で２回洗浄した。得
られた褐色のビーズに１．６−ジプロモヘキサン１５．
０ｆ（６１＜リモル）のベンゼン５〇−溶液を加え、室
温で１０時間攪拌した。ビーズを口取し、メタノールで
２回、クロロホルムで１回洗浄し、その後転ｓしてω−
ブロモヘキシル化ポリスチレンビーズを得た。
の後乾燥したシクロヘキサン１０−で２回洗浄した。得
られた褐色のビーズに１．６−ジプロモヘキサン１５．
０ｆ（６１＜リモル）のベンゼン５〇−溶液を加え、室
温で１０時間攪拌した。ビーズを口取し、メタノールで
２回、クロロホルムで１回洗浄し、その後転ｓしてω−
ブロモヘキシル化ポリスチレンビーズを得た。
２）ホスホニウム化反応
ω−ブロモヘキシル化ポリスチレン１．０１、トリーｎ
−ブチルホスフィン０．４−およびＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド５−の混合物を１４０℃で２４時間加熱し、
ホスホニウム化した。メタノール、クロロホルムで洗浄
シ、ホスホニウム化されたポリスチレンビーズを得た。
−ブチルホスフィン０．４−およびＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド５−の混合物を１４０℃で２４時間加熱し、
ホスホニウム化した。メタノール、クロロホルムで洗浄
シ、ホスホニウム化されたポリスチレンビーズを得た。
元素分析の結果りんの含有量は［１，４２重惜％（１，
５％のフェニル環にりん結合している）であった。
５％のフェニル環にりん結合している）であった。
３）トリクロロシランの不均化反応
上記 ２）で得たホスホニウム塩結合ビーズを触媒とし
て実施例１の３）の要領でトリクロロシランの不均化反
応を行なった。結果を表−１に示す。
て実施例１の３）の要領でトリクロロシランの不均化反
応を行なった。結果を表−１に示す。
比較例２． 臭素化ポリスチレン、有機リチウム試薬を
用いる合成方法 １）芳香核をω−ブロモヘキシル化したスチレン−ジビ
ニルベンゼン共重合体ビーズのｔＰＪ ｍＪＸ ｍ 化
すれたスチレン−ジビニルベンゼン共重合体ビーズ５．
Ｏｆ （２５ミリ当量）ｎ−ブチルリチウム２５（リ
モル（ヘキサン溶液）および２０−のエーテルを反応フ
ラスコに入れ、室温で５０分攪拌した。溶液部分を注射
器で除去し、エーテルでビーズを洗浄した。
用いる合成方法 １）芳香核をω−ブロモヘキシル化したスチレン−ジビ
ニルベンゼン共重合体ビーズのｔＰＪ ｍＪＸ ｍ 化
すれたスチレン−ジビニルベンゼン共重合体ビーズ５．
Ｏｆ （２５ミリ当量）ｎ−ブチルリチウム２５（リ
モル（ヘキサン溶液）および２０−のエーテルを反応フ
ラスコに入れ、室温で５０分攪拌した。溶液部分を注射
器で除去し、エーテルでビーズを洗浄した。
その後、１．６−ジブロモヘキサンを５．７−加え、室
温で２０時間攪拌した。ビーズを口取し、メタノール、
りＯロホルムで洗浄し、乾燥した。
温で２０時間攪拌した。ビーズを口取し、メタノール、
りＯロホルムで洗浄し、乾燥した。
２）ホスホニウム化反応
上記 １）で得たω−ブロモヘキシル化ポリ、Ｘ、 ｆ
レントトＩＪ −ｎ−ブチルホスフィンをＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド中で反応させホスホニウム化ポリス
チレンビーズヲ得た。元素分析の結果シんの含有量は１
８４重置％であった。
レントトＩＪ −ｎ−ブチルホスフィンをＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド中で反応させホスホニウム化ポリス
チレンビーズヲ得た。元素分析の結果シんの含有量は１
８４重置％であった。
３）トリクロロシランの不均化反応
上記 ２）で得たホスホニウム塩結合ビーズを触媒とし
て実施例１の５）の方法でトリクロロシランの不均化反
応を行なった。結果を表−１に示す。
て実施例１の５）の方法でトリクロロシランの不均化反
応を行なった。結果を表−１に示す。
表−１
発明の効果
１）有機リチウム試薬を用いるリチオ化ステップとα、
＃−ジハロアルカンを用いるω−ハロアルキル化ステッ
プとを結合し、かつ、金、Ｖ４リチウムを用いるため操
作が簡単になっている。
＃−ジハロアルカンを用いるω−ハロアルキル化ステッ
プとを結合し、かつ、金、Ｖ４リチウムを用いるため操
作が簡単になっている。
２）反応性の高い有機リチウム試薬を用いず、安定性の
高い金属リチウムを使用するため、安全性が高い。
高い金属リチウムを使用するため、安全性が高い。
３）有機リチウム試薬は金属リチウムと比べ著しく高価
であり、本合成は従来法と比べ非常に経済的である。
であり、本合成は従来法と比べ非常に経済的である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 芳香核に直接ハロゲン原子が結合している有機高分子化
合物を溶媒中で金属リチウム及び一般式Ｘ−（ｃｈ＿２
）−＿ｎＸ′〔たゞしＸ、Ｘ′は同じか異なるハロゲン
原子を表わし、ｎは２〜１０の数を表わす〕で示される
α，ω−ジハロアルカンと接触せしめ芳香核をω−ハロ
アルキル化した有機高分子化合物を得る工程（ａ）と該
、ω−ハロアルキル化した有機高分子化合物をトリアル
キルホスフィンと反応せしめる工程（ｂ）よりなること
を特徴とする有機高分子にメチレン基を架橋基として有
するテトラアルキルホスホニウム塩の結合したクロロシ
ラン不均化反応および／または再分配反応用触媒の製造
方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61175530A JPS6336840A (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | クロロシラン不均化反応触媒の製造方法 |
| US06/909,193 US4725420A (en) | 1985-09-25 | 1986-09-19 | Process for the production of silanes |
| DE3650008T DE3650008T2 (de) | 1985-09-25 | 1986-09-25 | Katalytische Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Silanen. |
| KR1019860008002A KR880000264B1 (ko) | 1985-09-25 | 1986-09-25 | 실란의 제조방법 |
| EP86307399A EP0216640B1 (en) | 1985-09-25 | 1986-09-25 | Catalytic compound and process for production of silanes |
| KR1019870009865A KR880002302B1 (ko) | 1985-09-25 | 1987-09-07 | 클로로실란의 불균화 반응촉매의 제조 방법 |
| US07/122,237 US4775651A (en) | 1985-09-25 | 1987-11-17 | Process for the production of silanes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61175530A JPS6336840A (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | クロロシラン不均化反応触媒の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6336840A true JPS6336840A (ja) | 1988-02-17 |
| JPH0367738B2 JPH0367738B2 (ja) | 1991-10-24 |
Family
ID=15997677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61175530A Granted JPS6336840A (ja) | 1985-09-25 | 1986-07-28 | クロロシラン不均化反応触媒の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6336840A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0517771A (ja) * | 1991-05-27 | 1993-01-26 | Chichibu Cement Co Ltd | 超軟弱土用速硬型固化材 |
-
1986
- 1986-07-28 JP JP61175530A patent/JPS6336840A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0517771A (ja) * | 1991-05-27 | 1993-01-26 | Chichibu Cement Co Ltd | 超軟弱土用速硬型固化材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0367738B2 (ja) | 1991-10-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63303805A (ja) | アルシン、フオスフイン、アンモニア及び不活性ガスを精製してルイス酸及び酸化剤不純物を除去する方法及び組成物 | |
| KR102572540B1 (ko) | 게르마늄-규소 층의 제조를 위한 트리페닐게르밀실란및 트리클로로실릴-트리클로로게르만, 및 트리클로로실릴-트리페닐게르만으로부터 그를 제조하는 방법 | |
| JPS5843384B2 (ja) | 酢酸エチルの製造法 | |
| JPH03207719A (ja) | 高純度末端ヒドロキシフェニルラダーシロキサンプレポリマーの製造方法および高純度末端ヒドロキシフェニルラダーポリシロキサンの製造方法 | |
| JPH0638920B2 (ja) | モノカルボン酸無水物を製造するための方法及び担体触媒 | |
| JPH046201B2 (ja) | ||
| CN116920941B (zh) | 一种负载离子液体的氧化硅基催化剂及其制备方法和应用 | |
| EP0216640B1 (en) | Catalytic compound and process for production of silanes | |
| JPS6250404B2 (ja) | ||
| CN107759641A (zh) | α‑二亚胺镍配合物、制备方法及应用 | |
| JP2010524661A (ja) | 不均一系パラジウム触媒の合成方法、得られる触媒およびこの使用 | |
| KR20090020584A (ko) | 과산화수소의 제조방법 | |
| JPH0367738B2 (ja) | ||
| JPS6218484B2 (ja) | ||
| CN113105492B (zh) | 三氟甲基三甲基硅烷的制备方法 | |
| JPH1059707A (ja) | モノシランの製造方法 | |
| JPS6042216A (ja) | トリクロロシラン・ジクロロシラン・モノクロロシランの不均斉化方法 | |
| JP3891726B2 (ja) | 有機高分子シロキサン触媒の充填方法 | |
| JPH0226607B2 (ja) | ||
| JPH06183719A (ja) | ポリアルキルグアニジニウム基をグラフトさせたシリカ担体、その製造方法および触媒としての使用方法 | |
| JP3865904B2 (ja) | シラン化合物の不均化反応生成物の製造方法 | |
| JPS5921322B2 (ja) | ポリスチレンのオルガノヒ素誘導体の製造方法 | |
| JPH0453869B2 (ja) | ||
| CN105111389B (zh) | 一种硅烷偶联烯烃聚合物改性的多孔复合材料及制备方法 | |
| CN119819374A (zh) | 一种正电性框架包裹阴离子客体的离子型MOFs催化剂 |