JPS63420B2 - - Google Patents
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- JPS63420B2 JPS63420B2 JP6758179A JP6758179A JPS63420B2 JP S63420 B2 JPS63420 B2 JP S63420B2 JP 6758179 A JP6758179 A JP 6758179A JP 6758179 A JP6758179 A JP 6758179A JP S63420 B2 JPS63420 B2 JP S63420B2
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Description
本発明はシクロヘキセン誘導体、即ちラセミ体
の(racemic)及び光学的に活性なアスタキサン
チンの製造方法に関する。 本発明によつて提供される方法は、式 のラセミ体のまたは光学的に活性なジオールをハ
ロゲン化し、そして得られるハライドをトリアリ
ールホスフインと反応させ、生じる一般式 式中、Xはアリール基を表わし、そしてYはハ
ロゲンを表わす、 のホスホニウム塩を式 のジアルデヒドと縮合させてラセミ体のまたは光
学的なアスタキサンチンを生成させることからな
る。 本明細書において用いる「ハロゲン化」、「ハラ
イド」及び「ハロゲン」なる表現におけるハロゲ
ンは塩素、臭素及びヨウ素である。 上記の式及び以下の式において、常に全トラン
ス配置を示した。しかしながら、また本発明には
可能なシス−配置も含まれる。 式のジオールのハロゲン化は、それ自体公知
の方法において、ハロゲン化水素(塩化水素、臭
化水素またはヨウ化水素)を用いて、即ち水性溶
液(例えば48%または57%)中で行うことができ
る。このハロゲン化は約−10℃乃至+10℃間の温
度、好ましくは約0℃で行うことができる。ハロ
ゲン化を行う際の溶媒として、かかるハロゲン化
に適する溶媒、例えば塩化メチレンまたはクロロ
ホルムの如き塩素化された炭化水素を用いること
ができる。 かくして得られるハロゲニドとトリアリールホ
スフイン、特にトリフエニルホスフインとの反応
による式のホスホニウム塩の生成は、それ自体
公知の方法において、例えば酢酸エチル中で、好
ましくは不活性雰囲気下で且つ酸結合剤(例えば
1・2−ブチレンオキシドの如きアルキレンオキ
シド)の存在下において、ほぼ室温または昇温下
で行うことができる。 生じる式のホスホニウム塩と式のジアルデ
ヒドとの反応は、同様に適当な溶媒、例えば塩化
メチレンまたはクロロホルム中にて、酸結合剤、
例えば1・2−ブチレンオキシドまたはナトリウ
ムメチレートの存在下において行うことができ
る。 上記の方法で得られるアスタキサンチンは、ラ
セミ体のまたは光学的に活性な出発物質のいずれ
を用いたかによつて、ラセミ体〔(3RS・3′RS)
−配置〕または光学的に活性な形〔(3S・3′S)−
配置もしくは(3R・3′R)−配置〕或いはメソ形
で存在する。 また、本発明である種の中間体、即ちアスタキ
サンを製造する際の上記方法に適するシクロヘキ
サノン化合物の製造方法に関する。 これらシクロヘキサノン化合物の製造に対して
本発明によつて提供される方法は、式 の2−ヒドロキシケトイソホロンを還元して式 のジオールを生成させ、該式のジオールにおけ
る遊離のヒドロキシ基を保護されたヒドロキシ基
に変え、得られる生成物を適宜アルキニル化し、
そして式 のラセミ体のまたは光学的に活性なアセチレンジ
オールに転化し、該アセチレンジオールを適宜部
分的に還元して式 のジオールを生成させることからなる。 本方法の第一工程において、式の2−ヒドロ
キシケトイソホロンを選択的に還元する。この還
元は有利には適当な溶媒、即ち水性−アルカリ性
溶液における式の2−ヒドロキシケトイソホロ
ンを、ラネーニツケルの存在下において水素で処
理することにより行われる。かくして最初にアル
カリ金属塩が生じ、次にこのものを還元する。こ
の還元は例えば室温で行うことができる。 得られる還元生成物は式
の(racemic)及び光学的に活性なアスタキサン
チンの製造方法に関する。 本発明によつて提供される方法は、式 のラセミ体のまたは光学的に活性なジオールをハ
ロゲン化し、そして得られるハライドをトリアリ
ールホスフインと反応させ、生じる一般式 式中、Xはアリール基を表わし、そしてYはハ
ロゲンを表わす、 のホスホニウム塩を式 のジアルデヒドと縮合させてラセミ体のまたは光
学的なアスタキサンチンを生成させることからな
る。 本明細書において用いる「ハロゲン化」、「ハラ
イド」及び「ハロゲン」なる表現におけるハロゲ
ンは塩素、臭素及びヨウ素である。 上記の式及び以下の式において、常に全トラン
ス配置を示した。しかしながら、また本発明には
可能なシス−配置も含まれる。 式のジオールのハロゲン化は、それ自体公知
の方法において、ハロゲン化水素(塩化水素、臭
化水素またはヨウ化水素)を用いて、即ち水性溶
液(例えば48%または57%)中で行うことができ
る。このハロゲン化は約−10℃乃至+10℃間の温
度、好ましくは約0℃で行うことができる。ハロ
ゲン化を行う際の溶媒として、かかるハロゲン化
に適する溶媒、例えば塩化メチレンまたはクロロ
ホルムの如き塩素化された炭化水素を用いること
ができる。 かくして得られるハロゲニドとトリアリールホ
スフイン、特にトリフエニルホスフインとの反応
による式のホスホニウム塩の生成は、それ自体
公知の方法において、例えば酢酸エチル中で、好
ましくは不活性雰囲気下で且つ酸結合剤(例えば
1・2−ブチレンオキシドの如きアルキレンオキ
シド)の存在下において、ほぼ室温または昇温下
で行うことができる。 生じる式のホスホニウム塩と式のジアルデ
ヒドとの反応は、同様に適当な溶媒、例えば塩化
メチレンまたはクロロホルム中にて、酸結合剤、
例えば1・2−ブチレンオキシドまたはナトリウ
ムメチレートの存在下において行うことができ
る。 上記の方法で得られるアスタキサンチンは、ラ
セミ体のまたは光学的に活性な出発物質のいずれ
を用いたかによつて、ラセミ体〔(3RS・3′RS)
−配置〕または光学的に活性な形〔(3S・3′S)−
配置もしくは(3R・3′R)−配置〕或いはメソ形
で存在する。 また、本発明である種の中間体、即ちアスタキ
サンを製造する際の上記方法に適するシクロヘキ
サノン化合物の製造方法に関する。 これらシクロヘキサノン化合物の製造に対して
本発明によつて提供される方法は、式 の2−ヒドロキシケトイソホロンを還元して式 のジオールを生成させ、該式のジオールにおけ
る遊離のヒドロキシ基を保護されたヒドロキシ基
に変え、得られる生成物を適宜アルキニル化し、
そして式 のラセミ体のまたは光学的に活性なアセチレンジ
オールに転化し、該アセチレンジオールを適宜部
分的に還元して式 のジオールを生成させることからなる。 本方法の第一工程において、式の2−ヒドロ
キシケトイソホロンを選択的に還元する。この還
元は有利には適当な溶媒、即ち水性−アルカリ性
溶液における式の2−ヒドロキシケトイソホロ
ンを、ラネーニツケルの存在下において水素で処
理することにより行われる。かくして最初にアル
カリ金属塩が生じ、次にこのものを還元する。こ
の還元は例えば室温で行うことができる。 得られる還元生成物は式
【式】及び
【式】
のジオールからなる互変異性体混合物であり、式
のジオールが本方法の次の工程に用いるのに適
した化合物である。 式のジオールにおける所望の互変異性体形を
ブロツクするため及びこれに含まれる2個のヒド
ロキシ基を保護するために、このヒドロキシ基を
保護されたヒドロキシ基に変える。これは有利に
は、好ましくはアセトンでアセトン化
(acetonisation)によつて行われ、こうして式 の化合物が得られ、ここで式のジオールに存存
するヒドロキシ基は保護された形で存在する。 しかしながらまた、アセトン化は2・2−ジメ
トキシプロパンまたはイソプロペニルメチルエー
テルを用いて行うこともできる。 アセトン化はそれ自体公知の方法において、酸
−触媒条件下で且つ水を分離しながら有利に行う
ことができる。かくして先行する還元による互変
異性体混合物に存在する式aのジオールは、ア
セトン化中に式の互変異性体に完全に転化さ
れ、最終的に全体の物質がアセトニドに固定さ
れる。 しかしながらまた、式の還元生成物における
ヒドロキシ基の保護は式のジオールの二量体化
によつて、即ち有利には水の分離に伴う酸−触媒
によつて、例えば適当な溶媒(例えばトルエン)
中でp−トルエンスルホン酸または過塩素酸と沸
騰させて行うことができる。この場合には、式
のジオールに存在するヒドロキシ基は分子内エー
テル生成及び二量体生成によつて保護される。ま
たこの場合に式aの互変異性体ジオールの二量
体への完全な転化が起り、同時に所望の互変異性
体形が固定される。 本方法の次の工程、即ちアルキニル化は、アル
キニル化生成物の脱水及び保護基の離脱をもたら
す条件下、即ちアルキニル化生成物の酸加水分解
条件下で有利に行われる。 アルキニル化は随時保護されていてもよい3−
メチルペンテニノールを用いて、例えば式
のジオールが本方法の次の工程に用いるのに適
した化合物である。 式のジオールにおける所望の互変異性体形を
ブロツクするため及びこれに含まれる2個のヒド
ロキシ基を保護するために、このヒドロキシ基を
保護されたヒドロキシ基に変える。これは有利に
は、好ましくはアセトンでアセトン化
(acetonisation)によつて行われ、こうして式 の化合物が得られ、ここで式のジオールに存存
するヒドロキシ基は保護された形で存在する。 しかしながらまた、アセトン化は2・2−ジメ
トキシプロパンまたはイソプロペニルメチルエー
テルを用いて行うこともできる。 アセトン化はそれ自体公知の方法において、酸
−触媒条件下で且つ水を分離しながら有利に行う
ことができる。かくして先行する還元による互変
異性体混合物に存在する式aのジオールは、ア
セトン化中に式の互変異性体に完全に転化さ
れ、最終的に全体の物質がアセトニドに固定さ
れる。 しかしながらまた、式の還元生成物における
ヒドロキシ基の保護は式のジオールの二量体化
によつて、即ち有利には水の分離に伴う酸−触媒
によつて、例えば適当な溶媒(例えばトルエン)
中でp−トルエンスルホン酸または過塩素酸と沸
騰させて行うことができる。この場合には、式
のジオールに存在するヒドロキシ基は分子内エー
テル生成及び二量体生成によつて保護される。ま
たこの場合に式aの互変異性体ジオールの二量
体への完全な転化が起り、同時に所望の互変異性
体形が固定される。 本方法の次の工程、即ちアルキニル化は、アル
キニル化生成物の脱水及び保護基の離脱をもたら
す条件下、即ちアルキニル化生成物の酸加水分解
条件下で有利に行われる。 アルキニル化は随時保護されていてもよい3−
メチルペンテニノールを用いて、例えば式
【式】または
【式】
式中、Alkは低級アルキル基例えばメチル基を
表わす、 の3−メチルペンテニン−(1または3)−オール
のシリルエーテルによつて、或いはアセトン3−
メチル−2−ペンテン−4−インイルアセタール
またはtert−ブチル3−メチル−2−ペンテン−
4−インイルエーテルによつて、即ち、かかるア
ルキニル化に対してそれ自体公知の条件下で行う
ことができる。 アルキニル化、脱水及び保護基の離脱後に得ら
れる式のアセチレンジオールを、次の工程で還
元して式のジオールを生成させる。 この部分的還元は亜鉛及び氷酢酸を用いて有利
に行われる。 部分的還元に対する溶媒として、適当な有機溶
媒、例えば塩化メチレンの如き塩素化された炭化
水素を用いることができるが、しかしながら或い
は試薬として用いる氷酢酸を用いることができ
る。 好ましくは塩化メチレン/氷酢酸中のアセチレ
ンジオールの約2%溶液を用い、前者は約1:2
〜1:2.5の比で用いられる。亜鉛は出発物質1
モル当り約1〜3g原子、好ましくは2.5g原子
の量で有利に用いられる。 部分的還元は約−20℃乃至ほぼ室温間の温度で
行うことができる。この部分的還元は好ましくは
約0℃で行われる。 次に生じる式の化合物を前記の方法におい
て、式のホスホニウム塩を経てアスタキサンチ
ンに転化することができる。 光学的に活性なポリエン化合物を製造するため
に、式のラセミ体のジオールを分割用塩基
(resolving base)によつて光学的に活性な形に
変え、この光学的に活性な形を更に工程(→
→→→→アスタキサンチン)に付す。 分割用塩基として有利にはα−フエニルエチル
アミン、即ち(S)−(−)−α−フエニルエチル
アミンまたは(R)−(+)−α−フエニルエチル
アミンが用いられる。 しかしながらまた、サケに存在する天然のアス
タキサンチンを製造する際に必要な式 の光学的に活性な化合物は、式の化合物を酵母
(例えば圧搾酵母)で発酵的に還元して得ること
ができ、式aの化合物に対応して、光学的に活
性な形における式及びaの2種の互変異性ジ
オールの混合物が得られる。次にこの混合物を、
式及びaのジオール混合物のアセトン化に関
してすでに述べた方法でアセトン化し、式aの
光学的に活性な化合物が得られ、次にこのものを
対応する式、及びの光学的活性形を経て、
サケに存在する天然の光学的に活性なアスタキサ
ンチンに転化する。 以下の実施例は本発明をさらに説明するもので
ある。 実施例 1 塩化メチレン150ml中の6−ヒドロキシ−3−
(5−ヒドロキシ−3−メチル−1・3−ペンタ
ジエニル)−2・4・4−トリメチル−2−シク
ロヘキセン−1−オン25gの溶液を、撹拌機、圧
力バランスを備えた50mlの滴下ロート、温度計及
び不活性ガス導入装置を備えた200mlのスルホン
化用フラスコに導入した。得られた溶液をアルゴ
ン雰囲気下にて氷浴により0゜〜5℃に冷却し、次
に処理するまで、この温度範囲に保持した。上記
温度範囲に保持しながらできるだけ速かに、臭化
水素溶液(63%水溶液)30mlを滴下した。この混
合物を更に5分間撹拌し、1の分液ロート中の
10%塩化ナトリウム溶液100ml中に注いだ。更に
分液ロートに酢酸エチル400mlを加え、次にこの
混合物を十分に振盪した。底部の水相を分離し、
そしてすてた。有機相を総量200mlの5%重炭酸
ナトリウム溶液で2回洗浄した。洗液はすてた。
有機相を1・2−ブチレンオキシド1mlで処理
し、無水硫酸ナトリウム50g上で乾燥し、そして
過した。紙上の乾燥剤を酢酸エチル100mlで
すすぎ、このブロマイド溶液を浴温30℃で水流ポ
ンプによる減圧下で回転発機中で約250mlに濃縮
した。回転蒸発機中の減圧を窒素によつて保持
し、得られた黄色の濃縮物を直ちにホスホニウム
塩の製造に用いた。 酢酸エチル250ml中のトリフエニルホスフイン
30g及び1・2−ブチレンオキシド1mlの溶液
を、撹拌機、温度計、圧力バランスを備えた250
mlの滴下ロート及び不活性ガス導入口を備えた
1.5のスルホン化用フラスコに入れた。この容
器を全体の反応中、アルゴン通気した。上記節に
従つて製造したブロマイド溶液を約2時間にわた
つて室温で滴下した。 混合物中に最初に濁りが現われた際に、種結晶
を加えた。その際に白色のホスホニウム塩が連続
的に晶出し、混合物の温度はやや上昇した(約28
℃まで)。臭素の添加終了後、この混合物を更に
24時間撹拌し、次に生成物を窒素下で別した。
白色の結晶を酢酸エチル250mlで洗浄し、水流ポ
ンプによる減圧下にて、乾燥炉中で40℃で一定重
量になるまで乾燥した。 融点172゜〜174℃の〔(4E)−5−(4−ヒドロキ
シ−2・6・6−トリメチル−3−オキソ−1−
シクロヘキセン−1−イル)−3−メチル−2・
4−ペンタジアエル〕−トリフエニルホスホニウ
ムブロマイド54.1gが得られた。 上記のホスホニウムブロマイド69g及び2・7
−ジメチル−オクタトリエン−(2・4・6)−ジ
アール−(1・8)8.2gを、撹拌機、圧力バラン
スを備えた50mlの滴下ロート、温度計及び不活性
ガス導入口を備えた500mlのスルホン化用フラス
コ中で、撹拌し且つアルゴンを通気しながら塩化
メチレン250mlに溶解した。この溶液を連続的に
撹拌しながら氷浴によつて0゜〜5℃に冷却し、こ
の温度で90分間にわたり、ナトリウムメチレート
溶液27.6ml(ナトリウムメチレート6.48gを含
む)で滴下処理した。1時間後、冷却浴を取り除
き、この混合物を室温に更に18時間反応させた。 塩化メチレンで処理し、ヘプタン中で加熱して
異性化し、そして更に塩化メチレン及びメタノー
ルで精製した後、融点220゜〜222℃のラセミ性ア
スタキサンチン23.1gが得られた。 出発物質として用いた6−ヒドロキシ−3−
(5−ヒドロキシ−3−メチル−1・3−ペンタ
ジエニル)−2・4・4−トリメチル−2−シク
ロヘキセン−1−オンは次の如くして製造するこ
とができた。 撹拌機を備えた3の水素添加装置中で、水酸
化ナトリウム40gを水1.1に溶解し、20℃に冷
却したこの溶液を2−ヒドロキシ−3・5・5−
トリメチル−2−シクロヘキセン−1・4−ジオ
ン(2−ヒドロキシ−ケトイソホロン)168.2g
及びラネーニツケル28gで処理した。 装置内の空気を水素で置換し、はげしく撹拌し
ながら還元を始めた。4時間後または約25の水
素を吸収した後、水素の吸収は止まり、更に1時
間後、混合物から触媒を別し、水ですすいだ。
全部の液を37%塩酸90mlで酸性にし、分液ロー
ト中で、飽和塩化ナトリウム溶液及び塩化メチレ
ン間に分配した。合液した塩化メチレン抽出液を
硫酸ナトリウム上で乾燥し、浴温約50℃で水流ポ
ンプによる減圧下にて、回転蒸発機中で一定重量
になるまで蒸発させた。残渣、即ち式及びa
の2種の互変異性体形の混合物(3・4−ジヒド
ロキシ−2・6・6−トリメチル−2−シクロヘ
キセン−1−オン及び3・6−ジヒドロキシ−
2・4・4−トリメチル−2−シクロヘキセン−
1−オン)は次のアセトン化工程に直接用いるこ
とができた。 アセトン化するために、アセトン1.5中の上
記の互変異性体混合物200gを、撹拌機及び水分
離器を備え、且つ分子ふるいIG−2(4A)を充填
した乾燥塔に導入し、室温で撹拌しながら70%過
塩素酸2mlで滴下処理した。30℃で6〜7時間
後、この有機性無色の溶液に、粉末にした無水炭
酸カリウム25gを加えた。 次にこの懸濁液を、水分を排除しながら室温で
1時間撹拌し、ピリジン2mlで処理した。固体物
質をガラス吸引過器を通して別し、この過
器上をアセトン各50mlで2回、即ち総量100mlの
アセトンで洗浄した。合液した液を浴温30℃で
水流ポンプによる減圧下にて回転蒸発機中で蒸発
させた。残渣(黄色油)をn−ヘキサン600ml及
び1N炭酸ナトリウム溶液100mlで処理し、はげし
く振盪して2相に溶解し、次に全体を分液ロート
中で、ヘキサン並びに1N炭酸ナトリウム溶液及
び飽和塩化ナトリウム溶液からなる水相に分配し
た。有機相を合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、浴温40℃で水流ポンプによる減圧下にて回転
蒸発機中で約50%溶液に濃縮した。淡黄色の溶液
を、750mlスルホン化用フラスコ(撹拌機、温度
計及び塩化カルシウム管を備えた)中にて撹拌し
ながらアセトン/ドライアイス浴によつて−30℃
に冷却し、この温度で5時間放置した。冷却した
際に生成物は重い白色の結晶状で分離し始めた。 この結晶を吸引別し、紙上でn−ヘキサン
(−35℃に冷却したもの)150mlで洗浄し、次に減
圧下(0.2mmHg)で乾燥炉中にて室温で、一定重
量になるまで乾燥した。融点58゜〜59℃の生成物
202gが得られた。母液から、蒸留及び留出物の
結晶化により、更に29.6gが得られ、従つてラセ
ミ体の7・7a−ジヒドロ−2・2・4・6・6
−ペンタメチル−1・3−ベンゾジオキソール−
5(6H)−オンの総収量は231.6gであつた。 撹拌機、温度計、塩化カルシウムを詰めた管を
備えた冷却器、圧力バランスを備えた1の滴下
ロート及びアルゴンガス導入口を備えた10のス
ルホン化用フラスコ中に、マグネシウム細片60.8
g及び無水テトラヒドロフラン550mlを導入した。
次に無水テトラヒドロフラン420ml中の臭化エチ
ル226mlの溶液を、撹拌しながら50分以内に滴下
した。約1分後、強い発熱的グリニアール反応が
室温で自然に始まつた。氷浴によつて、50゜〜60
℃間の温度を保持できるように、滴下速度を調節
した。 次にこの混合物を油浴(浴温80℃)で加熱し、
90分間撹拌した。 その後、混合物の温度を連続的に撹拌しながら
40℃に調節し、次に無水テトラヒドロフラン750
ml中にトリメチル−〔(トランス−3−メチル−ペ
ント−2−エン−4−イン)−オキシ〕−シラン
(1″−ペントールシリルエーテル)500mlの溶液を
65分間にわたつて滴下した。 上記の反応条件を保持しながら、この混合物を
2.5時間放置し、次に無水テトラヒドロフラン420
ml中の前記の如くして製造したアセトニド〔ラセ
ミ体の7・7a−ジヒドロ−2・2・4・6・6
−ペンタメチル−1・3−ベンゾジオキソール−
5(6H)−オン〕210.3gの溶液を30分間にわたつ
て滴下した。 反応条件(撹拌、40℃、アルゴンガス通気)を
更に16時間保持し、次に室温に冷却した溶液に、
エーテル500mlを加えた。 この混合物を砕いた氷1000g及び96%硫酸111
mlの混合物に加え、そして1分間はげしく撹拌し
た。 有機相をエーテル並びに飽和重炭酸ナトリウム
溶液及び飽和塩化ナトリウム溶液間に分配させ
た。有機相を合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、浴温約50℃で水流ポンプによる減圧下で一定
重量になるまで、回転蒸発機中で蒸発させた。褐
色油状物として粗製の生成物420gが得られ、こ
のものをイソプロピルエーテル及びヘキサンで精
製した後、融点84゜〜86℃の淡黄色結晶状で、6
−ヒドロキシ−3−(5−ヒドロキシ−3−メチ
ル−3−ペンテン−1−インイル)−2・4・4
−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
189gを得た。 次の工程において、10のスルホン化用フラス
コ(撹拌機、温度計、塩化カルシウム管及び不活
性ガス導入装置を備えた)中の上で得られたケト
ジオール(150g)を、撹拌し且つアルゴンを通
気しながら、塩化メチレン4.5及び氷酢酸0.975
に溶解した。この溶液を0℃に冷却し、亜鉛末
75gで処理した。 アルゴン下にて0℃で撹拌しながら、3時間後
に更に亜鉛末25g、そして更に2時間後に25gを
加え、この混合物を処理した。 シンタード(sintered)グラスフイルター上
で、冷時に混合物を過し、残渣をフイルター上
で総量600mlの塩化メチレンで2回洗浄した。更
に塩化メチレンで処理し、硫酸ナトリウム上で乾
燥し、過し、一定重量になるまで50℃で蒸発さ
せた後、褐色油158.7gが得られ、このものをエ
ーテル及びヘキサンで精製した後、シス/トラン
ス異性体混合物として、6−ヒドロキシ−3−
(5−ヒドロキシ−3−メチル−1・3−ペンタ
ジエニル)−2・4・4−トリメチル−2−シク
ロヘキセン−1−オン120.6gを得た。 エーテルから結晶化させ、母液を蒸発させた
後、融点92゜〜94℃の黄色結晶状でシス異性体83
g並びに黄色油状物としてシス及びトランス異性
体(1:1)混合物35.9gが得られた。 亜鉛及び氷酢酸で還元後に得られた異性体混合
物を直接前記の如くハロゲン化及びホスホニウム
塩に転化することができた。 実施例 2 実施例1に述べた方法と同様にして、250mlの
スルホン化用フラスコ中で、6−ヒドロキシ−3
−(5−ヒドロキシ−3−メチル−1・3−ペン
タジエニル)−2・4・4−トリメチル−2−シ
クロヘキセン−1−オン10gを塩化メチレン60ml
中で37%塩酸16mlと反応させて、対応するクロラ
イドが得られ、このものをトリフエニルホスフイ
ンと反応させて〔(4E)−5−(4−ヒドロキシ−
2・6・6−トリメチル−3−オキソ−1−シク
ロヘキセン−1−イル)−3−メチル−2・4−
ペンタジエニル〕−トリフエニルホスホニウムク
ロライド(融点184゜〜186℃)が得られ、後者を
また実施例1に述べた方法と同様にして、2・7
−ジメチル−オクタトリエン−(2・4・6)−ジ
アール−(1・8)と反応させてラセミ性アスタ
キサンチンを生成させた。 実施例 3 実施例1及び2に述べた方法と同様にして、
〔(4E)−5−(4−ヒドロキシ−2・6・6−ト
リメチル−3−オキソ−1−シクロヘキセン−1
−イル)−3−メチル−2・4−ペンタジエニル〕
−トリフエニルホスホニウムアイオダイド(融点
196゜〜198℃)を経てラセミ体のアスタキサンチ
ンが得られた。 実施例 4 7・7a−ジヒドロ−2・2・4・6・6−ペ
ンタメチル−1・3−ベンゾジオキソール−5−
(6H)−オンのアルキニル化に対して実施例1に
用いたシリルエーテルの代りに、またアセトンメ
チル−3−メチル−2−ペンテン−4−インイル
アセタール(1″−ペントール及びイソプロペニル
メチルエーテルから製造)を用いることができ
た。 実施例 5 また3・4−ジヒドロキシ−2・5・6−トリ
メチル−2−シクロヘキセン−1−オンにおける
ヒドロキシ基の保護は次の如く二量体化によつて
行うことができる: 式及びaの互変異性体混合物120gをトル
エン1.4に溶解し、撹拌機、温度計、水分離器
及び不活性ガス導入口を備えた2のスルホン化
用フラスコ中にて、70%過塩素酸7mlで処理し
た。 撹拌し且つ窒素通気しながら、この混合物を、
ガスクロマトグラフ分析によつてもはや出発物質
が検出できなくなるまで、還流下(水分離器)で
約5時間沸騰させた。撹拌及び不活性ガスを通し
ながら、この混合物を室温に冷却し、28%水酸化
ナトリウム12mlによつてややアルカリ性にした。
この混合物を3の分液ロートに入れ、総量600
mlの水で2回洗浄し、最後に、浴温60℃で水流ポ
ンプによる減圧下で一定重量になるまで回転蒸発
機中で蒸発させた。黄−褐色の粘性残渣を加温し
ながらアセトン300mlに溶解し、次にこの溶液を
撹拌しながら氷浴中に0℃に冷却した。これによ
つて生成物が速かに晶出し始めた。これを冷蔵庫
中に一夜放置し、次に結晶を吸引別した。結晶
をフイルター上で総量50mlのアセトン(0℃に冷
却したもの)で2回洗浄し、次に水流ポンプによ
る減圧下で50℃で、一定重量になるまで乾燥炉中
にて乾燥した。母液を処理した後、融点206゜〜
209℃の結晶状で出発物質の二量体エーテル83.8
gを得た。 このものをシリルエーテルでアルキニル化し、
更に実施例1に述べた方法と同様にして処理する
ことができた。 実施例 6 光学的に活性なポリエン誘導体、特にアスタキ
サンチンの2種の光学的対掌体を製造するため
に、ラセミ体の3・4−ジヒドロキシ−2・6・
6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
を次の方法(a)及び(b)に従つて分割した: (a) 3・4−ジヒドロキシ−2・6・6−トリメ
チル−2−シクロヘキセン−1−オン(実施例
1に従つて得られた互変異性体混合物形)40g
を無水エーテル250ml及び無水メタノール50ml
に溶解した。無水エーテル25ml中の(R)−
(+)−1−フエニルエチルアミン28.7gの溶液
を撹拌しながら20分以内に滴下した。こうして
油が徐々に分離し、温度が26℃に上昇した。 この混合物を更に16時間撹拌した。この間に
分離した油は消失し、黄色の軽い粉末の懸濁液
を生じた。このものを無水エーテル各150mlで
4回十分に洗浄し、これによつて最初ねばつく
過残渣は徐々に固体になつた。過残渣を回
転蒸発機中にて70℃で酢酸エチル400mlに溶解
し、種結晶を入れ、加熱浴を除去して回転蒸発
機中に一夜放置した。無色の晶出物を別し、
酢酸エチル各100mlで3回洗浄した。過残渣
を真空乾燥炉中にて50℃で一夜乾燥した。脱イ
オン水100ml及び塩化メチレン100mlに溶解した
上で得られたジアステレオマー塩14.57gを500
mlの分液ロートに導入した。3N硫酸20mlの添
加後、この混合物を1分間はげしく撹拌した。
分離した水相を塩化メチレン各100mlで2回逆
抽出した。合液した塩化メチレン相を飽和塩化
ナトリウム溶液25mlで洗浄し、硫酸ナトリウム
20g上で乾燥し、過し、乾燥剤をフイルター
上で塩化メチレン各50mlで2回すすいだ。液
を浴温40℃で回転蒸発機中にて一定重量になる
まで蒸発させた。 かくして得られた(3S)−ケトジオール
〔〔α〕D=−27.2゜(メタノール中0.59%)〕はラセ
ミ性ケトジオールに対して実施例1に述べた方
法と同様にして更に処理し、(3S・3′S)−アス
タキサンチン(サケに天然に存在する)を得
た。 (b) 3・4−ジヒドロ−2・6・6−トリメチル
−2−シクロヘキセン−1−オン(実施例1に
従つて得られた互変異性体混合物状)40gを無
水エーテル250ml及び無水メタノール50mlに溶
解した。上記の(a)部に述べた方法と同様にして
更に処理し、(3R)−ケトジオール〔〔α〕D=+
29.5゜(メタノール中1%)〕が得られ、このも
のを実施例1に述べた方法と同様にして
(3R・3′R)−アスタキサンチン(酵母中に天然
に存在する)に転化することができた。 実施例 7 脱イオン水4.5、圧搾酵母500g、砂糖250g、
2−ヒドロキシ−3・5・5−トリメチル−2−
シクロヘキセン−1・4−ジオン10g及び発泡防
止剤(ポリプロピレングリコールモノブチルエー
テル)1gからなる発酵液(fermentation
broth)も、表面に通気し(240/時)且つ撹拌
(900rpm)しながら、発酵器中にて30℃で培養し
た。発酵を4日及び5日間行つた後、それぞれ砂
糖100gを加えた。 7日間発酵を行つた後、発酵液を塩化ナトリウ
ムで飽和し、ジエチルエーテルで連続的に抽出し
た。エーテルを蒸発させた後、粗製の抽出物が得
られ、このものは2種の互変異性体発酵生成物、
(−)−(S)−3・4−ジヒドロキシ−2・6・6
−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン及
び(−)−(S)−3・6−ヒドロキシ−2・4・
4−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
を含んでいた。 実施例1に述べた方法と同様にしてアセトン化
し、(7aS)−7・7a−ジヒドロ−2・2・4・
6・6−ペンタメチル−1・3−ベンゾジオキソ
ール−5(6H)−オン〔融点79゜〜80℃;〔α〕D=
+105゜(c=0.102%、ジオキサン中〕が得られ、
このものを実施例1に述べた方法と同様にして
(3S・3′S)−アスタキサンチンに転化した。
表わす、 の3−メチルペンテニン−(1または3)−オール
のシリルエーテルによつて、或いはアセトン3−
メチル−2−ペンテン−4−インイルアセタール
またはtert−ブチル3−メチル−2−ペンテン−
4−インイルエーテルによつて、即ち、かかるア
ルキニル化に対してそれ自体公知の条件下で行う
ことができる。 アルキニル化、脱水及び保護基の離脱後に得ら
れる式のアセチレンジオールを、次の工程で還
元して式のジオールを生成させる。 この部分的還元は亜鉛及び氷酢酸を用いて有利
に行われる。 部分的還元に対する溶媒として、適当な有機溶
媒、例えば塩化メチレンの如き塩素化された炭化
水素を用いることができるが、しかしながら或い
は試薬として用いる氷酢酸を用いることができ
る。 好ましくは塩化メチレン/氷酢酸中のアセチレ
ンジオールの約2%溶液を用い、前者は約1:2
〜1:2.5の比で用いられる。亜鉛は出発物質1
モル当り約1〜3g原子、好ましくは2.5g原子
の量で有利に用いられる。 部分的還元は約−20℃乃至ほぼ室温間の温度で
行うことができる。この部分的還元は好ましくは
約0℃で行われる。 次に生じる式の化合物を前記の方法におい
て、式のホスホニウム塩を経てアスタキサンチ
ンに転化することができる。 光学的に活性なポリエン化合物を製造するため
に、式のラセミ体のジオールを分割用塩基
(resolving base)によつて光学的に活性な形に
変え、この光学的に活性な形を更に工程(→
→→→→アスタキサンチン)に付す。 分割用塩基として有利にはα−フエニルエチル
アミン、即ち(S)−(−)−α−フエニルエチル
アミンまたは(R)−(+)−α−フエニルエチル
アミンが用いられる。 しかしながらまた、サケに存在する天然のアス
タキサンチンを製造する際に必要な式 の光学的に活性な化合物は、式の化合物を酵母
(例えば圧搾酵母)で発酵的に還元して得ること
ができ、式aの化合物に対応して、光学的に活
性な形における式及びaの2種の互変異性ジ
オールの混合物が得られる。次にこの混合物を、
式及びaのジオール混合物のアセトン化に関
してすでに述べた方法でアセトン化し、式aの
光学的に活性な化合物が得られ、次にこのものを
対応する式、及びの光学的活性形を経て、
サケに存在する天然の光学的に活性なアスタキサ
ンチンに転化する。 以下の実施例は本発明をさらに説明するもので
ある。 実施例 1 塩化メチレン150ml中の6−ヒドロキシ−3−
(5−ヒドロキシ−3−メチル−1・3−ペンタ
ジエニル)−2・4・4−トリメチル−2−シク
ロヘキセン−1−オン25gの溶液を、撹拌機、圧
力バランスを備えた50mlの滴下ロート、温度計及
び不活性ガス導入装置を備えた200mlのスルホン
化用フラスコに導入した。得られた溶液をアルゴ
ン雰囲気下にて氷浴により0゜〜5℃に冷却し、次
に処理するまで、この温度範囲に保持した。上記
温度範囲に保持しながらできるだけ速かに、臭化
水素溶液(63%水溶液)30mlを滴下した。この混
合物を更に5分間撹拌し、1の分液ロート中の
10%塩化ナトリウム溶液100ml中に注いだ。更に
分液ロートに酢酸エチル400mlを加え、次にこの
混合物を十分に振盪した。底部の水相を分離し、
そしてすてた。有機相を総量200mlの5%重炭酸
ナトリウム溶液で2回洗浄した。洗液はすてた。
有機相を1・2−ブチレンオキシド1mlで処理
し、無水硫酸ナトリウム50g上で乾燥し、そして
過した。紙上の乾燥剤を酢酸エチル100mlで
すすぎ、このブロマイド溶液を浴温30℃で水流ポ
ンプによる減圧下で回転発機中で約250mlに濃縮
した。回転蒸発機中の減圧を窒素によつて保持
し、得られた黄色の濃縮物を直ちにホスホニウム
塩の製造に用いた。 酢酸エチル250ml中のトリフエニルホスフイン
30g及び1・2−ブチレンオキシド1mlの溶液
を、撹拌機、温度計、圧力バランスを備えた250
mlの滴下ロート及び不活性ガス導入口を備えた
1.5のスルホン化用フラスコに入れた。この容
器を全体の反応中、アルゴン通気した。上記節に
従つて製造したブロマイド溶液を約2時間にわた
つて室温で滴下した。 混合物中に最初に濁りが現われた際に、種結晶
を加えた。その際に白色のホスホニウム塩が連続
的に晶出し、混合物の温度はやや上昇した(約28
℃まで)。臭素の添加終了後、この混合物を更に
24時間撹拌し、次に生成物を窒素下で別した。
白色の結晶を酢酸エチル250mlで洗浄し、水流ポ
ンプによる減圧下にて、乾燥炉中で40℃で一定重
量になるまで乾燥した。 融点172゜〜174℃の〔(4E)−5−(4−ヒドロキ
シ−2・6・6−トリメチル−3−オキソ−1−
シクロヘキセン−1−イル)−3−メチル−2・
4−ペンタジアエル〕−トリフエニルホスホニウ
ムブロマイド54.1gが得られた。 上記のホスホニウムブロマイド69g及び2・7
−ジメチル−オクタトリエン−(2・4・6)−ジ
アール−(1・8)8.2gを、撹拌機、圧力バラン
スを備えた50mlの滴下ロート、温度計及び不活性
ガス導入口を備えた500mlのスルホン化用フラス
コ中で、撹拌し且つアルゴンを通気しながら塩化
メチレン250mlに溶解した。この溶液を連続的に
撹拌しながら氷浴によつて0゜〜5℃に冷却し、こ
の温度で90分間にわたり、ナトリウムメチレート
溶液27.6ml(ナトリウムメチレート6.48gを含
む)で滴下処理した。1時間後、冷却浴を取り除
き、この混合物を室温に更に18時間反応させた。 塩化メチレンで処理し、ヘプタン中で加熱して
異性化し、そして更に塩化メチレン及びメタノー
ルで精製した後、融点220゜〜222℃のラセミ性ア
スタキサンチン23.1gが得られた。 出発物質として用いた6−ヒドロキシ−3−
(5−ヒドロキシ−3−メチル−1・3−ペンタ
ジエニル)−2・4・4−トリメチル−2−シク
ロヘキセン−1−オンは次の如くして製造するこ
とができた。 撹拌機を備えた3の水素添加装置中で、水酸
化ナトリウム40gを水1.1に溶解し、20℃に冷
却したこの溶液を2−ヒドロキシ−3・5・5−
トリメチル−2−シクロヘキセン−1・4−ジオ
ン(2−ヒドロキシ−ケトイソホロン)168.2g
及びラネーニツケル28gで処理した。 装置内の空気を水素で置換し、はげしく撹拌し
ながら還元を始めた。4時間後または約25の水
素を吸収した後、水素の吸収は止まり、更に1時
間後、混合物から触媒を別し、水ですすいだ。
全部の液を37%塩酸90mlで酸性にし、分液ロー
ト中で、飽和塩化ナトリウム溶液及び塩化メチレ
ン間に分配した。合液した塩化メチレン抽出液を
硫酸ナトリウム上で乾燥し、浴温約50℃で水流ポ
ンプによる減圧下にて、回転蒸発機中で一定重量
になるまで蒸発させた。残渣、即ち式及びa
の2種の互変異性体形の混合物(3・4−ジヒド
ロキシ−2・6・6−トリメチル−2−シクロヘ
キセン−1−オン及び3・6−ジヒドロキシ−
2・4・4−トリメチル−2−シクロヘキセン−
1−オン)は次のアセトン化工程に直接用いるこ
とができた。 アセトン化するために、アセトン1.5中の上
記の互変異性体混合物200gを、撹拌機及び水分
離器を備え、且つ分子ふるいIG−2(4A)を充填
した乾燥塔に導入し、室温で撹拌しながら70%過
塩素酸2mlで滴下処理した。30℃で6〜7時間
後、この有機性無色の溶液に、粉末にした無水炭
酸カリウム25gを加えた。 次にこの懸濁液を、水分を排除しながら室温で
1時間撹拌し、ピリジン2mlで処理した。固体物
質をガラス吸引過器を通して別し、この過
器上をアセトン各50mlで2回、即ち総量100mlの
アセトンで洗浄した。合液した液を浴温30℃で
水流ポンプによる減圧下にて回転蒸発機中で蒸発
させた。残渣(黄色油)をn−ヘキサン600ml及
び1N炭酸ナトリウム溶液100mlで処理し、はげし
く振盪して2相に溶解し、次に全体を分液ロート
中で、ヘキサン並びに1N炭酸ナトリウム溶液及
び飽和塩化ナトリウム溶液からなる水相に分配し
た。有機相を合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、浴温40℃で水流ポンプによる減圧下にて回転
蒸発機中で約50%溶液に濃縮した。淡黄色の溶液
を、750mlスルホン化用フラスコ(撹拌機、温度
計及び塩化カルシウム管を備えた)中にて撹拌し
ながらアセトン/ドライアイス浴によつて−30℃
に冷却し、この温度で5時間放置した。冷却した
際に生成物は重い白色の結晶状で分離し始めた。 この結晶を吸引別し、紙上でn−ヘキサン
(−35℃に冷却したもの)150mlで洗浄し、次に減
圧下(0.2mmHg)で乾燥炉中にて室温で、一定重
量になるまで乾燥した。融点58゜〜59℃の生成物
202gが得られた。母液から、蒸留及び留出物の
結晶化により、更に29.6gが得られ、従つてラセ
ミ体の7・7a−ジヒドロ−2・2・4・6・6
−ペンタメチル−1・3−ベンゾジオキソール−
5(6H)−オンの総収量は231.6gであつた。 撹拌機、温度計、塩化カルシウムを詰めた管を
備えた冷却器、圧力バランスを備えた1の滴下
ロート及びアルゴンガス導入口を備えた10のス
ルホン化用フラスコ中に、マグネシウム細片60.8
g及び無水テトラヒドロフラン550mlを導入した。
次に無水テトラヒドロフラン420ml中の臭化エチ
ル226mlの溶液を、撹拌しながら50分以内に滴下
した。約1分後、強い発熱的グリニアール反応が
室温で自然に始まつた。氷浴によつて、50゜〜60
℃間の温度を保持できるように、滴下速度を調節
した。 次にこの混合物を油浴(浴温80℃)で加熱し、
90分間撹拌した。 その後、混合物の温度を連続的に撹拌しながら
40℃に調節し、次に無水テトラヒドロフラン750
ml中にトリメチル−〔(トランス−3−メチル−ペ
ント−2−エン−4−イン)−オキシ〕−シラン
(1″−ペントールシリルエーテル)500mlの溶液を
65分間にわたつて滴下した。 上記の反応条件を保持しながら、この混合物を
2.5時間放置し、次に無水テトラヒドロフラン420
ml中の前記の如くして製造したアセトニド〔ラセ
ミ体の7・7a−ジヒドロ−2・2・4・6・6
−ペンタメチル−1・3−ベンゾジオキソール−
5(6H)−オン〕210.3gの溶液を30分間にわたつ
て滴下した。 反応条件(撹拌、40℃、アルゴンガス通気)を
更に16時間保持し、次に室温に冷却した溶液に、
エーテル500mlを加えた。 この混合物を砕いた氷1000g及び96%硫酸111
mlの混合物に加え、そして1分間はげしく撹拌し
た。 有機相をエーテル並びに飽和重炭酸ナトリウム
溶液及び飽和塩化ナトリウム溶液間に分配させ
た。有機相を合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、浴温約50℃で水流ポンプによる減圧下で一定
重量になるまで、回転蒸発機中で蒸発させた。褐
色油状物として粗製の生成物420gが得られ、こ
のものをイソプロピルエーテル及びヘキサンで精
製した後、融点84゜〜86℃の淡黄色結晶状で、6
−ヒドロキシ−3−(5−ヒドロキシ−3−メチ
ル−3−ペンテン−1−インイル)−2・4・4
−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
189gを得た。 次の工程において、10のスルホン化用フラス
コ(撹拌機、温度計、塩化カルシウム管及び不活
性ガス導入装置を備えた)中の上で得られたケト
ジオール(150g)を、撹拌し且つアルゴンを通
気しながら、塩化メチレン4.5及び氷酢酸0.975
に溶解した。この溶液を0℃に冷却し、亜鉛末
75gで処理した。 アルゴン下にて0℃で撹拌しながら、3時間後
に更に亜鉛末25g、そして更に2時間後に25gを
加え、この混合物を処理した。 シンタード(sintered)グラスフイルター上
で、冷時に混合物を過し、残渣をフイルター上
で総量600mlの塩化メチレンで2回洗浄した。更
に塩化メチレンで処理し、硫酸ナトリウム上で乾
燥し、過し、一定重量になるまで50℃で蒸発さ
せた後、褐色油158.7gが得られ、このものをエ
ーテル及びヘキサンで精製した後、シス/トラン
ス異性体混合物として、6−ヒドロキシ−3−
(5−ヒドロキシ−3−メチル−1・3−ペンタ
ジエニル)−2・4・4−トリメチル−2−シク
ロヘキセン−1−オン120.6gを得た。 エーテルから結晶化させ、母液を蒸発させた
後、融点92゜〜94℃の黄色結晶状でシス異性体83
g並びに黄色油状物としてシス及びトランス異性
体(1:1)混合物35.9gが得られた。 亜鉛及び氷酢酸で還元後に得られた異性体混合
物を直接前記の如くハロゲン化及びホスホニウム
塩に転化することができた。 実施例 2 実施例1に述べた方法と同様にして、250mlの
スルホン化用フラスコ中で、6−ヒドロキシ−3
−(5−ヒドロキシ−3−メチル−1・3−ペン
タジエニル)−2・4・4−トリメチル−2−シ
クロヘキセン−1−オン10gを塩化メチレン60ml
中で37%塩酸16mlと反応させて、対応するクロラ
イドが得られ、このものをトリフエニルホスフイ
ンと反応させて〔(4E)−5−(4−ヒドロキシ−
2・6・6−トリメチル−3−オキソ−1−シク
ロヘキセン−1−イル)−3−メチル−2・4−
ペンタジエニル〕−トリフエニルホスホニウムク
ロライド(融点184゜〜186℃)が得られ、後者を
また実施例1に述べた方法と同様にして、2・7
−ジメチル−オクタトリエン−(2・4・6)−ジ
アール−(1・8)と反応させてラセミ性アスタ
キサンチンを生成させた。 実施例 3 実施例1及び2に述べた方法と同様にして、
〔(4E)−5−(4−ヒドロキシ−2・6・6−ト
リメチル−3−オキソ−1−シクロヘキセン−1
−イル)−3−メチル−2・4−ペンタジエニル〕
−トリフエニルホスホニウムアイオダイド(融点
196゜〜198℃)を経てラセミ体のアスタキサンチ
ンが得られた。 実施例 4 7・7a−ジヒドロ−2・2・4・6・6−ペ
ンタメチル−1・3−ベンゾジオキソール−5−
(6H)−オンのアルキニル化に対して実施例1に
用いたシリルエーテルの代りに、またアセトンメ
チル−3−メチル−2−ペンテン−4−インイル
アセタール(1″−ペントール及びイソプロペニル
メチルエーテルから製造)を用いることができ
た。 実施例 5 また3・4−ジヒドロキシ−2・5・6−トリ
メチル−2−シクロヘキセン−1−オンにおける
ヒドロキシ基の保護は次の如く二量体化によつて
行うことができる: 式及びaの互変異性体混合物120gをトル
エン1.4に溶解し、撹拌機、温度計、水分離器
及び不活性ガス導入口を備えた2のスルホン化
用フラスコ中にて、70%過塩素酸7mlで処理し
た。 撹拌し且つ窒素通気しながら、この混合物を、
ガスクロマトグラフ分析によつてもはや出発物質
が検出できなくなるまで、還流下(水分離器)で
約5時間沸騰させた。撹拌及び不活性ガスを通し
ながら、この混合物を室温に冷却し、28%水酸化
ナトリウム12mlによつてややアルカリ性にした。
この混合物を3の分液ロートに入れ、総量600
mlの水で2回洗浄し、最後に、浴温60℃で水流ポ
ンプによる減圧下で一定重量になるまで回転蒸発
機中で蒸発させた。黄−褐色の粘性残渣を加温し
ながらアセトン300mlに溶解し、次にこの溶液を
撹拌しながら氷浴中に0℃に冷却した。これによ
つて生成物が速かに晶出し始めた。これを冷蔵庫
中に一夜放置し、次に結晶を吸引別した。結晶
をフイルター上で総量50mlのアセトン(0℃に冷
却したもの)で2回洗浄し、次に水流ポンプによ
る減圧下で50℃で、一定重量になるまで乾燥炉中
にて乾燥した。母液を処理した後、融点206゜〜
209℃の結晶状で出発物質の二量体エーテル83.8
gを得た。 このものをシリルエーテルでアルキニル化し、
更に実施例1に述べた方法と同様にして処理する
ことができた。 実施例 6 光学的に活性なポリエン誘導体、特にアスタキ
サンチンの2種の光学的対掌体を製造するため
に、ラセミ体の3・4−ジヒドロキシ−2・6・
6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
を次の方法(a)及び(b)に従つて分割した: (a) 3・4−ジヒドロキシ−2・6・6−トリメ
チル−2−シクロヘキセン−1−オン(実施例
1に従つて得られた互変異性体混合物形)40g
を無水エーテル250ml及び無水メタノール50ml
に溶解した。無水エーテル25ml中の(R)−
(+)−1−フエニルエチルアミン28.7gの溶液
を撹拌しながら20分以内に滴下した。こうして
油が徐々に分離し、温度が26℃に上昇した。 この混合物を更に16時間撹拌した。この間に
分離した油は消失し、黄色の軽い粉末の懸濁液
を生じた。このものを無水エーテル各150mlで
4回十分に洗浄し、これによつて最初ねばつく
過残渣は徐々に固体になつた。過残渣を回
転蒸発機中にて70℃で酢酸エチル400mlに溶解
し、種結晶を入れ、加熱浴を除去して回転蒸発
機中に一夜放置した。無色の晶出物を別し、
酢酸エチル各100mlで3回洗浄した。過残渣
を真空乾燥炉中にて50℃で一夜乾燥した。脱イ
オン水100ml及び塩化メチレン100mlに溶解した
上で得られたジアステレオマー塩14.57gを500
mlの分液ロートに導入した。3N硫酸20mlの添
加後、この混合物を1分間はげしく撹拌した。
分離した水相を塩化メチレン各100mlで2回逆
抽出した。合液した塩化メチレン相を飽和塩化
ナトリウム溶液25mlで洗浄し、硫酸ナトリウム
20g上で乾燥し、過し、乾燥剤をフイルター
上で塩化メチレン各50mlで2回すすいだ。液
を浴温40℃で回転蒸発機中にて一定重量になる
まで蒸発させた。 かくして得られた(3S)−ケトジオール
〔〔α〕D=−27.2゜(メタノール中0.59%)〕はラセ
ミ性ケトジオールに対して実施例1に述べた方
法と同様にして更に処理し、(3S・3′S)−アス
タキサンチン(サケに天然に存在する)を得
た。 (b) 3・4−ジヒドロ−2・6・6−トリメチル
−2−シクロヘキセン−1−オン(実施例1に
従つて得られた互変異性体混合物状)40gを無
水エーテル250ml及び無水メタノール50mlに溶
解した。上記の(a)部に述べた方法と同様にして
更に処理し、(3R)−ケトジオール〔〔α〕D=+
29.5゜(メタノール中1%)〕が得られ、このも
のを実施例1に述べた方法と同様にして
(3R・3′R)−アスタキサンチン(酵母中に天然
に存在する)に転化することができた。 実施例 7 脱イオン水4.5、圧搾酵母500g、砂糖250g、
2−ヒドロキシ−3・5・5−トリメチル−2−
シクロヘキセン−1・4−ジオン10g及び発泡防
止剤(ポリプロピレングリコールモノブチルエー
テル)1gからなる発酵液(fermentation
broth)も、表面に通気し(240/時)且つ撹拌
(900rpm)しながら、発酵器中にて30℃で培養し
た。発酵を4日及び5日間行つた後、それぞれ砂
糖100gを加えた。 7日間発酵を行つた後、発酵液を塩化ナトリウ
ムで飽和し、ジエチルエーテルで連続的に抽出し
た。エーテルを蒸発させた後、粗製の抽出物が得
られ、このものは2種の互変異性体発酵生成物、
(−)−(S)−3・4−ジヒドロキシ−2・6・6
−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン及
び(−)−(S)−3・6−ヒドロキシ−2・4・
4−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
を含んでいた。 実施例1に述べた方法と同様にしてアセトン化
し、(7aS)−7・7a−ジヒドロ−2・2・4・
6・6−ペンタメチル−1・3−ベンゾジオキソ
ール−5(6H)−オン〔融点79゜〜80℃;〔α〕D=
+105゜(c=0.102%、ジオキサン中〕が得られ、
このものを実施例1に述べた方法と同様にして
(3S・3′S)−アスタキサンチンに転化した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 のラセミ体のまたは光学的に活性なジオールをハ
ロゲン化し、得られるハライドをトリアリールホ
スフインと反応させ、そして生じる一般式 式中、Xはアリール基を表わし、そしてYはハ
ロゲンを表わす、 のホスホニウム塩を式 のジアルデヒドと縮合させることを特徴とするラ
セミ体のまたは光学的に活性な式 のアスタキサンチンの製造方法。 2 式のジオールを臭素化またはヨウ素化する
特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 式 の2−ヒドロキシケトイソホロンを還元して式 のジオールを生成させ、該式のジオールにおけ
る遊離のホドロキシ基を適宜保護されたヒドロキ
シ基に変え、得られる生成物をアルキニル化して
式 のラセミ体のまたは光学的に活性なアセチレンジ
オールに転化し、該アセチレンジオールを部分的
に還元し、得られる式 のラセミ体のまたは光学的に活性なジオールをハ
ロゲン化し、得られるハライドをトリアリールホ
スフインと反応させ、そして生じる一般式 式中、Xはアリール基を表わし、そしてYはハ
ロゲンを表わす、 のホスホニウム塩を式 のジアルデヒドと縮合させることを特徴とするラ
セミ体のまたは光学的に活性な式 のアスタキサンチンの製造方法。 4 式のジオールを臭素化またはヨウ素化する
特許請求の範囲第3項記載の方法。 5 式の2−ヒドロキシケトイソホロンの還元
を、対応するアルカリ金属塩をラネーニツケルで
処理することにより行う特許請求の範囲第3項記
載の方法。 6 式のジオールにおける遊離のヒドロキシ基
をアセトン化によつて保護されたヒドロキシ基に
転化する特許請求の範囲第3〜5項のいずれかに
記載の方法。 7 該アセトン化を、アセトン、2・2−ジメト
キシプロパンまたはイソプロペニルアルキルエー
テルを用いて行う特許請求の範囲第6項記載の方
法。 8 該イソプロペニルアルキルエーテルとしてイ
ソプロペニルメチルエーテルを用いる特許請求の
範囲第7項記載の方法。 9 式のジオールにおける遊離のヒドロキシ基
をジオールの二量体化によつて保護されたヒドロ
キシ基に変える特許請求の範囲第3〜5項のいず
れかに記載の方法。 10 該アルキニル化を、3−メチル−ペンテニ
ン−(1または3)−オールのシリルエーテルを用
いて、アセトン3−メチル−2−ペンテン−4−
インイルアセタールを用いて、或いはtert−ブチ
ル3−メチル−2−ペンテン−4−インイルエー
テルを用いて行う特許請求の範囲第3〜9項のい
ずれかに記載の方法。 11 式のジオールの部分的還元を亜鉛及び氷
酢酸を用いて行う特許請求の範囲第3〜8項のい
ずれかに記載の方法。 12 式のラセミ体のジオールを分割用塩基に
よつて光学的に活性な形に分割し、そして更に本
方法の工程に付すことからなる、光学的に活性な
アスタキサンチンを製造するための特許請求の範
囲第3〜11項のいずれかに記載の方法。 13 該分割用塩基としてα−フエニルエチルア
ミンを用いる特許請求の範囲第11項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH607478 | 1978-06-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55389A JPS55389A (en) | 1980-01-05 |
| JPS63420B2 true JPS63420B2 (ja) | 1988-01-07 |
Family
ID=4303824
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6758179A Granted JPS55389A (en) | 1978-06-02 | 1979-06-01 | Cyclohexene derivative |
| JP15357187A Granted JPS62294635A (ja) | 1978-06-02 | 1987-06-22 | シクロヘキセン誘導体 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15357187A Granted JPS62294635A (ja) | 1978-06-02 | 1987-06-22 | シクロヘキセン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS55389A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6440127U (ja) * | 1987-09-07 | 1989-03-09 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3402732A1 (de) * | 1984-01-27 | 1985-08-01 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung ungesaettigter ketone |
| CN104394988A (zh) * | 2012-06-22 | 2015-03-04 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 新催化体系 |
| JP2017524716A (ja) * | 2014-08-12 | 2017-08-31 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 環状α−ケトエノールから環状α−ケトアルコールを製造する方法 |
-
1979
- 1979-06-01 JP JP6758179A patent/JPS55389A/ja active Granted
-
1987
- 1987-06-22 JP JP15357187A patent/JPS62294635A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6440127U (ja) * | 1987-09-07 | 1989-03-09 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55389A (en) | 1980-01-05 |
| JPH0142957B2 (ja) | 1989-09-18 |
| JPS62294635A (ja) | 1987-12-22 |
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