JPH0349020A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPH0349020A JPH0349020A JP2077758A JP7775890A JPH0349020A JP H0349020 A JPH0349020 A JP H0349020A JP 2077758 A JP2077758 A JP 2077758A JP 7775890 A JP7775890 A JP 7775890A JP H0349020 A JPH0349020 A JP H0349020A
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Classifications
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/656—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing Co
-
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/7373—Non-magnetic single underlayer comprising chromium
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- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、例えば磁気ヘッドとの間において情報の記録
および再生を行う磁気記＆ｉｉ′媒体に関するものであ
り、特にノイズが少なく耐食性および生産性を向上させ
得る磁気記録媒体に関するものである。
および再生を行う磁気記＆ｉｉ′媒体に関するものであ
り、特にノイズが少なく耐食性および生産性を向上させ
得る磁気記録媒体に関するものである。
［従来の技術］
従来より磁気記録媒体上に情報を記録し、若しくは媒体
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されてるが、上記の記録、再生を行う場合には
磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０．２〜０．３虜
の微小間隙に保持するのが通常である。従って磁気ヘッ
ドと磁気記録媒体の衝突に伴う損傷を防止するため、浮
動へラドスライダを使用する。すなわち磁気へラドスラ
イダが、磁気記録媒体との接触による１１１Ｍ、摩耗お
よび／または両者の表面との相対速度により、両者の間
隙に発生する流体力学的浮上刃を利用して、両者の微小
間隙な保持するように構成している。
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されてるが、上記の記録、再生を行う場合には
磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０．２〜０．３虜
の微小間隙に保持するのが通常である。従って磁気ヘッ
ドと磁気記録媒体の衝突に伴う損傷を防止するため、浮
動へラドスライダを使用する。すなわち磁気へラドスラ
イダが、磁気記録媒体との接触による１１１Ｍ、摩耗お
よび／または両者の表面との相対速度により、両者の間
隙に発生する流体力学的浮上刃を利用して、両者の微小
間隙な保持するように構成している。
一方、近年の磁気記録媒体に要求される仕様は次第に厳
しくなってきており、記録密度の高い磁性膜が要求され
る。
しくなってきており、記録密度の高い磁性膜が要求され
る。
［発明が解決しようとする課題］
上記磁性膜を形成する材料としては、Ｇｏ−Ｎｉ−ｔ’
を合金が使用されており、基板上にＮ１−Ｐメツキ膜を
介してスパッタ等の手段で成膜することが多い、この材
料は磁性膜の保磁力を大きくすることができるが、ノイ
ズが大であると共に、高価であるという欠点がある。
を合金が使用されており、基板上にＮ１−Ｐメツキ膜を
介してスパッタ等の手段で成膜することが多い、この材
料は磁性膜の保磁力を大きくすることができるが、ノイ
ズが大であると共に、高価であるという欠点がある。
このような欠点を除くために、基板上にＣｒ膜を介して
Ｇｏ−ＮｉＣｒ膜を成膜したものがある。このように形
成した磁性膜においては、前記の材料によるものよりコ
ストが低く、ノイズを減少することができるが、所定の
保磁力を確保するためには、基板上に形成するべき下地
膜としてのＣｒ膜の厚さを１５００〜３０００Ａに形成
する必要がある。従って、Ｃｒ−膜の形成に要する時間
が長いため、生産性を低下させるという問題点がある。
Ｇｏ−ＮｉＣｒ膜を成膜したものがある。このように形
成した磁性膜においては、前記の材料によるものよりコ
ストが低く、ノイズを減少することができるが、所定の
保磁力を確保するためには、基板上に形成するべき下地
膜としてのＣｒ膜の厚さを１５００〜３０００Ａに形成
する必要がある。従って、Ｃｒ−膜の形成に要する時間
が長いため、生産性を低下させるという問題点がある。
一方このような構成とすることにより、前記Ｇｏ−Ｎｉ
−Ｐｔｌｌｉによるものよりノイズを若干改良する効果
も認められるが、未だ満足すべきレベルには到達してい
ないと共に、耐食性の点で不十分であるという問題点が
ある。
−Ｐｔｌｌｉによるものよりノイズを若干改良する効果
も認められるが、未だ満足すべきレベルには到達してい
ないと共に、耐食性の点で不十分であるという問題点が
ある。
これら、下地層としてＣｒあるいはＣｒ合金を用い、そ
の上にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、 Ｇｏ−Ｎｉ −ＰＬ、 Ｇ
ｏ−ＰＭ；などの磁気記録層をスパッターして作成した
磁性層は、平均結晶粒径が５００〜６００人である。
の上にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、 Ｇｏ−Ｎｉ −ＰＬ、 Ｇ
ｏ−ＰＭ；などの磁気記録層をスパッターして作成した
磁性層は、平均結晶粒径が５００〜６００人である。
これらの磁性層は、基板の面に平行な長手方向（トラッ
ク方向）に磁化されて磁気記録を持つ、この面密度を上
げて、高密度記録をするために、磁性層の保磁力Ｈｃを
高めることが必要である。このＨｃを高めるには、Ｃｒ
下地層の上にスパッタされた層をエピタキシャルに成長
させる必要があり、このことはＵＳＰ４，６５２，４９
９にも示されている。
ク方向）に磁化されて磁気記録を持つ、この面密度を上
げて、高密度記録をするために、磁性層の保磁力Ｈｃを
高めることが必要である。このＨｃを高めるには、Ｃｒ
下地層の上にスパッタされた層をエピタキシャルに成長
させる必要があり、このことはＵＳＰ４，６５２，４９
９にも示されている。
Ｇｏ金合金Ｃｒ結晶の上にエビキシャルに成長させるた
めには、下地層のＣｒ結晶と合金の結晶粒の大きさがほ
ぼ同じでなければならない、Ｃｒの結晶粒径の大きさは
、Ｃｒ層の薄膜が薄いときは、結晶粒を綱かく、膜厚を
厚くするに従い結晶が成長して結晶粒が粗くなってくる
。
めには、下地層のＣｒ結晶と合金の結晶粒の大きさがほ
ぼ同じでなければならない、Ｃｒの結晶粒径の大きさは
、Ｃｒ層の薄膜が薄いときは、結晶粒を綱かく、膜厚を
厚くするに従い結晶が成長して結晶粒が粗くなってくる
。
そこで、５００〜６００人の大きさの平均結晶粒径を持
つＧｏ金合金Ｃｒ層上にエビキシャル成長させて、磁性
層を形成したとき、この磁性層が高いＨａを持つために
とは、Ｃｒの厚みを厚くして、Ｃｒの結晶粒の大きさを
Ｃｏ合金のそれにあわせることが必要なので、Ｃｒ層の
厚みを１５００〜３０００人にしてＣｒの結晶粒の大き
さを５００〜６００人にすることが行われている。
つＧｏ金合金Ｃｒ層上にエビキシャル成長させて、磁性
層を形成したとき、この磁性層が高いＨａを持つために
とは、Ｃｒの厚みを厚くして、Ｃｒの結晶粒の大きさを
Ｃｏ合金のそれにあわせることが必要なので、Ｃｒ層の
厚みを１５００〜３０００人にしてＣｒの結晶粒の大き
さを５００〜６００人にすることが行われている。
［発明が解決しようとする課題］
本発明の目的とするところは、非磁性基板上に形成した
磁性層からなる磁気記録媒体であって、この磁性層は基
板面内に磁化容易方向を有するもので、この基板と磁性
層の間のＣｒ又はＣｒ合金層の厚さが薄いときでも、ノ
イズが少なく、耐食性が良好で高い保磁力を有するもの
を提供することにある。ここで、基板面内に磁化容易方
向を有するとは、磁性層が基板面と平行な方向、すなわ
ち長手方向に磁化することが出来ることを意味し、Ｃｏ
合金磁性層がｈｃｐ結晶構造を有する場合、そのＣ軸の
磁性層面内成分の大きいことを、豚味する。
磁性層からなる磁気記録媒体であって、この磁性層は基
板面内に磁化容易方向を有するもので、この基板と磁性
層の間のＣｒ又はＣｒ合金層の厚さが薄いときでも、ノ
イズが少なく、耐食性が良好で高い保磁力を有するもの
を提供することにある。ここで、基板面内に磁化容易方
向を有するとは、磁性層が基板面と平行な方向、すなわ
ち長手方向に磁化することが出来ることを意味し、Ｃｏ
合金磁性層がｈｃｐ結晶構造を有する場合、そのＣ軸の
磁性層面内成分の大きいことを、豚味する。
本発明の他の目的は、磁気記録媒体を製造するときの生
産性のよい下地層の薄い媒体を提供することにある。
産性のよい下地層の薄い媒体を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
上記した本発明の目的は、磁気記録媒体の磁性層の材料
として平均結晶粒度の綱かいものを採用することによっ
て達成される。
として平均結晶粒度の綱かいものを採用することによっ
て達成される。
本発明の磁気記録媒体に用いられる磁性層の材料は、Ｃ
ｒあるいはＣｒ合金下地層上に蒸着成長させたとき、１
００〜３００人の平均結晶粒径を有するもので、５〜１
５ａｔ％のＣｒ、１〜８ａｔ％Ｔａ及び残部実質的にＧ
ｏからなる組成のものが適切である。
ｒあるいはＣｒ合金下地層上に蒸着成長させたとき、１
００〜３００人の平均結晶粒径を有するもので、５〜１
５ａｔ％のＣｒ、１〜８ａｔ％Ｔａ及び残部実質的にＧ
ｏからなる組成のものが適切である。
本発明の磁気記録媒体においては、基板としてはアルミ
ニウム又はＡ１−３〜６ｗｔ％Ｍｇ合金の円盤の上に、
下地層が付けられたものが適切であり、下地層としては
Ｃｒ又はＣｒ合金が適している。この下地層として、Ｎ
ｉＰのメツキ膜の上にＯｒ又はＣｒ合金スパッタ層を付
けたものも使うことが出来る。
ニウム又はＡ１−３〜６ｗｔ％Ｍｇ合金の円盤の上に、
下地層が付けられたものが適切であり、下地層としては
Ｃｒ又はＣｒ合金が適している。この下地層として、Ｎ
ｉＰのメツキ膜の上にＯｒ又はＣｒ合金スパッタ層を付
けたものも使うことが出来る。
本発明のように、微細なＧｏ金合金磁性層として用いる
場合、Ｃｒ又はＣｒ合金下地層の厚さは１０００Å以下
、望ましくは３００−１０００人が適当である。１ｏｏ
ｏÅ以下の厚さのＣｒ下地層をスパッターでイ・ｊけた
上に、微細なＧｏ金合金蒸着成長させると、Ｃｏ合金の
磁化容易方向が基板面内に向くようになり、高い保磁力
が得られ、長手方向磁気記録に適した媒体となる６［実
施例］ マグネシウムを４重量％含有するアルミニウム合金から
なる基板の表面を旋削加工により平滑に形成し、外径９
５Ｎ、内径２５画、厚さ１．２７閣の基板とした１次に
この基板の表面にＮ１−Ｐ合金からなるメツキ膜を５〜
１５４の厚さに形成し、磁気記録媒体の起動時及び停止
時における磁気ヘッド若しくはスライダとの接触摺動（
Ｃｏｎ ｔａｃ ｔＳｔａｒｔ ａｎｄ ５ｔｏｐ、以
下ＣＳＳと記す）特性を確保する。上記のように被着し
たメツキ膜の表面を平滑に研磨すると共に、磁気ヘッド
若しくはスライダとの吸若を防止するためのテクスチャ
ー加工を施す０次に基板を洗浄後、例えばＤＣマグネト
ロンスパッタ装置により、第１表のＮｏ、０がら１２に
示すように、Ｃｒからなる下地膜と、Ｇｏ−Ｃｒ−Ｔａ
合金からなる磁性膜とＣからなる保護膜とを順次積層し
て成膜する。この場合、Ｆ地膜の成膜には、スパッタ室
内をｌ Ｘ ｉ Ｏ’Ｔｏｒｒ以ドに排気後、基板を２
００℃において３０分間加熱し、Ａｒガスを導入してス
パッタ室内を５ ｆｆＩＴｏｒｒに保持し、投入電力２
０００Ｗ、成膜速度４００Ａ／分の条件により、第１表
に示す膜厚の下ｊ８膜を成膜した０次にこの下地膜の上
にＣｏ−Ｃｒ−’ｒａＴａ合金なる磁性膜を上記同様に
して、投入電力２０００Ｗ、成膜速度１０００Ａ／分の
条件で６００人の膜厚に成膜した。なお保護膜は投入電
力１０００Ｗ、成膜速度８０人／分の条件で、前記磁性
膜上に膜厚３００人で成膜した。
場合、Ｃｒ又はＣｒ合金下地層の厚さは１０００Å以下
、望ましくは３００−１０００人が適当である。１ｏｏ
ｏÅ以下の厚さのＣｒ下地層をスパッターでイ・ｊけた
上に、微細なＧｏ金合金蒸着成長させると、Ｃｏ合金の
磁化容易方向が基板面内に向くようになり、高い保磁力
が得られ、長手方向磁気記録に適した媒体となる６［実
施例］ マグネシウムを４重量％含有するアルミニウム合金から
なる基板の表面を旋削加工により平滑に形成し、外径９
５Ｎ、内径２５画、厚さ１．２７閣の基板とした１次に
この基板の表面にＮ１−Ｐ合金からなるメツキ膜を５〜
１５４の厚さに形成し、磁気記録媒体の起動時及び停止
時における磁気ヘッド若しくはスライダとの接触摺動（
Ｃｏｎ ｔａｃ ｔＳｔａｒｔ ａｎｄ ５ｔｏｐ、以
下ＣＳＳと記す）特性を確保する。上記のように被着し
たメツキ膜の表面を平滑に研磨すると共に、磁気ヘッド
若しくはスライダとの吸若を防止するためのテクスチャ
ー加工を施す０次に基板を洗浄後、例えばＤＣマグネト
ロンスパッタ装置により、第１表のＮｏ、０がら１２に
示すように、Ｃｒからなる下地膜と、Ｇｏ−Ｃｒ−Ｔａ
合金からなる磁性膜とＣからなる保護膜とを順次積層し
て成膜する。この場合、Ｆ地膜の成膜には、スパッタ室
内をｌ Ｘ ｉ Ｏ’Ｔｏｒｒ以ドに排気後、基板を２
００℃において３０分間加熱し、Ａｒガスを導入してス
パッタ室内を５ ｆｆＩＴｏｒｒに保持し、投入電力２
０００Ｗ、成膜速度４００Ａ／分の条件により、第１表
に示す膜厚の下ｊ８膜を成膜した０次にこの下地膜の上
にＣｏ−Ｃｒ−’ｒａＴａ合金なる磁性膜を上記同様に
して、投入電力２０００Ｗ、成膜速度１０００Ａ／分の
条件で６００人の膜厚に成膜した。なお保護膜は投入電
力１０００Ｗ、成膜速度８０人／分の条件で、前記磁性
膜上に膜厚３００人で成膜した。
次に比較のために、従来材であるＣｏ□Ｎ１゜Ｐｔ、、
合金（Ｎｏ、 １６）およびＣ／ Ｏ＠ １ Ｎ ｌ
ｓ ａ Ｃｒ ｙ合金（Ｎｏ、１３〜１５）を磁性膜と
するものを作製した。
合金（Ｎｏ、 １６）およびＣ／ Ｏ＠ １ Ｎ ｌ
ｓ ａ Ｃｒ ｙ合金（Ｎｏ、１３〜１５）を磁性膜と
するものを作製した。
上記のようにして作製した磁気記録媒体の表面に液体潤
滑剤を塗布し、３．５ ｉ ｎφディスクドライブに装
着して周波数Ｏ〜ｌＯＭＨｚにおけるＳ／Ｎ比および耐
食性の測定を行った結果を第１表に併記する。この場合
、耐食性は、８０℃、８０％Ｒ、Ｉ（、の雰囲気に１０
０時間放置した後のエラー増加数で表す、なお、測定に
際して使用した磁気ヘッドは、Ｍ ｎ −Ｚ ｎミニモ
ノリシック型（トラック幅２０−）であり、スライダ幅
６１〇−、ジンバルはね圧９．５ｇｆ、半径２４ ｗｓ
の部位における浮上ｉ０．２．、磁気記録媒体の回転数
２４０Ｏｒ、ｐ、ｍの条件で測定した。Ｓ／Ｎ比の測定
は、まずリニアデンシティ３０ＫＰＣＩ （または任
、はの密度にて）で書き込み、０〜ＩＯＭＨ２の帯域で
ノイズを含まず再生信号をスペクトラムアナライザーに
より測定する。次に、使用した測定機器のヘッドを含も
ノイズを同一測定条件および同一機器を用いて測定し、
さら門こ、ｒ ｍ ｓ ’＆圧計を使用してノイズ電力
を測定し、較正用データとする。媒体ノイズは再生時の
ノイズより測定機器ノイズを差し引いた値をｒｍｓｍ較
値較正−タと比較参照し算出する。
滑剤を塗布し、３．５ ｉ ｎφディスクドライブに装
着して周波数Ｏ〜ｌＯＭＨｚにおけるＳ／Ｎ比および耐
食性の測定を行った結果を第１表に併記する。この場合
、耐食性は、８０℃、８０％Ｒ、Ｉ（、の雰囲気に１０
０時間放置した後のエラー増加数で表す、なお、測定に
際して使用した磁気ヘッドは、Ｍ ｎ −Ｚ ｎミニモ
ノリシック型（トラック幅２０−）であり、スライダ幅
６１〇−、ジンバルはね圧９．５ｇｆ、半径２４ ｗｓ
の部位における浮上ｉ０．２．、磁気記録媒体の回転数
２４０Ｏｒ、ｐ、ｍの条件で測定した。Ｓ／Ｎ比の測定
は、まずリニアデンシティ３０ＫＰＣＩ （または任
、はの密度にて）で書き込み、０〜ＩＯＭＨ２の帯域で
ノイズを含まず再生信号をスペクトラムアナライザーに
より測定する。次に、使用した測定機器のヘッドを含も
ノイズを同一測定条件および同一機器を用いて測定し、
さら門こ、ｒ ｍ ｓ ’＆圧計を使用してノイズ電力
を測定し、較正用データとする。媒体ノイズは再生時の
ノイズより測定機器ノイズを差し引いた値をｒｍｓｍ較
値較正−タと比較参照し算出する。
このような方法により媒体のＳ／Ｎ比を求めた。
従来材の（：、 ｏ、、Ｎｉ、、Ｃｒ、及びＧｏ、、Ｎ
ｉ、Ｐｔ＋ｓのものは、飽和磁束密度が高いが、Ｓ／Ｎ
比、耐食性に劣っている。ＣｏＮｉＣｒはＣｒ下地層を
２０００人以上に厚くすることによって保磁力を上げら
れることがわかる。
ｉ、Ｐｔ＋ｓのものは、飽和磁束密度が高いが、Ｓ／Ｎ
比、耐食性に劣っている。ＣｏＮｉＣｒはＣｒ下地層を
２０００人以上に厚くすることによって保磁力を上げら
れることがわかる。
本発明のＧｏ−Ｃｒ−Ｔａ材は平均結晶粒度が１００〜
３００人と綱がいもので、Ｃｒ下地層の厚みを２０ＯＡ
から成年に厚くすることで、保磁力も上昇することがわ
かる。しかし、Ｃｒ Ｔ：地層を１３００Ａの厚さにし
たもの（Ｎｏ、６）は結晶粒が少し大きくなり、Ｓ／Ｎ
比が悪くなっている。
３００人と綱がいもので、Ｃｒ下地層の厚みを２０ＯＡ
から成年に厚くすることで、保磁力も上昇することがわ
かる。しかし、Ｃｒ Ｔ：地層を１３００Ａの厚さにし
たもの（Ｎｏ、６）は結晶粒が少し大きくなり、Ｓ／Ｎ
比が悪くなっている。
Ｃｒ下地層の厚さが３００〜１０００人のとき（Ｎｏ、
１〜５）、保磁力が大きく、Ｓ／Ｎも良好である。Ｃｒ
が５ａｔ％未滴のＮｏ、８、Ｔａ址の不足しているＮｏ
、ｌＯｌまた１゛ａが過剰のＮｏ、１２は、Ｃｒ下地層
の厚さが適当であってもＳ／Ｎ比が低い。
１〜５）、保磁力が大きく、Ｓ／Ｎも良好である。Ｃｒ
が５ａｔ％未滴のＮｏ、８、Ｔａ址の不足しているＮｏ
、ｌＯｌまた１゛ａが過剰のＮｏ、１２は、Ｃｒ下地層
の厚さが適当であってもＳ／Ｎ比が低い。
ＣｒやＴａ量が過剰のもの（Ｎｏ、９〜１２）は４πＭ
ｓが低いａ Ｔ ａ ＋Ｃｒ量の低いものは耐食性に劣
る。上記の実験とほぼ同一の条件にて、Ｇ ｏ、。
ｓが低いａ Ｔ ａ ＋Ｃｒ量の低いものは耐食性に劣
る。上記の実験とほぼ同一の条件にて、Ｇ ｏ、。
（／ ｒ 、Ｔ ａ ＠合金とＣｏｏＮｉ、ｅｃｒ、合
金の磁性層を下地層上に形成したもので、Ｃｒ下地層の
厚さを変化させたものの保磁力と下地層の厚さとの関係
を示したのが第１図である。平均結晶粒径の大きいＣｏ
ＮｉＣｒ合金は、Ｃｒ下地層を１５００Å以上にしてＨ
ｃ８０００ｅ以上の特性が得られているが、平均結晶粒
径の小さいＣｏＣｒＴａ合金の場合、３００Ａ以上でＨ
ｃ８０００ｅ以上が得られている。
金の磁性層を下地層上に形成したもので、Ｃｒ下地層の
厚さを変化させたものの保磁力と下地層の厚さとの関係
を示したのが第１図である。平均結晶粒径の大きいＣｏ
ＮｉＣｒ合金は、Ｃｒ下地層を１５００Å以上にしてＨ
ｃ８０００ｅ以上の特性が得られているが、平均結晶粒
径の小さいＣｏＣｒＴａ合金の場合、３００Ａ以上でＨ
ｃ８０００ｅ以上が得られている。
本実施例においては、下地膜を形成する材料としてＣｒ
を使用した例を示したが、Ｃｒの他に、Ｃｒ−Ｍｏ、Ｃ
ｒ−Ｖ、Ｃｒ−Ｍｎ等のＣｒ合金によって形成してもよ
い、また磁性膜を形成する材料としては、にｒ５〜１５
％、Ｔａ１〜８％。
を使用した例を示したが、Ｃｒの他に、Ｃｒ−Ｍｏ、Ｃ
ｒ−Ｖ、Ｃｒ−Ｍｎ等のＣｒ合金によって形成してもよ
い、また磁性膜を形成する材料としては、にｒ５〜１５
％、Ｔａ１〜８％。
Ｃｏｂａｌ、 を基本組成とする合金に他の元素を含有
させたＣｏＣｒ−Ｔａ系合金を使用することができる。
させたＣｏＣｒ−Ｔａ系合金を使用することができる。
更に基板を形成する非磁性祠料としては本実施例以外の
他の金属材料および非金属材料を使用することができる
。
他の金属材料および非金属材料を使用することができる
。
第１図は、本発明に使用される磁性層ＣＣｏ＊＊Ｃｒ、
、Ｔ ａ、）と従来の磁性層（Ｃｏｓｓ Ｎｍｓ Ｃｒ
ｔ）の保磁力ＨＣ（Ｏｅ）とＣｒ下地層の厚さ（Ａ）
の関係を示すグラフである。 ００ ｅｉｌ！藺の浄書（内■に変更なし） 第１図 ０００ １５０゜ ＣｒＭ厚 （ム） 手 続 補 正 ＝１ 四 （方式） １、事件の表示 平成 年 特 許 願 第 ７７５８ 号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出 願 人 住 所 東京都千代田区丸の内二丁目１番２号 平成２年７月２４日（発送口） ５、補正の対象
、Ｔ ａ、）と従来の磁性層（Ｃｏｓｓ Ｎｍｓ Ｃｒ
ｔ）の保磁力ＨＣ（Ｏｅ）とＣｒ下地層の厚さ（Ａ）
の関係を示すグラフである。 ００ ｅｉｌ！藺の浄書（内■に変更なし） 第１図 ０００ １５０゜ ＣｒＭ厚 （ム） 手 続 補 正 ＝１ 四 （方式） １、事件の表示 平成 年 特 許 願 第 ７７５８ 号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出 願 人 住 所 東京都千代田区丸の内二丁目１番２号 平成２年７月２４日（発送口） ５、補正の対象
Claims (3)
- （１）非磁性材料からなる基板、この基板上に形成され
厚さが３００〜１０００ÅであるＣｒ金属あるいはＣｒ
合金から出来た下地層、下地層上に蒸着成長させ、５〜
１５ａｔ％のＣｒ、１〜８ａｔ％Ｔａ及び残部実質的に
Ｃｏからなる組成を有し、上記基板面内に磁化容易方向
を有する磁気記録層を有する磁気記録媒体。 - （２）非磁性材料からなる基板、この基板上に形成され
厚さが３００〜１０００ÅであるＣｒ金属あるいはＣｒ
合金から出来た下地層、下地層上に蒸着しエピタキシャ
ル成長された、５〜１５ａｔ％のＣｒ、１〜８ａｔ％Ｔ
ａ、及び残部実質的にＣｏからなる組成を有し、上記基
板面内に磁化容易方向を有する磁気記録層を有する磁気
記録媒体。 - （３）非磁性材料からなる基板、この基板上に形成され
、厚さが３００〜１０００ÅであるＣｒ金属あるいはＣ
ｒ合金から出来た下地層、下地層上に蒸着成長させた１
００〜３００Åの平均結晶粒径を持ったＣｏ合金で、上
記基板面内な磁化容易方向を有する磁気記録層を有する
磁気記録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-106703 | 1989-04-26 | ||
| JP10670389 | 1989-04-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0349020A true JPH0349020A (ja) | 1991-03-01 |
| JP2513893B2 JP2513893B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=14440360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2077758A Expired - Lifetime JP2513893B2 (ja) | 1989-04-26 | 1990-03-27 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5118564A (ja) |
| JP (1) | JP2513893B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US5800931A (en) * | 1994-09-29 | 1998-09-01 | Carnegie Mellon University | Magnetic recording medium with a MgO sputter deposited seed layer |
| US5693426A (en) * | 1994-09-29 | 1997-12-02 | Carnegie Mellon University | Magnetic recording medium with B2 structured underlayer and a cobalt-based magnetic layer |
| JPH1074618A (ja) | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Hoya Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US6022609A (en) * | 1996-10-02 | 2000-02-08 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic recording medium with substantially uniform sub-micron-scale morphology |
| US5993956A (en) * | 1997-04-22 | 1999-11-30 | Carnegie Mellon University | Manganese containing layer for magnetic recording media |
| US6416881B1 (en) | 1999-08-10 | 2002-07-09 | Seagate Technology Llc | Media with a metal oxide sealing layer |
| US6524724B1 (en) | 2000-02-11 | 2003-02-25 | Seagate Technology Llc | Control of magnetic film grain structure by modifying Ni-P plating of the substrate |
| US6432563B1 (en) | 2000-04-03 | 2002-08-13 | Carnegie Mellon University | Zinc enhanced hard disk media |
| US6596417B1 (en) | 2000-09-29 | 2003-07-22 | Carnegie Mellon University | Magnetic recording medium with a Ga3Pt5 structured underlayer and a cobalt-based magnetic layer |
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| JPS61276116A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-12-06 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS6339122A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-19 | Hitachi Ltd | 面内磁気記録媒体 |
| JPS6361408A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク用磁気記録媒体およびその製造法 |
| JPH01133217A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録体 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4610911A (en) * | 1983-11-03 | 1986-09-09 | Hewlett-Packard Company | Thin film magnetic recording media |
| US4552820A (en) * | 1984-04-25 | 1985-11-12 | Lin Data Corporation | Disc media |
| US4632883A (en) * | 1985-04-22 | 1986-12-30 | International Business Machines Corporation | Vertical recording medium with improved perpendicular magnetic anisotropy due to influence of beta-tantalum underlayer |
| US4677032A (en) * | 1985-09-23 | 1987-06-30 | International Business Machines Corporation | Vertical magnetic recording media with multilayered magnetic film structure |
| DE3850824T2 (de) * | 1987-08-06 | 1995-01-19 | Sumitomo Metal Mining Co | Magnetplatte für waagerechte Aufnahme. |
| US4929514A (en) * | 1988-03-22 | 1990-05-29 | Hewlett-Packard Company | Thin film media for high density longitudinal magnetic recording |
| JP2728498B2 (ja) * | 1988-05-27 | 1998-03-18 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
| US5004652A (en) * | 1990-08-15 | 1991-04-02 | Hmt Technology Corporation | High-coercivity thin-film recording medium and method |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP2077758A patent/JP2513893B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-17 US US07/509,770 patent/US5118564A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS61276116A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-12-06 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
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| JPS6339122A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-19 | Hitachi Ltd | 面内磁気記録媒体 |
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| JPH01133217A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5118564A (en) | 1992-06-02 |
| JP2513893B2 (ja) | 1996-07-03 |
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