JPS6350909A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘツドの製造方法

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Publication number
JPS6350909A
JPS6350909A JP61193312A JP19331286A JPS6350909A JP S6350909 A JPS6350909 A JP S6350909A JP 61193312 A JP61193312 A JP 61193312A JP 19331286 A JP19331286 A JP 19331286A JP S6350909 A JPS6350909 A JP S6350909A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
cut
film
head
magnetic film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61193312A
Other languages
English (en)
Inventor
Masuzo Hattori
服部 益三
Hideo Koseki
小関 秀夫
Akihiro Ashida
芦田 晶弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP61193312A priority Critical patent/JPS6350909A/ja
Publication of JPS6350909A publication Critical patent/JPS6350909A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録に用いる磁気ヘッドの製造方法に関
するものである。
従来の技術 磁気記録の分野は、高記録密度化が著しく進んでおり、
テープも従来の酸化鉄磁性粉を用いたものから金属鉄粉
を用いたものへと変り、高密度化に対応している。これ
はテープの保磁力が800〜1000エルステツドから
1400〜1500エルステツドと高くなり、従来のフ
ェライト材を用いたへ・ノドでは十分な記録再生ができ
なくなり、より飽和磁化の大きいセンダスト、アモルフ
ァスを用いてヘッドを作成し、より記録能率を高くして
、金属鉄粉を用いた塗布形テープ(以降このテープをM
pテ−プと呼ぶ)対応ヘッドとしている。ヘッドに必要
なコア材の飽和磁化は、一般にテープ磁性材の保磁力の
絶対値の5〜6倍が必要とさており、Mpテープ対応ヘ
ッドとしては、9000ガウス程度の飽和磁化が必要で
ある。したがってセンダスト材、アモルファス材、この
値程度のものが使用されヘッド形成している。ヘッドは
リング形であるが、センダストではバルクを用いたもの
、薄帯を用いたもの、あるいはスパッタなどで膜形成を
してこの膜を用いるものなどがある。アモルファス材で
はバルクタイプはないが、薄帯のもの膜形成のものがあ
る。またリング形ではあるがギャップ近傍のみにセンダ
スト材、あるいはアモルファス材を用いその他の部分は
フェライトよりなる構造のヘッド(以降これをMIGヘ
ッドと呼ぶ)がある(たとえば特開昭60−32107
号公報)。
発明が解決しようとする問題点 ヘッドのテープ摺動面をテープが摺動する場合、この面
金面がセンダスト材、あるいはアモルファス材よりなっ
ている場合は、テープ摺動によるノイズは小さいが、フ
ェライトが摺動面に露出し、テープが当ると、摺動ノイ
ズは高くなる。MIGヘッドではテープ摺動面にフェラ
イトが存在しており摺動ノイズは高くなるため、その分
だけヘッドのS/N (ヘッド出力とノイズレベルの比
)は悪くなる。また従来のMIGヘッドの他の問題点は
、ギャップ近傍にフェライトとセンダスト材、あるいは
アモルファス材との境界部ができ、これが擬似ギャップ
を発生させる原因となる。しがし、フェライトを使用す
ることは、センダスト材、アモルファス材などの電気抵
抗が約100 X 10−6Ω−印にくらべ103〜4
Ω−cmと高く、高周波領域でのコア損失の点で有利で
ある。
また、アモルファス膜、あるいはセンダスト膜をコアと
して用いたリングヘッドの構成は、従来のフェライトヘ
ッドの構成に準するMIGヘッドの構成にくらべやや複
雑で、その点コスト高になると考えられる。
問題点を解決するための手段 フェライト材をヘッドの基材とし、テープ摺動面全面に
は、センダストあるいはアモルファスの膜をスパッタに
より設けた磁気ヘッドの製造方法。
作用 この手段による作用は次の様になる。
(11ファライトがテープ摺動面に露出しなくセンダス
ト、あるいはアモルファスであり摺動ノイズが低くでき
る。
(2)  フェライト材をヘッドの大半の部分に使用す
ることから高周波領域でのコア損失に有利である。
(3)従来のフェライト材を用いたリングヘッドの構成
に準するため、工法は複雑でなくコスト高とならない。
実施例 以下に本発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法を図面
を用いて詳細に説明する。
図に本発明の一実施例図を示す。図(a)において基v
i、1は、Mn−Znフェライト単結晶である。
多結晶であってもよい。基板1の片面に、一定ピツチの
波形の凹凸2を形成した。ピッチの幅は最終へソドコア
の幅の半分より加工しろ分だけ太きくする。波形の高さ
は、最終ヘッドのテープ摺動面の曲率半径により決める
ものであるが本実施例では85μmになる様にした。次
にその表面を滑らかにするため、リン酸水溶液で軽くエ
ツチングをしたのち、水洗、乾燥させた。この表面2に
、スパッタにて、Coを主成分とするアモルファス膜3
を40μm析出した。次に破線4a、4bの方向に凸部
、凹部でそれぞれ切断し、図(b)の(イ) 、 (n
)の如くとした。アモルファス膜3側にトラック加工5
をしたのちモールドガラスで5部を埋めた。
図(blの(o)の凸部の切断面6に巻線窓7を設けた
図(b)の(イ)凸部の切断面には巻線窓は設けていな
い。次に図(b)の(イ) 、 (El)の凸部の切断
面6を鏡研磨したのち、それぞれの上に、スパッタによ
り500オングストロームのCr膜8を析出したのち、
つづけて700オングストロームの作業温度が500℃
のガラス9をスパッタした。
次に図(blの(() 、 (I+)の切断面6を向い
合せにし、かつトラックを合せて圧接したまま、500
 ”Cの不活性ガス中で30分加熱して接合して図(0
)の如くバー状とした。
図(C)の破線10でバーを切断し、図(d)の如きチ
ップにした。この時切断はトラック加工時のモールドガ
ラス部でおこなわれる様にした。
この様にしてできたチップのアモルファス3の表面は、
テープ摺動面11になるため、テープが滑らかに摺動す
る様、適当な曲率にする必要がある。
本実施例では曲率半径を7鶴とした。なおチップの大き
さは、図(C)においてβ−21、h=2mとした。
本実施例ではアモルファス膜を用いたが、センダスト膜
を用いても全く同様になる。ただしセンダスト膜を用い
た場合は、モールドガラス、ならびに接合ガラス9は7
00℃〜800℃の作業温度を持つ高融点ガラスが使用
しうる。またテープ摺動面11は、テープを摺動させた
時のヘッド表面に残る摺動こんからみて、ギャップから
±600μm以内にあり、ヘッド摩耗の点から、この範
囲の磁性膜の厚みはギャップ深さ程度必要である。
この様にして構成した本実施例のヘッドと、従来の如き
ギャップ近傍からフェライトが摺動面に露出しているヘ
ッド(M I Gヘッド)の摺動ノイズを評価し比較し
た結果、その差が1.5dBあり、本発明の実施例によ
るヘッドの方がノイズレベルは低く得られた。
発明の効果 本発明の製造方法によるヘッドは、以」二に示した如く
、フェライト基板の上にアモルファス膜、あるいはセン
ダスト膜を形成し、ヘッドチップにした時、テープ摺動
面にこれら膜を全面にある様にしたもので、摺動ノイズ
は小さくなりS/Nは向上する。また構成法も工程の初
期に磁性膜を形成することのみが従来のフェライトリン
グヘッドを形成工程に付加されるだけで、工程が簡単で
、コツトも安価である。さらにMIGヘッドに生ずる擬
似ギャップはない、など多くの有益な利点があり、リン
グヘッドとして高保磁力を持つMpテープには有効であ
る。
したものである。
1・・・・・・フェライト基板、2・旧・・基板表面の
形状、3・・・・・・磁性膜、4a、4b・・・・・・
切断面、5・・・・・・トラック加工部、6・・・・・
・凸部の切断面、7・・・・・・巻線窓、8,9・・・
・・・ギャップ材(Cr膜8、ガラス膜9)、10・・
・・・・チップ切断面、11・旧・・テープ摺動面、1
2・・・・・・l=ヘッドチプの幅、13・・・・・・
h−ヘットチップの高さ。
代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名ノーーーフ
ユデ洟脹 2−41りfね狛のホ2( 3−一一刀吋υ決 第1図   、4ρゐ一切餌笥

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板面に一定のピッチで波形の凹凸を形成し、そ
    の表面に磁性膜を形成したのち、凹部ならびに凸部で切
    断してバー状にしてトラック加工をし、凸部切断面に巻
    線窓を形成したのち凸部切断面を研磨し、研磨面に接合
    用ガラス材を設け、磁性膜切断をつき合せて加熱接合し
    、バーからヘッドのコア厚みに切断し、ベッドのテープ
    摺動面である磁性膜面を研磨調整したのちも、テープ摺
    動面全面に磁性膜があることを特徴とする磁気ヘッドの
    製造方法。
  2. (2)基板がフェライト磁性材よりなることを特徴とす
    る特許請求の範囲第(1)項記載の磁気ヘッドの製造方
    法。
  3. (3)磁性膜は、センダスト膜、あるいはアモルファス
    膜であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
    載の磁気ヘッドの製造方法。
  4. (4)ヘッドのテープ摺動面を研磨調整したのちも、磁
    性膜の厚みはギャップを中心に±600μm以内はギャ
    ップデプスと同等の厚みが残存することを特徴とする特
    許請求の範囲第(1)項記載の磁気ヘッドの製造方法。
JP61193312A 1986-08-19 1986-08-19 磁気ヘツドの製造方法 Pending JPS6350909A (ja)

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JPS6350909A true JPS6350909A (ja) 1988-03-03

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