JPS63368B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS63368B2 JPS63368B2 JP58178337A JP17833783A JPS63368B2 JP S63368 B2 JPS63368 B2 JP S63368B2 JP 58178337 A JP58178337 A JP 58178337A JP 17833783 A JP17833783 A JP 17833783A JP S63368 B2 JPS63368 B2 JP S63368B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chlorosilane
- reaction
- lithium hydride
- molten salt
- salt mixture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 55
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 50
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N lithium hydride Chemical compound [LiH] SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 claims description 49
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 47
- 239000011833 salt mixture Substances 0.000 claims description 33
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 26
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 claims description 13
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 9
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 6
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001617 alkaline earth metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- -1 salt compound Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 6
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L barium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ba+2] WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001626 barium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/04—Hydrides of silicon
- C01B33/043—Monosilane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S423/00—Chemistry of inorganic compounds
- Y10S423/09—Reaction techniques
- Y10S423/12—Molten media
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はクロロシランと水素化リチウムの反応
により純粋なシランを製造する方法および装置に
関する。
により純粋なシランを製造する方法および装置に
関する。
例えば、米国特許第3078218号および同第
3163590号公報にはシランの製造を目的とする水
素化リチウムとクロロシランの反応がすでに記載
されている。
3163590号公報にはシランの製造を目的とする水
素化リチウムとクロロシランの反応がすでに記載
されている。
この反応は次のように書ける。
SiHxCl4-x+(4−X)LiH→SiH4
+(4−X)LiCl (1)
クロロシランとしては、X=1および0に相当
するHSiCl3および/またはSiCl4を使用するのが
好ましい。反応は400℃ないし500℃程度の温度で
溶融された塩類媒体中で進行する。
するHSiCl3および/またはSiCl4を使用するのが
好ましい。反応は400℃ないし500℃程度の温度で
溶融された塩類媒体中で進行する。
上記米国特許に記載の方法は十分に純粋なシラ
ンを得ることができず、さらに副生する塩が水素
化リチウムを大量に含有しているため予備処理な
しに再使用することができない。
ンを得ることができず、さらに副生する塩が水素
化リチウムを大量に含有しているため予備処理な
しに再使用することができない。
従つて、本発明は上記の不都合を解消し、純粋
なシラン、すなわちクロロシランを含まないシラ
ンを得ることができるようにするとともに、反応
後直ちに使用し得る溶融された塩類を得ることが
できるようにすることを目的としている。
なシラン、すなわちクロロシランを含まないシラ
ンを得ることができるようにするとともに、反応
後直ちに使用し得る溶融された塩類を得ることが
できるようにすることを目的としている。
本発明は実際に、共融組成に近い組成の溶融さ
れた塩類混合物中の水素化リチウムとクロロシラ
ンとの反応によりシランを製造する方法におい
て、 −溶融された塩類混合物が塩化リチウム、塩化カ
リウム、および、場合によつて、他のアルカリ
金属塩化物またはアルカリ土類金属塩化物より
成り、 −反応が2つの工程(a)および(b)で行なわれ、 (a) 第一工程において、クロロシランと溶融され
た塩類の混合物中の水素化リチウムとの反応
を、クロロシランの量が水素化リチウムとの反
応に必要な理論量よりも少なくとも5%、好ま
しくは5ないし20%少なくなるように使用して
行ない、この第一工程において水素化リチウム
の使用量は溶融された塩類混合物に対して20%
以下、好ましくは12ないし18モル%であり、 (b) 第二工程において、第一工程に由来し溶融さ
れた塩類混合物中に溶解した未反応水素化リチ
ウムとクロロシランとの反応を、クロロシラン
の量が水素化リチウムとの反応に必要な理論量
よりも2%以上、好ましくは2ないし10%過剰
になるように使用して行なう方法に関する。
れた塩類混合物中の水素化リチウムとクロロシラ
ンとの反応によりシランを製造する方法におい
て、 −溶融された塩類混合物が塩化リチウム、塩化カ
リウム、および、場合によつて、他のアルカリ
金属塩化物またはアルカリ土類金属塩化物より
成り、 −反応が2つの工程(a)および(b)で行なわれ、 (a) 第一工程において、クロロシランと溶融され
た塩類の混合物中の水素化リチウムとの反応
を、クロロシランの量が水素化リチウムとの反
応に必要な理論量よりも少なくとも5%、好ま
しくは5ないし20%少なくなるように使用して
行ない、この第一工程において水素化リチウム
の使用量は溶融された塩類混合物に対して20%
以下、好ましくは12ないし18モル%であり、 (b) 第二工程において、第一工程に由来し溶融さ
れた塩類混合物中に溶解した未反応水素化リチ
ウムとクロロシランとの反応を、クロロシラン
の量が水素化リチウムとの反応に必要な理論量
よりも2%以上、好ましくは2ないし10%過剰
になるように使用して行なう方法に関する。
本発明で使用する溶融された塩類混合物は塩化
リチウム、塩化カリウムおよび場合によつて他の
アルカリ金属塩化物またはアルカリ土類金属塩化
物より成る。アルカリ金属塩化物またはアルカリ
土類金属塩化物はとくにナトリウム、ルビジウ
ム、ストロンチウム、マグネシウム、カルシウム
およびバリウムの塩化物から選ぶことができる。
本発明に従えば、塩化リチウムと塩化カリウムよ
り成る二成分混合物またはこれらの塩化物に加え
て塩化カルシウムもしくは塩化バリウムを含む三
成分混合物を使用するのが有利である。
リチウム、塩化カリウムおよび場合によつて他の
アルカリ金属塩化物またはアルカリ土類金属塩化
物より成る。アルカリ金属塩化物またはアルカリ
土類金属塩化物はとくにナトリウム、ルビジウ
ム、ストロンチウム、マグネシウム、カルシウム
およびバリウムの塩化物から選ぶことができる。
本発明に従えば、塩化リチウムと塩化カリウムよ
り成る二成分混合物またはこれらの塩化物に加え
て塩化カルシウムもしくは塩化バリウムを含む三
成分混合物を使用するのが有利である。
本発明の方法に従つて使用される溶融された塩
類混合物の組成はそれらの混合物について知られ
た共融組成に近い。本発明の方法の第一工程に従
えば、最初共融組成に対して塩化リチウムが10モ
ル%以下不足している溶融された塩類混合物を使
用するのが好ましい。第二工程の終りに溶融され
た塩類混合物は共融組成に対して塩化リチウムが
10モル%以下過剰である。
類混合物の組成はそれらの混合物について知られ
た共融組成に近い。本発明の方法の第一工程に従
えば、最初共融組成に対して塩化リチウムが10モ
ル%以下不足している溶融された塩類混合物を使
用するのが好ましい。第二工程の終りに溶融され
た塩類混合物は共融組成に対して塩化リチウムが
10モル%以下過剰である。
第一工程で使用される水素化リチウムの量は溶
融された塩類混合物に対して20モル%以下、好ま
しくは12モル%ないし18モル%である。第二工程
の終りに完全に塩化リチウムに転換される水素化
リチウムの最初の量は上記で与えられた溶融され
た塩類混合物中の塩化リチウムの不足量および最
大過剰量を考慮して限定される。
融された塩類混合物に対して20モル%以下、好ま
しくは12モル%ないし18モル%である。第二工程
の終りに完全に塩化リチウムに転換される水素化
リチウムの最初の量は上記で与えられた溶融され
た塩類混合物中の塩化リチウムの不足量および最
大過剰量を考慮して限定される。
本発明の方法に従えば、第一工程と第二工程に
おけるクロロシランと水素化リチウムの反応温度
は350℃ないし410℃が有利である。この温度が低
過ぎると溶融された塩類混合物が部分的に結晶を
生じ、この温度が高過ぎるとシランが部分的に分
解される。
おけるクロロシランと水素化リチウムの反応温度
は350℃ないし410℃が有利である。この温度が低
過ぎると溶融された塩類混合物が部分的に結晶を
生じ、この温度が高過ぎるとシランが部分的に分
解される。
本発明の変形例によれば、水素化リチウムを水
素化リチウム−水素化カルシウム混合物に替えて
シランの製造を行なうことができる。
素化リチウム−水素化カルシウム混合物に替えて
シランの製造を行なうことができる。
また、本発明は本発明の方法を実施するのに使
用する装置、すなわち、2つの撹拌手段付反応容
器と第二反応容器から出る混合ガスの分離装置と
を備え、 −第一反応容器はクロロシランと溶融された塩類
混合物中の水素化リチウムとを供給され、この
反応容器から一方では製品シラン、他方では溶
融された塩類混合物と未反応水素化リチウムと
より成る混合物が取出され、 −第二反応容器はクロロシランと、溶融された塩
類混合物と第一反応容器から出る未反応水素化
リチウムとより成る混合物とを供給され、この
第二反応容器からシランとクロロシランを含有
する混合ガスと、水素化リチウムを含まない溶
融された塩類混合物が取出され、 −第二反応容器から出た混合ガスは、一方におい
てシラン、他方において第一反応容器および/
または第二反応容器において再使用できるクロ
ロシランを回収するための蒸留塔が有利である
装置において分離され、この分離装置はとくに
吸着装置で構成できるようにした装置に関す
る。
用する装置、すなわち、2つの撹拌手段付反応容
器と第二反応容器から出る混合ガスの分離装置と
を備え、 −第一反応容器はクロロシランと溶融された塩類
混合物中の水素化リチウムとを供給され、この
反応容器から一方では製品シラン、他方では溶
融された塩類混合物と未反応水素化リチウムと
より成る混合物が取出され、 −第二反応容器はクロロシランと、溶融された塩
類混合物と第一反応容器から出る未反応水素化
リチウムとより成る混合物とを供給され、この
第二反応容器からシランとクロロシランを含有
する混合ガスと、水素化リチウムを含まない溶
融された塩類混合物が取出され、 −第二反応容器から出た混合ガスは、一方におい
てシラン、他方において第一反応容器および/
または第二反応容器において再使用できるクロ
ロシランを回収するための蒸留塔が有利である
装置において分離され、この分離装置はとくに
吸着装置で構成できるようにした装置に関す
る。
以下に添付図面(第1図)を参照しながら本発
明の装置をさらに詳細に説明する。
明の装置をさらに詳細に説明する。
第1図において、1は第一反応容器である。こ
の反応容器は導管2を介して塩化リチウムと塩化
カリウムより成る溶融された塩類混合物を供給さ
れる。この混合物の組成は共融組成に対して塩化
リチウムが10モル%以下不足しており、この混合
物はその上、水素化リチウムを20モル%以下含有
している。この反応容器は同様に導管3を介して
トリクロロシラン90モル%とテトラクロロシラン
10モル%より成るクロロシラン混合ガスを供給さ
れる。使用されるクロロシランの量は水素化リチ
ウムとの反応に必要な理論量に対して5%以上不
足している。この反応容器1から導管4を介して
クロロシランを含まないシランが取出され、導管
5を介して未反応水素化リチウムと溶融された塩
類混合物とより成る溶融された混合物が取出され
る。溶融された塩類混合物の組成は反応容器に最
初に導入された組成にクロロシランと水素化リチ
ウムとの反応に由来する塩化リチウム量を加えた
ものに相当する。
の反応容器は導管2を介して塩化リチウムと塩化
カリウムより成る溶融された塩類混合物を供給さ
れる。この混合物の組成は共融組成に対して塩化
リチウムが10モル%以下不足しており、この混合
物はその上、水素化リチウムを20モル%以下含有
している。この反応容器は同様に導管3を介して
トリクロロシラン90モル%とテトラクロロシラン
10モル%より成るクロロシラン混合ガスを供給さ
れる。使用されるクロロシランの量は水素化リチ
ウムとの反応に必要な理論量に対して5%以上不
足している。この反応容器1から導管4を介して
クロロシランを含まないシランが取出され、導管
5を介して未反応水素化リチウムと溶融された塩
類混合物とより成る溶融された混合物が取出され
る。溶融された塩類混合物の組成は反応容器に最
初に導入された組成にクロロシランと水素化リチ
ウムとの反応に由来する塩化リチウム量を加えた
ものに相当する。
6は第二反応容器である。この第二反応容器は
一方において導管5を介して送給される混合物を
供給され、他方において組成が反応容器1におい
て使用されるものと同じであるクロロシラン混合
ガスを供給される。この第二反応容器において使
用されるクロロシランの量は水素化リチウムとの
反応に必要な理論量に対して2%以上過剰であ
る。この反応容器6から一方において導管8を介
して生成されたシランとクロロシランとより成る
混合ガスが取出され、他方において導管9を介し
て組成が第二反応容器に導入したものにクロロシ
ランと水素化リチウムの反応に由来する塩化リチ
ウムの量を追加したものに相当する溶融された塩
類混合物が取出される。溶融された塩類混合物中
の塩化リチウムの量はこの混合物について知られ
ている共融組成に対して10モル%以下の過剰に相
当する。導管9から出る混合物はこの混合物に分
散したケイ素の微粒子を含有していることがあ
る。この微粒子は過により除去するのが有利で
ある。
一方において導管5を介して送給される混合物を
供給され、他方において組成が反応容器1におい
て使用されるものと同じであるクロロシラン混合
ガスを供給される。この第二反応容器において使
用されるクロロシランの量は水素化リチウムとの
反応に必要な理論量に対して2%以上過剰であ
る。この反応容器6から一方において導管8を介
して生成されたシランとクロロシランとより成る
混合ガスが取出され、他方において導管9を介し
て組成が第二反応容器に導入したものにクロロシ
ランと水素化リチウムの反応に由来する塩化リチ
ウムの量を追加したものに相当する溶融された塩
類混合物が取出される。溶融された塩類混合物中
の塩化リチウムの量はこの混合物について知られ
ている共融組成に対して10モル%以下の過剰に相
当する。導管9から出る混合物はこの混合物に分
散したケイ素の微粒子を含有していることがあ
る。この微粒子は過により除去するのが有利で
ある。
反応容器6から導管8を介して取出される混合
ガスはシランからクロロシランを分離できる蒸留
にかける。
ガスはシランからクロロシランを分離できる蒸留
にかける。
以下に第2図に示す装置で本発明の方法を使用
する実施例を記載する。
する実施例を記載する。
例 1
撹拌された反応容器1および6内で本発明の方
法を実施する。反応容器1は390℃の温度に維持
され、反応器6は400℃の温度に維持される。こ
れらの反応容器の撹拌は直角6枚羽根型ラシユト
ン・タービンを使用して行なわれ、撹拌装置の羽
根の末端速度2m/sである。ガスの供給は撹拌
装置の平面の上部から行なわれる。
法を実施する。反応容器1は390℃の温度に維持
され、反応器6は400℃の温度に維持される。こ
れらの反応容器の撹拌は直角6枚羽根型ラシユト
ン・タービンを使用して行なわれ、撹拌装置の羽
根の末端速度2m/sである。ガスの供給は撹拌
装置の平面の上部から行なわれる。
反応器1は流量が200モル/時であり、
LiCl45.9モル%、KCl36.1モル%および水素化リ
チウム18.0モル%より成る溶融された混合物で構
成される流れ2を供給される。この溶融された混
合物の組成は共融組成に対してLiClが2.8モル%
不足している。反応容器1はまたトリクロロシラ
ン90モル%とテトラクロロシラン10モル%とから
成るクロロシランの9.30モル/時のガス流3を供
給される。このように使用されるクロロシランの
量は流れ2に導入される水素化リチウムと流れ3
に導入されるクロロシランとの反応の理論量に対
して20%不足している。
LiCl45.9モル%、KCl36.1モル%および水素化リ
チウム18.0モル%より成る溶融された混合物で構
成される流れ2を供給される。この溶融された混
合物の組成は共融組成に対してLiClが2.8モル%
不足している。反応容器1はまたトリクロロシラ
ン90モル%とテトラクロロシラン10モル%とから
成るクロロシランの9.30モル/時のガス流3を供
給される。このように使用されるクロロシランの
量は流れ2に導入される水素化リチウムと流れ3
に導入されるクロロシランとの反応の理論量に対
して20%不足している。
反応容器1から
・クロロシランを含まない(検出限界:10ppm)
95%以上の純シランより成るガス流4が取出さ
れる。
95%以上の純シランより成るガス流4が取出さ
れる。
導入したクロロシランに対するシランの収率
は97.5%だつた。
は97.5%だつた。
・LiCl60.3モル%、KCl36.1モル%およびLiH3.6
モル%より成り200モル/時間の流量の溶融さ
れた塩類の流れ5が取出される。LiHの消費率
は80%だつた。
モル%より成り200モル/時間の流量の溶融さ
れた塩類の流れ5が取出される。LiHの消費率
は80%だつた。
反応容器6は流れ5と、ガス流7に従つて流れ
3の組成と等しい組成をもつとともに水素化リチ
ウムとの反応に必要な理論量に対して33%の過剰
に相当する2.4モル/時の流量をもつクロロシラ
ン混合物とを供給される。反応容器6から取出さ
れるガス流8はシランとクロロシランとから成
り、この流れは蒸留塔10内で蒸留される。この
蒸留によりクロロシランからシランを分離するこ
とができる。流れ11で表わされるクロロシランは
装置内で再使用され、シランは流れ4と一緒に取
出され、装置の製品となる。反応容器6から出る
溶融された塩類の流れ9はLiCl63.9モル%および
KCl36.1モル%より成り、この組成は共融組成に
対してLiClが5.1モル%過剰に相当する。LiHの
消費率は反応器1に導入したLiHに対して99%以
上だつた。
3の組成と等しい組成をもつとともに水素化リチ
ウムとの反応に必要な理論量に対して33%の過剰
に相当する2.4モル/時の流量をもつクロロシラ
ン混合物とを供給される。反応容器6から取出さ
れるガス流8はシランとクロロシランとから成
り、この流れは蒸留塔10内で蒸留される。この
蒸留によりクロロシランからシランを分離するこ
とができる。流れ11で表わされるクロロシランは
装置内で再使用され、シランは流れ4と一緒に取
出され、装置の製品となる。反応容器6から出る
溶融された塩類の流れ9はLiCl63.9モル%および
KCl36.1モル%より成り、この組成は共融組成に
対してLiClが5.1モル%過剰に相当する。LiHの
消費率は反応器1に導入したLiHに対して99%以
上だつた。
例 2
撹拌された反応容器1および6内で本発明の方
法を実施する。反応容器1および6は400℃の温
度に維持される。これらの反応容器の撹拌は直角
6枚羽根型ラシユトン・タービンを使用して行な
われ、撹拌装置の羽根の末端速度2.5m/sであ
る。ガスの供給は撹拌装置の平面の上部から行な
われる。
法を実施する。反応容器1および6は400℃の温
度に維持される。これらの反応容器の撹拌は直角
6枚羽根型ラシユトン・タービンを使用して行な
われ、撹拌装置の羽根の末端速度2.5m/sであ
る。ガスの供給は撹拌装置の平面の上部から行な
われる。
反応器1は流量が200モル/時であり、
LiCl48.3モル%、KCl38モル%および水素化リチ
ウム13.7モル%より成る溶融された混合物で構成
される流れ2を供給される。この溶融された混合
物の組成は共融組成に対してLiClが0.1モル%不
足している。反応容器1はまたトリクロロシラン
90モル%とテトラクロロシラン10モル%より成る
クロロシランの7.8モル/時のガス流3を供給さ
れる。このように使用されるクロロシランの量は
流れ2に導入される水素化リチウムと流れ3に導
入されるクロロシランとの反応の理論量に対して
7%不足している。
LiCl48.3モル%、KCl38モル%および水素化リチ
ウム13.7モル%より成る溶融された混合物で構成
される流れ2を供給される。この溶融された混合
物の組成は共融組成に対してLiClが0.1モル%不
足している。反応容器1はまたトリクロロシラン
90モル%とテトラクロロシラン10モル%より成る
クロロシランの7.8モル/時のガス流3を供給さ
れる。このように使用されるクロロシランの量は
流れ2に導入される水素化リチウムと流れ3に導
入されるクロロシランとの反応の理論量に対して
7%不足している。
反応容器1から
・クロロシランを含まない(検出限界:10ppm)
94%以上の純シランより成るガス流4が取出さ
れる。
94%以上の純シランより成るガス流4が取出さ
れる。
導入したクロロシランに対するシランの収率
は97.5%だつた。
は97.5%だつた。
・LiCl61.1モル%、KCl38モル%およびLiH0.9モ
ル%より成り200モル/時間の流量の溶融され
た塩類の流れ5が取出される。LiHの消費率は
93.5%だつた。
ル%より成り200モル/時間の流量の溶融され
た塩類の流れ5が取出される。LiHの消費率は
93.5%だつた。
第1図および第2図はそれぞれ本発明の方法を
実施する装置の概略立断面図を表わす。 1,6……反応容器、2,3,4,5,7,
8,9,11,12……導管、10……蒸留塔。
実施する装置の概略立断面図を表わす。 1,6……反応容器、2,3,4,5,7,
8,9,11,12……導管、10……蒸留塔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 共融組成に近い組成の溶融された塩類混合物
中の水素化リチウムとクロロシランとの反応によ
りシランを製造する方法であつて、 (i) 溶融された塩類混合物が塩化リチウム、塩化
カリウム、および場合によつて、他のアルカリ
金属塩化物またはアルカリ土類金属塩化物より
成り、 (ii) 反応が2つの工程(a)および(b)で行なわれ、 (a) 第一工程において、クロロシランと溶融さ
れた塩類の混合物中での水素化リチウムとの
反応を、クロロシランの量が水素化リチウム
との反応に必要な理論量よりも少なくとも5
%少なくなるように使用して行ない、この第
一工程において水素化リチウムの使用量は溶
融された塩類混合物に対して20モル%以下で
あり、 (b) 第二工程において、第一工程に由来し溶融
された塩類混合物中に溶解した未反応水素化
リチウムとクロロシランとの反応を、クロロ
シランの量が水素化リチウムとの反応に必要
な理論量よりも2%以上過剰になるように使
用して行なうこと、 を特徴とする方法。 2 (a) 第一工程において、クロロシランと溶融
された塩類の混合物中に水素化リチウムとの反
応を、クロロシランの量が水素化リチウムとの
反応に必要な理論量よりも5ないし20%少なく
なるように使用して行ない、この第一工程にお
いて水素化リチウムの使用量が溶融された塩類
混合物に対して12ないし18モル%であり、 (b) 第二工程において、第一工程に由来し溶融さ
れた塩類混合物中に溶解した未反応水素化リチ
ウムとクロロシランとの反応を、クロロシラン
の量が水素化リチウムとの反応に必要な理論量
よりも2ないし10%過剰になるように使用して
行なうこと、 を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 特許請求の範囲第1または2項のいずれかに
記載の方法において、塩類混合物は最初共融組成
物に比べて塩化リチウムが10モル%以下不足して
おり、第二工程の終りに溶融された塩類混合物の
組成が共融組成物に比べて塩化リチウムが10モル
%以下過剰であることを特徴とする方法。 4 特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載
の方法において、第一工程および第二工程におけ
るクロロシランと水素化リチウムとの反応温度が
350℃ないし410℃であることを特徴とする方法。 5 (i) クロロシランの供給手段、水素化リチウ
ムと溶融された塩類混合物との混合物の供給手
段、製品シランの排出用導管及び溶融された塩
類化合物と未反応水素化リチウムとの混合物の
排出用導管が備えられた、撹拌手段付の第一反
応容器、 (ii) 第一反応容器の溶融された塩類混合物の排出
用導管と接続された溶融された塩類混合物の供
給手段、クロロシランの供給手段、生成した混
合ガスの排出用導管及び溶融された塩類混合物
の排出手段が備えられた、撹拌手段付の第二反
応容器 並びに (iii) 第二反応容器の混合ガスの排出用導管と接続
していて製品シランと未反応クロロシランとを
分離するための蒸留塔 を含むことを特徴とする、共融組成に近い組成の
溶融された塩類混合物中の水素化リチウムとクロ
ロシランとの反応によりシランを製造するための
装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8216434A FR2533906A1 (fr) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | Procede et dispositif pour la preparation de silane pur par reaction de chlorosilanes avec l'hydrure de lithium |
| FR82.16434 | 1982-09-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5983924A JPS5983924A (ja) | 1984-05-15 |
| JPS63368B2 true JPS63368B2 (ja) | 1988-01-06 |
Family
ID=9277870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58178337A Granted JPS5983924A (ja) | 1982-09-30 | 1983-09-28 | クロロシランと水素化リチウムの反応により純粋なシランを製造する方法および装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4499063A (ja) |
| EP (1) | EP0105778B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5983924A (ja) |
| CA (1) | CA1214022A (ja) |
| DE (1) | DE3360846D1 (ja) |
| FR (1) | FR2533906A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5075092A (en) * | 1987-07-20 | 1991-12-24 | Ethyl Corporation | Process for preparation of silane |
| US4847061A (en) * | 1987-07-20 | 1989-07-11 | Ethyl Corporation | Process for preparation of silane |
| US6467947B1 (en) * | 1997-08-19 | 2002-10-22 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method and apparatus for mixing |
| RU2173297C2 (ru) * | 1999-03-10 | 2001-09-10 | Открытое акционерное общество "Новосибирский завод химконцентратов" | Способ получения моносилана из тетрахлорида кремния |
| RU2194009C1 (ru) * | 2001-04-10 | 2002-12-10 | Открытое акционерное общество "Новосибирский завод химконцентратов" | Способ получения силана |
| RU2245299C2 (ru) * | 2003-02-11 | 2005-01-27 | Открытое акционерное общество "Новосибирский завод химконцентратов" | Способ получения силана |
| GB0312749D0 (en) * | 2003-06-04 | 2003-07-09 | Optimed Ltd | Improvements in and relating to trial lens |
| RU2412902C2 (ru) * | 2008-03-21 | 2011-02-27 | Юрий Константинович Кварацхели | Способ получения моносилана и устройство для его осуществления |
| RU2390494C1 (ru) * | 2009-02-20 | 2010-05-27 | Виктор Иванович Петрик | Способ получения моносилана |
| DE102009037155B3 (de) * | 2009-08-04 | 2010-11-04 | Schmid Silicon Technology Gmbh | Verfahren und Anlage zur Herstellung von Trichlorsilan |
| DE102009056731A1 (de) | 2009-12-04 | 2011-06-09 | Rev Renewable Energy Ventures, Inc. | Halogenierte Polysilane und Polygermane |
| RU2466089C1 (ru) * | 2011-04-20 | 2012-11-10 | Владимир Александрович Ольшанский | Способ получения моносилана |
| RU2551511C1 (ru) * | 2013-10-24 | 2015-05-27 | Открытое акционерное общество "Ведущий научно-исследовательский институт химической технологии" | Способ получения моносилана и устройство для его осуществления |
| US11002255B2 (en) | 2019-08-20 | 2021-05-11 | Lowry Inheritors Trust | Carbon negative clean fuel production system |
| CN113481383B (zh) * | 2021-07-21 | 2022-07-19 | 合肥学院 | 一种金属钾的制备方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL230341A (ja) * | 1957-08-08 | 1900-01-01 | ||
| US3078218A (en) * | 1958-08-04 | 1963-02-19 | Union Carbide Corp | Hydrogenation of halogen compounds of elements of groups iii and iv of the periodic system |
| NL277704A (ja) * | 1961-04-27 | |||
| FR1323193A (fr) * | 1961-04-27 | 1963-04-05 | Union Carbide Corp | Hydrogénation des éléments des groupes iii, iv et v |
| ES462575A1 (es) * | 1976-09-24 | 1978-07-16 | Union Carbide Corp | Un procedimiento para la obtencion de silano. |
| JPS591211B2 (ja) * | 1980-06-02 | 1984-01-11 | 小松電子金属株式会社 | モノシラン連続発生方法およびその装置 |
| FR2504109A1 (fr) * | 1981-04-17 | 1982-10-22 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation de silane en milieu sels fondus |
-
1982
- 1982-09-30 FR FR8216434A patent/FR2533906A1/fr active Granted
-
1983
- 1983-09-16 EP EP83401812A patent/EP0105778B1/fr not_active Expired
- 1983-09-16 DE DE8383401812T patent/DE3360846D1/de not_active Expired
- 1983-09-27 US US06/536,240 patent/US4499063A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-09-28 JP JP58178337A patent/JPS5983924A/ja active Granted
- 1983-09-29 CA CA000437973A patent/CA1214022A/fr not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4499063A (en) | 1985-02-12 |
| JPS5983924A (ja) | 1984-05-15 |
| EP0105778B1 (fr) | 1985-09-18 |
| FR2533906B1 (ja) | 1985-02-08 |
| EP0105778A1 (fr) | 1984-04-18 |
| FR2533906A1 (fr) | 1984-04-06 |
| DE3360846D1 (en) | 1985-10-24 |
| CA1214022A (fr) | 1986-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63368B2 (ja) | ||
| JP2987713B2 (ja) | 高純度六フツ化リン酸化合物の製造方法 | |
| JP3204415B2 (ja) | 六フッ化リン酸塩の製造方法 | |
| US4593112A (en) | Method for the preparation of a tert-hydrocarbyl silyl compound | |
| JPS5988308A (ja) | シランの連続製造方法 | |
| JP2733045B2 (ja) | エーテル不含及びハロゲニド不含の水素化アルミニウムのトルエン性溶液の製法 | |
| US4623531A (en) | Process for producing silane | |
| EP0083374B1 (en) | Novel process for producing silicon hydride | |
| JPS63369B2 (ja) | ||
| JPH0329798B2 (ja) | ||
| CA1085586A (en) | Process for the production of silane | |
| US3843774A (en) | Preparation of non-solvated aluminum hydride | |
| JPS64324B2 (ja) | ||
| US5126473A (en) | Process for the hydriding of halogen-substituted compounds | |
| JP2002507537A (ja) | ハロゲン置換ケイ素の水素化法 | |
| KR960005507B1 (ko) | 실란의 제조방법 | |
| US7794632B2 (en) | Process for the preparation of pure aryllithium compounds and their use | |
| US5061470A (en) | Silane production from hydridomagnesium chloride | |
| JPS6044248B2 (ja) | 溶融塩媒体でシランを製造する方法 | |
| US3322503A (en) | Silicon production process | |
| JPS596802B2 (ja) | 過炭酸ソ−ダを製造する方法 | |
| JPH01313318A (ja) | トリクロロシランの製造方法 | |
| US3819808A (en) | Process for preparing lithium borohydride in an ether solution comprising lithium aluminum hydride and aluminum hydride | |
| JPH0413282B2 (ja) | ||
| JP2536027B2 (ja) | ジシランの製造方法 |