JPS634486Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS634486Y2 JPS634486Y2 JP407484U JP407484U JPS634486Y2 JP S634486 Y2 JPS634486 Y2 JP S634486Y2 JP 407484 U JP407484 U JP 407484U JP 407484 U JP407484 U JP 407484U JP S634486 Y2 JPS634486 Y2 JP S634486Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tray
- gas
- floor
- plate spring
- leaf spring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 9
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 3
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
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Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は気液接触装置におけるトレイのシール
構造に関し、詳細には板ばねによる付勢押圧力を
利用してトレイフロアを気液接触装置本体の内側
に容易に且つシール性良く内装できる様にしたト
レイシール構造に関するものである。
構造に関し、詳細には板ばねによる付勢押圧力を
利用してトレイフロアを気液接触装置本体の内側
に容易に且つシール性良く内装できる様にしたト
レイシール構造に関するものである。
気液接触装置におけるトレイのシール性を保持
せしめるに当たつては、一般に装置本体内壁に溶
着されたトレイサポートリング上にトレイフロア
を載置し、更に該フロアをトレイサポートリング
にボルト締めすることにより行なつている。即ち
従来の一般的なトレイシール構造を図面に基づい
て説明すれば次の通りである。第1図は気液接触
装置の一種である精留塔の一部を破断して示した
もの又第2図は第1図の−線断面図を示した
もので、トレイは精留塔本体(以下単に塔本体と
いう)1内に溶接されたトレイサポートリング
2、トレイフロア3、ダウンカマープレート4よ
り構成されており、トレイフロア3をトレイサポ
ートリング2にねじ止めすることにより該フロア
3と塔本体1内壁とのシール性を保持するよう配
慮されている。即ち第3図(第2図のA部拡大平
面図)及び第4図(第3図の部分断面図)に示す
様に、トレイサポートリング2の裏面(下面)に
予めナツト5を溶接し、トレイサポートリング2
の上にトレイフロア3を載置して座金6a′,6
b′,……を配し、ボルト6a,6b,……によつ
て取り付ける様にしている。
せしめるに当たつては、一般に装置本体内壁に溶
着されたトレイサポートリング上にトレイフロア
を載置し、更に該フロアをトレイサポートリング
にボルト締めすることにより行なつている。即ち
従来の一般的なトレイシール構造を図面に基づい
て説明すれば次の通りである。第1図は気液接触
装置の一種である精留塔の一部を破断して示した
もの又第2図は第1図の−線断面図を示した
もので、トレイは精留塔本体(以下単に塔本体と
いう)1内に溶接されたトレイサポートリング
2、トレイフロア3、ダウンカマープレート4よ
り構成されており、トレイフロア3をトレイサポ
ートリング2にねじ止めすることにより該フロア
3と塔本体1内壁とのシール性を保持するよう配
慮されている。即ち第3図(第2図のA部拡大平
面図)及び第4図(第3図の部分断面図)に示す
様に、トレイサポートリング2の裏面(下面)に
予めナツト5を溶接し、トレイサポートリング2
の上にトレイフロア3を載置して座金6a′,6
b′,……を配し、ボルト6a,6b,……によつ
て取り付ける様にしている。
しかしこの様なトレイシール構造においては、
前述の様にトレイサポートリング2やナツト5を
取付けるための溶接作業及びボルト締め作業が必
要になるが、その溶接工数及びボルト締め工数が
莫大な数(数千〜数万個)に達するためその作業
を著しく繁雑なものとし、装置の製作工期を膨大
にするという欠点がある。又溶接時の熱影響を受
けて塔本体1やトレイサポートリングが歪むの
で、いきおいシール性は低下しがちとなる。更に
小型即ち小口径の精留塔の場合には、塔内におけ
る溶接及びボルト締付作業は不可能となり適当な
作業治具を使用しなければならないから、作業の
繁雑性は一層深刻化する。
前述の様にトレイサポートリング2やナツト5を
取付けるための溶接作業及びボルト締め作業が必
要になるが、その溶接工数及びボルト締め工数が
莫大な数(数千〜数万個)に達するためその作業
を著しく繁雑なものとし、装置の製作工期を膨大
にするという欠点がある。又溶接時の熱影響を受
けて塔本体1やトレイサポートリングが歪むの
で、いきおいシール性は低下しがちとなる。更に
小型即ち小口径の精留塔の場合には、塔内におけ
る溶接及びボルト締付作業は不可能となり適当な
作業治具を使用しなければならないから、作業の
繁雑性は一層深刻化する。
本考案はこうした事情に着目してなされたもの
であり、その目的とするところは、トレイフロア
を気液接触装置本体に極めて容易に組込み得ると
共にシール性を良好に維持し得るようなトレイシ
ール構造を提供しようとするものである。
であり、その目的とするところは、トレイフロア
を気液接触装置本体に極めて容易に組込み得ると
共にシール性を良好に維持し得るようなトレイシ
ール構造を提供しようとするものである。
かかる目的を達成し得た本考案の構成とは、気
液接触装置本体の内側に所定の段間隔で多数配設
されるトレイのシール構造であつて、該トレイ
は、その外周部に取り付けられた上開きのスカー
ト状板ばね体を介して装置本体の内側に対して押
圧付勢支持され、且つ該板ばね体は、スカート部
に設けた所定ピツチの切込みが円周方向にずれる
ようにして複数枚重ね合わせて形成されてなる点
に要旨を有するものである。
液接触装置本体の内側に所定の段間隔で多数配設
されるトレイのシール構造であつて、該トレイ
は、その外周部に取り付けられた上開きのスカー
ト状板ばね体を介して装置本体の内側に対して押
圧付勢支持され、且つ該板ばね体は、スカート部
に設けた所定ピツチの切込みが円周方向にずれる
ようにして複数枚重ね合わせて形成されてなる点
に要旨を有するものである。
以下実施例図面に基づき本考案の構成及び作用
効果を説明する。
効果を説明する。
第5,6図は本考案のトレイシール構造を例示
する概略説明図であり、第5図はトレイフロアを
塔本体に組込む直前の状態を示す要部切欠断面図
であり、第6図はトレイフロアを塔本体に組込ん
だ状態を示す要部切欠断面図である。第5図に示
す様にトレイフロア3は、L形鋼をC字型リング
状に形成させた皿枠11の上面に適当なピツチで
鋲止めされており、且つ皿枠11の側周面には上
開きスカート状の板ばね体12a,12bが重ね
合わせられた状態にされ、適当なピツチで鋲止め
されている。又板ばね体12a,12bの重ね合
わせは、各スカート部に形成された夫々所定ピツ
チの切込み(12a1,12a2,…),(12b1,1
2b2,…)の位置がずれるように配慮されてい
る。尚板ばね体は必ずしもC字型リング状である
必要はなく、ダウンカマーが十分確保される限り
完全リング状であつてもよい。かくしてトレイフ
ロア3は、その外周部に上開きスカート状の切込
み付板ばねが一体的に取付けられた状態となる。
する概略説明図であり、第5図はトレイフロアを
塔本体に組込む直前の状態を示す要部切欠断面図
であり、第6図はトレイフロアを塔本体に組込ん
だ状態を示す要部切欠断面図である。第5図に示
す様にトレイフロア3は、L形鋼をC字型リング
状に形成させた皿枠11の上面に適当なピツチで
鋲止めされており、且つ皿枠11の側周面には上
開きスカート状の板ばね体12a,12bが重ね
合わせられた状態にされ、適当なピツチで鋲止め
されている。又板ばね体12a,12bの重ね合
わせは、各スカート部に形成された夫々所定ピツ
チの切込み(12a1,12a2,…),(12b1,1
2b2,…)の位置がずれるように配慮されてい
る。尚板ばね体は必ずしもC字型リング状である
必要はなく、ダウンカマーが十分確保される限り
完全リング状であつてもよい。かくしてトレイフ
ロア3は、その外周部に上開きスカート状の切込
み付板ばねが一体的に取付けられた状態となる。
この様に予め準備されたトレイフロア3を塔本
体1内に挿入すると、板ばね体12a,12bの
上部(スカート部)は第6図に示す様に塔本体1
に沿つて内側方向へ変形する。この変形により、
板ばね体12a,12bには弾性復元力が働き、
塔本体1を付勢押圧することになり、板ばね体1
2a,12bの上部側周面と塔本体1の内周面と
の密着性が確保される。
体1内に挿入すると、板ばね体12a,12bの
上部(スカート部)は第6図に示す様に塔本体1
に沿つて内側方向へ変形する。この変形により、
板ばね体12a,12bには弾性復元力が働き、
塔本体1を付勢押圧することになり、板ばね体1
2a,12bの上部側周面と塔本体1の内周面と
の密着性が確保される。
又各スカート部に形成された夫々の切込み(1
2a1,12a2,…),(12b1,12b2,…)の隙
間は板ばね体12a,12bの圧縮により極めて
少なくなる上に、各切込み(12a1,12a2,
…),(12b1,12b2,…)をずらしたいわばダ
ブルシール機構の効果により、これらの切込み
(12a1,12a2,…),(12b1,12b2,…)
からのシール洩れの恐れを問題が生じない程度に
解消することができる。その結果、トレイフロア
3と塔本体1内壁面とのシール性は全体として良
好に維持される。
2a1,12a2,…),(12b1,12b2,…)の隙
間は板ばね体12a,12bの圧縮により極めて
少なくなる上に、各切込み(12a1,12a2,
…),(12b1,12b2,…)をずらしたいわばダ
ブルシール機構の効果により、これらの切込み
(12a1,12a2,…),(12b1,12b2,…)
からのシール洩れの恐れを問題が生じない程度に
解消することができる。その結果、トレイフロア
3と塔本体1内壁面とのシール性は全体として良
好に維持される。
尚上記実施例は本考案の単に一代表例を示すに
過ぎないものであつて本考案を限定する性質のも
のではなく、前述の趣旨に沿つてトレイフロアと
板ばねの取付方法を変えたり、板ばねの重ね合わ
せ枚数を変えたりすることをはじめ、各部材の形
状、寸法等を適当に変更して実施することはすべ
て本考案の技術的範囲に属する。又本考案のトレ
イシール構造は上述の精留塔以外にも蒸発塔、吸
収塔、調湿塔、反応塔等あらゆる気液接触装置へ
の適用が可能である。
過ぎないものであつて本考案を限定する性質のも
のではなく、前述の趣旨に沿つてトレイフロアと
板ばねの取付方法を変えたり、板ばねの重ね合わ
せ枚数を変えたりすることをはじめ、各部材の形
状、寸法等を適当に変更して実施することはすべ
て本考案の技術的範囲に属する。又本考案のトレ
イシール構造は上述の精留塔以外にも蒸発塔、吸
収塔、調湿塔、反応塔等あらゆる気液接触装置へ
の適用が可能である。
本考案は概略以上の様に構成され且つ実施され
るが、要はトレイフロアの外周部に上開きスカー
ト状の板ばねを取付け、該板ばね自体の付勢押圧
力を利用してトレイフロアを気液接触装置本体の
内側に固定し得る様にしたので、トレイフロアの
組込作業即ち装置の製作工数が著しく簡略化され
ることになり、しかも十分なシール性を良好に維
持できる様になつた。
るが、要はトレイフロアの外周部に上開きスカー
ト状の板ばねを取付け、該板ばね自体の付勢押圧
力を利用してトレイフロアを気液接触装置本体の
内側に固定し得る様にしたので、トレイフロアの
組込作業即ち装置の製作工数が著しく簡略化され
ることになり、しかも十分なシール性を良好に維
持できる様になつた。
第1図は気液接触装置の一種である精留塔の一
部縦断面図、第2図は第1図における−断面
の拡大図、第3,4図は従来のトレイシール構造
を示したもので、第3図は第2図のA部拡大平面
図、第4図は第3図の部分断面図、第5,6図は
本考案のトレイシール構造を例示したもので、第
5図はトレイフロアを装置本体に組込む直前の状
態を示す要部切欠断面図、第6図はトレイフロア
を装置本体に組込んだ状態を示す要部切欠断面図
である。 1…気液接触装置(精留塔)本体、2…トレイ
サポートリング、3…トレイフロア、4…ダウン
カマープレート、11…皿枠、12a,12b…
板ばね体、(12a1,12a2,…),(12b1,1
2b2,…)…切込み。
部縦断面図、第2図は第1図における−断面
の拡大図、第3,4図は従来のトレイシール構造
を示したもので、第3図は第2図のA部拡大平面
図、第4図は第3図の部分断面図、第5,6図は
本考案のトレイシール構造を例示したもので、第
5図はトレイフロアを装置本体に組込む直前の状
態を示す要部切欠断面図、第6図はトレイフロア
を装置本体に組込んだ状態を示す要部切欠断面図
である。 1…気液接触装置(精留塔)本体、2…トレイ
サポートリング、3…トレイフロア、4…ダウン
カマープレート、11…皿枠、12a,12b…
板ばね体、(12a1,12a2,…),(12b1,1
2b2,…)…切込み。
Claims (1)
- 気液接触装置本体の内側に所定の段間隔で多数
配設されるトレイのシール構造であつて、該トレ
イは、その外周部に取り付けられた上開きのスカ
ート状板ばね体を介して装置本体の内側に対して
押圧付勢支持され、且つ該板ばね体は、スカート
部に設けた所定ピツチの切込みが円周方向にずれ
るようにして複数枚重ね合わせて形成されてなる
ことを特徴とする気液接触装置におけるトレイの
シール構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP407484U JPS60115538U (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | 気液接触装置におけるトレイのシ−ル構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP407484U JPS60115538U (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | 気液接触装置におけるトレイのシ−ル構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60115538U JPS60115538U (ja) | 1985-08-05 |
| JPS634486Y2 true JPS634486Y2 (ja) | 1988-02-05 |
Family
ID=30479293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP407484U Granted JPS60115538U (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | 気液接触装置におけるトレイのシ−ル構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60115538U (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4593725B2 (ja) * | 2000-04-14 | 2010-12-08 | 株式会社日本触媒 | 易重合性物質の製造方法および精製塔 |
| US8932536B2 (en) * | 2011-05-10 | 2015-01-13 | Zoneflow Reactor Technologies, LLC | Reactor packing |
-
1984
- 1984-01-13 JP JP407484U patent/JPS60115538U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60115538U (ja) | 1985-08-05 |
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