JPS6344314A - 層間組成変移帯域を有する磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は磁気記録に関する各種媒体、例えば磁気テープ
、磁気ディスク、７０ツピーデイスク等の磁気記録媒体
に関する。

【従来の技術】

磁気記録に於いて、その記録の高密度化が要求されるに
伴い、磁性層はバイング中に磁性粉をｊう濁させた磁性
塗料を塗布して磁性粉が離散状態にある離散型磁性層か
ら、磁性体を稠密に充填でさる真空蒸着法、スパッタリ
ング法で磁性体を基板等の基面−ｈに連続的に或は断続
して成艮１１１積させる堆積型磁性層に移り、更に従来
の水射記録方式から飛躍的に高密化が図れる垂直記録方
式が着目され、実用化の段階に至った。 磁気記録の萌記一般的傾向は磁気ディスク分野に於いて
も反映されている。即ち３．５〜５インチディスク等の
小型高密度装置が開発されて小径のディスクが用いられ
るに及び、該小径ディスクと磁気ヘッド間の相対速度の
低下による再生出方、Ｓ／Ｎ比の劣化を出力の大きい高
密度化磁性層に換えることにより補償することが計られ
ている。 前記磁性層は高密度化を狙う限り堆積型であることが必
須となるが真空蒸着或はスパッタリングで形成された磁
性層は、磁性体の柱状もしくは凡状結品のｍｌ集した形
状を有し、該柱、塊状のｊｌｔ　ｌｉ′Ｌ結晶の大ささ
、単位結晶間のフレパス状間隙の大小、形状は気相堆積
条件によって様々に変化する。 従ってこのような形状を有する磁性層は、保：／１層を
設けることが必要となる。 この堆積型磁性膜は、従来の塗布膜のように合成樹脂な
どのバインダを含む離散型磁性膜に比して磁性特性がよ
く、製造工程も簡単になる。また記録審度も向上し高蜜
度媒体として優れた特性を（ｆするものが得られており
、特にコバルト・ニッケル系合金膜は材質的にも硬く、
磁気記録媒体として非常に良好なものとして評価されて
いる。 前記したような磁気記録媒体の機能拡張、性能アップの
技術努力は素材、添加剤の広汎に亘る検討と同時に媒体
層構成にも及び、前記保護層に例をみるように、従来の
単純な磁性層単層では到底対処できず、保、ＪＷｉ、防
錆層、潤滑層更に磁化補助層等複雑化した層構成を有す
る媒体の例が知られている。 層構成がｉ層化されるに従い層間波及効果、層境界効果
にも着目され、例えばクロム層を下地として有するコバ
ルト・ニッケル磁性層の磁気特性発現についてはクロム
層の結晶配向或はその厚さにその促進因子を蔵すると唱
えられ、逆に抑制因子としては腹りａム層表皮の酸化に
求められる等理論的考察がなされると同時に実質的に現
象論的探索が什なわれ、非磁性基板」ユに２層以上の気
相堆積層を有する磁気記録媒体、特に該基板上に非磁性
下地層を１１する磁性層を設ける層Ｉ３成を探った媒体
の抗磁力や角型比（残留磁化／飽和磁化）の向上につい
て種々の努力が沸われ、その結果方法論としては、スパ
ッタ法、真空蒸着法等の気相堆積法によって０．２〜０
．５μｌのクロム層を形成し、部層に密着して０．１μ
ｌ程度のコバルト系磁性層を堆積されると好ましい結果
を与えることが知られているが、そのｌｌｌ！！論構成
は未だ不光分であり、また最適化条件に対する試行錯誤
の積重ねも不足している。

【発明の目的】

本発明の目的は、磁気特性に於いて再現性のよい最適化
抗磁力、高角型比を有し、面内磁気異カ性のない磁気記
録媒体を提供することである。 尚、前記最適化抗磁力として４００〜１００００　ｅ、
高角型比として０．７５〜０．９８を指向する。

【発明の構成１ 前記した本発明の目的は、非磁性基板上に磁性層を含み
互いに組成を異にする２層以上のｌ＋Ｍ成層を有する磁
気記録媒体に於いて、前記構成層間の厚み方向に１００
〜１００ＯＡの訊構成層組成相互の変移帯域を設けたこ
とを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。 尚本発明の態様は、各構成層用の塗料を調合し；’ｉ　
ａ　ｙｅｔの塗布によって屑を構成してもよいが、気相
ｔｊｋ積によるＷｉｌ＋１１戊の方が、効果として優れ
ており生産性が高く好ましい。 本発明に謂う構成層組成相互の変移帯域とは、第１図に
示す如く組成Ａから成るＡ層と組成りからなるＢＷＩの
積層された２層間の境界に介在し、Ｉｔ成ΔとＢの含有
比率が相互に逓減、逓増して入換わる頭載であり、更に
定量的には面方向に薄層に削り取って組成を求める表面
分析（オージェ電子分光分析）法によってえられる組成
含有比率が、へ組成９０ｗ　Ｌ％、Ｂ　Ｊｒｌ成１０ｗ
ｔ％からＡ　ＩＬ　ｊ＆１０ＩＩ！ｔ％、ＢＡｌｌ成９
０ｗｔ％へ互いに遷移する範囲であって、第１図のＡ−
ＢＫ！Ｉである。 この場合の組成含有比率は着目する特性に関与する必須
成分量についての比率であって、比率計算からはコンタ
ミネーション成分量は除かれる。 前記変移（ｉ？域を含むｆＯ，界層の（Ｉが造には、塗
料を塗布する積層法にあっては、Ａ、Ｂ［成比率を類大
変えた塗料の芝屑塗布によって形成するが、或は気相１
１積法にあっては、堆積素材Ａ、Ｂの２元気化堆積に於
いて夫々の気化散と堆積速度を制御して形成して、面方
向に沿う微分薄層毎に夫）７均一組成を有し微分薄層の
集積としての厚み方向に所定の含有比率勾配を有する構
造をＩＪ、えることができる。 更にまた境界層補遺としては、気相堆積法を用いる時に
は一般に堆積層はフレパスを差挟んだ社塊状に生長した
単位結晶の螺装状態をなすことがら、気相堆積条件を選
んで註Ｑｊ位結晶及びフレバスの大きさ、形状を選択し
、積層した結果Ａ層、８層の境界は組ｔｌｊ、　Ａ及び
Ｂが栴の歯状に交錯した構造とし、前記微分薄層面に組
成Ａ、Ｂの不連続斑紋を有するが微分薄層毎の平均組成
含有比率が厚み方向に関し逓減もしくは逓増する構造に
してもよい。 いづれのＭ構造をとるにしても前記に定義した変移帯域
の厚みカ弓００〜１００ＯＡであれば本発明は）；４足
される。 第２図にスパンタ法によってクロム層上にコバルト・ニ
アケル層を積層した時の組成含有比率の厚さ方向の遷移
曲線を示した。 尚本発明に於いては全構成層間に前記変移・ヤ域を設け
てよいし、着目する特性に特に効果を示す構成層間に限
ってもよい。 また、本発明に係る磁性体としてはＦｃ、　Ｃｏ、旧そ
の他の磁性金属あるいは、Ｆｃ−ロａ、Ｆｃ−Ｃｏ、Ｆ
ｃ−＾１．Ｆｃ−ｔ４ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−５ｉ、、
Ｆｅ−ＲＩ＋、Ｆｅ−Ｖ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−＾ｕ、Ｃ
ｏ−Ｃｒ。 Ｃｏ　−Ｐ、　Ｃｏ　−Ｖ、　Ｃｏ−５ｉＳＣｏ−Ｙｌ
Ｃｏ−Ｌａ、　Ｃｏ−Ｃｒ、　Ｃｏ−１’ｒ、　Ｃｏ−
５＋１、Ｃｏ−Ｍｎ、Ｃｏ−ｒ’ｔ、、旧−Ｃｕ、　Ｃ
ｏ　−Ｎ　ｉ　−Ｆｅ、　Ｆｃ−＾ｌ−旧、Ｃｏ−旧−
＾ε、Ｃｏ−Ｈｌ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−２ｎ、Ｃｏ−５
ｉ−へ１．Ｆｅ−５ニー＾１．Ｈｎ　−Ｂ　１５Ｍｎ−
３ｌｌ、ＭＬＩ−＾ｅ等の合金系磁性金属及びそれらの
酸化物（例えばγ−Ｆｃｚ０１、ＦｅｚＯ５，８ａ７　
ｘライト）等が挙げられる。ここで好ましくは、Ｃｏあ
るいはＣｏ　−Ｎ　ｉ合金（Ｎｉ含有率３０ｗｔ％以下
）、あるいはＣｏ−Ｃｒ合金（Ｃｒ含有率２ＧｗＬ９ｊ
）以下）である。磁性層厚は０．０３〜０．６μｓであ
ってもよい。 本発明１こ於いては、接′ＸＩ層、磁化補助）Ｖｒ、保
護層及ゾ／または潤滑層を設けるこがでさる。 接打屑としてはＣ，Ｃｔ・、Ｔａ、Ｔｉ等を含有する二
帰こ化モリブデン或は炭化モリブデン等が用いられ、磁
化補助層には主としてクロムが用いられる。 本発明）こ適用しうる保護層の素材としでは、クロム、
モリブデン、マンガン、バナジウム、ナタン、アルミニ
ウム、ロノウム、白金、珪素、カーボンのＩｌｊ体或は
酸化物、窒化物、硫化物等或は高分子物質等が各素材の
特性に適した条件で適用される。更に素材としてはへ械
的な保護効果、過擦防止効果が大きく更に化学的に耐蝕
性の大きなものが好ましい。 更に保護層の作泪効果を上げるため特性を異にする複数
層としてもよい。 また保護層は出力のスペーシングロスを卯えるために薄
い方がよいが、薄すぎると保護効果を失うので、０．０
１〜０．１５μｌが好ましい。 潤滑層にはカーボン等の滑面性を与える素材が選ばれる
。 本発明に於いては保護層、磁性層等の構成層の形成には
気相１１！：積法を適用することが好ましいが、該気相
堆積法としては真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーテング法、化学蒸着法或は対向ターデッドスパッ
タ法等が用いられる。 また基板としては、ＡＩ、陽極酸化？ｆＬ膜（例えばア
ルマイト処理）を設けたＡＮ、Ｎ１−Ｐメツキ処理をほ
どこしたＡＰ、ポリイミド、ポリアラミド、ポリカーボ
ネート、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエチレン
、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルホン
、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリテトラチル
オロエチレン、ポリプロピレン等のプラスチックがある
。基板は盤状、フィルム状４！？種々であってもよい。 【実施例】 次に実施例を上げて本発明を説明する。 実施例１ 非磁性基板として厚さ１．９０５μｌのアルミ合金基板
、及び１＆　１ｅＣＡ　４４のクロム、フッ〈ルト・ニ
ンケル及び炭素のターデッドを真空槽内に設置し、順次
スパッタリングを施し磁２ディスク試料を作成し、抗磁
力、角型比を測定した。 尚クロム及びコバルト・ニッケルのスノ＜７タリンクを
重畳し変移帯域の形成を確実にした。 スパッタリング条件： 到達真空度　　　　　　　５　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒア
ルゴン〃ス圧　　　　　Ｉ　Ｘ　１Ｏ−２Ｔｏｒｒｉｌ
ｌ積ｊ東度　　　　　　　　　　　　　　　　１６０八
／分磁化補助槽（クロム層）　　　０．３５μｌ変移帯
域　　　　　　　　１２０＾ Ｊａ性層（コバルトニッケル層） ０．０８μｌ 保：ａ層（炭素層）　　　　　　０．０２μｌ実施例２ 実施例１と同様の層構成を与え、変移帯域を９７５＾と
じた。 比較例１ 同様な層構成で変移帯域は７５八であった。 比較例２ 同様な層構成で変移帯域は１１５０＾であった。 各媒体について磁気特性を評価し以下のようになった５ なお各媒体とも面内磁気異方性はない。用いられる媒体
としてはハードディスク、７０ノビ−デイ１クテーブ等
がある。 また、得られる効果は磁気特性に限らず、耐用性につい
ても効果的である。最上層に炭素層を設けたハードディ
スク媒体の場合、炭素層とその直下の層、例えば磁性層
との変移帯域が上記の実施例１．２及ゾ比較例１．２の
場合と同じものを乍製しＣ３Ｓ酎久性の実験を行った。 その結果実施例１．２ではｃｓｓｉｏ万回においでら出
力低下は１０％以下であり、一方比較例については５２
，０００回及び：１３，０００回において出力が１０％
低下した。 【発明の効果１ 構成層間に変移帯域を設けることによって磁気特性及び
耐用性を向」二し、特性の再現性のみならず品質保証に
もイｆ利となった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る変移帯域を有する層構成の説明断
面図である。ＰＩＳ２図は表面分析によりえちれた厚さ
方向の組成含有比率の遷移曲線である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基板上に、磁性層を含み互いに組成を異にする２
   層以上の構成層を有する磁気記録媒体に於いて、前記構
   成層間の厚み方向に１００〜１０００Åの該構成層組成
   相互の変移帯域を設けたことを特徴とする磁気記録媒体
   。