JPS6345220A - 血小板粘着抑制剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、血小板粘着抑制剤に関する。

発明の開示 一般式 〔式中Ｒは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群
から選ばれたベテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フェ
ニル基；フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニル基ニジク
ロアルキル基；フェニルチオ基；低級アルキル基；アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基；フェ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフェニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フェニ
ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。Ｒ１は水
素原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を
示す。Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキルス
ルホニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基示す。

Ｚは酸素原子、硫黄原子、基−Ｃ−１ 級アルキル基）又は基−ＮＨ−を示す。Ａは低級アルキ
レン基を示す。Ｘは酸素原子、硫黄原子、基−８〇−又
は基−５Ｏ２−を示す。ｎはＯ又は１を示す。カルボス
チリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は一重結合又は
二重結合を示す。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩は、血小
板粘着抑制作用を有し、例えば動脈硬化症、虚血性心疾
患、慢性動脈閉塞症、急性又は慢性の腎炎等の治療及び
予防薬として、或は人工透析時や人工臓器埋め込み時等
に使用し得る。

上記一般式（１）において示される６基は、各々次の通
りである。

低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、
ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基を例示できる。

ハロ低級アルキル基としては、クロロメチル、ブロモメ
チル、ヨードメチル、トリフルオロメチル、２−フルオ
ロエチル、２．２−ジフルオロエチル、２，２．２−ト
リフルオロエチル、３−クロロプロピル、４−クロロブ
チル、３，４−ジクロロブチル、３−フルオロペンチル
、２．３．４−トリフルオロペンチル、２．３−ジクロ
ロヘキシル、６．６−ジブロモヘキシル基等の置換基と
してハロゲン原子を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。

ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
及び沃素原子を例示できる。、低級アルキルアミノ基と
しては、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ
、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシル
アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ−ｎ−プ
ロピルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミノ、ジエチルアミノ
、ジエチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ
、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−
へキシルアミノ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を１又は２個有するアミノ基を
例示できる。

低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる。

シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロアルキ
ル基を例示できる。

アミノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基な
る群から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル
基としては、アミノメチル、２−メチルアミノエチル、
１−エチルアミノエチル、３−プロピルアミノプロピル
、４−ｔｅｒｔ−ブチルアミノブチル、１．１−ジメチ
ル−２−ペンチルアミノエチル、５−へキシルアミノペ
ンチル、６−シメチルアミノヘキシル、ジメチルアミノ
メチル、２−ジエチルアミノエチル、１−ジ−ｎ−プロ
ピルアミノエチル、３−ジ−ｎ−ブチルアミノプロピル
、４−ジエチルアミノエチル、１，１−ジメチル−２−
ジエチルアミノエチル、５−（Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブ
チルアミノ）ペンチル、６−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチ
ルアミノ）ヘキシル、２−メチル−５−（Ｎ−エチル−
Ｎ−へキシルアミノ）プロピル、カルボキシメチル、２
−力ルボキシエチル、１−カルボキシエチル、３−カル
ボキシプロピル、４−カルボキシブチル、１゜１−ジメ
チル−２−カルボキシエチル、５−カルボキシペンチル
、６−カルボキシヘキシル、２−メチル−３−カルボキ
シプロピル、２−アミノ−２−カルボキシエチル、１−
ジメチルアミノ−１−カルボキシメチル、３−アミノ−
２−カルボキシプロピル基等の炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群か
ら選ばれた置換基を１〜２個有する炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。

低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボ
ニル、ニドキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル
基を例示できる。

フェニル低級アルキル基としては、ベンジル、２−フェ
ニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニルプロピ
ル、４−フェニルブチル、１．１−ジメチル−２−フェ
ニルエチル、５−フェニルペンチル、６−フェニルヘキ
シル、２−メチル−３−フェニルブチル基等のアルキル
部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るフェニルアルキル基を例示できる。

低級アルコキシ置換フェニル低級アルキル基としては、
３−メトキシベンジル、２−　（３，４−ジメトキシフ
ェニル）エチル、１−（４−エトキシフェニル）エチル
、３−　（２−プロポキシフェニル）プロピル、４−（
３−ブトキシフェニル）ブチル、１．１−ジメチル−２
−（４−ペンチルオキシフェニル）エチル、５−　（４
−へキシルオキシフェニル）ペンチル、６−　（３，４
，５−トリメトキシフェニル）ヘキシル、２−メチル−
３−（２，５−ジメトキシフェニル）プロピル基等のフ
ェニル環上に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキ
シ基を１〜３個置換基として有し且つアルキル部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニ
ルアルキル基を例示できる。

低級アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ
、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、ｔｅ
ｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、へキシルチオ基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルチオ基を例示
できる。

低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、２−ブテ
ニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペンテニ
ル、２−へキセニル基等の炭素数２〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルケニル基を例示できる。

フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、
ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ
基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１
〜３個有するフェニル基としては、２−クロロフェニル
、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２−フル
オロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフ
ェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモフェニル、４
−プロモフエニル、２−ヨードフェニル、３−ヨードフ
ェニル、４−ヨードフェニル、３．５−ジクロロフェニ
ル、２，６−ジクロロフェニル、３゜４−ジクロロフェ
ニル、３，４−ジフルオロフェニル、３．５−ジブロモ
フェニル、３，４．５−トリクロロフェニル、２−メチ
ルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル
、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチ
ルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−へキシル
フェニル、３．４−ジメチルフェニル、２．５−ジメチ
ルフェニル、３，４．５−トリメチルフェニル、２−メ
トキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシ
フェニル、２−エトキシフェニル、３−エトキシフェニ
ル、４−エトキシフェニル、４−イソプロポキシフェニ
ル、４−へキシルオキシフェニル、３，４−ジメトキシ
フェニル、３，４−ジェトキシフェニル、３，４．５−
トリメトキシフェニル、２，５−ジメトキシフェニル、
３−メチル−４−クロロフェニル、２−クロロ−６−メ
チルフェニル、２−メトキシ−３−クロロフェニル、２
−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−
ヒドロキシフェニル、３．４−ジヒドロキシフェニル、
３，４．５−トリヒドロキシフェニル、２−アミノフェ
ニル、３−アミノフェニル、４−アミノフェニル、２，
４−ジアミノフェニル、２−メチルアミノフェニル、３
−メチルアミノフェニル、４−メチルアミノフェニル、
２−エチルアミノフェニル、３−エチルアミノフェニル
、４−エチルアミノフェニル、４−イソプロピルアミノ
フェニル、４−へキシルアミノフェニル、３．４−ジメ
チルアミノフェニル、２−（ジメチルアミノ）フェニル
、３−（ジメチルアミノ）フェニル、４−（ジメチルア
ミノ）フェニル、２−（ジエチルアミノ）フェニル、３
−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）フェニル、４−　
（Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルアミノ）フェニル、４
−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−へキシルアミノ）フェニル
、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）フェニル、２−トリフ
ルオロメチルフェニル、３−（３−クロロプロピル）フ
ェニル、４−（２−フルオロエチル）フェニル、２−　
（４−クロロブチル）フェニル、３−　（３−ブロモペ
ンチル）フェニル、２−（ヨードメチル）フェニル、４
−（２，３−ジクロロヘキシル）フェニル、３−（２，
２，２−１リフルオロエチル）フェニル基等のフェニル
環上に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、ハ
ロゲン原子を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１又は２
個有するアミノ基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有す
るフェニル基を例示できる。

窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれ
たベテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環残基として
は、１．　２．４−トリアゾリル、イミダゾリル、１，
２，３．５−テトラゾリル、１．２，３．４−テトラゾ
リル、ピロリル、ペンスイミダゾリル、１，３．４−ト
リアゾリル、イミダゾリニル、ピリジル、ピリミジニル
、ピラゾリル、ピラゾリニル、チアゾリル、チアゾリニ
ル、１．３．４−オキサジアゾリル、１，３．４−チア
ジアゾリル、チエニル、フリル、ピラニル、イソチアゾ
リル、イソキサゾリル、ピラジニル、ピリダジニル、イ
ンドリル、イソインドリル、３Ｈ−インドリル、イント
リジニル、イミダゾリル、キノリル、イソキノリル、フ
タラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾ
リニル、シンノリニル、ピロリニル、ピラゾリニル、イ
ンドリニル、イソインドリニル基等を例示できる。

複素環上にオキソ基、チオ基、フェニル基、フェニル環
上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲン原
子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボ
キシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基
を１〜３個有するフェニル基、シクロアルキル基、フェ
ニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アルキル
アミノ基、カルボキシ基及びカルボキシル基なる群から
選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミ
ノ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、フェニル環上に置換基として水酸基
を有することのあるフェニル低級アルキル基、フェニル
環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
フェニルスルホニル基、低級アルコキシ置換フェニル低
級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル基
、低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から選ば
れた置換基を１〜３個有する上記複素環残基としては、
２−フェニルチオピロリル、２−メチルイミダゾリル、
２−エチルイミダゾリル、２−プロピルイミダゾリル、
４−ｎ−ブチルイミダゾリル、４−ペンチルイミダゾリ
ル、４−ヘキシルイミダゾリル、２−フェニルイミダゾ
リル、２−フェニルチオイミダゾリル、２−フェニルチ
オ−１゜３．５−トリアゾリル、３−フェニルチオ−１
゜２．４−トリアゾリル、１−フェニルイミダゾリル、
１−エチルイミダゾリル、５−メチルイミダゾリル、５
−メトキシベンズイミダゾリル、１−エチルベンズイミ
ダゾリル、６−ニトキシベンズイミダゾリル、７−プロ
ポキシベンズイミダゾリル、４−ｎ−ブトキシベンズイ
ミダゾリル、５−ペンチルオキシベンズイミダゾリル、
６−ヘキジルオキシベンズイミダゾリル、１−フェニル
−１゜３．４−１リアゾリル、１−フェニル−１，２゜
３．４−テトラゾリル、１−（３−ピリジル）イミダゾ
リル、１−（２−メチルフェニル）イミダゾリル、１−
（２−メトキシフェニル）イミダゾリル、１−（４−メ
チルフェニル）イミダゾリル、１−（３−エチルフェニ
ル）イミダゾリル、１−（４−プロピルフェニル）イミ
ダゾリル、１−（２−ｎ−ブチルフェニル）イミダゾリ
ル、１−（３−ペンチルフェニル）イミダゾリル、１−
（４−へキシルフェニル）イミダゾリル、１−（３−エ
トキシフェニル）イミダゾリル、１−（４−メトキシフ
ェニル）イミダゾリル、１−（４−プロポキシフェニル
）イミダゾリル、１−（２−ｎ−ブトキシフェニル）イ
ミダゾリル、１−（３−ペンチルオキシフェニル）イミ
ダゾリル、１−（４−へキシルオキシフェニル）イミダ
ゾリル、１−アリルイミダゾリル、１−（２−ブテニル
）イミダゾリル、１−（３−ブテニル）イミダゾリル、
１−（１−メチルアリル）イミダゾリル、１−（２−ペ
ンテニル）イミダゾリル、１−（２−へキセニル）イミ
ダゾリル、１−ベンジルイミダゾリル、１−（２−フェ
ニルエチル）イミダゾリル、１−　（１−フェニルエチ
ル）イミダゾリル、１−（３−フェニルプロピル）イミ
ダゾリル、１−（４−フェニルブチル）イミダゾリル、
１−（６−フェニルヘキシル）イミダゾリル、１−（５
−フェニルペンチル）イミダゾリル、１−エチル−１，
３，４−１リアゾリル、４−エチル−１，３，４−トリ
アゾリル、１−メチル−１，３゜４−トリアゾリル、４
−プロピル−１，３，４−トリアゾリル、１−ベンジル
−１，３，４−）リアゾリル、４−ベンジル−１，３，
４−１リアゾリル、１−（２−フェニルエチル”）−１
，３，４−トリアゾリル、３−メチルピラゾリル、４−
エチルピラゾリル、３−プロピルピラゾリル、３−ｎ−
ブチルピラゾリル、１−エチルピロリル、１−メチルピ
ロリル、１−プロピルピロリル、１−ｎ−ブチルピロリ
ル、１−アリルベンズイミダゾリル、１−（２−ブテニ
ル）ベンズイミダゾリル、１−（３−ブテニル）ベンズ
イミダゾリル、１−（１−メチルアリル）ベンズイミダ
ゾリル、１−（２−ペンテニル）ベンズイミダゾリル、
１−（２−ヘキセニル）ベンズイミダゾリル、１−（２
−トリフルオロメチルフェニル）イミダゾリル、１−（
４−クロロフェニル）イミダゾリル、１−（４−ヒドロ
キシフェニル）イミダゾリル、１−（４−ジメチルアミ
ノフェニル）イミダゾリル、１−　（３，４−ジフルオ
ロフェニル）イミダゾリル、１−（３，４，５−）ジク
ロロフェニル）イミダゾリル、１−　（４−（２−フル
オロエチル）フェニル〕イミダゾリル、１−　［４−（
２，３−ジクロロヘキシル）フェニル〕イミダゾリル、
１−　Ｃ３−（３−クロロプロピル）フェニル〕イミダ
ゾリル、１−（２−アミノフェニル）イミダゾリル、１
−（２−エチルアミノフェニル）イミダゾリル、１−（
４−イソプロピルアミノフェニル）イミダゾリル、１−
　（４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フェニル
〕イミダゾリル、２−シクロへキシル−１，３，４−オ
キサジアゾリル、２−シクロプロピル−１，３，４−オ
キサジアゾリル、２−シクロへブチル−１，３，４−オ
キサジアゾリル、２−シクロオクチル−１，３，４−オ
キサジアゾリル、１−シクロヘキシルイミダゾリル、１
−シクロベンチルー１．３．４−トリアゾリル、１−シ
クロプロピル−ベンズイミダゾリル、２−メチルチオイ
ミダゾリル、４−エチルチオイミダゾリル、２−プロピ
ルチオイミダゾリル、４−ｎ−ブチルチオイミダゾリル
、４−ペンチルチオイミダゾリル、２−ヘキシルチオイ
ミダゾリル、１−エチル−５，６−シメトキシーベンズ
イミダゾリル、２−フェニル−３，４−ジメチルピロリ
ル、１，２．３−トリメチルイミダゾリル、２．４−ジ
クロロ−１，２，４−）リアゾリル、２．４．５−トリ
クロロピリジル、３．４．５−トリメトキシピリジル、
２−　（２−アミノ−２−カルボキシエチル）イミダゾ
リル、２−メチル−３−ジメチルアミノメチルイミダゾ
リル、２−カルボキシメチル−３−メチルイミダゾリル
、３−メチル−５−ピラゾロニル、３−メチル−４−ヒ
ドロモジピラゾリル、４−アミノ−５−シアノイミダゾ
リル、４−メチル−５−エトキシカルボニルイミダゾリ
ル、４−メチル−５−カルボキシイミダゾリル、１−［
２−（３，４−ジヒドロフェニル）エチル］−１，２，
３，４−テトラゾリル、１−（３−ピリジル）−５−チ
オ−１，２，３゜４−テトラゾリル、１−フェニル−５
−チオ−１゜２、　３．４−テトラゾリル、１−（４−
フェニルスルホニル）ピロリル、１−（４−カルボキシ
フェニル）イミダゾリル基等の複素環上にオキソ基、チ
オ基、フェニル基、フェニル環上に上記低級アルキル基
、上記へロ低級アルキル基、上記ハロゲン原子、水酸基
、アミノ基、上記低級アルキルアミノ基、カルボキシ基
及び上記低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を
１〜３個有するフェニル基、上記シクロアルキル基、フ
ェニルチオ基、上記低級アルキル基、アミノ基、上記低
級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選ば
れた置換基を１〜２個有する上記低級アルキル基、アミ
ノ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、上記低級ア
ルコキシカルボニル基、上記フェニル環上に置換基とし
て水酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基、
上記フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有す
ることのあるフェニルスルホニル基、上記低級アルコキ
シ置換フェニル低級アルキル基、上記低級アルキルチオ
基、上記低級アルケニル基、上記低級アルコキシ基及び
ピリジル基からなる群から選ばれた置換基を１〜３個有
する上記複素環残基を例示できる。

低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、２−メチルトリメチレン、２゜２−ジメチル
トリメチレン、１−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン
、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキレン基を例示できる。

フェニル環上に置換基として水酸基を有することのある
フェニル低級アルキル基としては、前記フェニル低級ア
ルキル基に加えて、３−ヒドロキシベンジル、２−　（
３，４〜ジヒドロキシフエニル）エチル、１−（４−ヒ
ドロキシフェニル）エチル、３−（２−ヒドロキシフェ
ニル）プロピル、４−（３−ヒドロキシフェニル）ブチ
ル、１．１−ジメチル−２−（４−ヒドロキシフェニル
）エチル、５−（４−ヒドロキシフェニル）ペンチル、
６−（３，４，５−トリヒドロキシフェニル）ヘキシル
、２−メチル−３−（２，５−ジヒドロキシフェニル）
プロピル基等のフェニル環上に水酸基を１〜３個有する
ことのある且つアルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を例示
できる。

フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有するこ
とのあるフェニルスルホニル基としては、２−メチルフ
ェニルスルホニル、３−メチルフェニルスルホニル、４
−メチルフェニルスルホニル、２−エチルフェニルスル
ホニル、３−イソプロピルフェニルスルホニル、４−ヘ
キシルフェニルスルホニル、２−ペンチルフェニルスル
ホニル、３゜４−ジメチルフェニルスルホニル、２．５
−ジメチルフェニルスルホニル、３．４．５−）ジメチ
ルフェニルスルホニル等のフェニル環上に置換基として
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個
有することのあるフェニルスルホニル基を例示できる。

低級アルキルスルホニルオキシ基としては、メチルスル
ホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスル
ホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ブチル
スルホニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルオキシ
、ペンチルスルホニルオキシ、ヘキシルスルホニルオキ
シ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルスル
ホニルオキシ基を例示できる。

また側鎖−Ｚ−Ａ　−（Ｘ）　ｎ−Ｒは、カルボスチリ
ル骨格の３位、４位、５位、６位、７位及び８位のいず
れに置換していてもよい。

上記一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体は
、種々の方法により製造され得るが、その好ましい一例
を挙げれば例えば下記に反応式に示す方法に従い製造さ
れる。

反応式−１ Ｒ／ｌ　　　　　　　　　　　　　　　　Ｒ１（２）　
　　　　　　　　　　　　　　（ｌａ）〔式中Ｒ，Ｒ’
　、Ｒ”　、Ａ、Ｘ、ｎ、並びにカルボスチリル骨格の
３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｚａは酸素原
子、硫黄原子又は基−ＮＨ−を示す。Ｘｌはハロゲン原
子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホ
ニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を示す
。〕 Ｘｌで示される低級アルカンスルホニルオキシ基として
は、具体的にはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、イソプロパン
スルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキシ、ｔｅｒｔ
−ブタンスルホニルオキシ、ペンタンスルホニルオキシ
、ヘキサンスルホニルオキシ基等を例示でき、アリール
スルホニルオキシ基としては、具体的にはフェニルスル
ホニルオキシ、４−メチルフェニルスルホニルオキシ、
２−メチルフェニルスルホニルオキシ、４−ニトロフェ
ニルスルホニルオキシ、４−メトキシフェニルスルホニ
ルオキシ、３−タロロフェニルスルホニルオキシ、α−
ナフチルスルホニルオキシ基″７を例示でき、またアラ
ルキルスルホニルオキシ基としては、具体的にはベンジ
ルスルホニルオキシ、２−フェニルエチルスルホニルオ
キシ、４−フェニルブチルスルホニルオキシ、４−メチ
ルベンジルスルホニルオキシ、２−メチルベンジルスル
ホニルオキシ、４−ニトロベンジルスルホニルオキシ、
４−メトキシベンジルスルホニルオキシ、３−クロロベ
ンジルスルホニルオキシ、α−ナフチルメチルスルホニ
ルオキシ基等を例示できる。

一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物との反応
は、適当な溶媒中又は無溶媒下、塩基性化合物の存在下
に行なうことができる。塩基性化合物としては、従来公
知のものを広く使用でき、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩基
、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウム
メチラート、ナトリウムエチラート等のアルコラード、
トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミン
、Ｎ−メチルモルホリン、４−ジメチルアミノピリジン
、１，５−ジアザビシクロ〔４゜３．０〕ノネン−５（
ＤＢＮ）　、１．８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウ
ンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ（２
，２，２）オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基を挙げ
ることができる。また溶媒としては、反応に悪影響を与
えない不活性のものをいずれも使用でき、例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、エチレ
ングリコール等のアルコール類、ジメチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグラ
イム等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルス
ルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド（ＨＭＰＡ）等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられ
る。また該反応は、沃化ナトリウム、沃化カリウム等の
金属沃化物の存在下に行なってもよい。上記反応におけ
る化合物（２）と化合物（３）との使用割合としては、
特に制限がなく広い範囲内から適宜選択し得るが、通常
前者に対して後者を等モル−５倍モル程度、好ましくは
等モル−２倍モル程度使用するのがよい。上記反応の反
応温度も特に限定されないが、通常室温〜２００℃程度
、好ましくは５０〜１５０℃程度で行なわれ、一般に５
分〜３０時間程度にて該反応は完結する。

反応式−２ Ｒｌ　　　　　　　　　　　　　　Ｒ１（４）　　　　
　　　　　　　　　（１ｂ）〔式中Ｒ５Ｒ１、Ｒ２、Ｚ
、Ａ、並びにカルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素
間結合は前記に同じ。Ｘ２及びＸ３は夫々Ｘ１又は基−
ＹＨを示す。ここでＸＩは前記に同じであり、Ｙは酸素
原子又は硫黄原子を示す。但しＸ２がＸｌである場合に
は　Ｘ３は基−ＹＨを、Ｘ２が基−ＹＨである場合には
Ｘ３はＸｌを示すものとする。〕 一般式（４）の化合物と一般式（５）の化合物との反応
は、前記一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物
との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。

反応式−３ 〔式中Ｒ１、Ｒ２、ＺＳＡ、ＸＩ　、並ヒニカルホスチ
リル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前原子、酸素原
子又は硫黄原子を１〜４個有する不飽和複素環残基を示
す。但し該複素環には少なくとも１個の窒素原子を含ん
でいるものとする。また該複素環上には、オキソ基、チ
オ基、フェニル基、フェニル環上に低級アルキル基、ハ
ロ低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、
低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキ
シ基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニ
ル基、シクロアルキル基、フェニルチオ基、低級アルキ
ル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシ
ル基なる群から選ばれた置換基を１〜２個有する低級ア
ルキル基、アミノ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル環上に置換
基として水酸基を有することのあるフェニル低級アルキ
ル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有
することのあるフェニルスルホニル基、低級アルコキシ
置換フェニル低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低
級アルケニル基、低級アルコキシ基及びピリジル基から
なる群から選ばれた置−Ｎ　を示す。〕 一般式（６）の化合物と一般式（７）の化合物との反応
は、塩基性化合物の存在下又は不存在下、好ましくは塩
基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行なわれる。塩基
性化合物としては、従来公知のものを広く使用でき、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート、カリウムメチラート、カリウムエチラート等のア
ルカリ金属アルコラード、ナトリウムアミド、カリウム
アミド等のアルカリ金属アミド、ナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等のアルカリ金属の水素化物、ＤＢＵ等を挙げることが
できる。斯かる塩基性化合物の使用量としては、特に限
定されず広い範囲内で適宜選択し得るが、通常化合物（
６）に対して等モル−過剰量、好ましくは等モル−３倍
モル量程度使用するのがよい。また溶媒としては、慣用
の不活性溶媒を広く使用でき、例えばメタノール、エタ
ノール、イソプロパツール等の低級アルコール類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、アセトフェノン等のケトン類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル類、ＤＭＦＳＨＭＰＡ、アセトニ
トリル等が挙げられる。また該反応は、沃化ナトリウム
、沃化カリウム等の金属沃化物の存在下に行なってもよ
い。上記反応における化合物（６）と化合物（７）との
使用割合としては、特に制限がなく広い範囲内から適宜
選択し得るが、通常前者に対して後者を等モル−過剰量
、好ましくは等モル−２倍モル程度使用するのがよい。

上記反応は、通常０〜２００℃程度、好ましくは室温〜
１５０℃程度で好適に進行し、一般に１０分〜２４時間
程度で該反応は終了する。

上記反応において、Ｚが基−Ｃ−を示す化合物！１ （６）を使用する場合には、まず化合物（６）をエチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のジヒドロキシ
低級アルキレン類と反応させてＺを換させて保護した後
、次に化合物（７）と反応させ、続いて脱保護基化する
ことによりＺが基−Ｃ−を示す一般式（１ｃ）の化合物
を製造し得Ｉ る。

ここで上記保護化反応は、酸の存在下適当な溶媒中で行
なわれる。酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等の鉱酸、ｐ−）ルエンスルホン酸、ピリジン　ｐ−ト
ルエンスルホネート、酢酸、プロピオン酸等の有機酸等
を例示できる。また溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール等の低級アルコール類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、アセトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ｎ−オ
クタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸プロピオン酸等のア
ルカン酸類、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒等を
挙げることができる。ジヒドロキシ低級アルキレン類の
使用量としては、通常化合物（６）に対して少なくとも
等モル量、好ましくは等モル−５倍モル量程度とするの
がよい。該反応は、通常０〜１５０°Ｃ程度、好ましく
は０〜１００℃にて好適に進行し、一般に０．　５〜１
０時間程時間誤反応は完了する。

また脱保護基化反応は、酸の存在下適当な溶媒中又は無
溶媒下で行なわれる。酸としては、上記保護化反応に使
用される酸をいずれも使用することができる。酸の使用
量としては、原料化合物に対して通常少なくとも等モル
量程度、好ましくは大過剰量とするのがよい。また溶媒
としては、上記保護化反応に使用される溶媒に加えて、
水、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等を挙げることができる。該反応
は、通常−３０〜２００℃程度、好ましくは一３０〜１
００℃にて好適に進行し、一般に０．　５〜１２時間程
度で該反応は完了する。

反応式−４ 〔式中ＲＳＲ’　、Ｒ２、ＡＳＸ、ｎ、並びにカルボス
チリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。

〕 一般式（１ｄ）の化合物の還元は、水素化還元剤を用い
る還元法、接触還元法等の方法により行なわれる。

水素化還元剤を用いる還元法を採用する場合、水素化還
元剤としては例えば水素化硼素ナトリウム、水素化アル
ミニウムリチウム等、好ましくは−水素化硼素ナトリウ
ムが用いられる。水素化還元剤は、通常化合物（１ｄ）
に対して少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル−
３倍モル量程度用いるのがよい。水素化還元剤による還
元反応は、例えば水、メタノール、エタノール、イソプ
ロパツール等の低級アルコール類、テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル類、ＤＭＦ等やこれら
の混合溶媒中、通常−６０〜１００℃程度、好ましくは
一３０〜７０°Ｃ程度にて行なわれ、一般に該反応は１
０分〜３時間程度で終了する。

尚、水素化アルミニウムリチウムを還元剤として用いる
場合には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
無水溶媒を用いるのがよい。

また接触還元法を採用する場合、還元触媒として例えば
酸化白金、パラジウム黒、パラジウム炭素、ラネーニッ
ケル等の通常用いられる接触還元用触媒が用いられる。

使用される触媒の量は、化合物（１ｄ）に対して通常的
０．２〜０．５倍重量とするのがよい。この接触還元は
、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパツー
ル等の低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテル等のエーテル類等の溶媒中、通常１〜１０気
圧、好ましくは１〜３気圧の水素雰囲気中でよく振り混
ぜることにより行なわれる。該還元は、通常−３０℃〜
溶媒の沸点範囲、好ましくは０℃〜室温付近にて行なわ
れる。

反応式−３ ＲＩ　　　　　　　　　　　　　　Ｒ１（１ｆ）　　　
　　　　　　　　　（１ｇ）〔式中Ｒ’　、Ｒ２、Ｚ−
、ＡＳＸ％　ｎ−並びにカルボスチリル骨格の３位及び
４位の炭素間結合は素原子又は硫黄原子を１〜４個有す
る不飽和複素環残基を示す。但し該複素環には少なくと
も゛　１個の窒素原子を含んでいるものとする。また該
複素環上には、オキソ基、チオ基、フェニル基、フェニ
ル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カ
ルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置
換基を１〜３個有するフェニル基、シクロアルキル基、
フェニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選ばれた置
換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミノ基、水酸
基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フェニル環上に置換基として水酸基を有するこ
とのあるフェニル低級アルキル基、フェニル環上に置換
基として低級アルキル基を有することのあるフェニルス
ルホニル基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級
アルキルチオ基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基
及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を１〜３
個有していてもよい。上記−Ｂｂ−は−ＮＨ−を、−Ｂ
Ｃ−は−Ｎ−を示す。ここでＲ４はフエニル基、フェニ
ル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カ
ルボキシ基、及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた
置換基を１〜３個有するフェニル基、シクロアルキル基
、フェニルチオ基、低級アルキル基、フェニル環上に置
換基として水酸基を有することのあるフェニル低級アル
キル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を
有することのあるフェニルスルホニル基、低級アルケニ
ル基、置換基として低級アルキルアミノ基及びカルボキ
シ基からなる群から選ばれた基を１〜２個有する低級ア
ルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキ
シ置換フェニル低級アルキル基又はピリジル基を示す。

〕 一般式（１ｆ）の化合物と一般式（８）の化合物との反
応は、例えば塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行
なわれる。塩基性化合物としては、例えば水素化ナトリ
ウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、カリ
ウムアミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙
げることができる。

また溶媒としては、例えばジオキサン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ，ＨＭ
ＰＡ等を挙げることができる。該反応の反応系内には、
必要に応じて沃化鋼等のハロゲン化鋼、沃化ナトリウム
、沃化カリウム等の金属沃化物、銅粉等を添加してもよ
い。

化合物（１ｆ）と化合物（８）との使用割合としては、
特に制限がなく広い範囲内から適宜選択し得るが、通常
前者に対して後者を少なくとも等モル程変量、好ましく
は等モル−３倍モル量程度使用するのがよい。該反応は
、通常０〜１００℃程゛度、好ましくは０〜７０℃付近
にて好適に進行し、一般に該反応は５分〜１２時間程度
で完結する。

反応式−６ （１ｈ） 〔式中Ｒ’　、Ｒ２、Ｚ、Ａ、並びにカルボスチリル骨
格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｒ５は基
−ＣＯＲ６又は基−Ｃ３Ｒ６（Ｒ６はフェニル基、フェ
ニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロ
ゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた
置換基を１〜３個有するフェニル基、シクロアルキル基
、フェニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級ア
ルキルアミノ基及びカルボキシ基なる群から選ばれた置
換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミノ基、シア
ノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
フェニル環上に置換基として水酸基を有することのある
フェニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基として
低級アルキル基を有することのあるフェニルスルホニル
基、低級アルコキシ置換フェニル低級アルキル基、低級
アルキルチオ基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基
又はピリジル基を示す。Ｂｄは酸素原子又は硫黄原子を
示す。〕 一般式（９）の化合物と一般式（１０）の化合物との反
応には、公知のアミド結合生成反応条件を容易に適用す
ることができる。本発明では化合物（９）に代えて、そ
のカルボキシル基が活性化された化合物を使用してもよ
い。代表的な方法としては、例えば（イ）混合酸無水物
法、即ちカルボン酸（９）にアルキルハロカルボン酸を
反応させて混合酸無水物とし、これにヒドラジン誘導体
（１０）を反応させる方法、（ロ）活性エステル法、即
ちカルボン酸（９）をｐ−ニトロフェニルエステル、Ｎ
−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、１−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾールエステル等の活性エステルとし、こ
れにヒドラジン誘導体（１０）を反応させる方法、（ハ
）カルボジイミド法、即ちカルボン酸（９）にヒドラジ
ン誘導体（１０）をジシクロへキシルカルボジイミド、
カルボニルジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合
させる方法、（ニ）その他の方法として、カルボン酸（
９）を無水酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし
、これにヒドラジン誘導体（１０）を反応させる方法、
カルボン酸（９）と低級アルコールとのエステルにヒド
ラジン誘導体（１０）を高温高圧下に反応させる方法、
カルボン酸（９）の酸ハロゲン化物、即ちカルボン酸ハ
ライドにヒドラジン誘導体（１０）を反応させる方法等
を挙げることができる。これらの中で混合酸無水物法が
好ましい。

混合酸無水物法において、使用されるアルキルハロカル
ボン酸としては例えばクロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メ
チル、クロロ蟻酸エチル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻
酸イソブチル等が挙げられる。

混合酸無水物は通常のショツテン−バウマン反応により
得られ、これを通常単離することなく、ヒドラジン誘導
体（１０）と反応させることにより一般式（１１）の化
合物が製造される。

ショツテン−バウマン反応は、塩基性化合物の存在下に
行なわれる。用いられる塩基性化合物としては、ショツ
テン−バウマン反応に慣用の化合物をいずれも使用でき
、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢＮ
、ＤＢＵ。

ＤＡＢＣＯ等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩
基等が挙げられる。該ショツテン−バウマン反応は、通
常−２０〜１００℃、好ましくは０〜５０°Ｃにおいて
行なわれ、反応時間に一般に５分〜１０時間程度である
。

上記で得られる混合酸無水物と化合物（１０）との反応
は、一般に溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒として
は、混合酸無水物法に慣用の溶媒をいずれも使用でき、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族〜炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル類、ＤＭＦ’、ＤＭＳ
ｏＳＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒等を挙げること
ができる。該反応は、通常−２０〜１５０℃、好ましく
は１０〜５０℃において行なわれ、反応時間に一般に５
分〜１０時間程度である。

上記反応における化合物（９）、アルキルハロカルボン
酸及び化合物（１０）の使用割合としては、通常当モル
ずつ使用されるが、化合物（９）に対してアルキルハロ
カルボン酸及び化合物（１０）を１〜１．５倍モル使用
してもよい。

一般式（１１）の化合物を環化して一般式（１ｈ）の化
合物を得る反応は、従来公知の各種環化反応に準じて行
ない得る。例えば加熱による方法、オキシ塩化リン、五
塩化リン、三塩化リン、塩化アセチル、ｐ−トルエンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、チオニルクロライド、
濃硫酸、塩酸、無水酢酸、ポリリン酸等の脱水剤を用い
る環化法等を例示できる。加熱による環化法を採用する
場合には、高沸点炭化水素類及び高沸点エーテル類、例
えばテトラリン酸ジフェニルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、デカリン、テトラリン、トル
エン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ブロモ
ベンゼン等の溶媒を用い、通常１００〜２５０°Ｃ程度
、好ましくは１５０〜２００°Ｃの加熱条件を採用でき
る。また、脱水剤を用いる環化法を採用する場合には、
脱水剤としてポリリン酸を使用するのが特に好ましい。

ポリリン酸は、化合物（１１）に対して通常等モル〜大
過剰量、好ましくは１０〜２０倍量用いるのがよく、ま
た該反応は、通常１００〜２５０℃程度で行なわれ、一
般に５分〜６時間程度で終了する。

上記反応式−６において出発原料として用いられる化合
物（９）は公知の化合物であり、また化合物（１“０）
の一部は公知の化合物であるが新規化合物も含み、それ
ら新規化合物は公知のものと同様に製造され、例えば下
記反応式−７に示す方法により製造される。

反応式−７ Ｒ３０Ｈ＋　Ｎ８２　Ｎ）＋２・Ｒ２０−４Ｒ５ＮＨＮ
Ｈ２〔式中Ｒ５は前記に同じ。〕 一般式（１２）の化合物と一般式（１３）の化合物との
反応は、前記反応式−６における化合物（９）と化合物
（１０）との反応と同様の反応条件下にて製造される。

反応式−８ 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｚ、Ａ、並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｒ７は低級
アルキル基を示す。〕 一般式（１４）の化合物と一般式（１５）の化合物との
反応は、無溶媒下又は適当な溶媒中にて行なわれる。使
用される溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジメトキシエタン、ジフ
ェニルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の高沸点
溶媒等を挙げることができる。化合物（１４）と化合物
（１５）との使用割合としては、通常前者に対して後者
を等モル−大過剰量、好ましくは２〜５０倍モル程度と
するのがよい。上記反応は、通常５０〜２５０℃、好ま
しくは８０〜２００°Ｃで好適に進行し、一般に１〜４
０時間程度で完了する。

反応式−９ 〔式中Ｒ，Ｒ１、Ｒ２，２％　Ａ、Ｘ及びｎは前記に同
じ。〕 一般式（１ｊ）の化合物の脱水素反応は、常法により、
適当な溶媒中酸化剤を用いて脱水素反応に付すことによ
り行なわれる。用いられる酸化剤としては、例えば２，
３−ジクロロ−５，６−ジシアツベンゾキノン（ＤＤＱ
）　、クロラニル（２゜３．５．６−チトラクロロペン
ゾキノン）等のベンゾキノン類、二酸化セレン、パラジ
ウム炭素等の金属触媒、Ｎ−プロモサクシンイミド、臭
素等のブロム化剤等が挙げられる。酸化剤の使用量とし
ては、例えば酸化剤としてベンゾキノン類又はブロム化
剤を使用する場合には、化合物（１ｊ）に対して通常部
モル〜５倍モル程度、好ましくは等モル−２倍モル程度
の酸化剤を使用するのがよい。また溶媒としては、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メトキシエタ
ノール、ジメトキシエタン等のエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、ブタノール、アミルアルコール
、ヘキサノール等のアルコール類、ＤＭＦＳＤＭＳＯＳ
ＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒等を挙げることがで
きる。上記反応は、通常室温〜３００℃程度、好ましく
は５０〜２００℃程度で好適に進行し、一般に１〜４８
時間程度で完結する。

一般式（１ｋ）の化合物の接触還元は、常法に従い、適
当な溶媒中触媒を用いて水素添加することにより行なわ
れる。触媒としては、従来公知のものを広く使用でき、
例えば白金線、白金板、白金海綿、白金黒、酸化白金、
コロイド白金等の白金触媒、パラジウム海綿、パラジウ
ム黒、酸化パラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パ
ラジウム炭酸バリウム、パラジウム炭素、パラジウムシ
リカゲル、コロイドパラジウム等のパラジウム触媒、石
綿つきロジウム、イリジウム、コロイドロジウム、ルテ
ニウム触媒、コロイドイリジウム等の白金族触媒、還元
ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル、漆原ニッケ
ル、蟻酸ニッケルの熱分解で生じるニッケル触媒、硼化
ニッケル等のニッケル触媒、還元コバルト、ラネーコバ
ルト、漆原コバルト等のコバルト触媒、還元鉄、ラネー
鉄等の鉄触媒、還元銅、ラネー銅、ウルマン銅等の銅触
媒、更に亜鉛のようなその他の金属触媒が挙げられる。

用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロパツール等の低級アルコール類、水、酢酸、酢酸
メチル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、エチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等のシクロアルカン類、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ペンタン等のｎ−アルカン類等を例示できる。

上記反応は、通常水素圧常圧又は加圧下、好ましくは１
〜２０気圧にて、通常室温〜溶媒の沸点、好ましくは室
温〜１００℃で行なうのがよい。

反応式−１Ｏ （ＩＩ）　　　　　　　　　　　　（１ｍ）〔式中Ｒ，
Ｒ２、Ｚ、Ａ、Ｘ、ｎ、Ｘ’　、並びにカルボスチリル
骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｒ１／
　は低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示す
。〕 一般式（１１）の化合物と一般式（１６）の化合物との
反応は、前記反応式−５における化合物（１ｆ）と化合
物（８）との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。

該反応において、Ｒの複素環残基中糸−ＮＨ−を有する
化合物（１１）は、鎖糸が同時に化合物（１６）と反応
することもあるが、この化合物は容易に化合物（１ｍ）
と分離することができる。

反応式−１ｌ （１ｎ）　　　　　　　　　　　　（１０）〔式中Ｒ，
Ｒ’　、Ｒ２、Ａ、Ｘ、ｎ、並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（１ｎ）の化合物とヒドロキシルアミン（１７）
との反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下又は
不存在下に行なわれる。ここで使用される塩基性化合物
としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ピペリジ
ン、ピリジン、トリエチルアミン、ＤＢＮＳＤＢＵ、Ｄ
ＡＢＣＯ等の有機塩基等を挙げることができる。また溶
媒としては、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパツール等のアルコール類、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ，ＨＭＰＡ等の極性溶媒
等を例示できる。化合物（（ｉｎ）とヒドロキシルアミ
ン（１７）との使用割合としては、通常前者に対して後
者を少なくとも等モル、好ましくは等モル−５倍モル量
とするのがよい。上記反応は、通常０〜１５０℃、好ま
しくはＯ〜１００″Ｃにて好適に進行し、一般に１０分
〜１０時間程度で終了する。

反応式−１２ （ｌｐ）　　　　　　　　　　　　　＜１ｑ）Ｒ３ （１ｒ） 〔式中Ｒ，Ｒ’　、Ｒ２、Ｒ３、ＡＳＸＳｎＳＸ’、並
びにカルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は
前記に同じ。〕 一般式（１ｐ）の化合物のハロゲン化反応は、ハロゲン
化剤の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒下にて行なわれ
る。ハロゲン化剤としては、塩酸、臭化水素酸等のハロ
ゲン化水素酸、Ｎ、Ｎ−ジエチル−１）　　２１　２−
トリクロロビニルアミド、五塩化リン、五臭化リン、オ
キシ塩化リン、チオニルクロリド等を例示できる。斯か
るハロゲン化剤の使用全としては、化合物（１ｐ）に対
して少なくとも等モル、通常大過剰世とするのがよい。

溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等を
例示できる。上記反応は、通常−２０〜１５０°Ｃ１好
ましくは一２０〜８０℃にて好適に進行し、一般に１０
分〜６時間程度で完了する。

一般式（１ｑ）の化合物と一般式（１８）の化合物との
反応は、塩基性化合物の存在下又は不存在下、適当な溶
媒中又は無溶媒下にて行なわれる。

用いられる塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウム
アミド、水素化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等のアルコール類、ト
リエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン
等の有機塩基等を挙げることができる。また溶媒として
は、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパツ
ール等の低級アルコール類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、オクタン、シク
ロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、アセトニ
トリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯＳＨＭＰＡ等の極性溶媒やこ
れらの混合溶媒等を例示できる。化合物（１ｑ）と化合
物（１８）との使用割合としては、前者に対して後者を
少なくとも等モル、通常大過剰量とするのがよい。上記
反応は、通常Ｏ〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃に
て好適に進行し、一般に１０分〜１０時間程度で完結す
る。

反応式−１３ （１ｓ）　　　　　　　　　　　　（１ｕ）〔式中Ｒ，
Ｒ’　、Ｒ２、ＺＳＡ、並びにカルボスチリル骨格の３
位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（１ｓ）の化合物を酸化して一般式（１ｔ）の化
合物を得る反応、一般式（１ｓ）の化合物を酸化して一
般式（１ｕ）の化合物を得る反応及び一般式（１ｔ）の
化合物を酸化して一般式（１ｕ）の化合物を得る反応は
、酸化剤の存在下適当な溶媒中にて行なわれる。ここで
使用される酸化剤としては、スルフィド基をスルホキシ
ド基又はスルホン基に酸化し得るものである限り従来公
知のものをいずれも使用でき、例えば過蟻酸、過酢酸、
過トリフルオロ酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香
酸、０−カルボニル安息香酸等の過酸類、過酸化水素、
重クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウ
ム等の重クロム酸塩、過マンガン酸、過マンガン酸ナト
リウム、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩等を
ＥＦ１１示できる。また溶媒としては、水、蟻酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸等の有機酸、メタノール、エタノー
ル等のアルコール類、クロロホルム、ジクロ口メタン等
のハロゲン化炭化水素類やこれらの混合溶媒等を挙げる
ことができる。上記反応は、通常−２０〜４０°Ｃ１好
ましくは一り０℃〜室温付近にて好適に進行し、一般に
０．５〜５０時間程度で完了する。

化合物（１ｓ）を酸化して化合物（１ｔ）を得る場合に
は、上記酸化剤を化合物（１ｓ）に対して通常少なくと
も等モル、好ましくは等モル〜１．５倍モル量程度使用
するのがよい。

化合物（１ｓ）を酸化して化合物（１ｕ）を得る場合に
は、上記酸化剤を化合物（１ｓ）に対して通常少なくと
も２倍モル、好ましくは２〜４倍モル全程度使用するの
がよい。

化合物（１ｔ）を酸化して化合物（１ｕ）を得る場合に
は、上記酸化剤を化合物（１ｔ）に対して通常少なくと
も等モル、好ましくは等モル−４倍モル全程度使用する
のがよい。

反応式−１４ 〔式中Ｒ，Ｒ’　、Ｒ２、ＡＳＸ、ｎ、Ｘ’　、及びカ
ルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に
同じ。〕 一般式（１９）の化合物と一般式（２ｏ）の化合物との
反応は、一般にフリーデル−クラフト反応と呼ばれてい
るものであり、ルイス酸の存在下適当な溶媒中にて行な
われる。ここでルイス酸としては、例えば塩化アルミニ
ウム、塩化亜鉛、塩化第二鉄、塩化第二錫、三臭化硼素
、三弗化硼素、濃硫酸等を挙げることができる。斯がる
ルイス酸の使用全としては、化合物（１９）に対して通
常等モル〜６倍モル量、好ましくは等モル−４倍モル足
とするのがよい。また溶媒としては、例えば二硫化炭素
、ニトロベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素
類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素、トリクロロエタン、テトラクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。化合物（１９
）と化合物（２０）との使用割合としては、通常前者に
対して後者を少なくとも等モル、好ましくは等モル−４
倍モルとするのがよい。上記反応は、通常０〜１２０℃
、好ましくは０°Ｃ〜７０°Ｃ付近にて好適に進行し、
一般に０．５〜６時間程度で終了する。

上記反応式−３において出発原料として用いられる化合
物（６）及び上記反応式−６において出発原料として用
いられる化合物（９）は、例えば下記に示す方法によっ
ても製造される。

反応式−１５ ぺ２１ （６ｅ） 〔式中Ｒ，Ｒ’　、Ｒ２、Ｒ３、Ａ、ＸＩ　、Ｘ’、並
びにカルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は
前記に同じ。〕 一般式（６ａ）の化合物の還元反応は、前記化合物（１
ｄ）の還元反応と同様の反応条件下にて行ない得る。

一般式（６ｂ）の化合物のハロゲン化反応は、前記化合
物（１ｐ）のハロゲン化反応と同様の反応条件下にて行
ない得る。

一般式（６ｄ）の化合物と化合物（１８）との反応は、
前記化合物（１ｑ）と化合物（１８）との反応と同様の
反応条件下にて行ない得る。尚、該反応において、化合
物（６ｄ）のＸｌが基Ｒ３０−で置換された化合物及び
化合物（６ｄ）のＸｌ及びＸｉがそれぞれ基Ｒ３０−で
置換された化合物が生成するが、これらの化合物は化合
物（６ｅ）から容易に分離することができる。

一般式（６ａ）の化合物とヒドロキシルアミン（１７）
との反応は、前記化合物（１ｑ）とヒドロキシルアミン
（１７）との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。

尚、該反応において、化合物（６ａ）のＸｌがヒドロキ
シルアミン（１７）と反応した化合物が生成するが、該
化合物は化合物（６Ｃ）から容易に分離することができ
る。

反応式−１６ ＲＩ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｒ
１（６ｆ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
２２）ＲＩ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　Ｒ１（２４＞　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　（９ｂ）（９ａ） ＜２９＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　　＜６
ｈ）〔式中Ｒ１、Ｒ２、ＺｌＸｌ、Ｘム、並びにカルボ
スチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ
。Ｒ８及びＲ９は低級アルキル基を示す。Ａ′は低級ア
ルキレン基を示す。〕一般式（６ｆ）の化合物と一般式
（２３）の化合物との反応は、適当な溶媒中で行なわれ
る。ここで化合物（２３）としては、例えばシアン化カ
リウム、シアン化ナトリウム、シアン化銀、シアン化銅
、シアン化カルシウム等のシアン化物を例示できる。ま
た溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノール、
イソプロパツール等のアルコール類やこれらの混合溶媒
等を挙げることができる。化合物（１ｆ）と化合物（２
３）との使用割合としては、通常前者に対して後者を少
なくとも等モル、好ましくは等モル−１，５倍モル量と
するのがよい。該反応は、通常室温〜１５０°Ｃ１好ま
しくは５０〜１２０℃付近にて好適に進行し、一般に３
０分〜１０時間程度で終了する。

一般式（２４）の化合物の加水分解反応は、塩酸、臭化
水素酸等のハロゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の鉱酸、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩乃至炭酸水素塩等の加水分
解触媒の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒にて行なわれ
る。使用される溶媒としては、例えば水、メタノール、
エタノール等のアルコール類やこれらの混合溶媒等が挙
げられる。該反応は、通常５０〜１５０°Ｃ１好ましく
は７０〜１００°Ｃ付近にて好適に進行し、一般に１〜
２４時間程時間路了する。斯くして一般式（９ａ）の化
合物が収得される。

化合物（６ｆ）と一般式（２１）の化合物との反応は、
塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中にて行なわれる。

使用される塩基性化合物としては、例えば炭酸カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムア
ミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウム
メチラート、ナトリウムエチラート等の無機塩基、トリ
エチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリ
ン等のアミン類等を挙げることができる。また用いられ
る溶媒としては、例えばジオキサン、テチラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、イソ
プロパツール等の低級アルコール類、ＤＭＦＳＤＭＳＯ
等の極性溶媒等を例示できる。該反応は、反応系内に沃
化カリウム、沃化ナトリウム等のアルカリ金属沃化物等
を存在させることにより有利に進行する。化合物（６ｆ
）と化合物（１つ）との使用割合としては、通常前者に
対して後者を等モル−大過剰量、好ましくは等モル−５
倍モル量、より好ましくは等モル−１，２倍モル量とす
るのがよい。該反応は、通常室温〜２００°Ｃ１好まし
くは６０〜１２０°Ｃ付近にて好適に進行し、一般に１
、〜２４時間時間下終了する。

一般式（２２）の化合物の加水分解反応は、上記化合物
（２４）の加水分解反応と同様の反応条件下にて行ない
得る。斯くして一般式（９ｂ）の化合物を収得し得る。

化合物（９ａ）又は化合物（９ｂ）と一般式（２５）の
化合物との反応は、通常のエステル化反応の条件が適用
され、例えば（１）適当な溶媒中、脱水剤の存在下に行
なう方法、（２）適当な溶媒中、酸又は塩基性化合物の
存在下に行なう方法等を挙げることができる。

上記（１）の方法において使用される溶媒としては、例
えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒド口フラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯＳＨＭＰＡ等の極性溶媒等を例
示できる。また使用される脱水剤としては、例えばジシ
クロへキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾー
ル等が挙げられる。斯かる脱水剤の使用量としては、化
合物（９ａ）又は（９ｂ）に対して通常少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル−１，５倍モル量とするのがよい
。化合物（９ａ）又は（９ｂ）と化合物（２５）との使
用割合としては、通常前者に対して後者を少なくとも等
モル、好ましくは等モル−１，５倍モル全とするのがよ
い。該反応は、通常室温〜１５０℃、好ましくは５０〜
１００°Ｃ付近にて好適に進行し、一般に１〜１０時間
程時間路了する。

上記（２）の方法において使用される酸としては、例え
ば塩酸ガス、硫酸、燐酸、ポリリン酸、三弗化硼素、過
塩素酸等の無機酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸等
の有機酸、トリクロロメタンスルホン酸無水物、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物等の酸無水物、チオニル
クロライド、アセトンジメチルアセタール等を例示でき
る。更に酸性イオン交換樹脂も使用することができる。

また塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩基、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコ
ラード類等を例示できる。該反応は無溶媒下でも行ない
得るが、前記（１）の方法で例示した溶媒を用いて有利
に行なわれる。更に該反応は、無水塩化カルシウム、無
水硫酸銅、無水硫酸カルシウム、五酸化リン等の乾燥剤
を使用すると有利に進行する。化合物（２５）の使用量
としては、無溶媒の時には通常大過剰量使用するのがよ
く、溶媒の存在下の時には通常等モル−５倍モル士、好
ましくは等モル−２倍モルロ使用するのがよい。該反応
は、通常−２０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃付
近にて好適に進行し、一般に１〜２０時間程時間路了す
る。

化合物（９ａ）、化合物（９ｂ）、化合物（２６）又は
化合物（２８）の還元反応は、適当な溶媒中、水素化還
元剤の存在下に行なわれる。

使用される還元剤としては、水素化硼素ナトリウム、水
素化アルミニウムリチウム、ジボラン等を例示できる。

斯かる還元剤の使用量としては、処理すべき化合物に対
して通常少なくとも等モル、好ましくは等モル−３倍モ
ル量とするのがよい。

特に水素化アルミニウムリチウムを還元剤として使用す
る場合には、処理すべき化合物に対して等重量使用する
のが好ましい。また用いられる溶媒としては、例えば水
、メタノール、エタノール、イソプロパツール等の低級
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、ジグライム等のエーテル類等を挙げることができる。

特に還元剤として水素化アルミニウムリチウムやジボラ
ンを使用する場合には、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジグライム等の無水溶媒を使用するのがよい
。該反応は、通常−６０〜５０６Ｃ１好ましくは一５０
０Ｃ〜室温付近にて好適に進行し、一般に１０分〜５時
間程度で終了する。

一般式（２７）の化合物又は一般式（２つ）の化合物の
ハロゲン化は、上記化合物（１ｐ）のハロゲン化反応と
同様の反応条件下にて行ない得る。

上記反応式−１６の反応を順次繰り返すことにより、所
望の化合物（６）又は化合物（９）を製造し得る。

上記一般式（１）のカルボスチリル誘導体は、薬理的に
許容される酸と塩を形成させることができる。斯かる酸
としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、
蓚酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、酢酸、リン
ゴ酸、クエン酸、乳酸等の有機酸を例示できる。

また上記一般式（１）のカルボスチリル誘導体の内、酸
性基を有する化合物は、薬理的に許容される塩基と塩を
形成させることができる。斯かる塩基としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のア
ルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物を例示でき
る。

本発明の化合物は、当然に光学異性体、立体異性体を含
有するものである。

本発明の化合物は通常、一般的な医薬製剤の形態で用い
られる。製剤は通常使用される充填剤、増旦剤、結合剤
、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤ある
いは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤としては
各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的な
ものとして錠剤、光列、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆
粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）等
が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては、担体
としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例え
ば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デン
プン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、ケ
イ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツール、単シ
ロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カル
ボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース
、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、
乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラ
ミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポ
リオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デン
プン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバタ
ー、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩
基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリ
ン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、
ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タル
ク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコー
ル等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤は必要に応じ
通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包
錠、腸溶破錠、フィルムコーティング錠あるいは二重錠
、多層錠とすることができる。光列の形態に成形するに
際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く
使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂
、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビア
ゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合
剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等が例示できる。坐
剤の形態に成形するに際しては、担体として従来公知の
ものを広く使用でき、例えばポリエチレングリコール、
カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル
類、ゼラチン、半合成グリセライド等を挙げることがで
きる。注射剤として調製される場合には、液剤、乳剤及
び懸濁剤は殺菌され、かっ血液と等張であるのが好まし
く、これら液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成形するに際
しては、希釈剤としてこの分野において慣用されている
ものをすべて使用でき、例えば水、乳酸水溶液、エチル
アルコール、プロピレングリコール、エトキシ化イソス
テアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアル
コール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
類等を挙げることができる。なお、この場合等強性の溶
液を調製するに充分な盆の食塩、ブドウ糖あるいはグリ
セリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の
溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更
に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤
等や池の医薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペ
ースト、クリーム及びゲルの形態に成形するに陛しては
、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフィン、グリ
セリン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、
シリコン、ベントナイト等を使用できる。

本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般式（１）の化
合物又はその塩の量は、特に限定されず広範囲に適宜選
択されるが、通常全組成物中１〜７０重量％とするのが
よい。

本発明の医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じた方法で投与される。例えば錠剤、火剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投
与される。また注射剤の場合には単独であるいはブドウ
糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され
、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もしく
は腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与される
。

本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別そ
の他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通
常有効成分である一般式（１）の化合物のｉは１日当り
体重１ｋｇ当り約０．０６〜１００１１１ｇとするのが
よく、該製剤は１日に２〜４回に分けて投与することが
できる。

実施例 以下に製剤例、参考例、実施例、及び薬理試験を掲げる
。

製剤例１ 錠剤の調製 配　　合　　　　　　　　　　量（ｇ）６−　（２−（
１−フェニル− ２−イミダゾリル）チオアセ チル］−３，４−ジヒドロカ ルボスチリル　　　　　　　　　　　５乳糖（日本薬局
方晶）５０ コーンスターチ（日本薬局方晶）２５ 結晶セルローズ（日本薬局方晶）２５ メチルセルローズ（日本薬局方晶）１．５ステアリン酸
マグネシウム （日本薬局方晶）　　　　　　　　１ 上記本発明の化合物、乳糖、コーンスターチ及び結晶セ
ルローズを充分混合し、メチルセルローズの５％水溶液
で顆粒化し、２００メツシユの篩に通して注意深く乾燥
し、これを常法により打錠して錠剤１０００錠を調製す
る。

製剤例２ カプセル剤の調製 配　　　合　　　　　　　　　　　量　（ｇ）６−　（
３−［：１−　（３−ピリ ジル）−２−イミダゾリル） チオプロポキシ）−３，４− ジヒドロカルボスチリル　　　　　１０乳糖（日本薬局
方晶）８０ 澱粉（日本薬局方晶）３０ 滑石（日本薬局方晶）　　　　　　　　５ステアリン酸
マグネシウム （日本薬局方晶）　　　　　　　　１ 上記成分を細かく粉末にし、均一な混合物になるように
充分攪拌したのち所望の寸法を有する経口投与用のゼラ
チンカプセルに充填し、カプセル１０００個を調製する
。

製剤例３ 注射剤の調製 配　　合　　　　　　　　　　全（ｇ）６−　［２−（
１−フェニル− ２−イミダゾリル）チオアセ チル〕−３，４−ジヒドロカ ルボスチリル　　　　　　　　　　　１ポリエチレング
リコール（分子量： ４０００）（日本薬局方晶）ｏ、３ 塩化ナトリウム（日本薬局方晶）ｏ、９ポリオキシエチ
レンソルビタン モノオレート（日本薬局方晶）　　　０．４メタ重亜硫
酸ナトリウム　　　　　　０．　１メチル−パラベン（
日本薬局方品）０．１８プロピル−パラベン（日本薬局
方品）０．０２注射用蒸留水　　　　　　　　　　１０
１００（り上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及
び塩化ナトリウムを攪拌しながら８０℃で上記の約半全
の蒸留水に溶解し、その溶液を４０°Ｃまで冷却し、本
発明の化合物、ポリエチレングリコール及びポリオキシ
エチレンソルビタンモノオレエートをその溶液中に溶解
し、その溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容量゛に調
製し、適当なフィルターペーパーを用いて滅菌濾過する
ことにより滅菌して注射剤を調製する。

参考例１ ６−（４−クロロブチリル）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル１０ｇ　（３９，７ｍモル）をベンゼン３００
　ｍＱに溶解させ、これにエチレングリコール７．４ｇ
　（１２０ｍモル）、ｐ−トルエンスルホン酸３００ｍ
ｇを加え、ディーンスターク中、脱水しながら６時間加
熱還流する。冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水で中和
し、クロロホルムにて抽出する。水洗、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を濃縮する。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：
メタノール＝４０　：　１）で精製して、１０．５ｇの
６−（１−エチレンジオキシ−４−クロロブチル）−３
，４−ジヒドロカルボスチリルを得る。

参考例２ メチルシクロｔ＼キシルカルボキシレート２８ｇと８５
％Ｎ　Ｈ２Ｎ　Ｈ２・Ｈ２Ｏ１５ｇをイソプロピルアル
コール５０ｍ１２に溶解し、１０時間加熱還流する。濃
縮後、水を加えて析出する結晶をか取し、水洗後、水か
ら再結晶すると無色針状晶のシクロヘキサンカルボヒド
ラジド２０ｇを得る。

融点１５５．５〜１５６．５℃ 実施例１ ６−（３−ブロモプロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル２−　　Ｏｇ　（７，０ｍモル）、２−メチ
ルイミダゾール２−　２ｇ　（７，７ｍモル）及びＤＢ
Ｕｌ、３ｍＱ　（８，４ｍモル）をイソプロパツール８
０ｍ１２に加え、２０時間加熱還流する。

濃縮後、残渣に水を加え、クロロホルムにて抽出する。

水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥、続いて濃縮する。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
液；ジクロロメタン：メタノール−２０：　１）にて精
製後、エタノール−ｎ−ヘキサンより再結晶して、１．
０ｇの６−　Ｃ３−（２−メチル−１−イミダゾリル）
プロポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリルを得る
。

白色粉末状 ｍｐ、１４１．５−１４２．５°Ｃ 実施例２ ６−メルカブトー３，４−ジヒドロカルボスチリル２．
４ｇ　（１３，４モル）、１−（３−ブロモプロピル）
−１，２，４−）−リアゾール３．３ｇ（１７，４ｍモ
ル）及びＤＢＵ２．６ｍｆ２（１７，４ｍモル）をイソ
プロパツール６０　ｍＱに加え、２時間加熱還流する。

反応終了後、濃縮し、残渣をクロロホルムにて抽出する
。水、飽和炭酸水素ナトリウム水、水の順に洗浄し、硫
酸ナトリウ１４にて乾燥する。溶媒を濃縮後、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；
ジクロロメタン：メタノール＝２０　＋　１）にて精製
後、エタノール−ｎ−ヘキサンより再結晶して、２．５
ｇの６−［３−（ＩＨ−１，２，４−トリアゾール−１
−イル）プロピルチオ）−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルを得る。

ｍｐ、１１４．５〜１１５．５°Ｃ 無色針状晶 適当な出発原料を用い、実施例１及び２と同様にして下
記第１表に示す化合物を得る。

１）　　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）δ：１．　８２〜
２．　２４　　（２Ｈ，ｍ）２、　２５〜２．　６０　
　（２Ｈ，ｍ）２、　６５〜３．　００　　（２ＨＳ　
ｍ）３、　２０　　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）４、　０
２　　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）６、　５６〜６．　９
７　　（３Ｈ，ｍ）７、　０７〜７．８８　　（６ＨＳ
　ｍ）９、　８８　　（ＩＨ，ｂｒｓ　） 実施例６９ ６−（１−エチレンジオキシ−４−クロロブチル）−３
，４−ジヒドロカルボスチリル１０．５ｇ　（３５，５
ｍモル）をジメチルホルムアミド１７０ｍＱに溶解させ
、沃化ナトリウム１０．６ｇ（７１ｍモル）　、ＩＨ−
１，２，４−）リアゾール５．４ｇ　（７８，１ｍモル
）及びＤＢＵ６．５ｍＧ（４６，２ｍモル）を加え、８
０℃にて７時間加熱攪拌する。溶媒を減圧下濃縮後、残
渣をクロロホルムにて抽出する。水洗、硫酸マグネシウ
ムにて乾燥後、濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：メタ
ノール−４０：１）にて精製後、エタノール−ｎ−ヘキ
サンより再結晶して、８．Ｏｇの無色粒状晶の６−〔１
−エチレンジオキシ−４−（ＩＨ−１，２，４−トリア
ゾール−１−イル）ブチル］−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。次に、ここで得られた６−〔１−エチ
レンジオキシ−４−（ＩＨ−１，２，４−）リアゾール
−１−イル）ブチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルＩｇ　（３，０ｍモル）のＤＭＦ１０ｍｆ２溶液に５
％塩酸３鵬を加え、室温下、２時間攪拌する。溶媒を濃
縮後、得られた残渣をクロロホルム：メタノール−３：
１で抽出する。水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、続いて
溶媒を濃縮する。クロロホルム−エタノールより再結晶
して、６−（４−（ＩＨ−１，２，４−）リアゾール−
１−イル）ブチリル）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルを得る。

無色針状晶 ｍｐ、１９４．０〜１９５．０℃ 適当な出発原料を用い、実施例６９と同様にして前記実
施例５．７〜１２．１４．１８〜２０．２６．２８．３
４．３６．３７．４１．４３〜５１．１６９．１７０の
化合物及び下記第２表に示す化合物を得る。

実施例８５ ６−α−クロロアセチル−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル２．２４ｇ　（１０ｍモル）、１−フェニル−２−
メルカプトイミダゾール１．　９４ｇ（１１ｍモル）及
びＤＢＵｌ、７５１１Ｇ（１２ｍモル）をイソプロパツ
ール８０ｍＱに加え、１ｏ分間加熱還流する。冷浸、析
出晶を炉取、イソプロパツールで洗浄する。エタノール
より再結晶して、６−　（２−（１−フェニル−２−イ
ミダゾリル）チオアセチル）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。

淡黄色針状晶 ｍｐ、２０９．０〜２１０．０’Ｃ 実施例８６ ６−（２−ブロモブチリル）　−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル２．０ｇ　（６，８ｍモル）、１−フェニル
−２−メルカプトイミダゾール１．４ｇ　（８，１ｍモ
ル）及びＤＢＵｌ、　　１１１１０（８，１ｍモル）を
イソプロパツール６０ｍ（ｌに加え、３時間加熱還流す
る。反応終了後、溶媒を濃縮し、得られた残渣をクロロ
ホルムにて抽出する。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥後
、溶媒を濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出液；ジクロロメタン：メタノー
ル＝２０＝１）にて精製後、クロロホルム−ｎ−ヘキサ
ンより再結晶して、２ｇの６−（２−（１−フェニル−
２−イミダゾリル）チオブチリル）−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルを得る。

無色針状晶 ｍｐ、８２．０〜８４．５℃ 適当な出発原料を用い、実施例８５及び８６と同様にし
て前記実施例３．１３．１５〜１７．２１〜２５．２７
．２９〜３３．３５．３８〜４０．４２．５２〜６５．
１７５〜２０２の化合物及び下記第３表に示す化合物を
得る。

２）　　ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）　　δ：１．　８７〜
２．　３０　　（２ＨＳ　ｍ）２．４８〜２．　７５　
　（２Ｈ，ｔｒｌｐｌｅｔｏｉｄ　　ｍ）２、　８０〜
３．　１０　　（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　　ｍ）
３、　１０〜３．　６７　　（２Ｈ，ｍ）４、　７４〜
４．　９７　　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ−９Ｈｚ。

４．５Ｈｚ） ６．７３　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）７、　０７〜７
．　７５　　（ＩＯＨ，ｍ）８、　４７〜８．　８０　
　（ＩＨ，ｂｒｏａｄ　）実施例１４１ ６−　［３−（２−イミダゾリル）チオプロポキシ］−
３，４−ジヒドロカルボスチリル２ｇ（６，６ｍモル）
のＤＭＦ５０ｍＧ溶液に水酸化カリウム５２０ｍｇ（７
，９ｍモル）を加え、室温下２０分攪拌する。次にエチ
ルブロマイド１．　５１１１０（１９，８ｍモル）を水
冷工法下し、４０〜５０℃で１０分間攪拌する。溶媒を
減圧下濃縮し、残渣に水を加え、クロロホルムで抽出す
る。水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を濃縮する。

得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
溶出液；クロロホルム：メタノール：酢酸エチル−１０
：１：２０）にて精製後、エタノール−ｎ−ヘキサンよ
り再結晶して、１．２ｇ（７）６−（３−（１−エチル
−２−イミダゾリル）チオプロポキシ）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルを得る。無色針状晶 ｍｐ、１２０．５〜１２１．０℃ 適当な出発原料を用い、実施例１０８と同様にして前記
実施例３．１３．１５．２５．２９．３０．３１．３２
．３５．３８〜４０．４２．５５〜６５．８５〜１０３
．１０７．１０９〜１１０．１１２〜１３７．１７３〜
１７９．１８２．１８５〜１８８．１９０〜１９１．１
９５〜１９９及び２０２の化合物を得る。

実施例１４２ ６−（２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオア
セチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル２ｇ　（５
，５ｍモル）のＤＭＦ　：メタノール−３：１混合溶液
８０Ｉｒｌ１２に水素化ホウ素ナトリウム２０８Ｂ（５
，５ｍモル）を加え、５０〜６０℃にて１時間加熱攪拌
する。溶媒を濃縮後、残渣をＩＮ−塩酸５０ｍＧに注ぎ
込む。ＩＮ−水酸化ナトリウムでアルカリ性とした後、
析出晶を炉取、水洗、乾燥する。エタノールより再結晶
して、１．５ｇの６−〔１−ヒドロキシ−２−（ｌ−フ
ェニル−２−イミダゾリル）チオエチル〕−３゜４−ジ
ヒドロカルボスチリルを得る。

黄色針状晶 ｍｐ、１９７．０〜１９８．５℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４２と同様にして前記
実施例９１．９２．１７２．１８５及び１９０の化合物
を得る。

実施例１４３ Ｎ′−シクロヘキシカルボニル−４−（６−（１，２−
ジヒドロ−２−オキソキノリルオキシ）〕ブチロヒドラ
ジド３ｇにポリリン酸１２０ｇを加え、油浴の温度１９
０〜２１０℃にて１０分間時々攪拌しながら加熱する。

冷浸、反応液を氷水４００ｍＧに注ぎ、クロロホルムで
抽出する。クロロホルム層を水洗後、硫酸ナトリウムで
乾燥し、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（クロロホルム：メタノール−２０：　１）で精
製する。クロロホルム−石油エーテルより再結晶して、
黄色針状晶の６−　［３−（２−シクロへキシル−１，
３，４−オキサジアゾール−５−イル）プロポキシ］カ
ルボスチリル０．４ｇを得る。

ｍｐ１６０〜１６１．５℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４３と同様にして前記
実施例４及び１５０〜１６６の化合物を得る。

実施例１４４ ６−　［３−（１，２，４−１リアゾール−１−イル）
プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル２ｇ　
（７，３５ｍモル）のＤＭＦ溶液２０−に、水素化ナト
リウム（６０％油性）３５０ｍｇ（８，８ｍモル）を加
え、６０℃で３０分加熱する。その後水冷下、エチルブ
ロマイド０．６回（８，１ｍモル）を滴下する。室温下
、３時間攪拌後、反応混合物に水を加え、クロロホルム
で抽出する。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥後、溶媒を
留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出液；ジクロロメタン：メタノール＝３０
　：　１）にて精製後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより
再結晶して、１．８ｇの１−エチル−６−（５−（１，
２，４−トリアゾール−１−イル）プロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルを得る。

無色針状晶 ｍｐ、９７．０〜９８．０℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４４と同様にして前記
実施例４４及び１００の化合物を得る。

実施例１４５ ６−（２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオア
セチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル３．６３ｇ
　（１０ｍモル）及びヒドロキシルアミン塩酸塩１．０
９ｇ　（１５ｍモル）をエタノール１００戒及び水２０
回の混液に懸濁し、水酸化ナトリウムの粉末２．０ｇ　
（５０ｍモル）を激しく攪拌しながら加え、室温下に３
０分攪拌する。

反応終了後、反応液を５％塩酸にて中和後、クロロホル
ム：メタノール−８：１にて抽出、硫酸マグネシウムで
乾燥、溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：メタノ
ール−２０：１）にて精製後、エタノールより再結晶し
て、３．　３４ｇの６−〔１−ヒドロキシイミノ−２−
（ｌ−フェニル−２−イミダゾリル）チオエチル）−３
，４−ジヒドロカルボスチリルを得る。

白色粉末状 ｍｐ２０１．０〜２０２．０℃ 実施例１４６ ６−〔１−ヒドロキシ−２−（ｌ−フェニル−２−イミ
ダゾリル）チオエチル）　−３，４−ジヒドロカルボス
チリル３．０ｇ　（８，１７ｍモル）を、−１０℃にて
チオニルクロリド９ｍＱ中に加え、３０分同温度にて攪
拌後、メタノール５０−を滴下する。その後室温にて３
０分攪拌する。反応終了後、反応液を炭酸水素ナトリウ
ムにてアルカリ性とし、クロロホルムで抽出する。硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。エタノールよ
り再結晶して、１．５ｇの６−〔１−メトキシ−２−（
ｌ−フェニル−２−イミダゾリル）チオエチル）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルを得る。

無色プリズム状 ｍｐ、１９３．０〜１９４．０℃ 実施例１４７ ６−　（２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオ
アセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル４．４７
ｇ　（１２，３ｍモル）をクロロホルム２０〇−及び酢
酸４５戒に溶解し、水冷下ｍ−クロロ過安息香酸３．Ｏ
ｇ　（１５，０ｍモル）を加え、同温度にて１時間攪拌
する。反応終了後、炭酸水素ナトリウムにてアルカリ性
とし、クロロホルムにて抽出する。クロロホルム層より
析出する結晶を炉取後、エタノールにて洗浄して、４．
　０ｇの６−　（２−（１−フェニル−２−イミダゾリ
ル）スルフィニルアセチル］−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。

白色粉末状 ｍｐ、１９５℃（分解） 適当な出発原料を用い、実施例１４７と同様にして後記
実施例１９１．１９３．１９６．１９９〜２００の化合
物を得る。

実施例１４８ ６−　Ｃ２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）スル
フィニルアセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
３．７９ｇ　（１０ｍモル）を酢酸２４０　ｍＱ及び水
１００ｍ１の混液に溶かし、過マンガン酸カリウム５．
０６ｇ　（３２ｍモル）を加え、室温下に２日間攪拌す
る。反応終了後、反応液にクロロホルムを加え、セライ
トにて濾過する。炉液を水洗、硫酸マグネシウムにて乾
燥する。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：メタノ
ール−３０：１）にて精製後、エタノール−クロロホル
ムより再結晶して、０．６ｇの６−　（２−（１−フェ
ニル−２−イミダゾリル）スルホニルアセチル］−３，
４−ジヒドロカルボスチリルを得る。

淡黄色粒状 ｍｐ、１９９〜２０１℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４８と同様にして後記
実施例１９４〜１９５．１９７．２０１〜２０２の化合
物を得る。

実施例１４９ ２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオアセチル
クロリド２３．３ｇ　（０，０９６モル）、及び塩化ア
ルミニウム１２．８ｇ　（０，０９６モル）の二硫化炭
素６０鵬溶液中、室温、攪拌下、３．４−ジヒドロカル
ボスチリル３．５ｇ（０，０２４モル）を少量ずつ添加
する。添加終了後、２．５時間加熱還流する。二硫化炭
素をデカントして除き、残渣を氷水に注ぎ込む。析出晶
を炉取、水洗後、エタノールより再結晶して、１７ｇの
６−　［２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオ
アセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを得る。

淡黄色針状晶 ｍｐ、２０９．０〜２１０．０℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４９と同様にして前記
実施例６９〜８４．８６〜８７．８９〜９０．９３〜９
４．９７〜１４０．１７１．１７３〜１８４．１８６〜
１８９及び１９１〜２０２の化合物を得る。

適当な出発原料を用い、実施例１及び２と同様にして下
記第４表に示す化合物を得る。

第　　　４　　　表 適当な出発原料を用い、実施例６９と同様にして下記第
５表に示す化合物を得る。

第　　　５　　　表 Ｒ′！Ｉ 適当な出発原料を用い、実施例８５及び８６と同様にし
て下記第６表に示す化合物を得る。

第　　　６　　　表 ＮＭＲ３）（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ；　２．０？＜３Ｈ，
ｓ）、２．３７−２．７２（ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｍ
、２Ｈ）、２．８０−３．１５（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔ
ｏｌｄ　０１）、５４８（２Ｈ，ｓ）、５．３３（ＬＨ
，ｓ）、６．９３（ＬＨ，ｄ、Ｊ−９１１２）、７．６
７−８．１０（２Ｈ，ｍ）　　、１０．５０（ＩＨ，Ｓ
）、 ９．６７−１１．００（ＩＨ，ｂｒｏａｄ）、ＮＭＲ４
）　　ＣＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ；　１．９０−２．１４
（３Ｈ，ｓ　ｏｆ　ｔｗｏ　ｐｅａｋｓ）、２．４０−
２．７０（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｍ）、２．８
０−３．１２（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｍ）、４
．４０−４．７２（２）］、ｂｒｏａｄ）、８．５２−
８．９０（２）１．ｓｌｎｇｌｅｔ　ｏｆ　ｔｗ。

ｐｅａｋｓ＞、 ６．９６（ＬＨ，ｄ、Ｊ−８，８Ｈ２）、７．７２−７
．９６（２Ｈ，ｍ）、 １０．４８（ＩＨ，ｓ）、 １１．８４−１２．２２（ｌ）１．ｂｒｏａｄ　ｔｗ。

ｐｅａｋｓ）、 ＮＭＲ５）（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ；　１．２７（３Ｈ，
ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｍ）、２．２４−２．４８（３
Ｈ，ｔｗｏ　ｐｅａｋｓ）、２．４６−２．８４（２１
１，ｔｒｉｐ！ｅｔｏｉｄ　ｍ）、２．８４−２．８４
（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｌ１１）、４．０６−
４Ｊ４（２Ｈ，ｑｕａｒｔｅｔｏｉｄ　！Ｉり、４．５
２−４．９２（２Ｈ，ｔｗｏ　ｐｅａｋｓ）、６．９６
（ＩＨ，ｄ、Ｊ４．８Ｈｚ）、８．７０−８．９４（２
！！、ｍ）、 薬理試験方法 血小板粘着抑制率はＳａｌＺｍａｎガラスピース法を用
いて測定した。

供試化合物をアラビアゴムに懸濁し、生後６週令のウィ
スター系雄性ラット（体重１５０〜２００　ｇ）に１０
０　ｍｇ／　ｋｇ／　５　ｍＱ経口投与し、約３時間後
エーテル麻酔下に開腹し、腹部下行大静脈よりガラスピ
ーズカラム（医学書院器械社製）を介し、定時間血液吸
引装置（医学書院器械社製）を用いて１ｍＱ／ｍｉｎの
速度で採血した。対照群は１％アラビアゴム溶液を経口
投与し、同様にして採血した。採取した血液を直ちにＥ
ＤＴＡ入りプラスチックボトル（東亜医用電子社製、シ
スメックス５Ｂ−４１）に移し、ローリングミキサー（
サーマル科学産業製）にて回転混和した。血液中の血小
板数を自動血球計数器（オルソダイアグノスティック社
製、ＥＬＴ−８）により計数し血小板粘着率を次式より
算出した。

血小板粘着抑制率は次式から算出した。

供試化合物Ｎｏ。

１　６−［３−（１−メチル−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イル）チオプロポキシ〕−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル ２　６−［３−（２−シクロへキシル−１，３゜４−オ
キサジアゾール−５−イル）プロポキシ〕−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル ３　６−（３−（１−イミダゾリル）プロポキン〕カル
ボスチリル・塩酸塩 ４　６−（３−（２−シクロへキシル−１，３゜４−オ
キサジアゾール−５−イル）プロポキシ〕カルボスチリ
ル ５　６−ＣＢ−（１，２，４−トリアゾール−１−イル
）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ６　６−　（３−（１，２，３，４−テトラゾール−１
−イル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル ７　６−［３−（２−メチル−１−イミダゾリル）プロ
ポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ８　６−　［３−（１，２，４−）リアゾール−１−イ
ル）プロポキシ〕カルボスチリル ９　６−（３−（２−メチル−１−イミダゾリル）プロ
ポキシ〕カルボスチリル １０　６−　ＣＢ−（１，２，４，５−テトラゾール−
１−イル）プロポキシ〕カルボスチリル１１　６−　（
３−（１，，２，３，４−テトラゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕カルボスチリル１２　６−［３−（１−フェ
ニル−２−イミダゾリル）チオプロポキシ］−３，４−
ジヒドロカルボスチリル １３　６−　ＣＢ−（１−イミダゾリル）プロポキシ］
−３，４−ジヒドロカルボスチリル１４　６−　（３−
（１−フェニル−１，３，４−トリアゾール−２−イル
）チオプロポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル １５　６−　［３−（２−イミダゾリル）チオプロポキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル１６　６−　Ｃ
Ｂ−（１−エチル−２−イミダゾリル）チオプロポキシ
）−３，４−ジヒドロカルボスチリル １７　８−　［３−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）プロポキシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル １８　７−　［３−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）プロポキシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル １９　５−　［３−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ２０　６−　（３−（５−メチル−２−イミダゾリル）
チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ２１　６−　ＣＢ−（５−メトキシベンズイミダゾール
−２−イル）チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル・１水和物 ２２　６−　［３−（５−フェニル−２−イミダゾリル
）チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
・　１／２蓚酸塩 ２３　７−　ＣＢ−（１，３，４−トリアゾール−２−
イル）チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル ２４６−ＣＢ−（１−エチル−ベンズイミダゾール−２
−イル）チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル・　１／２水和物２５　７−　（２−（１，２，
４−）−リアゾール−１−イル）エトキシ）−３，４−
ジヒドロカルボスチリル ２６　７−　Ｃ３−（２−チアゾリニル）チオプロポキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル２７　７−　Ｃ
４−（１，２，４−）−リアゾール−１−イル）ブトキ
シゴー３．４−ジヒドロカルボスチリル ２８　７−　Ｃ３−（１−ベンジル−２−イミダゾリル
）チオプロポキン］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ２９　７−　Ｃ３−（１−アリル−２−イミダゾリル）
チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３０　７−　Ｃ３−（１−エチル−１，３，４−トリア
ゾール−２−イル）チオプロポキシ〕−３゜４−ジヒド
ロカルボスチリル ３１　７−　（３−（１−エチル−１，２，４−１リア
ゾール−３−イル）チオプロポモジ〕−３゜４−ジヒド
ロカルボスチリル ３２　７−　Ｃ３−（２−ピリジル）チオプロポキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル３３　７−　［５−
（１，２，４−トリアゾール−１−イル）ペンチルオキ
シ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３４　６−　Ｃ４−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）ブチリル］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３５　６−　（３−［：１−　（２−メチルフェニル）
−２−イミダゾリルコチオプロポキン）　−３゜４−ジ
ヒドロカルボスチリル ３６　６−　（２−（１，２，４−）リアゾール−１−
イル）エトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３７　６−　Ｃ４−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３８　６−　　（３−［１−（３−ピリジル）−２−イ
ミダゾリルコチオプロポキシｌ　−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル ３９　６−　＋３−　Ｃ１−（２−メトキシフェニル）
−２−イミダゾリルコチオプロポキシ）−３゜４−ジヒ
ドロカルボスチリル ４０　６−　（３−［１−（４−メチルフェニル）−２
−イミダゾリルコチオプロポキシ）−３゜４−ジヒドロ
カルボスチリル ４１　６−　ｆ［３−（１，２，４−トリアゾール−１
−イル）プロピルコアミノｌ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル ４２　６−　ｉ　（３−（１，２，４−トリアゾール−
１−イル）プロピル〕チオ＋−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル ４３　６−　（２−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）アセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ４４　６−　Ｃ２−（１−フェニル−２−イミダゾリル
）チオアセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ４５　６−　［２−（１−フェニル−２−イミダゾリル
）チオアセチル］カルボスチリル ４６６〜［２−（１−イミダゾリル）アセチルクー３．
４−ジヒドロカルボスチリル・臭素水素酸塩 ４７　６−　（２−（３−メチル−１−ピラゾリル）ア
セチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル４８　６−
　［２−（２−メチルチオ−４−メチル−１−イミダゾ
リル）アセチル］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ４９　６−ＣＩ−ヒドロ干ン−２−（Ｌ−フェニル−２
−イミダゾリル）チオエチル〕−３，４−ジヒドロ力ル
ポスチリル ５０　６−　（２−（１−エチル−２−イミダゾリル）
チオアセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５１　６−　（２−（１−アリル−２−イミダゾリル）
チオアセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５２　６−［１−ヒドロキシ−４−（ｌ−フェニル−２
−イミダゾリル）チオブチル］−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル ５３　６−ＣＩ−ヒドロキシ−５−（１−フェニル−２
−イミダゾリル）チオプロピル〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル ５４　６−　＋２−（１−（３−）リフルオロメチルフ
ェニル）−２−イミダゾリルコチオアセチルｌ−３，４
−ジヒドロカルボスチリル５５　６−　＋２−　（１−
（２−メチルフェニル）−２−イミダゾリルコチオアセ
チル）　−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５６　６−　（２−（１−フェニル−２−イミダゾリル
）チオブチリル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５７　７−（３−（１，２，４−トリアゾール−１−イ
ル）プロポキシ〕カルボスチリル第　　　７　　　表

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群
   から選ばれたヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
   残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フェ
   ニル基；フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
   キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
   ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
   から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニル基；シク
   ロアルキル基；フェニルチオ基；低級アルキル基；アミ
   ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
   から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
   アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
   ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
   酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基；フェ
   ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
   あるフェニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フェニ
   ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
   ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
   選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。Ｒ＾１は
   水素原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基
   を示す。Ｒ＾２は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
   ルスルホニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基を
   示す。Ｚは酸素原子、硫黄原子、基 ▲数式、化学式、表等があります▼、基▲数式、化学式
   、表等があります▼、基▲数式、化学式、表等がありま
   す▼（Ｒ＾３は水素原子又は低級アルキル基）又は基−
   ＮＨ−を示す。Ａは低級アルキレン基を示す。Ｘは酸素
   原子、硫黄原子、基−ＳＯ−又は基 −ＳＯ＿２−を示す。ｎは０又は１を示す。カルボスチ
   リル骨格の３位及び４位の炭素間結合は一重結合又は二
   重結合を示す。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩を有効成
   分として含有することを特徴とする血小板粘着抑制剤。