JPS6341502A - 複合多糖およびその製造法 - Google Patents
複合多糖およびその製造法Info
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- JPS6341502A JPS6341502A JP18623986A JP18623986A JPS6341502A JP S6341502 A JPS6341502 A JP S6341502A JP 18623986 A JP18623986 A JP 18623986A JP 18623986 A JP18623986 A JP 18623986A JP S6341502 A JPS6341502 A JP S6341502A
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- Japan
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- compound
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- hydrogen atom
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- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な複合多糖およびその製造法に関する。
細胞表層の糖蛋白質は、糖鎖を外側に配向して存在し、
生物情報マーカーとして機能している。
生物情報マーカーとして機能している。
糖蛋白質の糖鎖の中で、蛋白質部分とN−グリコシド結
合している糖鎖が最も複雑な構造を有しており、現在ま
でに種々の分校構造が知られている。
合している糖鎖が最も複雑な構造を有しており、現在ま
でに種々の分校構造が知られている。
本発明者らは、3重分技をもつ複合型Il!鎖の6糖単
位の合成に成功している。(小川ら、カーボハイドレー
ト・リサーチ(Carbohydrate Res、)
、 93(1981)CI)。本発明者らは更に、■に
示すような2重分技を有する複合型糖鎖の9vM単位構
造(1)の合成を目的として研究を進め、その部分構造
化合物の合成に成功した(特開昭6(151702号公
報参照)。
位の合成に成功している。(小川ら、カーボハイドレー
ト・リサーチ(Carbohydrate Res、)
、 93(1981)CI)。本発明者らは更に、■に
示すような2重分技を有する複合型糖鎖の9vM単位構
造(1)の合成を目的として研究を進め、その部分構造
化合物の合成に成功した(特開昭6(151702号公
報参照)。
本発明者らは更に子牛の血液凝固因子■のAsn−37
6及び因子■のAsn−261に結合している、Iに類
似する■に示すような11糖単位構造(IT)の全合成
を目的として研究を行い、本発明を完成するに至った。
6及び因子■のAsn−261に結合している、Iに類
似する■に示すような11糖単位構造(IT)の全合成
を目的として研究を行い、本発明を完成するに至った。
■
式1.TIにおいて、SAはシアル酸残基、Ga1lは
ガラクトース残基、GNはグルコサミン残基、Mはマン
ノース残基を示す。
ガラクトース残基、GNはグルコサミン残基、Mはマン
ノース残基を示す。
本発明は下記の一般式で表される複合多糖およびその製
造法を提供するものである。
造法を提供するものである。
式中Rは水素原子または低級アルキル基、R1は水素原
子またはアセチル基、R2は水素原子またはベンジル基
、R3は水素原子、R4はアセチル基、またはR″とR
4が共同してフタロイル基を示し、Yは水素原子または (式中、RおよびR1は前記定義のとおりである)を示
す。
子またはアセチル基、R2は水素原子またはベンジル基
、R3は水素原子、R4はアセチル基、またはR″とR
4が共同してフタロイル基を示し、Yは水素原子または (式中、RおよびR1は前記定義のとおりである)を示
す。
上記化合物は式(1):
(式中、Acはアセチル基、Rは低級アルキル基を示す
。)で表される化合物と、式(2):(式中Bnはベン
ジル基、Ph thはフタロイル基を示す) で表される化合物をグリコジル化触媒存在下に反応させ
、必要により脱アセチル化、脱ベンジル化、脱フタロイ
ル化およびアセチル化することにより製造することがで
きる。
。)で表される化合物と、式(2):(式中Bnはベン
ジル基、Ph thはフタロイル基を示す) で表される化合物をグリコジル化触媒存在下に反応させ
、必要により脱アセチル化、脱ベンジル化、脱フタロイ
ル化およびアセチル化することにより製造することがで
きる。
まず本発明方法の出発物質化合物(1)は次のように合
成することができる。
成することができる。
次式(101) :
で示される化合物(101)を、メタノール、エタノー
ル等の溶媒中、CH30Na、 K 2 CO2、Na
、CO2、トリエチルアミン等の塩基触媒存在下に、−
5℃〜60℃で30分〜24時間反応させて脱アセチル
化し、化合物(102)を得る。
ル等の溶媒中、CH30Na、 K 2 CO2、Na
、CO2、トリエチルアミン等の塩基触媒存在下に、−
5℃〜60℃で30分〜24時間反応させて脱アセチル
化し、化合物(102)を得る。
化合物(102)をDMF、アセトン、DMF−アセト
ン等の溶媒中、トルエンスルホン酸(TsOH)、Zn
Cj!z 、BF3. EtzO等の触媒存在下、ジメ
トキシプロパンと、0℃〜80℃で30分〜24時間反
応させて4,6−ジーO−イソプロピリデン体を得、こ
れをさらにピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミ
ノピリジン等の塩基触媒存在下、無水酢酸と、0°C〜
80℃で15分〜24時間反応させてアセチル体(10
3)を得る。
ン等の溶媒中、トルエンスルホン酸(TsOH)、Zn
Cj!z 、BF3. EtzO等の触媒存在下、ジメ
トキシプロパンと、0℃〜80℃で30分〜24時間反
応させて4,6−ジーO−イソプロピリデン体を得、こ
れをさらにピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミ
ノピリジン等の塩基触媒存在下、無水酢酸と、0°C〜
80℃で15分〜24時間反応させてアセチル体(10
3)を得る。
化合物(103)を、メタノール、エタノール、または
これらと水の混合溶媒中、Ac0H1CF 3 COO
H(T F A )等により0℃〜80℃で20分〜2
4時間処理してイソプロピリデン基を脱離し、ジオール
(104)を得る。
これらと水の混合溶媒中、Ac0H1CF 3 COO
H(T F A )等により0℃〜80℃で20分〜2
4時間処理してイソプロピリデン基を脱離し、ジオール
(104)を得る。
ジオール(104)に、モレキュラーシーブ4A、Hg
Brz−Hg (CN)z、八go S OzCF 3
、へg−シリケート、八g2CO3、AgCAO4等の
グリコジル化触媒存在下、式(120) : で表される化合物を反応させて4糖性化合物(105)
(α体)および(106) (β体)を得る。溶媒はジ
ク0ロエタン、ジクロロメタン、トルエン、ニトロメタ
ン、ベンゼン、CH3CN 、 D M F等が適当で
あり、−15℃〜60℃、30分〜24時間で反応は十
分に進行する。
Brz−Hg (CN)z、八go S OzCF 3
、へg−シリケート、八g2CO3、AgCAO4等の
グリコジル化触媒存在下、式(120) : で表される化合物を反応させて4糖性化合物(105)
(α体)および(106) (β体)を得る。溶媒はジ
ク0ロエタン、ジクロロメタン、トルエン、ニトロメタ
ン、ベンゼン、CH3CN 、 D M F等が適当で
あり、−15℃〜60℃、30分〜24時間で反応は十
分に進行する。
化合物(105)を常法によりアセチル化して化合物(
107)を得る。この化合物(107)をAcOH−H
20XMeOH−HzO,ベンゼン−EtOHHg0等
の溶媒中、PdCIlz、Pd CI 2、(Cb
Hs) :+ P RhCA!(ウィルキンソン錯体)
等の触媒存在下、室温〜80℃で1時間〜24時間処理
して脱アリル化して化合物(108)を得る。
107)を得る。この化合物(107)をAcOH−H
20XMeOH−HzO,ベンゼン−EtOHHg0等
の溶媒中、PdCIlz、Pd CI 2、(Cb
Hs) :+ P RhCA!(ウィルキンソン錯体)
等の触媒存在下、室温〜80℃で1時間〜24時間処理
して脱アリル化して化合物(108)を得る。
化合物(108)をMeOH−AcOH,MeOH。
MeOHHgO等の溶媒中、10%Pd−C,5%Pd
C,Pd (OH)z、pto2等の触媒存在下、
室温〜60°Cで1時間〜24時間、水素接触還元して
ベンジル基を脱離したのち、常法によりアセチル化し、
化合物(109)を得る。
C,Pd (OH)z、pto2等の触媒存在下、
室温〜60°Cで1時間〜24時間、水素接触還元して
ベンジル基を脱離したのち、常法によりアセチル化し、
化合物(109)を得る。
化合物(109)を、DM F 、CHtCt2 z、
CA CHzCHzCA等に熔解し、NHzNHz・A
cOH存在下、20℃〜80℃で5分〜3時間処理して
選択的脱アセチル化を行い化合物(110)を得る。
CA CHzCHzCA等に熔解し、NHzNHz・A
cOH存在下、20℃〜80℃で5分〜3時間処理して
選択的脱アセチル化を行い化合物(110)を得る。
化合物(110)をCHzCA z 、CI CHzC
I■zc6、トルエン、ベンゼン等に溶解し、DBtJ
(ジアザビシクロウンデカン)、Na1(等の触媒存
在下、トリクロロアセトニトリルと、−20℃〜40°
Cで30分〜6時間反応させることにより、出発物質(
11を得る。
I■zc6、トルエン、ベンゼン等に溶解し、DBtJ
(ジアザビシクロウンデカン)、Na1(等の触媒存
在下、トリクロロアセトニトリルと、−20℃〜40°
Cで30分〜6時間反応させることにより、出発物質(
11を得る。
もう一方の出発物質(2)は、特開昭60−51702
号公報記載の方法に従って合成することができる。
号公報記載の方法に従って合成することができる。
かくして得られた化合物(1)と化合物(2)をグリコ
ジル化触媒存在下に反応させて、7!J!性化合物(3
)とIIIJi性化合物(7)を得る。グリコジル化触
媒としてはBF、・Et2o、TMS )リフレート、
TiCj!、 、5nC14、モレキュラーシーブ4A
。
ジル化触媒存在下に反応させて、7!J!性化合物(3
)とIIIJi性化合物(7)を得る。グリコジル化触
媒としてはBF、・Et2o、TMS )リフレート、
TiCj!、 、5nC14、モレキュラーシーブ4A
。
モレキュラーシーブAW−300などが使用できる。ン
容媒はジクロロエタン、ジクロロメタン、クロロホルム
、トルエン、ベンゼン、ニトロメタンなどが適当であり
、温度は一25℃〜60℃が適当である。
容媒はジクロロエタン、ジクロロメタン、クロロホルム
、トルエン、ベンゼン、ニトロメタンなどが適当であり
、温度は一25℃〜60℃が適当である。
化合物(3)または(7)を、ピリジン、コリジン、ピ
ア コリン等の溶媒中、Lil触媒存在下、60°C〜還流
温度で1時間〜12時間処理してエステルを加水分解し
、それぞれ化合物(4)または(8)を得る。
ア コリン等の溶媒中、Lil触媒存在下、60°C〜還流
温度で1時間〜12時間処理してエステルを加水分解し
、それぞれ化合物(4)または(8)を得る。
次に化合物(4)または(8)を、EtOH、MeOH
等の溶媒中、抱水ヒドラジン、n−ブチルアミン、メチ
ルアミン等のアルキルアミン類などの触媒存在下、50
°C〜還流温度で1時間〜24時間処理してフタロイル
基およびアセチル基を脱離し、次いでMeOH、EtO
H1水等の溶媒中、無水酢酸を加え、0℃〜室温で1時
間〜24時間処理してアミノ基をアセチル化し、それぞ
れ化合物(5)または(9)を得る。
等の溶媒中、抱水ヒドラジン、n−ブチルアミン、メチ
ルアミン等のアルキルアミン類などの触媒存在下、50
°C〜還流温度で1時間〜24時間処理してフタロイル
基およびアセチル基を脱離し、次いでMeOH、EtO
H1水等の溶媒中、無水酢酸を加え、0℃〜室温で1時
間〜24時間処理してアミノ基をアセチル化し、それぞ
れ化合物(5)または(9)を得る。
化合物(5)または(9)を常法により、たとえば10
%Pd−C存在下、水素接触還元してヘンシル基を脱離
し、それぞれ目的化合物(6)または00)を得る。
%Pd−C存在下、水素接触還元してヘンシル基を脱離
し、それぞれ目的化合物(6)または00)を得る。
上記工程の一例を次のスキーム1.2.3および4に示
す。
す。
〉=≠
=
特開口UG3−41502 (13)AcNeuα2
−6GaIlβ1−4 G j! cNAcβ八cNe
へα2−6Ga1β 1→4 G j! cNAcβス
キーム1.2.3および4において←は〇−アセチル基
を、−は○〜ベンジル基をそれぞれ示す。
−6GaIlβ1−4 G j! cNAcβ八cNe
へα2−6Ga1β 1→4 G j! cNAcβス
キーム1.2.3および4において←は〇−アセチル基
を、−は○〜ベンジル基をそれぞれ示す。
上記工程により得られる化合物(102) 、(103
)、(104) 、(105) 、(106) 、(1
07) 、(108)、(109) 、(110) 、
ftl、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(
8)、(9)および00)は新規化合物である。
)、(104) 、(105) 、(106) 、(1
07) 、(108)、(109) 、(110) 、
ftl、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(
8)、(9)および00)は新規化合物である。
本発明により得られる上記の新規化合物は、細胞表層糖
蛋白質を合成する際の中間体として、又、細胞表層糖蛋
白質の生物学的意義や機能を解明する際の試薬としての
有用性を有するものである。
蛋白質を合成する際の中間体として、又、細胞表層糖蛋
白質の生物学的意義や機能を解明する際の試薬としての
有用性を有するものである。
以下実施例により本発明を更に詳細に説明するが、これ
らは何ら本発明の範囲を制限するものではない。
らは何ら本発明の範囲を制限するものではない。
なお、以下の実施例および参考例において、特に明記し
ない限り、旋光度〔α〕、の測定はCH(1,中25℃
で行った。
ない限り、旋光度〔α〕、の測定はCH(1,中25℃
で行った。
参考例1
化合物(101) 650mg (0,59mmo7
りをメタノールに溶かしNa OCHsを加え室温で一
昼夜攪拌する。反応液をアンバーリスト15で中和し、
ろ過して後減圧濃縮する。化合物(102) 435
mg(86%)を得る。
りをメタノールに溶かしNa OCHsを加え室温で一
昼夜攪拌する。反応液をアンバーリスト15で中和し、
ろ過して後減圧濃縮する。化合物(102) 435
mg(86%)を得る。
〔化合物(102)の性質〕
Rf O,31CIC1,a:MeOH3:INMR
(CD30D) 7.53−7.01 m、15B、
ベンジル×3゜6.17−5.69 m、 LH,−
CH=CH2゜1.93 131+、 S、 −NCO
CH3゜参考例2 化合物(102) 4.0 g (4,67mmo#)
をDMF80mj!に溶かし、0℃で攪拌しなからジメ
トキシプロパン5.Omj2TSOH−HzO160m
gを加え4時間攪拌する。反応液にトリエチルアミン1
0rr+j!を加え減圧濃縮する。残渣にピリジン80
mβ無水酢酸3 Q m Itを加え一昼夜攪拌する。
(CD30D) 7.53−7.01 m、15B、
ベンジル×3゜6.17−5.69 m、 LH,−
CH=CH2゜1.93 131+、 S、 −NCO
CH3゜参考例2 化合物(102) 4.0 g (4,67mmo#)
をDMF80mj!に溶かし、0℃で攪拌しなからジメ
トキシプロパン5.Omj2TSOH−HzO160m
gを加え4時間攪拌する。反応液にトリエチルアミン1
0rr+j!を加え減圧濃縮する。残渣にピリジン80
mβ無水酢酸3 Q m Itを加え一昼夜攪拌する。
反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラム(400g>
に付し、トルエン−酢酸エチル−2:11%TEA含有
の溶媒系で溶出することにより化合物(103) 2;
50 gを得る(収率50%)。
に付し、トルエン−酢酸エチル−2:11%TEA含有
の溶媒系で溶出することにより化合物(103) 2;
50 gを得る(収率50%)。
〔化合物(103)の性質〕
17f 0.35 1−ルエンー酢酸エチル 1:3
元素分析 Cs5H6eNOz。として計算値 C,6
2,08,H,6,54,N、1.32実測値 C,6
1,84,H,6,6L N、1.41〔α) o
+20.8” C=0.93 CHC13参考
例3 化合物(103) 2.49 g (2,34mmoj
りをMeOH−AcOH1: 1 40mj!に溶かし
、70〜75℃で1時間45分攪拌する。反応液を減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラム (SiOz C−300200g C)(C4!2
−MeOH20:1)で精製する。化合物(104)1
.48g(収率 61%)を得る。
元素分析 Cs5H6eNOz。として計算値 C,6
2,08,H,6,54,N、1.32実測値 C,6
1,84,H,6,6L N、1.41〔α) o
+20.8” C=0.93 CHC13参考
例3 化合物(103) 2.49 g (2,34mmoj
りをMeOH−AcOH1: 1 40mj!に溶かし
、70〜75℃で1時間45分攪拌する。反応液を減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラム (SiOz C−300200g C)(C4!2
−MeOH20:1)で精製する。化合物(104)1
.48g(収率 61%)を得る。
〔化合物(104)の性質〕
Rf Q、33 CHCes YIeOH9:
1元素分析 C7゜Hs lN OIbとして計算値
C,?1.09. H,6,71,N、1.15実測値
C,70,76、H,6,73,N、1.13〔α)
n ’ +20.Oo C=1.26
C)I(1゜NMRCDIts 90MHz
ppm 7MS7.48〜7.04.35H,m、ベ
ンジル基×76.08〜5.54 m、 LH,−
CH=CH2゜1.66 s 3HNAc 参考例4 活性化したM、3.4A、7.0gにh(CN)zl、
85 g、 HgBrz 1.32 gを加え化合物(
104)1.25 g (1,22mmo/) 、化合
物(120) 622.3mg 1.22 mmo7
!をジクロロエタン20mj!に溶かして加え、アルゴ
ン雰囲気下−15℃で攪拌する。反応液を室温にもどし
、8時間攪拌する。
1元素分析 C7゜Hs lN OIbとして計算値
C,?1.09. H,6,71,N、1.15実測値
C,70,76、H,6,73,N、1.13〔α)
n ’ +20.Oo C=1.26
C)I(1゜NMRCDIts 90MHz
ppm 7MS7.48〜7.04.35H,m、ベ
ンジル基×76.08〜5.54 m、 LH,−
CH=CH2゜1.66 s 3HNAc 参考例4 活性化したM、3.4A、7.0gにh(CN)zl、
85 g、 HgBrz 1.32 gを加え化合物(
104)1.25 g (1,22mmo/) 、化合
物(120) 622.3mg 1.22 mmo7
!をジクロロエタン20mj!に溶かして加え、アルゴ
ン雰囲気下−15℃で攪拌する。反応液を室温にもどし
、8時間攪拌する。
反応液を再び一15℃に冷却し、化合物(120)63
0mg(7mAジクロロエタン溶液として)注加し、室
温にもどして後−昼夜攪拌する。
0mg(7mAジクロロエタン溶液として)注加し、室
温にもどして後−昼夜攪拌する。
反応液に一15℃でHg (CN)2616mg。
HgBr、 440mg、化合物(120) 630
g (4mlジクロロエタン溶液として)加える。−
昼夜攪拌した後ろ過し、ろ液を蒸留水、飽和重そう水で
洗浄したのちMgSO3で乾燥し、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルカラム(ワコーゲルC−300300g、
、CH2C7!2−7セト730 : 1) テ精製す
る。化合物(105) (932mg、収率51%)
および化合物(106) (673mg、収率37%
)を得る。
g (4mlジクロロエタン溶液として)加える。−
昼夜攪拌した後ろ過し、ろ液を蒸留水、飽和重そう水で
洗浄したのちMgSO3で乾燥し、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルカラム(ワコーゲルC−300300g、
、CH2C7!2−7セト730 : 1) テ精製す
る。化合物(105) (932mg、収率51%)
および化合物(106) (673mg、収率37%
)を得る。
〔化合物(105) (α体)の性質〕元素分析 C7
zHqzNzOsz ・2HzOとして計算値 C,5
6,39,H,6,05,N、1.83実測値 C,5
6,21,H,6,05,N、1.83NMR400M
Hz CDCj23 7.38−7.17.15H,m、ベンジル基×35.
92−5.82 1H,m、 −CH=CH23,82
7,3)I、 s、 0CH32,587dd、 J=
4.4.12.6 H−3deq、 2.160゜2
.134.2.079.2.067、2.053.2.
048゜2.037.2.000. 1.89L、
1.831 −COCI(3x〔化合物(106)
(β体)の性質〕元素分析 C7□Hq z N 20
3□・H20として計算値 C,57,06,H,6,
12,N、1.85実測値 C,56,78,H,6,
24,N、1.87Rf O,56CHCj!3Me
OH9: 1〔α)D’ +2.1” C=1.0
2 CH(13NMR400MHz CDC13 7,38−7,19,15H,m、ベンジル基×35.
91−5.81 LH,m、 −C)l−cI+23
.831,3H,s、 0CHz 2.476 dd、 J=12.8.4.9 H−3
deq、 2.156゜2.121.2.078.2.
078.2.054.2.034゜2.029.2.0
14.2.007.1.895.1.789 5−CO
岸bり10 参考例5 化合物(105) 1.07 g (0,715mm
o#)をピリジン20mj!、無水酢酸5mlに熔かし
、室温で一昼夜攪拌する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラム(ワコーゲルC300700gCHCn3 :
MeOH30: 1)で精製する。化金物(107)
920mg (収率91%)を得る。
zHqzNzOsz ・2HzOとして計算値 C,5
6,39,H,6,05,N、1.83実測値 C,5
6,21,H,6,05,N、1.83NMR400M
Hz CDCj23 7.38−7.17.15H,m、ベンジル基×35.
92−5.82 1H,m、 −CH=CH23,82
7,3)I、 s、 0CH32,587dd、 J=
4.4.12.6 H−3deq、 2.160゜2
.134.2.079.2.067、2.053.2.
048゜2.037.2.000. 1.89L、
1.831 −COCI(3x〔化合物(106)
(β体)の性質〕元素分析 C7□Hq z N 20
3□・H20として計算値 C,57,06,H,6,
12,N、1.85実測値 C,56,78,H,6,
24,N、1.87Rf O,56CHCj!3Me
OH9: 1〔α)D’ +2.1” C=1.0
2 CH(13NMR400MHz CDC13 7,38−7,19,15H,m、ベンジル基×35.
91−5.81 LH,m、 −C)l−cI+23
.831,3H,s、 0CHz 2.476 dd、 J=12.8.4.9 H−3
deq、 2.156゜2.121.2.078.2.
078.2.054.2.034゜2.029.2.0
14.2.007.1.895.1.789 5−CO
岸bり10 参考例5 化合物(105) 1.07 g (0,715mm
o#)をピリジン20mj!、無水酢酸5mlに熔かし
、室温で一昼夜攪拌する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラム(ワコーゲルC300700gCHCn3 :
MeOH30: 1)で精製する。化金物(107)
920mg (収率91%)を得る。
〔化合物(10T)の性質〕
Rf O,50(CHCj!z MeOH30:
1)〔α) 、 −11,4° C=0.88
CHCffi:+元素分析 C74Hq 4 N 20
s a・1%H20計算値 C,56,73,H,6
,24,N、1.79実測値 C,56,74,H,6
,OL N、1.71NMR400MHz CD
Cit 3 7MS7.38−7.17.15m、ベ
ンジル基×35.92−5.83 1FI m −
(!=CHz3.81L 3H,s、 OCH3,2,
551dd、 J=4.6;12.9 H−3deq 2.191.2.148.2.132.2.076、2
.057゜2.047.2.026.1.999.1.
957.1.894゜1.834 −COCHs x
11 参考例6 化合物(107) 353mg (0,229mmo
β)をAcOHHzO(95: 5) 、15mAに溶
かし、塩化パラジウム48mg、酢酸ソーダ46mgを
加え、12時間攪拌する。反応液を減圧濃縮し、残渣を
酢酸エチルで希釈し、不溶物をセライトろ過する。
1)〔α) 、 −11,4° C=0.88
CHCffi:+元素分析 C74Hq 4 N 20
s a・1%H20計算値 C,56,73,H,6
,24,N、1.79実測値 C,56,74,H,6
,OL N、1.71NMR400MHz CD
Cit 3 7MS7.38−7.17.15m、ベ
ンジル基×35.92−5.83 1FI m −
(!=CHz3.81L 3H,s、 OCH3,2,
551dd、 J=4.6;12.9 H−3deq 2.191.2.148.2.132.2.076、2
.057゜2.047.2.026.1.999.1.
957.1.894゜1.834 −COCHs x
11 参考例6 化合物(107) 353mg (0,229mmo
β)をAcOHHzO(95: 5) 、15mAに溶
かし、塩化パラジウム48mg、酢酸ソーダ46mgを
加え、12時間攪拌する。反応液を減圧濃縮し、残渣を
酢酸エチルで希釈し、不溶物をセライトろ過する。
ろ液を水洗、重そう水、食塩水で洗浄し、Mg5Oaで
乾燥する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムで精製
する。
乾燥する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムで精製
する。
CHCAa :MeOH10: 1で溶離することに
より化合物(108) 121mg (35%)を得
た。
より化合物(108) 121mg (35%)を得
た。
〔化合物(107)の性質〕
Rf O,35Men)(CHCj!a 1 :
9元素分析 CHI HqoNzCL+x ・1 ’A
HzOとして計算値 C,55,86,H,6,14
,N、1.84実測値 C,55,80,H,5,99
,N、1.75(α) D−19,8° C=0.61
C)(Cβ3NMR400MHz CD CI!
、s 7MS7.38−7.17 15)l、 m
、ベンジル基×33.814 3Hs OCH32,
550dd、 J=4.4゜12.7 H−3deq 2.196.2.14L 2.124.2.073.2
.060゜2.051.2.C23,2,012,1,
960,1,894゜1.851 −COCH,x 1
1 参考例7 化合物(108) 391mg (0,26mmoj
りをメタノール20mn、八cOH2mj!に?容かし
10%Pd−C200mgを加え水素雰囲気下−昼夜接
触還元する。ろ過して後減圧濃縮し、残渣をピリジン5
ml、無水酢酸2.5 m Ilに熔かし、室温で3時
間攪拌する。
9元素分析 CHI HqoNzCL+x ・1 ’A
HzOとして計算値 C,55,86,H,6,14
,N、1.84実測値 C,55,80,H,5,99
,N、1.75(α) D−19,8° C=0.61
C)(Cβ3NMR400MHz CD CI!
、s 7MS7.38−7.17 15)l、 m
、ベンジル基×33.814 3Hs OCH32,
550dd、 J=4.4゜12.7 H−3deq 2.196.2.14L 2.124.2.073.2
.060゜2.051.2.C23,2,012,1,
960,1,894゜1.851 −COCH,x 1
1 参考例7 化合物(108) 391mg (0,26mmoj
りをメタノール20mn、八cOH2mj!に?容かし
10%Pd−C200mgを加え水素雰囲気下−昼夜接
触還元する。ろ過して後減圧濃縮し、残渣をピリジン5
ml、無水酢酸2.5 m Ilに熔かし、室温で3時
間攪拌する。
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム(ワコーゲルc−
30040g ヘキサン−酢酸エチル1:20)で精
製し化合物(109) 284mgを得る(収率83
%)。
30040g ヘキサン−酢酸エチル1:20)で精
製し化合物(109) 284mgを得る(収率83
%)。
〔化合物(109)の性質〕
〔α) 、 −25,4° C=0.86 CH
(J!3Rf O,174%メタノール含有CHC4
3元素分析 C5eHaoOa7Nz ・1’AHzO
として計算値 C,48,91,H,5,87,N、1
.97実測値 C,48,98,H,5,6B、 N
、1.94参考例8 化合物(109) 263mg (0,188mmo
7りをD M F 3.0 m j!に?容かし、ヒド
ラジニウムアセテ)18mgを加え、室温で40分攪拌
する。反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗し、さらに飽
和食塩水で洗浄したのちMg5O,で乾燥する。減圧濃
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトで精製する。
(J!3Rf O,174%メタノール含有CHC4
3元素分析 C5eHaoOa7Nz ・1’AHzO
として計算値 C,48,91,H,5,87,N、1
.97実測値 C,48,98,H,5,6B、 N
、1.94参考例8 化合物(109) 263mg (0,188mmo
7りをD M F 3.0 m j!に?容かし、ヒド
ラジニウムアセテ)18mgを加え、室温で40分攪拌
する。反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗し、さらに飽
和食塩水で洗浄したのちMg5O,で乾燥する。減圧濃
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトで精製する。
シリカゲル(ワコーゲルc−30030g)CHCn3
:MeOH24: 1で溶出し、出発原料化合物(1
09) 39mgを回収した。さらに溶出することに
より化合物(110) 215mg (収率91%)
を得た。
:MeOH24: 1で溶出し、出発原料化合物(1
09) 39mgを回収した。さらに溶出することに
より化合物(110) 215mg (収率91%)
を得た。
〔化合物(110)の性質〕
(α) n −31,02° C=1.I CHC
A 3元素分析 C,6H780,。Nz HtOと
して計算値 C,48,9B、 H,5,87,N、2
.03実測値 C,49,02,H,5,70,N、1
.89Rf O,43CHCj!:+ :MeOH
9: 1参考例9 化合物(110) 201mg (0,148mmo
A)をジクロロエタン3.0 m nに溶かし、トリク
ロロアセトニトリル0.3m1L DBU22.3μA
を加え、0°Cで30分、室温で1時間攪拌したのちシ
リカゲルカラム(ワコーゲル C−30020gEtO
Ac)で精製する。化合物(1) 188mg (収率
84.7%)を得た。
A 3元素分析 C,6H780,。Nz HtOと
して計算値 C,48,9B、 H,5,87,N、2
.03実測値 C,49,02,H,5,70,N、1
.89Rf O,43CHCj!:+ :MeOH
9: 1参考例9 化合物(110) 201mg (0,148mmo
A)をジクロロエタン3.0 m nに溶かし、トリク
ロロアセトニトリル0.3m1L DBU22.3μA
を加え、0°Cで30分、室温で1時間攪拌したのちシ
リカゲルカラム(ワコーゲル C−30020gEtO
Ac)で精製する。化合物(1) 188mg (収率
84.7%)を得た。
〔化合物(1)の性質〕
〔α)n −19,3° (C=1.55 CH
Cjl!3)Rf O,20EtOAc 元素分析 C65H7sO3bNsCflsとして計算
値 C,46,45,H,5,24,N、2.80実測
値 C,46,35,H,5,06,N、2.81実施
例1 活性化したモレキュラーシープAW−300300mg
に化合物(2189mg (0,064mmoIl )
、化合物(1) 74mg (0,049mmo6 )
をジクロロエタン7、0 m 12に溶かして加え、ア
ルゴン雰囲気下−10℃で攪拌しながらBF3・pt2
o6.5μ!(0,052mmoIl)を加え、2時間
攪拌した。
Cjl!3)Rf O,20EtOAc 元素分析 C65H7sO3bNsCflsとして計算
値 C,46,45,H,5,24,N、2.80実測
値 C,46,35,H,5,06,N、2.81実施
例1 活性化したモレキュラーシープAW−300300mg
に化合物(2189mg (0,064mmoIl )
、化合物(1) 74mg (0,049mmo6 )
をジクロロエタン7、0 m 12に溶かして加え、ア
ルゴン雰囲気下−10℃で攪拌しながらBF3・pt2
o6.5μ!(0,052mmoIl)を加え、2時間
攪拌した。
反応液をセライトろ過し、ろ液を重そう水、蒸留水で洗
浄する。MgSO4で乾燥したのち、減圧濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムで精製する。り0ロホルム−メタノ
ール25:1を用いて溶出し、化合物(3)63.7m
g (収率47.3%)を得た。
浄する。MgSO4で乾燥したのち、減圧濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムで精製する。り0ロホルム−メタノ
ール25:1を用いて溶出し、化合物(3)63.7m
g (収率47.3%)を得た。
〔化合物(3)の性質〕
Rf O,62CHCj!a :MeOH9: 1
〔α)n −12,2° (C・0.97 CH
C13)元素分析 Cl39HIS6053N4 ・
5H20として計算値 C,59,18,H,5,93
,N、1.99実測値 C,59,17,H,5,62
,N、2.33同じ溶媒で?容出することによりRf
O,54(CHCn 3: CH30H)のフラクショ
ンを分離した(15mg)。このフラクションを薄層ク
ロマトグラフ(CCL :アセトン 1:1)で精製
することにより化合物17)1.4mg (0,7%)
を得た。
〔α)n −12,2° (C・0.97 CH
C13)元素分析 Cl39HIS6053N4 ・
5H20として計算値 C,59,18,H,5,93
,N、1.99実測値 C,59,17,H,5,62
,N、2.33同じ溶媒で?容出することによりRf
O,54(CHCn 3: CH30H)のフラクショ
ンを分離した(15mg)。このフラクションを薄層ク
ロマトグラフ(CCL :アセトン 1:1)で精製
することにより化合物17)1.4mg (0,7%)
を得た。
〔化合物(7)の性質〕
Rf O,12ccz、 :アセトン 1:1実施
例2 活性化したモレキュラーシーブAW−300500mg
に化合物(3119mg (0,0069mmoA)、
化合物(1113,5mg (0,009mmon )
をジクロロエタン2.5 m IIに溶かして加え、ア
ルゴン雰囲気下−10℃で攪拌しながらBF3・Et2
01μl(0,0081mmoA)を滴下し、1.5時
間攪拌する。化合物(IN 3.5mg (0,009
mmoj2) 、及びBFs・Et201.lj7!
(0,0081mmojlり をくり返して添加し
、−10℃〜−20°Cで2時間攪拌する。反応液をセ
ライトろ過し、ろ液を、重そう水、蒸留水で洗浄し、M
gSO4で乾燥する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムで精製する。
例2 活性化したモレキュラーシーブAW−300500mg
に化合物(3119mg (0,0069mmoA)、
化合物(1113,5mg (0,009mmon )
をジクロロエタン2.5 m IIに溶かして加え、ア
ルゴン雰囲気下−10℃で攪拌しながらBF3・Et2
01μl(0,0081mmoA)を滴下し、1.5時
間攪拌する。化合物(IN 3.5mg (0,009
mmoj2) 、及びBFs・Et201.lj7!
(0,0081mmojlり をくり返して添加し
、−10℃〜−20°Cで2時間攪拌する。反応液をセ
ライトろ過し、ろ液を、重そう水、蒸留水で洗浄し、M
gSO4で乾燥する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムで精製する。
粗収量43mg、さらに液体クロマトグラフGPL22
0カラム(CHC7!z)を用いて精製し、化合物(7
1B、 Omgを得た。(化合物(3)の回収9.3m
gを含めて収率55%)。
0カラム(CHC7!z)を用いて精製し、化合物(7
1B、 Omgを得た。(化合物(3)の回収9.3m
gを含めて収率55%)。
〔化合物(7)の性質〕
Rf O,12(CC1,:アセトン、1:1)〔α
)n −7,81° C=0.4 CHll
。
)n −7,81° C=0.4 CHll
。
元素分析 C、、、H23□N b Oe e・H20
として計算値 C,57,32,H,5,77、N、2
.06実測値 C,57,03,H,5,75,N、1
.96実施例3 化合物f316. Omg、2.20X10−3mmo
j!、、Li1(180°で2時間減圧乾燥)5mgを
ピリジン0、1 m 7!に溶かし、4時間加熱還流す
る。反応液を酢酸エチルで希釈し、希塩酸、及び飽和食
塩水で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、残渣
をシリカゲル(ワコーゲル C−3001g)カラムに
かけ12%MeOH含有CHCj!、で溶出精製し、化
合物(414,9mg (収率82%)を得た。
として計算値 C,57,32,H,5,77、N、2
.06実測値 C,57,03,H,5,75,N、1
.96実施例3 化合物f316. Omg、2.20X10−3mmo
j!、、Li1(180°で2時間減圧乾燥)5mgを
ピリジン0、1 m 7!に溶かし、4時間加熱還流す
る。反応液を酢酸エチルで希釈し、希塩酸、及び飽和食
塩水で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、残渣
をシリカゲル(ワコーゲル C−3001g)カラムに
かけ12%MeOH含有CHCj!、で溶出精製し、化
合物(414,9mg (収率82%)を得た。
〔化合物(4)の性質〕
(α) o −20,0° (MeOHXC=0.
27)Rf O,1712%MeOH/ CHCj2
3実施例4 化合物(414,9mg (1,84X 10−’ m
moIl)をEtOHo、2mJに溶かし、抱水ヒドラ
ジン10μAを加え10時間加熱還流する。TLC上(
HPTLCnBuOH=EtOH=Hzo 4 :
2 : 2 Rfo、56) Iスポットになるこ
とを確認したのち、溶媒を減圧乾固する。残渣をMeO
Ho、1mI2に溶かし、氷冷攪拌下Acz05μlを
加え90分攪拌する。反応液を減圧ta縮し、残渣をセ
ファデックスLH−20’(0,8X 10cm M
eOH)で精製し、脱フタロイル体4.0 mgを得る
。
27)Rf O,1712%MeOH/ CHCj2
3実施例4 化合物(414,9mg (1,84X 10−’ m
moIl)をEtOHo、2mJに溶かし、抱水ヒドラ
ジン10μAを加え10時間加熱還流する。TLC上(
HPTLCnBuOH=EtOH=Hzo 4 :
2 : 2 Rfo、56) Iスポットになるこ
とを確認したのち、溶媒を減圧乾固する。残渣をMeO
Ho、1mI2に溶かし、氷冷攪拌下Acz05μlを
加え90分攪拌する。反応液を減圧ta縮し、残渣をセ
ファデックスLH−20’(0,8X 10cm M
eOH)で精製し、脱フタロイル体4.0 mgを得る
。
脱フタロイル体4.0mgをMeOH−H,O17:3
0.2mnに溶かし、10%Pd−C3mgを加え接
触還元する。反応液をろ過し、母液を減圧濃縮する。
0.2mnに溶かし、10%Pd−C3mgを加え接
触還元する。反応液をろ過し、母液を減圧濃縮する。
残渣をセファデックスG 25(0,8X10cmH
z O)で精製する。化合物f611.4mg (54
%)を得る。
z O)で精製する。化合物f611.4mg (54
%)を得る。
〔化合物(6)の性質〕
Rf O,18(nBuOH:EtOH: HzO4
: 2 : 2)〔α〕。 +7.7°(H2C、C=
0.07)NMR400MHz DzO60°、内積H
OD5.175 J=2.4 H−1aα、 4.
906 H−1d。
: 2 : 2)〔α〕。 +7.7°(H2C、C=
0.07)NMR400MHz DzO60°、内積H
OD5.175 J=2.4 H−1aα、 4.
906 H−1d。
4.726 H−1c、 4.685 J=8.
OH−1aβ。
OH−1aβ。
4.600 H−1b、 H−1e、 2.663.
J=4.4.12.2H−3geg、 2.011.
2.019.2.039.2.057NHAc、
1.667 J=12.5 H−3gax。
J=4.4.12.2H−3geg、 2.011.
2.019.2.039.2.057NHAc、
1.667 J=12.5 H−3gax。
実施例5
化合物(7112mg (2,95X 10−3mmo
jり、Lil 5mg (180℃、減圧2時間乾燥
)をピリジン0.5 m i!に溶かし、8時間加熱還
流する。
jり、Lil 5mg (180℃、減圧2時間乾燥
)をピリジン0.5 m i!に溶かし、8時間加熱還
流する。
反応液をクロロホルムで希釈し、希塩酸、飽和食塩水で
洗浄し、MgSO4で乾燥する。減圧濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラム(c−3001g20%MeOH含有ク
ロロホルム)で精製する。化合物(817,0mg (
収率59%)を得る。
洗浄し、MgSO4で乾燥する。減圧濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラム(c−3001g20%MeOH含有ク
ロロホルム)で精製する。化合物(817,0mg (
収率59%)を得る。
〔化合物(8)の性質〕
〔α) n −10,5° (CHsOH9C=0
.35)Rf O,05(20χMeOH含有CHC
J3)実施例6 ′ 化合物(817mg1.733 X 10−” mmo
IlをEtOHQ、2m jl!に溶かし、N HzN
H2・Hz○ 20p14を加え、3時間加熱還流す
る。
.35)Rf O,05(20χMeOH含有CHC
J3)実施例6 ′ 化合物(817mg1.733 X 10−” mmo
IlをEtOHQ、2m jl!に溶かし、N HzN
H2・Hz○ 20p14を加え、3時間加熱還流す
る。
Rf O,32nBuOH:EtOH: H2C4:
2 : 2減圧濃縮し、残渣をMeOHO,1mff
に溶かし、Aczo 10μ2を加え水冷下2時間攪
拌する。
2 : 2減圧濃縮し、残渣をMeOHO,1mff
に溶かし、Aczo 10μ2を加え水冷下2時間攪
拌する。
Rf O,39nBuOH:EtOH: H2C4:
2 : 2減圧濃縮し、残渣をメタノールに溶かし、
セファデックスLH201,2cmX 18cm (メ
タノールで精製する。濃縮残渣を0.5 m Aのメタ
ノ−ルに溶かし、0.5N−NaOCH310μRを加
え室温で3時間攪拌する。反応液をアンバーリスト15
で中和したのちろ過、減圧乾固する。化合物(913,
2mgを得る。 (α) I、−7,06°(CH30
HC=0.16)化合物(9) 3.2mgをHzOI
mfに溶かし、10%Pd−C3mgを加え室温で2日
間接触還元する。ろ過し、減圧濃縮、残渣をセファデッ
クスG−25で精製し化合物QOI 1. Omgを得
た。
2 : 2減圧濃縮し、残渣をメタノールに溶かし、
セファデックスLH201,2cmX 18cm (メ
タノールで精製する。濃縮残渣を0.5 m Aのメタ
ノ−ルに溶かし、0.5N−NaOCH310μRを加
え室温で3時間攪拌する。反応液をアンバーリスト15
で中和したのちろ過、減圧乾固する。化合物(913,
2mgを得る。 (α) I、−7,06°(CH30
HC=0.16)化合物(9) 3.2mgをHzOI
mfに溶かし、10%Pd−C3mgを加え室温で2日
間接触還元する。ろ過し、減圧濃縮、残渣をセファデッ
クスG−25で精製し化合物QOI 1. Omgを得
た。
収率26%(化合物(8)より)
〔化合物αωの性質〕
(α) D −4,6° (H20C=0.05)N
MR400MH2D20 60” 、内積t−BuOD
5.185 H−1aα、 J=2.2.5.128
H−1e。
MR400MH2D20 60” 、内積t−BuOD
5.185 H−1aα、 J=2.2.5.128
H−1e。
4.925 H−1d、 4.753 H−1c、
4.695 H−1aαJ=7.4. 4.662
m H−1b Hlh H−1g。
4.695 H−1aαJ=7.4. 4.662
m H−1b Hlh H−1g。
Claims (2)
- (1)下記の一般式で示される複合多糖。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Rは水素原子または低級アルキル基、R^1は水素
原子またはアセチル基、R^2は水素原子またはベンジ
ル基、R^3は水素原子、R^4はアセチル基、または
R^3とR^4が共同してフタロイル基を示し、Yは水
素原子または ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、RおよびR^1は前記定義のとおりである) を示す。 - (2)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Acはアセチル基、Rは低級アルキル基を示す。 )で表される化合物と、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Bnはベンジル基、Phthはフタロイル基を示
す) で表される化合物をグリコシル化触媒存在下に反応させ
、必要により脱アセチル化、脱ベンジル化、脱フタロイ
ル化およびアセチル化することを特徴とする下記の一般
式で表される複合多糖の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Rは水素原子または低級アルキル基、R^1は水素
原子またはアセチル基、R^2は水素原子またはベンジ
ル基、R^3は水素原子、R^4はアセチル基、または
R^3とR^4が共同してフタロイル基を示し、Yは水
素原子または ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、RおよびR^1は前記定義のとおりである) を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18623986A JPH0717684B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 複合多糖およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18623986A JPH0717684B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 複合多糖およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6341502A true JPS6341502A (ja) | 1988-02-22 |
| JPH0717684B2 JPH0717684B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=16184786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18623986A Expired - Lifetime JPH0717684B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 複合多糖およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0717684B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05126799A (ja) * | 1991-08-06 | 1993-05-21 | Railway Technical Res Inst | 三層金属線材の腐食劣化判定法 |
| JPH0639353A (ja) * | 1992-01-27 | 1994-02-15 | Takasago Denki Sangyo Kk | 空き缶回収機 |
| JP2007112810A (ja) * | 2006-12-26 | 2007-05-10 | Seikagaku Kogyo Co Ltd | オリゴ糖の製造方法 |
| US7663361B2 (en) | 2004-06-04 | 2010-02-16 | Anritsu Industrial Solutions Co., Ltd. | Metal detection device |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP18623986A patent/JPH0717684B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05126799A (ja) * | 1991-08-06 | 1993-05-21 | Railway Technical Res Inst | 三層金属線材の腐食劣化判定法 |
| JPH0639353A (ja) * | 1992-01-27 | 1994-02-15 | Takasago Denki Sangyo Kk | 空き缶回収機 |
| US7663361B2 (en) | 2004-06-04 | 2010-02-16 | Anritsu Industrial Solutions Co., Ltd. | Metal detection device |
| JP2007112810A (ja) * | 2006-12-26 | 2007-05-10 | Seikagaku Kogyo Co Ltd | オリゴ糖の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0717684B2 (ja) | 1995-03-01 |
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